JPH09290578A - 平版印刷版用アルミニウム支持体とその製造方法 - Google Patents
平版印刷版用アルミニウム支持体とその製造方法Info
- Publication number
- JPH09290578A JPH09290578A JP10563496A JP10563496A JPH09290578A JP H09290578 A JPH09290578 A JP H09290578A JP 10563496 A JP10563496 A JP 10563496A JP 10563496 A JP10563496 A JP 10563496A JP H09290578 A JPH09290578 A JP H09290578A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum
- aqueous solution
- aluminum plate
- lithographic printing
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 218
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 189
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 76
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 15
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 112
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 98
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims description 68
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 52
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 51
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 39
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 30
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 26
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 15
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 claims description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 12
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 claims description 12
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 9
- 230000003695 hair diameter Effects 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 37
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 51
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- -1 hydrochloric acid ions Chemical class 0.000 description 34
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 26
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 13
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 11
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 8
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 8
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 8
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 6
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000000445 field-emission scanning electron microscopy Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 4
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 206010016807 Fluid retention Diseases 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 2
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 238000010349 cathodic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- YWJUZWOHLHBWQY-UHFFFAOYSA-N decanedioic acid;hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN.OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O YWJUZWOHLHBWQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 平版印刷版用支持体として最適な表面形状を
有する平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方
法を提供する。 【解決手段】 JIS1100材またはJIS3004
材を粗面化して、その表面に起伏を形成し、この起伏が
平均ピッチ5μm以上30μm以下の大波と平均直径
0.1以上3μm以下のハニカムピットが重畳された砂
目であって、原子間力顕微鏡による計測で求めた平均表
面粗さが0.35〜1.0μmであり、また原子間力顕
微鏡による計測で求めた表面傾斜度分布の、傾斜度が3
0度以上の割合が5%〜40%である平版印刷版用支持
体及びその製造方法。
有する平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方
法を提供する。 【解決手段】 JIS1100材またはJIS3004
材を粗面化して、その表面に起伏を形成し、この起伏が
平均ピッチ5μm以上30μm以下の大波と平均直径
0.1以上3μm以下のハニカムピットが重畳された砂
目であって、原子間力顕微鏡による計測で求めた平均表
面粗さが0.35〜1.0μmであり、また原子間力顕
微鏡による計測で求めた表面傾斜度分布の、傾斜度が3
0度以上の割合が5%〜40%である平版印刷版用支持
体及びその製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用アル
ミニウム支持体及びその製造方法に関するものであり、
特に平版印刷版用支持体として最適な表面形状を有する
平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法に関
するものである。
ミニウム支持体及びその製造方法に関するものであり、
特に平版印刷版用支持体として最適な表面形状を有する
平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】平版印刷法とは、水と油が本質的に混じ
り合わないことを利用した印刷方式であって、これに使
用される平版印刷版の印刷版面には水を受容して油性イ
ンキを反撥する領域(以下、この領域を「非画像部」と
いう。)と、水を反撥して油性インキを受容する領域
(以下、この領域を「画像部」という。)が形成され
る。平版印刷版に使用されるアルミニウム支持体は、そ
の表面が非画像部を担うように使用されるため、親水
性、保水性が優れていること、更にはその上に設けられ
る感光層との密着性が優れていること等といった相反す
る種々の性能が要求される。支持体の親水性が低い場
合、印刷時非画像部にインキが付着するようになり、い
わゆる地汚れが発生する。支持体の保水性が低い場合、
印刷時湿し水を多くしないとシャドー部のつまりが発生
する。したがって、いわゆる水幅が狭くなる。
り合わないことを利用した印刷方式であって、これに使
用される平版印刷版の印刷版面には水を受容して油性イ
ンキを反撥する領域(以下、この領域を「非画像部」と
いう。)と、水を反撥して油性インキを受容する領域
(以下、この領域を「画像部」という。)が形成され
る。平版印刷版に使用されるアルミニウム支持体は、そ
の表面が非画像部を担うように使用されるため、親水
性、保水性が優れていること、更にはその上に設けられ
る感光層との密着性が優れていること等といった相反す
る種々の性能が要求される。支持体の親水性が低い場
合、印刷時非画像部にインキが付着するようになり、い
わゆる地汚れが発生する。支持体の保水性が低い場合、
印刷時湿し水を多くしないとシャドー部のつまりが発生
する。したがって、いわゆる水幅が狭くなる。
【0003】これらの性能の良好なアルミニウム支持体
を得るためには、アルミニウム板の表面を砂目立てにし
て微細な凹凸を付与するのが通例である。この砂目立て
には、ボールグレイニング、ブラシグレイニング、ワイ
ヤーグレイニング、ブラストグレイニングなどの機械的
粗面化方法、塩酸及び/又は硝酸を含む電解液中でアル
ミニウム板を電解エッチングする電解粗面化方法および
米国特許第4,476,006号明細書に記載されてい
る機械的粗面化方法と電解粗面化方法を組み合わせた複
合粗面化方法などが知られている。
を得るためには、アルミニウム板の表面を砂目立てにし
て微細な凹凸を付与するのが通例である。この砂目立て
には、ボールグレイニング、ブラシグレイニング、ワイ
ヤーグレイニング、ブラストグレイニングなどの機械的
粗面化方法、塩酸及び/又は硝酸を含む電解液中でアル
ミニウム板を電解エッチングする電解粗面化方法および
米国特許第4,476,006号明細書に記載されてい
る機械的粗面化方法と電解粗面化方法を組み合わせた複
合粗面化方法などが知られている。
【0004】これらの砂目立て方法の中では、平版印刷
版用支持体としての性能に優れ、かつまた大量生産性に
優れるという点からブラシグレイニングによる砂目立て
方法及びブラシグレイニングと電解粗面化方法とを組み
合わせた砂目立て方法が有利である。
版用支持体としての性能に優れ、かつまた大量生産性に
優れるという点からブラシグレイニングによる砂目立て
方法及びブラシグレイニングと電解粗面化方法とを組み
合わせた砂目立て方法が有利である。
【0005】ブラシグレイン工程で使用されるブラシは
1本または複数本のブラシを用いるのが通例である。こ
のとき、特公昭50−40047号公報に記載のように
ある決まった1種類のものを複数本使用することが記載
されている。特開平6−135175号公報には毛の材
質、毛径、毛の断面形状などが異なるものを使用できる
ことが記載されている。
1本または複数本のブラシを用いるのが通例である。こ
のとき、特公昭50−40047号公報に記載のように
ある決まった1種類のものを複数本使用することが記載
されている。特開平6−135175号公報には毛の材
質、毛径、毛の断面形状などが異なるものを使用できる
ことが記載されている。
【0006】一方電気化学的な粗面化工程で使用される
交流電流波形はサイン波、台形波または矩形波を用いる
ことが特開平6−135175号公報に記載されてい
る。電気化学的な粗面化方式で用いる電解槽はラジアル
型を使用し、補助アノード電極を主電極と同一の槽に設
けることが特開平5−195300号公報に記載されい
る。又電流値の一部を2つの主電極とは別に設けた補助
アノード電極に直流電流として分流させることは、特公
平6−37716号公報に記載されている。
交流電流波形はサイン波、台形波または矩形波を用いる
ことが特開平6−135175号公報に記載されてい
る。電気化学的な粗面化方式で用いる電解槽はラジアル
型を使用し、補助アノード電極を主電極と同一の槽に設
けることが特開平5−195300号公報に記載されい
る。又電流値の一部を2つの主電極とは別に設けた補助
アノード電極に直流電流として分流させることは、特公
平6−37716号公報に記載されている。
【0007】しかしながら、これらの方法ではシャドウ
部およびブランケット上で汚れが発生して、かつ感光層
との密着性がよい平版印刷版用支持体を得ることが難し
かった。更に、平版印刷版用支持体としては、非画像部
の汚れ難さと、印刷時の示し水の見やすさを満足する必
要があった。従来、印刷時の湿し水の見やすさを満足さ
せるには触針式表面粗さ計による平均表面粗さを大きく
すればよいが、このようにすると非画像部の汚れ難さが
悪くなるという問題点があった。
部およびブランケット上で汚れが発生して、かつ感光層
との密着性がよい平版印刷版用支持体を得ることが難し
かった。更に、平版印刷版用支持体としては、非画像部
の汚れ難さと、印刷時の示し水の見やすさを満足する必
要があった。従来、印刷時の湿し水の見やすさを満足さ
せるには触針式表面粗さ計による平均表面粗さを大きく
すればよいが、このようにすると非画像部の汚れ難さが
悪くなるという問題点があった。
【0008】また、平版印刷版用支持体の用いるアルミ
ニウムとして、比較的安価なJIS1100材を用いる
ことは、特開平1−218890号公報や特開平6−1
35175号公報に記載されているが、その最適な粗面
化形状については記載されていない。また、上記特開平
6−135175号公報には、JIS1100材のはか
にも、JIS1050材,JIS3103材,及びJI
S3005材もしよう可能であるとの記載があるが、そ
れらの最適な粗面化形状については記載されていない。
ニウムとして、比較的安価なJIS1100材を用いる
ことは、特開平1−218890号公報や特開平6−1
35175号公報に記載されているが、その最適な粗面
化形状については記載されていない。また、上記特開平
6−135175号公報には、JIS1100材のはか
にも、JIS1050材,JIS3103材,及びJI
S3005材もしよう可能であるとの記載があるが、そ
れらの最適な粗面化形状については記載されていない。
【0009】また、JIS3004材はアルミニウム缶
用材料として大量に用いられており、リサイクルも一般
に行われ、安価にもかかわらず、不純物が多く含まれて
いるために、電気化学的な粗面化には適さず、これまで
平版印刷版用アルミニウム支持体としては用いられてい
なかった。
用材料として大量に用いられており、リサイクルも一般
に行われ、安価にもかかわらず、不純物が多く含まれて
いるために、電気化学的な粗面化には適さず、これまで
平版印刷版用アルミニウム支持体としては用いられてい
なかった。
【0010】
【0011】本発明者等は、上記した比較的安価なJI
S1100材またはJIS3004材を粗面化した場合
に原子間力顕微鏡による物性値で平版印刷版用アルミニ
ウム支持体として最適な形状を見出し、かつこのような
形状を形成させる方法を見出した。また、このような平
版印刷版用アルミニウム支持体は、前記したような問題
点を解決することができた。
S1100材またはJIS3004材を粗面化した場合
に原子間力顕微鏡による物性値で平版印刷版用アルミニ
ウム支持体として最適な形状を見出し、かつこのような
形状を形成させる方法を見出した。また、このような平
版印刷版用アルミニウム支持体は、前記したような問題
点を解決することができた。
【0012】従って、本発明の目的は、比較的安価なJ
IS1100材又はJIS3004材のアルミニウムを
用いて、原子間力顕微鏡による物性値で、平版印刷版用
支持体として最適な表面形状を有する平版印刷版用アル
ミニウム支持体及びその製造方法を提供することにあ
る。本発明の他の目的はシャドウ部およびブランケット
上で汚れの発生することがなく、感光層との密着性がよ
い平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法を
提供することにある。
IS1100材又はJIS3004材のアルミニウムを
用いて、原子間力顕微鏡による物性値で、平版印刷版用
支持体として最適な表面形状を有する平版印刷版用アル
ミニウム支持体及びその製造方法を提供することにあ
る。本発明の他の目的はシャドウ部およびブランケット
上で汚れの発生することがなく、感光層との密着性がよ
い平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法を
提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題を
解決するために種々検討の結果、以下に示す本発明によ
って達成されることを見いだした。即ち、本発明の第1
に態様は、JIS1100材またはJIS3004材
を、粗面化によって起伏を形成した平版印刷版用アルミ
ニウム支持体において、この起伏が平均ピッチ5μm以
上30μm以下の大波と、平均直径0.1μm以上3μ
m以下のハニカムピットが重畳された砂目において、原
子間力顕微鏡による計測で求めた平均表面粗さが0.3
5μm以上1.0μm以下であり、また原子間力顕微鏡
による計測で求めた表面傾斜度分布の、傾斜度が30度
以上の割合が5%以上40%以下であることを特徴とす
る平版印刷版用アルミニウム支持体である。
解決するために種々検討の結果、以下に示す本発明によ
って達成されることを見いだした。即ち、本発明の第1
に態様は、JIS1100材またはJIS3004材
を、粗面化によって起伏を形成した平版印刷版用アルミ
ニウム支持体において、この起伏が平均ピッチ5μm以
上30μm以下の大波と、平均直径0.1μm以上3μ
m以下のハニカムピットが重畳された砂目において、原
子間力顕微鏡による計測で求めた平均表面粗さが0.3
5μm以上1.0μm以下であり、また原子間力顕微鏡
による計測で求めた表面傾斜度分布の、傾斜度が30度
以上の割合が5%以上40%以下であることを特徴とす
る平版印刷版用アルミニウム支持体である。
【0014】本発明の第2の態様は、連続して走行する
JIS1100材またはJIS3004材のアルミニウ
ム板の表面を順に(a)酸性水溶液中でアルミニウム板
を電解研磨処理するか、または、酸またはアルカリ水溶
液中でアルミニウム板を化学的なエッチング処理し、
(b)硝酸または塩酸を主成分とする水溶液中で交流ま
たは直流を用いて100〜1000 C/dm2 の電気
量で該アルミニウム板を電気化学的に粗面化処理し、
(c)酸性水溶液中で該アルミニウム板を電解研磨処理
するか、または、酸、あたはアルカリ水溶液中で該アル
ミニウム板を化学的なエッチング処理し、(d)次い
で、該アルミニウム板を陽極酸化して陽極酸化皮膜を形
成させる、ことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム
支持体の製造方法である。
JIS1100材またはJIS3004材のアルミニウ
ム板の表面を順に(a)酸性水溶液中でアルミニウム板
を電解研磨処理するか、または、酸またはアルカリ水溶
液中でアルミニウム板を化学的なエッチング処理し、
(b)硝酸または塩酸を主成分とする水溶液中で交流ま
たは直流を用いて100〜1000 C/dm2 の電気
量で該アルミニウム板を電気化学的に粗面化処理し、
(c)酸性水溶液中で該アルミニウム板を電解研磨処理
するか、または、酸、あたはアルカリ水溶液中で該アル
ミニウム板を化学的なエッチング処理し、(d)次い
で、該アルミニウム板を陽極酸化して陽極酸化皮膜を形
成させる、ことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム
支持体の製造方法である。
【0015】本発明の第3の態様は、連続して走行する
JIS1100材またはJIS3004材のアルミニウ
ム板の表面を順に(a)酸性水溶液中でアルミニウム板
を電解研磨処理するか、または、酸またはアルカリ水溶
液中でアルミニウム板を化学的なエッチング処理し、
(b)硝酸または塩酸を主成分とする水溶液中で直流ま
たは交流を用いて100〜1000 C/dm2 の電気
量で該アルミニウム板を電気化学的に粗面化し、(c)
酸性水溶液中で該アルミニウム板を電解研磨処理する
か、または、酸、あたはアルカリ水溶液中で該アルミニ
ウム板を化学的なエッチング処理し、(d)硝酸または
塩酸を主成分とする水溶液中で直流または交流を用いて
100〜1000 C/dm2 の電気量で該アルミニウ
ム板を電気化学的に粗面化処理し、(e)酸性水溶液中
で該アルミニウム板を電解研磨処理するか、または、
酸、あたはアルカリ水溶液中で該アルミニウム板を化学
的なエッチング処理し、(f)次いで、該アルミニウム
板を陽極酸化して陽極酸化皮膜を形成させる、ことを特
徴とする平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法で
ある。
JIS1100材またはJIS3004材のアルミニウ
ム板の表面を順に(a)酸性水溶液中でアルミニウム板
を電解研磨処理するか、または、酸またはアルカリ水溶
液中でアルミニウム板を化学的なエッチング処理し、
(b)硝酸または塩酸を主成分とする水溶液中で直流ま
たは交流を用いて100〜1000 C/dm2 の電気
量で該アルミニウム板を電気化学的に粗面化し、(c)
酸性水溶液中で該アルミニウム板を電解研磨処理する
か、または、酸、あたはアルカリ水溶液中で該アルミニ
ウム板を化学的なエッチング処理し、(d)硝酸または
塩酸を主成分とする水溶液中で直流または交流を用いて
100〜1000 C/dm2 の電気量で該アルミニウ
ム板を電気化学的に粗面化処理し、(e)酸性水溶液中
で該アルミニウム板を電解研磨処理するか、または、
酸、あたはアルカリ水溶液中で該アルミニウム板を化学
的なエッチング処理し、(f)次いで、該アルミニウム
板を陽極酸化して陽極酸化皮膜を形成させる、ことを特
徴とする平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法で
ある。
【0016】なお、本発明においては、上記第2及び第
3に態様において、第1段目の電解研磨処理の前に、毛
径が0.2〜0.9mmの回転するナイロンブラシロー
ルと、アルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機
械的に粗面化処理することができる。
3に態様において、第1段目の電解研磨処理の前に、毛
径が0.2〜0.9mmの回転するナイロンブラシロー
ルと、アルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機
械的に粗面化処理することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、アルミニウム板の表面が粗面化によっ
て起伏を有する平版印刷版用支持体で、この起伏が平均
ピッチ5μm以上30μm以下の大波と、平均直径0.
1μm以上3μm以下のハニカムピットによる中波が重
畳された砂目であることは、大波の起伏が5μmよりも
小さいピッチであると、平版印刷版としたときの表面の
光沢が目立つようになり検版性が悪くなる。大波の起伏
が30μmよりも大きいピッチであると、印刷枚数が減
少する傾向がある。 大波の起伏の上には平均直径0.
1μm以上3μm以下のハニカムピット、好ましくは、
平均直径0.5μm以上1μm以下のものが全面にわた
って均一に生成している。ピット径が0.1μmより小
さいか、3μmより大きいとブランケットの汚れ性能が
悪くなる。前記ピット密度は1×105 から1×108
個/mm2 のピットが全面にわたって均一に生成してい
ることが好ましい。ハニカムピットが全面に均一に生成
していないと金インキ等の特殊インキでの汚れ性能が悪
くなる。最適なピット個数およびハニカムピットを生成
するための電気量は、ハニカムピット径によって異なる
が、それぞれ最適値を求めることができる。
本発明において、アルミニウム板の表面が粗面化によっ
て起伏を有する平版印刷版用支持体で、この起伏が平均
ピッチ5μm以上30μm以下の大波と、平均直径0.
1μm以上3μm以下のハニカムピットによる中波が重
畳された砂目であることは、大波の起伏が5μmよりも
小さいピッチであると、平版印刷版としたときの表面の
光沢が目立つようになり検版性が悪くなる。大波の起伏
が30μmよりも大きいピッチであると、印刷枚数が減
少する傾向がある。 大波の起伏の上には平均直径0.
1μm以上3μm以下のハニカムピット、好ましくは、
平均直径0.5μm以上1μm以下のものが全面にわた
って均一に生成している。ピット径が0.1μmより小
さいか、3μmより大きいとブランケットの汚れ性能が
悪くなる。前記ピット密度は1×105 から1×108
個/mm2 のピットが全面にわたって均一に生成してい
ることが好ましい。ハニカムピットが全面に均一に生成
していないと金インキ等の特殊インキでの汚れ性能が悪
くなる。最適なピット個数およびハニカムピットを生成
するための電気量は、ハニカムピット径によって異なる
が、それぞれ最適値を求めることができる。
【0018】電気化学的な粗面化のあとは特開昭56−
47041号公報に記載されているように、アルカリ水
溶液中で化学的にエッチングすることで、電気化学的な
粗面化で生成したスマット成分とハニカムピットの角の
部分を溶解し、汚れ性能が良好な印刷版を得ることがで
きる。
47041号公報に記載されているように、アルカリ水
溶液中で化学的にエッチングすることで、電気化学的な
粗面化で生成したスマット成分とハニカムピットの角の
部分を溶解し、汚れ性能が良好な印刷版を得ることがで
きる。
【0019】本発明で測定に使用した原子間力顕微鏡
(Atomic Force Microscope:AFM)は、セイコー電子工業
(株)製SP13700で、測定は1cm角の大きさに
切り取ったアルミニウム板試料ピエゾスキャナー上の水
平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面にアプ
ローチし、原子間力が働く領域に達したところで、XY
方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をZ方向のピエ
ゾの変位でとらえた。ピエゾスキャナーはXY150μ
m,Z10μm、走査可能なものを使用した。カンチレ
バーはNANOPROBE社製SI−DF20で共振周
波数120〜150kHz、バネ定数12〜20N/m
のもので、DFMモード(Dynamic ForceMode) で測定
した。また、得られた3次元データを最小二乗近似する
ことにより試料のわずかの傾きを補正し基準面を求め
た。
(Atomic Force Microscope:AFM)は、セイコー電子工業
(株)製SP13700で、測定は1cm角の大きさに
切り取ったアルミニウム板試料ピエゾスキャナー上の水
平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面にアプ
ローチし、原子間力が働く領域に達したところで、XY
方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をZ方向のピエ
ゾの変位でとらえた。ピエゾスキャナーはXY150μ
m,Z10μm、走査可能なものを使用した。カンチレ
バーはNANOPROBE社製SI−DF20で共振周
波数120〜150kHz、バネ定数12〜20N/m
のもので、DFMモード(Dynamic ForceMode) で測定
した。また、得られた3次元データを最小二乗近似する
ことにより試料のわずかの傾きを補正し基準面を求め
た。
【0020】大波の起伏、平均表面粗さおよび傾斜度計
測の際は、測定領域120μm角を4視野、すなわち、
240μm角の測定を行った。XY方向の分解能は1.
9μm、Z方向の分解能は1nm、スキャン速度は60
μm/secであった。大波の起伏のピッチは三次元デ
ータを周波数分析することにより算出した。平均粗さ
は、JIS B0601−94で定義されている中心線
平均粗さRaを三次元に拡張したものである。表面傾斜
度は、三次元データより隣り合う3点を抽出し、その3
点で形成する微小三角形と基準面とのなす角を全データ
について算出し、傾斜度分布曲線を求め、これより傾斜
度30度以上の割合を出した。
測の際は、測定領域120μm角を4視野、すなわち、
240μm角の測定を行った。XY方向の分解能は1.
9μm、Z方向の分解能は1nm、スキャン速度は60
μm/secであった。大波の起伏のピッチは三次元デ
ータを周波数分析することにより算出した。平均粗さ
は、JIS B0601−94で定義されている中心線
平均粗さRaを三次元に拡張したものである。表面傾斜
度は、三次元データより隣り合う3点を抽出し、その3
点で形成する微小三角形と基準面とのなす角を全データ
について算出し、傾斜度分布曲線を求め、これより傾斜
度30度以上の割合を出した。
【0021】中波のピット径の計測は、測定領域25μ
m角を4視野、すなわち、50μm角の測定を行い、X
Y方向の分解能は0.1μm、Z方向の分解能は1n
m、スキャン速度は25μm/secで、ピットのエッ
ジより径を求めた。
m角を4視野、すなわち、50μm角の測定を行い、X
Y方向の分解能は0.1μm、Z方向の分解能は1n
m、スキャン速度は25μm/secで、ピットのエッ
ジより径を求めた。
【0022】本発明において好ましいAFMによる測定
で求めた平均表面粗さは0.35〜1.0μm、さらに
好ましくは0.35〜0.8μmである。0.35μm
よりも小さいと網転非画像部で汚れやすくなり、1.0
μmよりも大きいとブランケット上で非画像部が汚れや
すくなる。
で求めた平均表面粗さは0.35〜1.0μm、さらに
好ましくは0.35〜0.8μmである。0.35μm
よりも小さいと網転非画像部で汚れやすくなり、1.0
μmよりも大きいとブランケット上で非画像部が汚れや
すくなる。
【0023】本発明においてAFMによる計測で求めた
表面傾斜度分布の傾斜度が30度以上の割合は、好まし
くは5%以上40%以下であり、さらに好ましくは5%
以上30%以下である。5%よりも小さいと網点非画像
部で汚れやすくなり、40%よりも大きいとブランケッ
ト上で非画像部が汚れやすくなる。
表面傾斜度分布の傾斜度が30度以上の割合は、好まし
くは5%以上40%以下であり、さらに好ましくは5%
以上30%以下である。5%よりも小さいと網点非画像
部で汚れやすくなり、40%よりも大きいとブランケッ
ト上で非画像部が汚れやすくなる。
【0024】なお、本発明の平版印刷版用アルミニウム
支持体は、常法に従い、感光層または、中間層及び感光
層を塗布・乾燥することによって印刷性能が優れた感光
性平版印刷版(PS版)となる。感光層の上には常法に
従い、マット層等を設けてもよい。また、現像時のアル
ミニウムの溶け出しを防ぐ目的で裏面にバックコート層
を設けてもよい。さらに、本発明は、アルミニウム支持
体の片面のみでなく両面を処理したPS版の製造にも適
用できる。
支持体は、常法に従い、感光層または、中間層及び感光
層を塗布・乾燥することによって印刷性能が優れた感光
性平版印刷版(PS版)となる。感光層の上には常法に
従い、マット層等を設けてもよい。また、現像時のアル
ミニウムの溶け出しを防ぐ目的で裏面にバックコート層
を設けてもよい。さらに、本発明は、アルミニウム支持
体の片面のみでなく両面を処理したPS版の製造にも適
用できる。
【0025】また。本発明は、以下に本発明の平版印刷
版用アルミニウム支持体の粗面化のみならず、あらゆる
アルミニウム板の粗面化にも応用することができる。以
下に本発明の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方
法について詳しく説明する。
版用アルミニウム支持体の粗面化のみならず、あらゆる
アルミニウム板の粗面化にも応用することができる。以
下に本発明の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方
法について詳しく説明する。
【0026】本発明に使用されるアルミニウム板は、J
IS H 4000−1988で規定されているJIS
1100材、またはJIS3004材である。上記アル
ミニウム板は、通常のDC鋳造法によるアルミニウム板
の他、連続鋳造圧延法により製造されたものでもよい。
連続鋳造圧延の方法としては双ロール法、ベルトキャス
ター法、ブロックキャスター法などを用いることができ
る。合金中の異元素の含有量は10重量%以下である。
IS H 4000−1988で規定されているJIS
1100材、またはJIS3004材である。上記アル
ミニウム板は、通常のDC鋳造法によるアルミニウム板
の他、連続鋳造圧延法により製造されたものでもよい。
連続鋳造圧延の方法としては双ロール法、ベルトキャス
ター法、ブロックキャスター法などを用いることができ
る。合金中の異元素の含有量は10重量%以下である。
【0027】本発明に用いられるアルミニウム板の厚み
は、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。
は、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。
【0028】実施態様1 (1−1)酸性水溶液中でアルミニウム板の電解研磨処
理、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム
板の化学的なエッチング処理 アルミニウム板にある圧延油、自然酸化皮膜、汚れなど
を除去し、電気化学的な粗面化が均一に行われる目的で
上記の処理を行う。処理によるアルミニウム板の溶解量
は1〜30g/m2 溶解することが好ましく、1.5〜
20g/m2 溶解することがより好ましい。 (1−1−1)酸性水溶液中でアルミニウム板の電解研
磨処理 (なお、電解研磨処理の材質別による処方例は、間宮富
士雄著;「洗浄設計」、No.21,65〜72頁(1
984)に記載されている。) 公知の電解研磨に用いる水溶液が使用できる。好ましく
は、硫酸またはリン酸を主体とする水溶液であり、特に
好ましくは、リン酸を主体とする水溶液である。
理、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム
板の化学的なエッチング処理 アルミニウム板にある圧延油、自然酸化皮膜、汚れなど
を除去し、電気化学的な粗面化が均一に行われる目的で
上記の処理を行う。処理によるアルミニウム板の溶解量
は1〜30g/m2 溶解することが好ましく、1.5〜
20g/m2 溶解することがより好ましい。 (1−1−1)酸性水溶液中でアルミニウム板の電解研
磨処理 (なお、電解研磨処理の材質別による処方例は、間宮富
士雄著;「洗浄設計」、No.21,65〜72頁(1
984)に記載されている。) 公知の電解研磨に用いる水溶液が使用できる。好ましく
は、硫酸またはリン酸を主体とする水溶液であり、特に
好ましくは、リン酸を主体とする水溶液である。
【0029】リン酸20〜90重量%(好ましくは40
〜80重量%)、液温10〜90℃(好ましくは50〜
80℃)、電流密度1〜100A/dm2(好ましくは5
〜80A/dm2)、電解時間は1〜180秒の範囲から
選択できる。リン酸水溶液中に、硫酸、クロム酸、過酸
化水素、クエン酸、フッ化水素酸、無水フタール酸など
を1〜50重量%添加してもよい。また、アルミニウム
はもちろんアルミニウム中に合金成分を0〜10重量%
含有していてもよい。
〜80重量%)、液温10〜90℃(好ましくは50〜
80℃)、電流密度1〜100A/dm2(好ましくは5
〜80A/dm2)、電解時間は1〜180秒の範囲から
選択できる。リン酸水溶液中に、硫酸、クロム酸、過酸
化水素、クエン酸、フッ化水素酸、無水フタール酸など
を1〜50重量%添加してもよい。また、アルミニウム
はもちろんアルミニウム中に合金成分を0〜10重量%
含有していてもよい。
【0030】電流は、直流、パルス直流、または交流を
用いることが可能であるが、連続直流が好ましい。電解
処理装置はフラット型槽、ラジアル型槽など公知の電解
処理に用いられているものを使用することができる。流
速はアルミニウム板に対して、パラレルフロー、カウン
ターフローのどちらでもよく、0.01〜10000c
m/分の範囲から選定される。
用いることが可能であるが、連続直流が好ましい。電解
処理装置はフラット型槽、ラジアル型槽など公知の電解
処理に用いられているものを使用することができる。流
速はアルミニウム板に対して、パラレルフロー、カウン
ターフローのどちらでもよく、0.01〜10000c
m/分の範囲から選定される。
【0031】アルミニウム板と電極との距離は0.3〜
10cmが好ましく、0.8〜2cmが特に好ましい。
給電方法はコンダクタロールを用いた直接給電方式を用
いてもよいし、コンダクタロールを用いない間接給電方
式(液給電方式)を用いてもよい。使用する電極材質、
構造は電解処理に使われている公知のものが使用可能で
あるが、陰極材質はカーボン、陽極材質はフェライト、
酸化イリジウムまたは白金が好ましい。
10cmが好ましく、0.8〜2cmが特に好ましい。
給電方法はコンダクタロールを用いた直接給電方式を用
いてもよいし、コンダクタロールを用いない間接給電方
式(液給電方式)を用いてもよい。使用する電極材質、
構造は電解処理に使われている公知のものが使用可能で
あるが、陰極材質はカーボン、陽極材質はフェライト、
酸化イリジウムまたは白金が好ましい。
【0032】なお、アルミニウム板の処理面は上面でも
下面でも両面でもよい。 (1−1−2)酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウ
ム板を化学的なエッチング処理 かかるエッチング方法の詳細のついては米国3、83
4、398号に記載されており、これらの公知の手段を
用いることができる。
下面でも両面でもよい。 (1−1−2)酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウ
ム板を化学的なエッチング処理 かかるエッチング方法の詳細のついては米国3、83
4、398号に記載されており、これらの公知の手段を
用いることができる。
【0033】酸性水溶液に用いることの出来る酸または
アルカリとしては特開昭57−16918号公報などに
記載されているものを単独または組合せて用いることが
出来る。液温は40〜90℃で、1〜120秒間処理す
ることが好ましい。酸性水溶液の濃度は0.5〜25重
量%が好ましく、さらに酸性水溶液中に溶解しているア
ルミニウムは0.5〜5重量%が好ましい。
アルカリとしては特開昭57−16918号公報などに
記載されているものを単独または組合せて用いることが
出来る。液温は40〜90℃で、1〜120秒間処理す
ることが好ましい。酸性水溶液の濃度は0.5〜25重
量%が好ましく、さらに酸性水溶液中に溶解しているア
ルミニウムは0.5〜5重量%が好ましい。
【0034】アルカリ水溶液の濃度は5〜30重量%が
好ましく、さらにアルカリ水溶液に溶解しているアルミ
ニウムは1〜30重量%が好ましい。エッチング処理が
終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないために
ニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行
うことが好ましい。化学的エッチングを、塩基の水溶液
を用いて行なった場合には、一般にアルミニウムの表面
にスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝
酸、硫酸、クロム酸またはこれらの内の2以上の酸を含
む混酸で処理する。
好ましく、さらにアルカリ水溶液に溶解しているアルミ
ニウムは1〜30重量%が好ましい。エッチング処理が
終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないために
ニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行
うことが好ましい。化学的エッチングを、塩基の水溶液
を用いて行なった場合には、一般にアルミニウムの表面
にスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝
酸、硫酸、クロム酸またはこれらの内の2以上の酸を含
む混酸で処理する。
【0035】さらに、酸性水溶液中にはアルミニウムが
0〜5重量%溶解していてもよい。液温は常温から70
℃で実施され、処理時間は1〜30秒が好ましい。デス
マット処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込
まないために、ニップローラーによる液切りとスプレー
による水洗を行うことが好ましい。また、電気化学的な
粗面化処理で用いる電解液のオーバーフロー廃液を使用
することができる。電気化学的な粗面化処理で用いる電
解液のオーバーフロー廃液を使用するときは、デスマッ
ト処理後の水洗処理は省略してもよいが、アルミニウム
板が乾いてデスマット液中の成分が析出しないように注
意する必要がある。 (1−2)塩酸または硝酸水溶液中で直流または交流を
用いた電気化学的な粗面化処理 塩酸または硝酸水溶液中で直流または交流を用いた電気
化学的な粗面化処理は、平均直径約0.1〜20μmの
ハニカムピットをアルミニウム表面に30〜100%の
面積率で生成し、原子間力顕微鏡で測定したアルミニウ
ム板表面粗さ0.35〜1.0μmとする目的で行う。
この粗面化処理は、印刷版の非画像部の汚れにくさと耐
刷力を向上する作用がる。 (1−2−1)直流を用いた電気化学的な粗面化 塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、通常の交流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
1〜100g/リットルの塩酸または硝酸水溶液に、硝
酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等
の塩酸イオンを有する塩酸なたは硝酸化合物の1つ以上
を1g/リットル〜飽和まで添加して使用することがで
きる。また、塩酸または硝酸を主体とする水溶液中に
は、鉄、銅、マンガン、チタン、マグネシウム、シリカ
等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していて
もよい。好ましくは、塩酸または硝酸0.5〜2重量%
水溶液中にアルミニウムイオンが3〜50g/リットル
となるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添
加した液を用いることが好ましい。温度は10〜60℃
が好ましく、25〜50℃がより好ましい。
0〜5重量%溶解していてもよい。液温は常温から70
℃で実施され、処理時間は1〜30秒が好ましい。デス
マット処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込
まないために、ニップローラーによる液切りとスプレー
による水洗を行うことが好ましい。また、電気化学的な
粗面化処理で用いる電解液のオーバーフロー廃液を使用
することができる。電気化学的な粗面化処理で用いる電
解液のオーバーフロー廃液を使用するときは、デスマッ
ト処理後の水洗処理は省略してもよいが、アルミニウム
板が乾いてデスマット液中の成分が析出しないように注
意する必要がある。 (1−2)塩酸または硝酸水溶液中で直流または交流を
用いた電気化学的な粗面化処理 塩酸または硝酸水溶液中で直流または交流を用いた電気
化学的な粗面化処理は、平均直径約0.1〜20μmの
ハニカムピットをアルミニウム表面に30〜100%の
面積率で生成し、原子間力顕微鏡で測定したアルミニウ
ム板表面粗さ0.35〜1.0μmとする目的で行う。
この粗面化処理は、印刷版の非画像部の汚れにくさと耐
刷力を向上する作用がる。 (1−2−1)直流を用いた電気化学的な粗面化 塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、通常の交流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
1〜100g/リットルの塩酸または硝酸水溶液に、硝
酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等
の塩酸イオンを有する塩酸なたは硝酸化合物の1つ以上
を1g/リットル〜飽和まで添加して使用することがで
きる。また、塩酸または硝酸を主体とする水溶液中に
は、鉄、銅、マンガン、チタン、マグネシウム、シリカ
等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していて
もよい。好ましくは、塩酸または硝酸0.5〜2重量%
水溶液中にアルミニウムイオンが3〜50g/リットル
となるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添
加した液を用いることが好ましい。温度は10〜60℃
が好ましく、25〜50℃がより好ましい。
【0036】直流を用いた電気化学的な粗面化に用いる
処理装置は公知の直流を用いたものを使用することがで
きるが、特開平1−141094号公報に記載されてい
るように、一対または2対以上の陽極と陰極を交互に並
べた装置を用いることが好ましい。公知の装置の一例と
しては、特開平1−141094号公報、特願平6−2
05657号明細書、特開昭61−19115号公報、
特公昭57−44760号公報等に記載されている。
処理装置は公知の直流を用いたものを使用することがで
きるが、特開平1−141094号公報に記載されてい
るように、一対または2対以上の陽極と陰極を交互に並
べた装置を用いることが好ましい。公知の装置の一例と
しては、特開平1−141094号公報、特願平6−2
05657号明細書、特開昭61−19115号公報、
特公昭57−44760号公報等に記載されている。
【0037】電解処理が終了した後には、処理液を次工
程に持ち込まないために、ニップローラーによる液切り
とスプレーによる水洗を行うことが好ましい。電気化学
的な粗面化に使用する直流は、リップル率が20%以下
の直流を用いることが好ましい。電流密度は、10〜2
00A/dm3 が好ましく、アルミニウム板が陽極時の
電気量は100〜1000C/dm3 が好ましい。
程に持ち込まないために、ニップローラーによる液切り
とスプレーによる水洗を行うことが好ましい。電気化学
的な粗面化に使用する直流は、リップル率が20%以下
の直流を用いることが好ましい。電流密度は、10〜2
00A/dm3 が好ましく、アルミニウム板が陽極時の
電気量は100〜1000C/dm3 が好ましい。
【0038】陽極はフェライト、酸化イリジウム、白
金、白金をチタン、ニオブ、ジリコニウムなどのバルブ
金属にクラッドまたはメッキしたものなど公知の酸素発
生用電極から選定して用いることが出来る。陰極は、カ
ーボン、白金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、ステン
レスや燃料電池用陰極に用いる電極から選択して用いる
ことが出来る。
金、白金をチタン、ニオブ、ジリコニウムなどのバルブ
金属にクラッドまたはメッキしたものなど公知の酸素発
生用電極から選定して用いることが出来る。陰極は、カ
ーボン、白金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、ステン
レスや燃料電池用陰極に用いる電極から選択して用いる
ことが出来る。
【0039】なお、直流を用いて電気化学的に粗面化す
る装置の1例を図4にしめした。図4は、酸性水溶液中
での直流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるラジ
アル型電解装置の側面図であって、この装置は、電解研
磨処理にも用いることができる。図4において、パスロ
ーラ(支持ローラ)22によってアルミニウムウェブ2
1は、ラジアルローラ33の周囲を、電極(陽極24及
び陰極25)と一定の間隔を保って通過している。酸性
電解液26は、供給口24から供給され、廃液口27か
ら循環タンク(図示せず)に戻る。なお、各電極には直
流電源28から粗面化に要する適当な電圧が印加されて
いる。
る装置の1例を図4にしめした。図4は、酸性水溶液中
での直流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるラジ
アル型電解装置の側面図であって、この装置は、電解研
磨処理にも用いることができる。図4において、パスロ
ーラ(支持ローラ)22によってアルミニウムウェブ2
1は、ラジアルローラ33の周囲を、電極(陽極24及
び陰極25)と一定の間隔を保って通過している。酸性
電解液26は、供給口24から供給され、廃液口27か
ら循環タンク(図示せず)に戻る。なお、各電極には直
流電源28から粗面化に要する適当な電圧が印加されて
いる。
【0040】酸性水溶液中での直流を用いた電気化学的
な粗面化処理または電解研磨処理に用いる他のタイプの
フラット型電解装置の1例の側面図を図5に示した。
図5において、パスローラ(支持ローラ)32によって
アルミニウムウェブ31は電極と任意の一定間隔を保た
れる。循環タンクにストックされた酸性電解液(図示せ
ず)は、ポンプにより加圧されて、供給口33から供給
され、アルミニウムウェブと電極との間を通つて廃液口
34から循環タンクへ戻る。
な粗面化処理または電解研磨処理に用いる他のタイプの
フラット型電解装置の1例の側面図を図5に示した。
図5において、パスローラ(支持ローラ)32によって
アルミニウムウェブ31は電極と任意の一定間隔を保た
れる。循環タンクにストックされた酸性電解液(図示せ
ず)は、ポンプにより加圧されて、供給口33から供給
され、アルミニウムウェブと電極との間を通つて廃液口
34から循環タンクへ戻る。
【0041】アルミニウムウェブは陽極31または陰極
32とクリアランスを一定に保って通過している。な
お、両極には、直流電源35から粗面化の適当な電圧が
印加されている。クリアランスは通常3〜50mmが適
当である。アルミニウムウェブと電極間の電解液の平均
流速は、50〜500 cm/分が適当である。アルミ
ニウムウェブの幅方向の長さは、求める電解条件によっ
て任意に選択でき、アルミニウムウェブの走行速度、電
解時間、電流密度、電解液の流速等によって異なる。電
解条件によって、粗面化形状または電解研磨のされ方が
違ってくる。 (1−2−2)交流を用いた電気化学的な粗面化 塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、通常の交流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
1〜100g/リットルの塩酸または硝酸水溶液に、硝
酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等
の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩
化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸または硝酸
化合物の少なくとも1つを1/リットル〜飽和まで添加
して使用することができる。また塩酸または硝酸を主体
とする水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタ
ン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含
まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸ま
たは硝酸0.5〜2重量%水溶液にアルミニウムイオン
が3〜50g/リットルとなるように、塩化アルミニウ
ム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いることが好
ましい。温度は10〜60℃が好ましく、20〜50℃
がより好ましい。
32とクリアランスを一定に保って通過している。な
お、両極には、直流電源35から粗面化の適当な電圧が
印加されている。クリアランスは通常3〜50mmが適
当である。アルミニウムウェブと電極間の電解液の平均
流速は、50〜500 cm/分が適当である。アルミ
ニウムウェブの幅方向の長さは、求める電解条件によっ
て任意に選択でき、アルミニウムウェブの走行速度、電
解時間、電流密度、電解液の流速等によって異なる。電
解条件によって、粗面化形状または電解研磨のされ方が
違ってくる。 (1−2−2)交流を用いた電気化学的な粗面化 塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、通常の交流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
1〜100g/リットルの塩酸または硝酸水溶液に、硝
酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等
の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩
化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸または硝酸
化合物の少なくとも1つを1/リットル〜飽和まで添加
して使用することができる。また塩酸または硝酸を主体
とする水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタ
ン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含
まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸ま
たは硝酸0.5〜2重量%水溶液にアルミニウムイオン
が3〜50g/リットルとなるように、塩化アルミニウ
ム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いることが好
ましい。温度は10〜60℃が好ましく、20〜50℃
がより好ましい。
【0042】硝酸を主体として水溶液中での電気化学的
な粗面化では平均直径0.5〜3μmのピットが1×1
05 〜6×106 個/mm2 の割合でピットが生成して
いることが好ましい。但し、電気量を比較的多くしたと
きは、電解反応が集中し、3μmを越えるハニカムピッ
トも生成する。塩酸を主体とする水溶液中の電気化学的
な粗面化ではクレーター状の大きなうねりに重畳して平
均直径0.1〜0.4μmのハニカムピットが全面の均
一に生成する。
な粗面化では平均直径0.5〜3μmのピットが1×1
05 〜6×106 個/mm2 の割合でピットが生成して
いることが好ましい。但し、電気量を比較的多くしたと
きは、電解反応が集中し、3μmを越えるハニカムピッ
トも生成する。塩酸を主体とする水溶液中の電気化学的
な粗面化ではクレーター状の大きなうねりに重畳して平
均直径0.1〜0.4μmのハニカムピットが全面の均
一に生成する。
【0043】塩酸または硝酸を主体とする水溶液中での
電気化学的粗面化に用いる交流電源波は、サイン波、矩
形波、台形波、三角波などが用いられる。本発明の電気
化学的な粗面化に用いる台形波は、図2に示したものを
いう。電流が0〜ピークに達するまでの時間(TP)は
1〜3msecが好ましい。duty比は1:2〜2:
1が好ましく、電源本体のコストからするとduty比
1:1が特に好ましい。周波数は0.1〜120Hzの
ものを用いることが可能であるが、30〜70Hzとく
に50〜70Hzが設備上好ましい。
電気化学的粗面化に用いる交流電源波は、サイン波、矩
形波、台形波、三角波などが用いられる。本発明の電気
化学的な粗面化に用いる台形波は、図2に示したものを
いう。電流が0〜ピークに達するまでの時間(TP)は
1〜3msecが好ましい。duty比は1:2〜2:
1が好ましく、電源本体のコストからするとduty比
1:1が特に好ましい。周波数は0.1〜120Hzの
ものを用いることが可能であるが、30〜70Hzとく
に50〜70Hzが設備上好ましい。
【0044】但し、Cuが0.1wt%よりも多く含まれ
るアルミニウム合金を用いるときには周波数0.1〜1
0Hzの交流を用いることが好ましい。電流密度は電流波
形のピーク値で10〜200A/dm2が好ましい。塩酸を
主体とする水溶液中での交流を用いた電気化学的な粗面
化では、アルミニウム板が陽極時の電源波形のよって粗
面化後の表面形状が大きく異なる。Duty比2:1〜1:
2、周波数0.1〜百二十Hz,特に、30〜70Hz
が好ましい。
るアルミニウム合金を用いるときには周波数0.1〜1
0Hzの交流を用いることが好ましい。電流密度は電流波
形のピーク値で10〜200A/dm2が好ましい。塩酸を
主体とする水溶液中での交流を用いた電気化学的な粗面
化では、アルミニウム板が陽極時の電源波形のよって粗
面化後の表面形状が大きく異なる。Duty比2:1〜1:
2、周波数0.1〜百二十Hz,特に、30〜70Hz
が好ましい。
【0045】本発明で交流を用いた電気化学的な粗面化
に用いる電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型など
公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特
開平5−195300号公報に記載のようなラジアル型
電解槽がとくに好ましい。電解槽内を通過する電解液は
アルミニウムウェブの進行とパラレルでもカウンターで
もよい。
に用いる電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型など
公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特
開平5−195300号公報に記載のようなラジアル型
電解槽がとくに好ましい。電解槽内を通過する電解液は
アルミニウムウェブの進行とパラレルでもカウンターで
もよい。
【0046】電解槽には1個以上の交流電源が接続する
ことができる。主極に対向するアルミニウム板に加わる
交流の陽極と陰極の電流比をコントロールし、均一な砂
目立てを行うことと、主極のカーボンの溶解を目的で、
図3に示したように補助陽極を設刑、交流電流の一部を
分流させることが好ましい。整流素子またはスイッチン
グ素子を介して電流値の一部を2つの主電極とは別の槽
に設けた補助陽極に直流電流として分流させることによ
り、主極に対向するアルミニウム板上で作用するアノー
ド反応にあずかる電流値と、カソード反応にあずかる電
流値との比を制御できる。主極に対向するアルミニウム
板上で、陽極反応と陰極反応にあずかる電気量の比(陰
極時電気量/陽極時電気量)は0.3〜0.95が好ま
しい。
ことができる。主極に対向するアルミニウム板に加わる
交流の陽極と陰極の電流比をコントロールし、均一な砂
目立てを行うことと、主極のカーボンの溶解を目的で、
図3に示したように補助陽極を設刑、交流電流の一部を
分流させることが好ましい。整流素子またはスイッチン
グ素子を介して電流値の一部を2つの主電極とは別の槽
に設けた補助陽極に直流電流として分流させることによ
り、主極に対向するアルミニウム板上で作用するアノー
ド反応にあずかる電流値と、カソード反応にあずかる電
流値との比を制御できる。主極に対向するアルミニウム
板上で、陽極反応と陰極反応にあずかる電気量の比(陰
極時電気量/陽極時電気量)は0.3〜0.95が好ま
しい。
【0047】なお、図3に本発明において、交流により
電気化学的な粗面化をおこなう装置の一例を示す。図に
おいて、11はアルミウニムウエブであり、12はアル
ミニウムウエブを支えるラジアルドラムローラである。
アルミニウムウェブはカーボン製の主極13a、13b
およびフェライトまたは白金の補助陽極18とクリアラ
ンスを一定に保って走行している。クリアランスは通常
3〜50mm程度が適当である。主電極と補助陽極の処
理長さの比、主極13aと13bの長さの比は求める電
解条件によって異なる。主極13aと13bの処理長さ
の比は1:2から2:1の範囲から選択できるが、でき
るだけ1:1となるようにすることが好ましい。主極1
3aまたは13bと補助陽極18の処理長さの比は1:
1から1:0.1であることが好ましい。主極13はラ
ジアルドラムローラ12に沿ってRをつけることが難し
いので特開平5−195300号公報に記載のようにイ
ンシュレータと呼ばれる厚さ1〜5mmの絶縁体を挟ん
で並べることが通例である。
電気化学的な粗面化をおこなう装置の一例を示す。図に
おいて、11はアルミウニムウエブであり、12はアル
ミニウムウエブを支えるラジアルドラムローラである。
アルミニウムウェブはカーボン製の主極13a、13b
およびフェライトまたは白金の補助陽極18とクリアラ
ンスを一定に保って走行している。クリアランスは通常
3〜50mm程度が適当である。主電極と補助陽極の処
理長さの比、主極13aと13bの長さの比は求める電
解条件によって異なる。主極13aと13bの処理長さ
の比は1:2から2:1の範囲から選択できるが、でき
るだけ1:1となるようにすることが好ましい。主極1
3aまたは13bと補助陽極18の処理長さの比は1:
1から1:0.1であることが好ましい。主極13はラ
ジアルドラムローラ12に沿ってRをつけることが難し
いので特開平5−195300号公報に記載のようにイ
ンシュレータと呼ばれる厚さ1〜5mmの絶縁体を挟ん
で並べることが通例である。
【0048】補助陽極に流す電流は19の整流素子また
はスイッチング素子により電源から任意の電流値となる
ように制御されて分流する。19の整流素子としてはサ
イリスタが好ましく、点弧角で補助陽極18に流れる電
流を制御することができる。補助陽極に電流を分流する
ことで主極のカーボン電極の溶解を抑え、電気化学的な
粗面化工程での粗面化形状をコントロールすることがで
きる。カーボン電極に流れる電流と、補助陽極に流れる
電流の電流の比は0.95:0.05乃至0.7:0.
3であることが好ましい。
はスイッチング素子により電源から任意の電流値となる
ように制御されて分流する。19の整流素子としてはサ
イリスタが好ましく、点弧角で補助陽極18に流れる電
流を制御することができる。補助陽極に電流を分流する
ことで主極のカーボン電極の溶解を抑え、電気化学的な
粗面化工程での粗面化形状をコントロールすることがで
きる。カーボン電極に流れる電流と、補助陽極に流れる
電流の電流の比は0.95:0.05乃至0.7:0.
3であることが好ましい。
【0049】液流は、アルミニウムウエブの進行とパラ
レルでもカウンターでもよいが、カウンターのほうが、
処理ムラの発生は少ない。電解処理液14は電解液供給
口15内にはいり、ディストリビュータを経てラジアル
ドラムローラ12の幅方向全体に均一に分布するようキ
ャビティー内にはいり、スリット16より電解液通路1
7の中に噴出される。
レルでもカウンターでもよいが、カウンターのほうが、
処理ムラの発生は少ない。電解処理液14は電解液供給
口15内にはいり、ディストリビュータを経てラジアル
ドラムローラ12の幅方向全体に均一に分布するようキ
ャビティー内にはいり、スリット16より電解液通路1
7の中に噴出される。
【0050】図3の電解装置を2つ以上並べて使用して
もよい。 (1−3)酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処
理、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニム板
を化学的なエッチング処理 直流または交流を用いた電気化学的な粗面化で生成し
た、水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除
去、生成したピットのエッジ部分を滑らかにし、印刷板
としたときの汚れを良化させる目的で行う。
もよい。 (1−3)酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処
理、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニム板
を化学的なエッチング処理 直流または交流を用いた電気化学的な粗面化で生成し
た、水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除
去、生成したピットのエッジ部分を滑らかにし、印刷板
としたときの汚れを良化させる目的で行う。
【0051】アルミニウム板の溶解量は0.05〜5g
/m2 溶解することが好ましく、0.1〜3g/m2 溶
解することが好ましい。処理条件等については実施態様
1−1に記載の範囲から選択する。 (1−4)陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するもの
ならば、いかなるものでも使用することができる。一般
には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸、またはそれら
の混合液が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質
の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件は
用いる電解質によって変わるので一概に特定し得ない
が、一般的には電解質の濃度が1〜80wt%、液温は5
〜70℃、電流密度1〜60A/dm2、電気1〜100
V、電解時間10秒〜300秒の範囲にあれば適当であ
る。
/m2 溶解することが好ましく、0.1〜3g/m2 溶
解することが好ましい。処理条件等については実施態様
1−1に記載の範囲から選択する。 (1−4)陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するもの
ならば、いかなるものでも使用することができる。一般
には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸、またはそれら
の混合液が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質
の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件は
用いる電解質によって変わるので一概に特定し得ない
が、一般的には電解質の濃度が1〜80wt%、液温は5
〜70℃、電流密度1〜60A/dm2、電気1〜100
V、電解時間10秒〜300秒の範囲にあれば適当であ
る。
【0052】硫酸法は通常直流電流で処理がおこなわれ
るが、交流を用いることも可能である。陽極酸化皮膜の
量は1〜10g/m2の範囲が適当である。1g/m2よりも少
ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像
部に傷が付きやすくなって、同時にキズの部分にインキ
が付着する、いわゆるキズ汚れが生じやすくなる。 実施態様2 (2−1)第1番目のリン酸を主体とする水溶液中でア
ルミニウム板を電解研磨処理、または、酸またはアルカ
リ水溶液中でアルミニウム板を化学的なエッチング処理 処理条件等は実施態様1−1に記載の範囲から選択す
る。 (2−2)塩酸または硝酸水溶液中で直流または交流を
用いた電気化学的な粗面化処理 原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム板表面を、平均
表面粗さ0.35〜1.0μmとする目的でおこなう。
るが、交流を用いることも可能である。陽極酸化皮膜の
量は1〜10g/m2の範囲が適当である。1g/m2よりも少
ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像
部に傷が付きやすくなって、同時にキズの部分にインキ
が付着する、いわゆるキズ汚れが生じやすくなる。 実施態様2 (2−1)第1番目のリン酸を主体とする水溶液中でア
ルミニウム板を電解研磨処理、または、酸またはアルカ
リ水溶液中でアルミニウム板を化学的なエッチング処理 処理条件等は実施態様1−1に記載の範囲から選択す
る。 (2−2)塩酸または硝酸水溶液中で直流または交流を
用いた電気化学的な粗面化処理 原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム板表面を、平均
表面粗さ0.35〜1.0μmとする目的でおこなう。
【0053】処理条件等は実施態様1−2に記載の範囲
から選択する。印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷力
を向上する目的で行われる。 (2−3)酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処
理、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム
板を化学的なエッチング処理 2−1の電気化学的な粗面化で生成したスマットと、ピ
ットのエッジ部分またはピットが生成していないプラト
ーな部分の溶解をおこない、滑らかな凹凸を持つ表面を
得る目的でおこなう。印刷版の非画像部の汚れにくさと
耐刷力を向上する作用がある。
から選択する。印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷力
を向上する目的で行われる。 (2−3)酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処
理、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム
板を化学的なエッチング処理 2−1の電気化学的な粗面化で生成したスマットと、ピ
ットのエッジ部分またはピットが生成していないプラト
ーな部分の溶解をおこない、滑らかな凹凸を持つ表面を
得る目的でおこなう。印刷版の非画像部の汚れにくさと
耐刷力を向上する作用がある。
【0054】処理条件等は実施態様1−1と同様であ
る。 (2−4)塩酸または硝酸を主体とする水溶液中で交流
を用いて10〜1000C/dm2の電気量で電気化学的に
粗面化処理 平均直径0.1〜0.4μmまたは0.5〜3μmのハ
ニカムピットがアルミニウム表面に生成している部分の
割合が走査型電子顕微鏡で観察し、写真で撮影した視野
の中に30〜100%の面積率で生成させる。印刷版の
非画像部の汚れにくさと耐刷力を向上する目的で行われ
る。 (2−5)酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処
理、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム
板を化学的なエッチング処理 実施態様1−3同様である。 (2−6)陽極酸化処理 実施態様1−4同様である。
る。 (2−4)塩酸または硝酸を主体とする水溶液中で交流
を用いて10〜1000C/dm2の電気量で電気化学的に
粗面化処理 平均直径0.1〜0.4μmまたは0.5〜3μmのハ
ニカムピットがアルミニウム表面に生成している部分の
割合が走査型電子顕微鏡で観察し、写真で撮影した視野
の中に30〜100%の面積率で生成させる。印刷版の
非画像部の汚れにくさと耐刷力を向上する目的で行われ
る。 (2−5)酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処
理、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム
板を化学的なエッチング処理 実施態様1−3同様である。 (2−6)陽極酸化処理 実施態様1−4同様である。
【0055】第1段目の電解研磨処理の前に、毛径が
0.2〜0.9mmの回転するナイロンブラシロールと、
アルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機械的に
粗面化処理 原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム板表面を、平均
表面粗さ0.35〜1.0μmとする目的で、特開平6
−135175号公報、特公昭50−40047号公報
に記載されている機械的な粗面化処理をおこなう。第1
段目の電解研磨処理の前に行うことが好ましい。毛径が
0.2〜0.9mmの回転するナイロンブラシロ−ルと、
アルミニウム板表面に供給されるスラリ−液で機械的に
粗面化処理することが有利である。もちろんスラリ−液
を吹き付ける方式、ワイヤ−ブラシを用いた方式、凹凸
を付けた圧延ロ−ルの表面形状をアルミニウム板に転写
する方式などを用いても良い。研磨剤としては公知の物
が使用できるが、珪砂、石英、水酸化アルミニウムまた
はこれらの混合物が好ましい。
0.2〜0.9mmの回転するナイロンブラシロールと、
アルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機械的に
粗面化処理 原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム板表面を、平均
表面粗さ0.35〜1.0μmとする目的で、特開平6
−135175号公報、特公昭50−40047号公報
に記載されている機械的な粗面化処理をおこなう。第1
段目の電解研磨処理の前に行うことが好ましい。毛径が
0.2〜0.9mmの回転するナイロンブラシロ−ルと、
アルミニウム板表面に供給されるスラリ−液で機械的に
粗面化処理することが有利である。もちろんスラリ−液
を吹き付ける方式、ワイヤ−ブラシを用いた方式、凹凸
を付けた圧延ロ−ルの表面形状をアルミニウム板に転写
する方式などを用いても良い。研磨剤としては公知の物
が使用できるが、珪砂、石英、水酸化アルミニウムまた
はこれらの混合物が好ましい。
【0056】機械的粗面化は、例えば次のように行うこ
とが好ましい。まず、研磨スラリー液をアルミニウム板
表面に供給しながら、ブラシグレイニングを行う。該ブ
ラシグレイニングにおいて初めに用いるブラシを第1ブ
ラシと呼び、最終に用いるブラシを第2ブラシと呼ぶ。
該グレイン時、図1に示すように、アルミニウム板1を
挟んでローラ状ブラシ2及び4と、それぞれ二本の支持
ローラ5、6及び7、8を配置する。二本の支持ローラ
5、6及び7、8は互の外面の最短距離がローラ状ブラ
シ2及び4の外径よりそれぞれ小なるように配置され、
アルミニウム板1がローラ状ブラシ2及び4により加圧
され、2本の支持ローラ5、6及び7、8の間に押し入
れられる様な状態でアルミニウム板を一定速度で搬送し
且つ研磨スラリー液3をアルミニウム板上に供給してロ
ーラ状ブラシを回転させることにより表面を研磨するこ
とが好ましい。
とが好ましい。まず、研磨スラリー液をアルミニウム板
表面に供給しながら、ブラシグレイニングを行う。該ブ
ラシグレイニングにおいて初めに用いるブラシを第1ブ
ラシと呼び、最終に用いるブラシを第2ブラシと呼ぶ。
該グレイン時、図1に示すように、アルミニウム板1を
挟んでローラ状ブラシ2及び4と、それぞれ二本の支持
ローラ5、6及び7、8を配置する。二本の支持ローラ
5、6及び7、8は互の外面の最短距離がローラ状ブラ
シ2及び4の外径よりそれぞれ小なるように配置され、
アルミニウム板1がローラ状ブラシ2及び4により加圧
され、2本の支持ローラ5、6及び7、8の間に押し入
れられる様な状態でアルミニウム板を一定速度で搬送し
且つ研磨スラリー液3をアルミニウム板上に供給してロ
ーラ状ブラシを回転させることにより表面を研磨するこ
とが好ましい。
【0057】本発明に用いられるブラシは、ローラ状の
台部にナイロン、ポリプロピレン、動物毛、あるいは、
スチールワイヤ等のブラシ材を均一な毛長及び植毛分布
をもって植え込んだもの、台部に小穴を開けブラシ毛束
を植込んだもの、又、チャンネルローラ型のものなどが
好ましく用いられる。その中でも好ましい材料はナイロ
ンであり、好ましい植毛後の毛長は10〜200mmで
ある。なおブラシローラに植え込む際の植毛密度は1c
m2 当り30〜1000本が好ましく、さらに好ましく
は50〜300本である。
台部にナイロン、ポリプロピレン、動物毛、あるいは、
スチールワイヤ等のブラシ材を均一な毛長及び植毛分布
をもって植え込んだもの、台部に小穴を開けブラシ毛束
を植込んだもの、又、チャンネルローラ型のものなどが
好ましく用いられる。その中でも好ましい材料はナイロ
ンであり、好ましい植毛後の毛長は10〜200mmで
ある。なおブラシローラに植え込む際の植毛密度は1c
m2 当り30〜1000本が好ましく、さらに好ましく
は50〜300本である。
【0058】該ブラシの好ましい毛径は、0.24mm
から0.83mmであり、更に好ましくは0.295m
mから0.72mmである。毛の断面形状は円が好まし
い。毛径が0.24mmよりも小さいとシャドウ部での
汚れ性能が悪くなり、0.83mmよりも大きいとブラ
ンケット上の汚れ性能が悪くなる。毛の材質はナイロン
が好ましく、ナイロン6、ナイロン6・6、ナイロン6
・10などが用いられるが、引っ張り強さ、耐摩耗性、
吸水による寸法安定性、曲げ強さ、耐熱性、回復性など
でナイロン6・10が最も好ましい。
から0.83mmであり、更に好ましくは0.295m
mから0.72mmである。毛の断面形状は円が好まし
い。毛径が0.24mmよりも小さいとシャドウ部での
汚れ性能が悪くなり、0.83mmよりも大きいとブラ
ンケット上の汚れ性能が悪くなる。毛の材質はナイロン
が好ましく、ナイロン6、ナイロン6・6、ナイロン6
・10などが用いられるが、引っ張り強さ、耐摩耗性、
吸水による寸法安定性、曲げ強さ、耐熱性、回復性など
でナイロン6・10が最も好ましい。
【0059】ブラシの本数は、好ましくは1本以上10
本以下であり、更に好ましくは1本以上6本以下であ
る。ブラシローラは特開平6−135175号公報に記
載のように毛径の異なるブラシローラを組み合わせても
よい。
本以下であり、更に好ましくは1本以上6本以下であ
る。ブラシローラは特開平6−135175号公報に記
載のように毛径の異なるブラシローラを組み合わせても
よい。
【0060】次にブラシローラの回転は好ましくは10
0rpmから500rpmで任意に選ばれる。支持ロー
ラはゴムあるいは金属面を有し真直度のよく保たれたも
のが用いられる。ブラシローラの回転方向は図1に示す
ようにアルミニウム板の搬送方向に順転に行うのが好ま
しいが、ブラシローラが多数本の場合は一部のブラシロ
ーラを逆転としてもよい。
0rpmから500rpmで任意に選ばれる。支持ロー
ラはゴムあるいは金属面を有し真直度のよく保たれたも
のが用いられる。ブラシローラの回転方向は図1に示す
ようにアルミニウム板の搬送方向に順転に行うのが好ま
しいが、ブラシローラが多数本の場合は一部のブラシロ
ーラを逆転としてもよい。
【0061】本発明において、上記太いブラシで粗面化
した後、細いブラシで処理することにより、親水性、保
水性及び密着性のすべてをかねそなえた支持体が得られ
て好ましい。機械的な粗面化処理の次に行う実施態様1
−1、2−1に記載の酸性水溶液中でアルミニウム板を
電解研磨処理、または、酸またはアルカリ水溶液中でア
ルミニウム板を化学的なエッチング処理は、機械的な粗
面化によって生成した凹凸のエッジ部分を溶解し、滑ら
かなうねりを持つ表面を得、汚れ性能がよい印刷版を得
る目的でおこなう。このときのアルミニウム板の溶解量
は5〜20g/m2が好ましい。 陽極酸化皮膜を形成した後の親水化処理 陽極酸化処理が施された後、アルミニウム表面は必要に
より親水化処理が施される。本発明に使用される親水化
処理としては、米国特許第2714066号、第318
1461号、第3280734号及び第3902734
号各明細書に開示されているようなアルカリ金属シリケ
−ト(例えば珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方
法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬
されるか、また電解処理される。他に特公昭36−22
063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム、および、米国特許第3276868、第41534
61号および第4689272号各明細書に開示されて
いるようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが
用いられる。
した後、細いブラシで処理することにより、親水性、保
水性及び密着性のすべてをかねそなえた支持体が得られ
て好ましい。機械的な粗面化処理の次に行う実施態様1
−1、2−1に記載の酸性水溶液中でアルミニウム板を
電解研磨処理、または、酸またはアルカリ水溶液中でア
ルミニウム板を化学的なエッチング処理は、機械的な粗
面化によって生成した凹凸のエッジ部分を溶解し、滑ら
かなうねりを持つ表面を得、汚れ性能がよい印刷版を得
る目的でおこなう。このときのアルミニウム板の溶解量
は5〜20g/m2が好ましい。 陽極酸化皮膜を形成した後の親水化処理 陽極酸化処理が施された後、アルミニウム表面は必要に
より親水化処理が施される。本発明に使用される親水化
処理としては、米国特許第2714066号、第318
1461号、第3280734号及び第3902734
号各明細書に開示されているようなアルカリ金属シリケ
−ト(例えば珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方
法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬
されるか、また電解処理される。他に特公昭36−22
063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム、および、米国特許第3276868、第41534
61号および第4689272号各明細書に開示されて
いるようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが
用いられる。
【0062】また、砂目立て処理及び陽極酸化処理後、
封孔処理を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱
水および無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬な
らびに水蒸気浴によって行われる。 その他 このようにして得られた平板印刷版用支持体の上には、
従来より知られている感光層を設けて、感光性平版印刷
版を得ることができ、これを製版処理して得た平版印刷
版は優れた性能を有している。この感光層中に用いられ
る感光性物質は特に限定されるものではなく、通常、感
光性平版印刷版に用いられているものを使用できる。例
えば特開平6−135175号公報に記載のような各種
のものを使用することが出来る。
封孔処理を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱
水および無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬な
らびに水蒸気浴によって行われる。 その他 このようにして得られた平板印刷版用支持体の上には、
従来より知られている感光層を設けて、感光性平版印刷
版を得ることができ、これを製版処理して得た平版印刷
版は優れた性能を有している。この感光層中に用いられ
る感光性物質は特に限定されるものではなく、通常、感
光性平版印刷版に用いられているものを使用できる。例
えば特開平6−135175号公報に記載のような各種
のものを使用することが出来る。
【0063】アルミニウム板は感光層を塗布する前に必
要に応じて有機下塗層(中間層)が設けられる。この下
塗層に設けられる有機下塗層としては従来より知られて
いるものを用いることができ、例えば特開平6−135
175号公報に記載のものを用いることができる。感光
層はネガ型でもポジ型でもよい。本発明で感光層を塗布
する前のアルミニウム支持体は、JIS Z9741-1983で規定
している85度光沢度が30以下である。また、走査型
電子顕微鏡で観察したときに平均ピット径が0.1〜
0.4μmまたは0.5〜3μmのハニカムピットが生
成している部分が全表面積に占める割合が30〜100
%である。また、原子間力顕微鏡で測定したアルミニウ
ム板表面の平均表面粗さ0.35〜1.0μmであり、
原子間力顕微鏡による計測で求めた表面傾斜度分布の、
傾斜度が30度以上の割合が5%以上40%以下であ
る。
要に応じて有機下塗層(中間層)が設けられる。この下
塗層に設けられる有機下塗層としては従来より知られて
いるものを用いることができ、例えば特開平6−135
175号公報に記載のものを用いることができる。感光
層はネガ型でもポジ型でもよい。本発明で感光層を塗布
する前のアルミニウム支持体は、JIS Z9741-1983で規定
している85度光沢度が30以下である。また、走査型
電子顕微鏡で観察したときに平均ピット径が0.1〜
0.4μmまたは0.5〜3μmのハニカムピットが生
成している部分が全表面積に占める割合が30〜100
%である。また、原子間力顕微鏡で測定したアルミニウ
ム板表面の平均表面粗さ0.35〜1.0μmであり、
原子間力顕微鏡による計測で求めた表面傾斜度分布の、
傾斜度が30度以上の割合が5%以上40%以下であ
る。
【0064】本発明に於いて、感光層を塗布する前のア
ルミニウム支持体は、JIS Z9741-1983で規定している8
5度光沢度が30以上だと印刷機上の湿し水の量が見に
くくなる。走査型電子顕微鏡で観察したときに平均ピッ
ト径が0.1〜0.4μmまたは0.5〜3μmのハニ
カムピットが生成している部分が前表面積に占める割合
が30%未満だと印刷版としたときの画質が悪くなり、
校正作業がしにくくなる。
ルミニウム支持体は、JIS Z9741-1983で規定している8
5度光沢度が30以上だと印刷機上の湿し水の量が見に
くくなる。走査型電子顕微鏡で観察したときに平均ピッ
ト径が0.1〜0.4μmまたは0.5〜3μmのハニ
カムピットが生成している部分が前表面積に占める割合
が30%未満だと印刷版としたときの画質が悪くなり、
校正作業がしにくくなる。
【0065】原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム板
表面の平均裏面粗さが0.35μm未満だと網点非画像
部で汚れやすくなり、1.0μmよりも大きいとブラン
ケット状で非画像部が汚れやすくなる。原子間力顕微鏡
による計測で求めた表面傾斜度分布の、傾斜度が30度
以上の割合が5%未満だと、網点非画像部で汚れやすく
なり、40%よりも大きいとブランケット上で非画像部
が汚れやすくなる。
表面の平均裏面粗さが0.35μm未満だと網点非画像
部で汚れやすくなり、1.0μmよりも大きいとブラン
ケット状で非画像部が汚れやすくなる。原子間力顕微鏡
による計測で求めた表面傾斜度分布の、傾斜度が30度
以上の割合が5%未満だと、網点非画像部で汚れやすく
なり、40%よりも大きいとブランケット上で非画像部
が汚れやすくなる。
【0066】以下実施例によって本発明を具体的に説明
する。
する。
【0067】
実施例1 厚さ0.3mmの幅1030mmのJIS3004アルミニ
ウム板を用いて連続的に処理をおこなった。 (a)比重1.12の研磨剤(水酸化アルミニウム)と
水の懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表
面に供給しながら、回転するローラー状ナイロンブラシ
により機械的な粗面化をおこなった。ナイロンブラシの
材質は6・10ナイロンを使用し、毛長50mm、毛の直
径は0.48mmであった。ナイロンブラシはφ300mm
のステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛し
た。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支
持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブ
ラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、
ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷
に対して7kwプラスになるまで押さえつけた。ブラシの
回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。 (b)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおこない、アルミニウム板を1
5g/m2溶解した。その後スプレーによる水洗をおこなっ
た。 (c)液温30℃の硝酸濃度1wt%水溶液(アルミニウ
ムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデスマ
ット処理をおこない、その後スプレーで水洗した。前記
デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流
を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の廃液を用
いた。 (d)周波数1Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化
学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸
1wt%水溶液(アルミニウムイオン0.5wt%、アンモ
ニウムイオン0.007wt%含む)、液温45℃であっ
た。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するま
での時間TPが1msec、duty比1:1、台形の矩形波交
流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗
面化処理をおこなった。補助アノードにはフェライトを
用いた。使用した電解槽は図3に示すものを2個使用し
た。
ウム板を用いて連続的に処理をおこなった。 (a)比重1.12の研磨剤(水酸化アルミニウム)と
水の懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表
面に供給しながら、回転するローラー状ナイロンブラシ
により機械的な粗面化をおこなった。ナイロンブラシの
材質は6・10ナイロンを使用し、毛長50mm、毛の直
径は0.48mmであった。ナイロンブラシはφ300mm
のステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛し
た。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支
持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブ
ラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、
ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷
に対して7kwプラスになるまで押さえつけた。ブラシの
回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。 (b)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおこない、アルミニウム板を1
5g/m2溶解した。その後スプレーによる水洗をおこなっ
た。 (c)液温30℃の硝酸濃度1wt%水溶液(アルミニウ
ムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデスマ
ット処理をおこない、その後スプレーで水洗した。前記
デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流
を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の廃液を用
いた。 (d)周波数1Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化
学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸
1wt%水溶液(アルミニウムイオン0.5wt%、アンモ
ニウムイオン0.007wt%含む)、液温45℃であっ
た。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するま
での時間TPが1msec、duty比1:1、台形の矩形波交
流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗
面化処理をおこなった。補助アノードにはフェライトを
用いた。使用した電解槽は図3に示すものを2個使用し
た。
【0068】電流密度は電流のピーク値で50A/dm2、
電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で23
0C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の
5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗をおこ
なった。 (e)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度5wt%、アルミ
ニウムイオン濃度0.5wt%でスプレーによるエッチン
グ処理をおこない、アルミニウム板を1.1g/m2溶解
し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなっ
たときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマ
ット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解
し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗
した。 (f)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーによる水洗を行
った。 (g)液温35℃の硫酸濃度15wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電
流密度2A/dm2で陽極酸化被膜量が2.4g/m2になるよ
うに陽極酸化処理をおこなった。その後スプレーによる
水洗をおこなった。 (h)親水化処理する目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、
70℃の水溶液に14秒間浸漬し、その後スプレーで水
洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップロー
ラで液切りをおこなった。
電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で23
0C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の
5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗をおこ
なった。 (e)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度5wt%、アルミ
ニウムイオン濃度0.5wt%でスプレーによるエッチン
グ処理をおこない、アルミニウム板を1.1g/m2溶解
し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなっ
たときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマ
ット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解
し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗
した。 (f)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーによる水洗を行
った。 (g)液温35℃の硫酸濃度15wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電
流密度2A/dm2で陽極酸化被膜量が2.4g/m2になるよ
うに陽極酸化処理をおこなった。その後スプレーによる
水洗をおこなった。 (h)親水化処理する目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、
70℃の水溶液に14秒間浸漬し、その後スプレーで水
洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップロー
ラで液切りをおこなった。
【0069】処理されたアルミニウム板の表面を日本電
子製FESEMで観察したところ、5〜30μmの大き
なうねりに、平均直径0.5〜3.0μmのハニカムピ
ットが重畳していた。平均直径0.5〜3.0μmのピ
ットが生成している面積割合は、85%であった。ま
た、85度光沢度は12であった。原子間力顕微鏡でそ
の平均表面粗さを測定したところ。0.6μmであり、
a30は10%であった。
子製FESEMで観察したところ、5〜30μmの大き
なうねりに、平均直径0.5〜3.0μmのハニカムピ
ットが重畳していた。平均直径0.5〜3.0μmのピ
ットが生成している面積割合は、85%であった。ま
た、85度光沢度は12であった。原子間力顕微鏡でそ
の平均表面粗さを測定したところ。0.6μmであり、
a30は10%であった。
【0070】このアルミニウム板に中間層および感光層
を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/m2のネガ形PS版を
作成した。このPS版を用いて印刷したところ良好な印
刷版であった。 実施例2 (h)の珪酸ソーダ水溶液に浸漬しない以外は実施例1
と全く同じ条件でおこなった。この処理したアルミニウ
ム板に中間層とポジ形感光層を塗布、乾燥してPS版を
作成した。このPS版を印刷したところ良好な印刷版で
あった。
を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/m2のネガ形PS版を
作成した。このPS版を用いて印刷したところ良好な印
刷版であった。 実施例2 (h)の珪酸ソーダ水溶液に浸漬しない以外は実施例1
と全く同じ条件でおこなった。この処理したアルミニウ
ム板に中間層とポジ形感光層を塗布、乾燥してPS版を
作成した。このPS版を印刷したところ良好な印刷版で
あった。
【0071】実施例3 厚さ0.24mm、幅1030mmの、JIS3004を用
いて以下の処理を行った。 (a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおこない、アルミニウム板を
6.0g/m2溶解し、圧延油や自然酸化膜を除去した。そ
の後スプレーによる水洗をおこなった。 (b)液温30℃の硝酸濃度1wt%水溶液(アルミニウ
ムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデスマ
ット処理をおこない、そのスプレーで水洗した。前記デ
スマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で直流を
用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の廃液を用い
た。 (c)直流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処
理をおこなった。このときの電解液は、硝酸1wt%水溶
液(アルミニウムイオン0.5wt%、アンモニウムイオ
ン0.007wt%含む)、液温45℃であった。アノー
ドにはフェライト、カソードにはチタンを用いた。電解
にはリップル率20%以下の直流電圧を用いた。電流密
度50A/dm2、アルミニウム板が陽極時の電気量400C
/dm2であった。 (d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおない、アルミニウム板を5g/
m2溶解し、その後スプレーによる水洗を行った。 (e)液温30℃の硝酸濃度1wt%水溶液(アルミニウ
ムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデスマ
ット処理をおこない、その後スプレーで水洗した。前記
デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で直流
を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の廃液を用
いた。 (f)1Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な
粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1wt%
水溶液(アルミニウムイオン0.5wt%、アンモニウム
イオン0.007wt%含む)、液温20、35、45℃
であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達
するまでの時間TPが1.0msec、duty比1:1、台形
の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気
化学的な粗面化処理をおこなった。補助アノードにはフ
ェライトを用いた。使用した電解槽は図3に示すものを
2個使用した。
いて以下の処理を行った。 (a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおこない、アルミニウム板を
6.0g/m2溶解し、圧延油や自然酸化膜を除去した。そ
の後スプレーによる水洗をおこなった。 (b)液温30℃の硝酸濃度1wt%水溶液(アルミニウ
ムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデスマ
ット処理をおこない、そのスプレーで水洗した。前記デ
スマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で直流を
用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の廃液を用い
た。 (c)直流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処
理をおこなった。このときの電解液は、硝酸1wt%水溶
液(アルミニウムイオン0.5wt%、アンモニウムイオ
ン0.007wt%含む)、液温45℃であった。アノー
ドにはフェライト、カソードにはチタンを用いた。電解
にはリップル率20%以下の直流電圧を用いた。電流密
度50A/dm2、アルミニウム板が陽極時の電気量400C
/dm2であった。 (d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおない、アルミニウム板を5g/
m2溶解し、その後スプレーによる水洗を行った。 (e)液温30℃の硝酸濃度1wt%水溶液(アルミニウ
ムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデスマ
ット処理をおこない、その後スプレーで水洗した。前記
デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で直流
を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の廃液を用
いた。 (f)1Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な
粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1wt%
水溶液(アルミニウムイオン0.5wt%、アンモニウム
イオン0.007wt%含む)、液温20、35、45℃
であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達
するまでの時間TPが1.0msec、duty比1:1、台形
の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気
化学的な粗面化処理をおこなった。補助アノードにはフ
ェライトを用いた。使用した電解槽は図3に示すものを
2個使用した。
【0072】電流密度は電流のピーク値で30、40、
50A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量
の総和で,138、184、230C/dm2であった。補
助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。そ
の後、スプレーによる水洗をおこなった。 (g)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度5wt%、アルミ
ニウムイオン濃度0.5wt%でスプレーによるエッチン
グ処理をおこない、アルミニウム板を0.1g/m2溶解
し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなっ
たときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマ
ット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解
し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗
した。 (h)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーによる水洗をお
こなった。 (i)液温35℃の硫酸濃度15wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で直流電圧を用い、電流
密度2A/dm2で陽極酸化被膜量が2.4g/m2になるよう
に陽極酸化処理をおこなった。その後、スプレーによる
水洗をおこなった。 (j)親水化処理する目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、
70℃の水溶液に14秒間浸漬し、その後スプレーで水
洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップロー
ラで液切りをおこなった。
50A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量
の総和で,138、184、230C/dm2であった。補
助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。そ
の後、スプレーによる水洗をおこなった。 (g)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度5wt%、アルミ
ニウムイオン濃度0.5wt%でスプレーによるエッチン
グ処理をおこない、アルミニウム板を0.1g/m2溶解
し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなっ
たときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマ
ット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解
し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗
した。 (h)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーによる水洗をお
こなった。 (i)液温35℃の硫酸濃度15wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で直流電圧を用い、電流
密度2A/dm2で陽極酸化被膜量が2.4g/m2になるよう
に陽極酸化処理をおこなった。その後、スプレーによる
水洗をおこなった。 (j)親水化処理する目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、
70℃の水溶液に14秒間浸漬し、その後スプレーで水
洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップロー
ラで液切りをおこなった。
【0073】処理されたアルミニウム板の表面を日本電
子製FESEMで観察したところ、5〜30μmの大き
なうねりに、平均直径0.5〜3μmのハニカムピット
が重畳していた。このアルミニウム板に中間層および感
光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/m2のネガ形PS
版を作成した。このPS版を用いて印刷したところ,表
1に示すおうに、実施例3−1、3−2、3−3は良好
な印刷版であった。
子製FESEMで観察したところ、5〜30μmの大き
なうねりに、平均直径0.5〜3μmのハニカムピット
が重畳していた。このアルミニウム板に中間層および感
光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/m2のネガ形PS
版を作成した。このPS版を用いて印刷したところ,表
1に示すおうに、実施例3−1、3−2、3−3は良好
な印刷版であった。
【0074】
【表1】
【0075】実施例4 (j)の珪酸ソーダ水溶液に浸漬しない以外は実施例3
−2と全く同じ条件でおこなった。この処理したアルミ
ニウム板に中間層とポジ形感光層を塗布、乾燥してPS
版を作成した。このPS版を印刷したところ良好な印刷
版であった。 実施例5 厚さ0.24mm、幅1030mmの、JIS1100,の
アルミニウム板を用いて以下の処理を連続して行った。 (a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおこない、アルミニウム板を
6.0g/m2溶解した。その後スプレーによる水洗をおこ
なった。 (b)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーで水洗した。 (c)1Hz,60Hzの交流電圧を用いて連続的に電
気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、
硝酸1wt%水溶液(アルミニウムイオン0.5wt%、ア
ンモニウムイオン0.007wt%含む)、液温45℃で
あった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達す
るまでの時間TPが2.0msec、duty比1:1、台形の
矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化
学的な粗面化処理をおこなった。補助アノードにはフェ
ライトを用いた。
−2と全く同じ条件でおこなった。この処理したアルミ
ニウム板に中間層とポジ形感光層を塗布、乾燥してPS
版を作成した。このPS版を印刷したところ良好な印刷
版であった。 実施例5 厚さ0.24mm、幅1030mmの、JIS1100,の
アルミニウム板を用いて以下の処理を連続して行った。 (a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおこない、アルミニウム板を
6.0g/m2溶解した。その後スプレーによる水洗をおこ
なった。 (b)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーで水洗した。 (c)1Hz,60Hzの交流電圧を用いて連続的に電
気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、
硝酸1wt%水溶液(アルミニウムイオン0.5wt%、ア
ンモニウムイオン0.007wt%含む)、液温45℃で
あった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達す
るまでの時間TPが2.0msec、duty比1:1、台形の
矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化
学的な粗面化処理をおこなった。補助アノードにはフェ
ライトを用いた。
【0076】電流密度は電流のピーク値で60A/dm2電
気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で276
C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の1
0%を分流させた。その後、スプレーによる水洗をおこ
なった。 (d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度5wt%、アルミ
ニウムイオン濃度0.5wt%でスプレーによるエッチン
グ処理をおこない、アルミニウム板を0.1g/m2溶解
し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなっ
たときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマ
ット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解
し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗
した。 (e)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーによる水洗をお
こなった。 (f)液温35℃の硫酸濃度15wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電
流密度2A/dm2で陽極酸化皮膜量が2.4g/m2になるよ
うに陽極酸化処理をおこなった。
気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で276
C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の1
0%を分流させた。その後、スプレーによる水洗をおこ
なった。 (d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度5wt%、アルミ
ニウムイオン濃度0.5wt%でスプレーによるエッチン
グ処理をおこない、アルミニウム板を0.1g/m2溶解
し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなっ
たときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマ
ット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解
し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗
した。 (e)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーによる水洗をお
こなった。 (f)液温35℃の硫酸濃度15wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電
流密度2A/dm2で陽極酸化皮膜量が2.4g/m2になるよ
うに陽極酸化処理をおこなった。
【0077】その後スプレーによる水洗をおこなった。 (g)親水化処理する目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、
70℃の水溶液に14秒間浸漬し、その後スプレーで水
洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップロー
ラで液切りをおこっなった。処理されたアルミニウム板
の表面を日本電子製FESEMで観察したところ、5〜
20μmの大きなうねりに、平均直径0.5〜5μmの
ハニカムピットが重畳していた。
70℃の水溶液に14秒間浸漬し、その後スプレーで水
洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップロー
ラで液切りをおこっなった。処理されたアルミニウム板
の表面を日本電子製FESEMで観察したところ、5〜
20μmの大きなうねりに、平均直径0.5〜5μmの
ハニカムピットが重畳していた。
【0078】実施例5−1、5−2、5−3のアルミニ
ウム板に、中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜
厚2.0g/m2のネガ形PS版を作成した。このPS版を
用いて印刷したところ良好な印刷版であった。得られた
結果を表2に示した。
ウム板に、中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜
厚2.0g/m2のネガ形PS版を作成した。このPS版を
用いて印刷したところ良好な印刷版であった。得られた
結果を表2に示した。
【0079】
【表2】
【0080】実施例6 厚さ0.24mm、幅1030mmの、JIS3004材の
アルミニウム板を用いて以下の処理を連続して行った。 (a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおこない、アルミニウム板を
6.0g/m2溶解した。その後スプレーによる水洗をおこ
なった。 (b)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーで水洗した。 (c)電解液中に陽極と陰極を交互に配置し、直流電源
が接続された陽極と陰極に対して一定間隔を保ってアル
ミニウム板を走行させる連続的に電気化学的な粗面化処
理を行った。このときの電解液は、硝酸1wt%水溶液
(アルミニウムイオン0.5wt%、アンモニウムイオン
0.007wt%含む)、液温45℃であった。アノード
にはフェライト、カソードにはチタンを用いた。電解に
はリップル率20%以下の直流電圧を用いた。電流密度
は50A/dm2, アルミニウム板が陽極時の電気量30
0C/dm2であった。
アルミニウム板を用いて以下の処理を連続して行った。 (a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26wt%、アル
ミニウムイオン濃度6.5wt%、液温75℃でスプレー
によるエッチング処理をおこない、アルミニウム板を
6.0g/m2溶解した。その後スプレーによる水洗をおこ
なった。 (b)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーで水洗した。 (c)電解液中に陽極と陰極を交互に配置し、直流電源
が接続された陽極と陰極に対して一定間隔を保ってアル
ミニウム板を走行させる連続的に電気化学的な粗面化処
理を行った。このときの電解液は、硝酸1wt%水溶液
(アルミニウムイオン0.5wt%、アンモニウムイオン
0.007wt%含む)、液温45℃であった。アノード
にはフェライト、カソードにはチタンを用いた。電解に
はリップル率20%以下の直流電圧を用いた。電流密度
は50A/dm2, アルミニウム板が陽極時の電気量30
0C/dm2であった。
【0081】その後、スプレーによる水洗をおこなっ
た。 (d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度5wt%、アルミ
ニウムイオン濃度0.5wt%でスプレーによるエッチン
グ処理をおこない、アルミニウム板を0.1g/m2溶解
し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなっ
たときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマ
ット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解
し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗
した。 (e)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーによる水洗をお
こなった。 (f)液温35℃の硫酸濃度15wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電
流密度2A/dm2で陽極酸化皮膜量が2.4g/m2になるよ
うに陽極酸化処理をおこなった。
た。 (d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度5wt%、アルミ
ニウムイオン濃度0.5wt%でスプレーによるエッチン
グ処理をおこない、アルミニウム板を0.1g/m2溶解
し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなっ
たときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマ
ット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解
し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗
した。 (e)液温60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデス
マット処理をおこない、その後スプレーによる水洗をお
こなった。 (f)液温35℃の硫酸濃度15wt%水溶液(アルミニ
ウムイオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電
流密度2A/dm2で陽極酸化皮膜量が2.4g/m2になるよ
うに陽極酸化処理をおこなった。
【0082】その後スプレーによる水洗をおこなった。 (g)親水化処理する目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、
70℃の水溶液に14秒間浸漬し、その後スプレーで水
洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップロー
ラで液切りをおこっなった。処理されたアルミニウム板
の表面を日本電子製FESEMで観察したところ、5〜
20μmの大きなうねりに、平均直径0.5〜3μmの
ハニカムピットが重畳していた。
70℃の水溶液に14秒間浸漬し、その後スプレーで水
洗し、乾燥した。各処理および水洗の後にはニップロー
ラで液切りをおこっなった。処理されたアルミニウム板
の表面を日本電子製FESEMで観察したところ、5〜
20μmの大きなうねりに、平均直径0.5〜3μmの
ハニカムピットが重畳していた。
【0083】平均直径0.5〜3.0μmのピットが生
成している面積割合は、90%であった。85度光沢度
は20であった。原子間力顕微鏡でその平均表面粗さを
測定したところ、0.45μmであり、a30は10%
であった。このアルミニウム板に、中間層及び感光層を
塗布し、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/dm2 のネガ型PS
板を作製した。
成している面積割合は、90%であった。85度光沢度
は20であった。原子間力顕微鏡でその平均表面粗さを
測定したところ、0.45μmであり、a30は10%
であった。このアルミニウム板に、中間層及び感光層を
塗布し、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/dm2 のネガ型PS
板を作製した。
【0084】このPS板を用いて印刷したところ良好な
印刷板であった。
印刷板であった。
【0085】
【発明の効果】本発明により、画像のシャドウ部及びブ
ランケット上で汚れの発生することがなく、かつ感光層
との密着性は良く、印刷時の湿し水の見やすさの満足す
る平版印刷版用支持体を得ることができた。
ランケット上で汚れの発生することがなく、かつ感光層
との密着性は良く、印刷時の湿し水の見やすさの満足す
る平版印刷版用支持体を得ることができた。
【図1】本発明で用いる機械的粗面化装置の側面図であ
る。
る。
【図2】本発明の電気化学的粗面化に用いる交番波形電
流波形図の一例である。
流波形図の一例である。
【図3】本発明で用いる交流電流による電気化学的粗面
化装置の一例を示す側面図である。
化装置の一例を示す側面図である。
【図4】本発明で用いる直流電流による電気化学的粗面
化装置の一例を示す側面図である。
化装置の一例を示す側面図である。
【図5】本発明で用いる直流電流による電気化学的粗面
化装置の他の例を示す側面図である。
化装置の他の例を示す側面図である。
1 アルミニウム板 2,4 ローラ状ブラシ 3 研磨スラリー液 5,6,7,8 支持ローラ 11 アルミニウムウエブ 12 ラジアルドラムローラ 13a,13b 主極 14 電解処理液 15 電解液供給口 16 スリット 17 電解液通路 18 補助陽極 19a,19b サイリスタ
Claims (9)
- 【請求項1】 JIS1100材またはJIS3004
材を、粗面化によって起伏を形成した平版印刷版用アル
ミニウム支持体において、この起伏が平均ピッチ5μm
以上30μm以下の大波と、平均直径0.1μm以上3
μm以下のハニカムピットが重畳された砂目であって、
原子間力顕微鏡による計測で求めた平均表面粗さが0.
35μm以上1.0μm以下であり、また原子間力顕微
鏡による計測で求めた表面傾斜度分布の、傾斜度が30
度以上の割合が5%以上40%以下であることを特徴と
する平版印刷版用アルミニウム支持体。 - 【請求項2】 該アルミニウム支持体表面の85度光沢
度が30%以下であることを特徴とする請求項1に記載
の平版印刷版用アルミニウム支持体。 - 【請求項3】 走査型電子顕微鏡で観察したとき、視野
に平均直径0.1μm以上0.4μm以下または平均直
径0.5以上3μm以下のハニカムビットが占める割合
が30%以上100%以下であることを特徴とする請求
項1または請求項2に記載の平版印刷版用アルミニウム
支持体。 - 【請求項4】 連続して走行するJIS1100材また
はJIS3004材のアルミニウム板の表面を順に
(a)酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処理す
るか、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウ
ム板を化学的なエッチング処理し、 (b)硝酸または塩酸を主成分とする水溶液中で交流ま
たは直流を用いて100〜1000 C/dm2 の電気
量で該アルミニウム板を電気化学的に粗面化処理し、 (c)酸性水溶液中で該アルミニウム板を電解研磨処理
するか、または、酸、あたはアルカリ水溶液中で該アル
ミニウム板を化学的なエッチング処理し、 (d)次いで、該アルミニウム板を陽極酸化して陽極酸
化皮膜を形成させる、ことを特徴とする平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の製造方法。 - 【請求項5】 連続して走行するJIS1100材また
はJIS3004材のアルミニウム板の表面を順に
(a)酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処理す
るか、または、酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウ
ム板を化学的なエッチング処理し、 (b)硝酸または塩酸を主成分とする水溶液中で直流ま
たは交流を用いて100〜1000 C/dm2 の電気
量で該アルミニウム板を電気化学的に粗面化し、 (c)酸性水溶液中で該アルミニウム板を電解研磨処理
するか、または、酸、あたはアルカリ水溶液中で該アル
ミニウム板を化学的なエッチング処理し、 (d)硝酸または塩酸を主成分とする水溶液中で直流ま
たは交流を用いて100〜1000 C/dm2 の電気
量で該アルミニウム板を電気化学的に粗面化処理し、 (e)酸性水溶液中で該アルミニウム板を電解研磨処理
するか、または、酸、あたはアルカリ水溶液中で該アル
ミニウム板を化学的なエッチング処理し、 (f)次いで、該アルミニウム板を陽極酸化して陽極酸
化皮膜を形成させる、ことを特徴とする平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の製造方法。 - 【請求項6】 第1段目の電解研磨処理の前に、毛径が
0.2〜0.9mmの回転するナイロンブラシロール
と、該アルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機
械的に粗面化処理することを特徴とする請求項4または
5記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法。 - 【請求項7】 交流を用いた電気化学的な粗面化に用い
る電流の周波数が0.3〜1.2Hz または30〜70
Hzであることを特徴とする請求項4乃至6に記載の平
版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法。 - 【請求項8】 硝酸または塩酸を主体とする水溶液中で
直流を用いた電気化学的粗面化が、陽極と陰極を一対、
または陽極と陰極を2対以上交互に配置し、該アルミニ
ウム板を電極と一定間隔を保って通過させることを特徴
とする請求項4乃至6に記載の平版印刷版用アルミニウ
ム支持体の製造方法。 - 【請求項9】 陽極酸化皮膜を形成した後に親水化処理
を行うことを特徴とする請求項4乃至8に記載の平版印
刷版用アルミニウム支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10563496A JPH09290578A (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 平版印刷版用アルミニウム支持体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10563496A JPH09290578A (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 平版印刷版用アルミニウム支持体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09290578A true JPH09290578A (ja) | 1997-11-11 |
Family
ID=14412904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10563496A Pending JPH09290578A (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 平版印刷版用アルミニウム支持体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09290578A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002200859A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-16 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性平版印刷版 |
| JP2002331767A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
-
1996
- 1996-04-25 JP JP10563496A patent/JPH09290578A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002200859A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-16 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性平版印刷版 |
| JP2002331767A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3580462B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JP2005206851A (ja) | アルミニウム板エンボス加工用ロール | |
| JP3342776B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法並びにアルミニウム支持体の粗面化処理方法 | |
| JP3738940B2 (ja) | 校正用平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JP3748295B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の粗面化方法 | |
| JPH08300843A (ja) | 平版印刷版用支持体とその製造方法及びそれに用いる電気化学的粗面化装置並びに電極 | |
| JP3695618B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JP3494328B2 (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH10183400A (ja) | アルミニウム板の粗面化方法 | |
| JP3717025B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JPH09142049A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体およびその製造方法 | |
| JPH1044636A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の粗面化処理方法 | |
| JPH09277735A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JPH10251900A (ja) | アルミニウム板の粗面化方法 | |
| JPH10130897A (ja) | アルミニウム板及びその粗面化方法 | |
| JP3787735B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法および支持体 | |
| JPH09234971A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JP3599210B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JP2000043441A (ja) | 平版印刷板用アルミニウム支持体の製造方法及びアルミニウム板のポリッシング方法 | |
| JPH1030200A (ja) | アルミニウム板の粗面化方法 | |
| JP2000301850A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JP2000127639A (ja) | 平版印刷板用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JP2707339B2 (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH1111035A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JP2001011699A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |