JPH09306802A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 感光基板を載置して２次元方向に移動可能な基板ステージと、
   マスクのパターンを前記感光基板上に投影する投影光学系と、
   前記投影光学系の光軸から離れた位置に第１の検出領域を有し、前記感光基板上のアライメントマークを検出する第１の基板アライメント系と、
   前記投影光学系の光軸から離れた前記第１の検出領域と異なる位置に第２の検出領域を有し、前記感光基板上のアライメントマークを検出する第２の基板アライメント系と、
   前記第１の基板アライメント系で検出し得る基準マークを有し、前記基板ステージ上に設けられた、前記第１の基板アライメント系用の第１基準部材と、
   前記第２の基板アライメント系で検出し得る基準マークを有し、前記基板ステージ上で前記第１基準部材とは異なる位置に設けられた、前記第２の基板アライメント系用の第２基準部材とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
2. 前記基板ステージ上における前記第１基準部材と前記第２基準部材の間隔は、前記第１検出領域と前記第２検出領域との間隔に応じて決定されることを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。
3. 前記基板ステージ上における前記第１基準部材と前記第２基準部材の間隔は、前記第１検出領域と前記第２検出領域の間隔より短いことを特徴とする請求項１又は２記載の投影露光装置。
4. 前記第１の検出領域及び第２の検出領域は、それぞれ前記投影光学系の投影視野の外側に設定されていることを特徴とする請求項１、２又は３記載の投影露光装置。
5. 前記基準部材は、前記基板ステージに対して昇降可能に設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載の投影露光装置。
6. パターンを投影する投影光学系とは別途設けられた第１及び第２のアライメント系を用いて、前記マスクに対する前記感光基板の位置を計測して、前記投影光学系を介して前記マスクのパターンを前記感光基板上に露光する露光方法において、
   前記第１及び第２のアライメント系と前記投影光学系との相対位置を計測するため、前記感光基板を載置するステージに設けられた第１及び第２基準マークの計測に際し、前記第１の基準マークは前記第１のアライメント系を用い、前記第２の基準マークは前記第２のアライメント系を用いて計測することを特徴とする露光方法。
7. 前記第１及び第２基準マークと前記マークのパターンとの位置情報を求めることを特徴とする請求項６記載の露光方法。
8. 前記感光基板には複数の位置検出用マークが設けられ、前記第１及び第２のアライメント系で検出領域に応じて分担して検出することを特徴とする請求項６又は７記載の露光方法。