JPH09176077A - 光学不活性および活性な１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキシアルキルケトンおよびそれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 反強誘電性液晶化合物の中間原料として、あ
るいは医薬、農薬等に用いられる化合物に種々の官能基
を導入できるビルディングブロック剤として有用な化合
物、およびそれらの工業的製造方法の提供。 【解決手段】 一般式１ （ｍは３−６の整数を表わす）の１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチル末端エトキシアルキルケト
ン、およびその製造方法、並びにその鏡像異性体、およ
び上記式の化合物を光学分割剤（Ｓ）−２−アセトキシ
プロピオニルクロリドを用いて分割することよりなる該
鏡像異性体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、反強誘電
性液晶化合物の中間原料として、あるいは医薬、農薬等
に用いられる化合物に種々の官能基を導入できるビルデ
ィングブロック剤として有用である、新規の、光学不活
性な（＝鏡象異性体混合物としての）および光学活性な
１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端
エトキシアルキルケトンおよびそれらの製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】反強誘電性液晶化合物の中間原料とし
て、（Ｒ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタン−２−オール等の末端エトキシアルコールが知
られている（特開平５−２６０９９２）。しかしなが
ら、これらの化合物は１つの水酸基しかないため、医
薬、農薬等のビルディング剤としては使用できない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記用途に
適用できる化合物としての、新規ヒドロキシ末端エトキ
シアルキルケトンおよび該化合物を効率的にかつ高収率
で製造する方法を提供すること、並びに鏡象異性体混合
物としての該化合物の光学活性体、およびそのための新
規光学分割方法であって、長期間の操業安定性に富み、
分割効率が高い工業的光学分割方法を提供することを目
的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】以下の式で示す一連の工
程の最終工程である第十一段反応によって、ａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´−｛４´´−（４′′′−
ｎ−アルコキシ−３´´´−フルオロフェニル）ベンゾ
イルオキシ｝ベンゾイルオキシ］−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンが製造さ
れる。この最終有用化合物は、高速応答性および高チル
ト角を有し、３安定状態であるカイラルスメクチックＣ
_A相（以下、Ｓ_CA☆という）を示す反強誘電性液晶化合
物であり、液晶表示素子として用いることができる。該
最終有用化合物は、第八段反応によって得られるａｎｔ
ｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシア
ルカンの一種である、式（１６）で表わされるヒドロキ
シメトキシヘプタンすなわちａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンから導かれるが、他のａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキ
シアルカン（アルカン部分の炭素数６〜９）から導かれ
る、例えば上記最終有用化合物に対応する化合物、並び
に第八段反応によって得られる、ｓｙｎ体（２Ｓ，３
Ｒ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシアルカン、ａｎｔ
ｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシア
ルカンおよびｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ
−３−メトキシアルカンから導かれる、例えば上記最終
有用化合物に対応する化合物も、液晶表示素子として用
いることができると考えられる。したがって、ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシアル
カンはもとより、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型２−ヒドロ
キシ−３−メトキシアルカン、ａｎｔｉ体（２Ｒ，３
Ｒ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシアルカンおよびｓ
ｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシ
アルカン、並びにそれらの製造のための中間体も、液晶
表示素子のための液晶化合物の中間体として有用である
と考えられる。なお、上記有用性に関し、式

【０００５】

【化５】

【０００６】（式中、Ｒ´は炭素数６〜１４の直鎖状ア
ルキル基を表わす）で示されるｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−２−［４´−｛４´´−（４´´´−アルキルフェニ
ル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾイルオキシ］−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンが高速応答性および広視野角を有し、３安定状態を有
するＳ_CA☆を示す反強誘電性液晶化合物であることが、
本発明者らによって確認されている（特願平７−２３７
６１４）。

【０００７】

【化６】

【０００８】

【化７】

【０００９】

【化８】

【００１０】

【化９】

【００１１】

【化１０】

【００１２】

【化１１】

【００１３】

【化１２】

【００１４】

【化１３】

【００１５】

【化１４】

【００１６】本発明は上記式に示す一連の工程中の、ヒ
ドロキシケトン（第二段反応によって得られる）、およ
びそれらの光学活性体である（Ｓ）体ヒドロキシケトン
および（Ｒ）体ヒドロキシケトン（第五段反応によって
得られる）、およびそれらの製造方法に関する。すなわ
ち、本発明は（１） 式

【００１７】

【化１５】

【００１８】（式中、ｍは３〜６の整数を表わす）で示
される１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチ
ル末端エトキシアルキルケトン、（２） 有機溶媒中
で、２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピ
オニトリルと式

【００１９】

【化１６】

【００２０】［式中、ｍは上記（１）におけると同義で
ある］で示される末端エトキシアルキルマグネシウム＝
ブロミドとを反応させ、次いで、反応生成物を鉱酸で加
水分解することを特徴とする上記（１）の１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキシアル
キルケトンの製造方法、（３） 式

【００２１】

【化１７】

【００２２】［式中、ｍは上記（１）におけると同義で
ある］で示される（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル末端エトキシアルキルケトン、
（４） 式

【００２３】

【化１８】

【００２４】［式中、ｍは上記（１）におけると同義で
ある］で示される（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル末端エトキシアルキルケトン、お
よび（５） 上記（１）の鏡象異性体混合物としての１
−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エ
トキシアルキルケトンと光学分割剤（Ｓ）−２−アセト
キシプロピオニルクロリドとを反応させ、生成したジア
ステレオマー混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで分取し、次いで、鉱酸で加水分解することを特徴
とする上記（３）の（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，
２−トリフルオロエチル末端エトキシアルキルケトンお
よび上記（４）の（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル末端エトキシアルキルケトンの製
造方法に関する。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下に、上記第一段反応〜第十一
段反応を詳述する。 （第一段反応）有機溶媒中で、出発原料化合物である２
−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオニト
リル（特願平４−１０８４２７）と末端エトキシアルキ
ルマグネシウム＝ブロミド（以下、グリニャール試薬と
いう）とを反応させる。第一段反応を反応式で示すと、
式（１）

【００２６】

【化１９】

【００２７】（式中、ｍは３〜６の整数を表わす）の通
りであり、出発原料化合物中のニトリル基にグリニャー
ル試薬が１モル付加し、さらに出発原料化合物中の水酸
基とグリニャール試薬１モルが反応して、反応生成物と
末端エトキシアルカンが生成する。第一段反応は、グリ
ニャール試薬に、出発原料化合物の有機溶媒溶液を滴下
して行うのが、高収率を達成し得る等の点から好まし
い。逆の滴下を行うと、式

【００２８】

【化２０】

【００２９】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］の通りであり、出発原料化合物中のニトリル基にグ
リニャール試薬が２モル付加し、さらに出発原料化合物
中の水酸基とグリニャール試薬１モルが反応して、不純
物と末端エトキシアルカンが生成し、反応生成物の収率
を低下させる。グリニャール試薬を具体的に開示する
と、３−エトキシプロピルマグネシウム＝ブロミド、４
−エトキシブチルマグネシウム＝ブロミド（後記参考例
２参照）、５−エトキシペンチルマグネシウム＝ブロミ
ドおよび６−エトキシヘキシルマグネシウム＝ブロミド
が挙げられる。有機溶媒としては、ジエチルエーテル、
ＴＨＦ、ジグリム等の乾燥エーテル溶媒が挙げられ、そ
れらの中でも乾燥ジエチルエーテルが特に好ましい。出
発原料化合物は吸湿性に富み、水分が存在すると、その
一部がアミドに変化し、反応生成物の収率を低下させる
ために乾燥エーテル溶媒が好ましい。出発原料化合物を
希釈するために用いる有機溶媒の使用量は、出発原料化
合物１モルに対して０．５〜２Ｌが好ましい。０．５Ｌ
未満では反応熱の制御が困難となる場合があり、２Ｌを
超えると経済的とはいえない。

【００３０】第一段反応において、出発原料化合物とグ
リニャール試薬との供給割合は、出発原料化合物１モル
に対してグリニャール試薬２〜２．４モルが好ましい。
２モル未満では反応生成物の収率低下を招き、２．４モ
ルを超えると経済的に有利とはいえなくなる。出発原料
化合物の反応系への供給速度は、出発原料化合物１モル
を１００〜２５０分かけて滴下するのが好ましい。１０
０分未満では反応熱の制御が困難となり、エーテルの突
沸の危険を招く恐れがあるとともに、反応生成物の収率
低下を招く。２５０分を超えると経済的とはいえない。
第一段反応の反応温度は−１０〜１０℃が好ましい。特
に０℃が好適である。−１０℃未満では反応速度が遅く
て経済的とはいえず、１０℃を超えると反応熱の制御が
困難となり、反応生成物の収率低下を招く。出発原料化
合物溶液の滴下完了後、引き続き２時間保持して、反応
を完結させ、反応生成物を生成させる。

【００３１】なお上記グリニャール試薬は市販されてお
らず、次の三工程で製造することが出来る。以下、例と
して、ｍ＝４、５のグリニャール試薬の製造方法の概要
を示すと、次の通りである。

【００３２】Ａ工程 Ａ工程を反応式で示すと、式

【００３３】

【化２１】

【００３４】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］で示されるように例えば、ｍ＝４に相当するテトラ
ヒドロフラン１モルまたはｍ＝５に相当するテトラヒド
ロピラン１モル、エチルアルコール１．１モルおよびパ
ラトルエンスルホン酸１水塩０．０５モルを混合し、加
熱し、８０℃×８時間還流した後、減圧濃縮し、得られ
た残渣に水２リットルを加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の末端エトキシ
アルコールである４−エトキシブチルアルコール、また
は５−エトキシペンチルアルコールを収率９０％で得
る。

【００３５】Ｂ工程 Ｂ工程を反応式で示すと、式

【００３６】

【化２２】

【００３７】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］で示されるように、Ａ工程で得られた末端エトキシ
アルコールである４−エトキシブチルアルコール、また
は５−エトキシペンチルアルコール各１モルを塩化メチ
レン３リットルに溶解した溶液を０℃に調整する。つい
でトリフェニルホスフィン１モルと塩化メチレン１，０
００ｍｌを加えた溶液に、臭素１モルと塩化メチレン５
００ｍｌを加えた溶液を入れ、撹拌しながら、０℃で１
００分間かけて滴下し、滴下完了後、引き続き１時間撹
拌保持して反応を完結させる。次いで、室温まで昇温
し、引き続き１時間撹拌保持して、トリフェニルホスフ
ィンオキシドの微結晶を生成させる。次いで濃縮し、塩
化メチレンと臭化小素を留去し、生成したスラッジに熱
ｎ−ヘキサン８Ｌを加えて、溶解し、冷却晶析し、白色
針状結晶である大部分のトリフェニルホスフィンオキシ
ドを濾過により除去し、濾液を濃縮し、シロップ状の残
渣を得る。次いでこの残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、無色透明な液状の末端エトキシア
ルキルブロミドである４−エトキシブチルブロミドまた
は５−エトキシペンチルブロミドを収率８０％で得る。

【００３８】Ｃ工程 Ｃ工程を反応式で示すと、式

【００３９】

【化２３】

【００４０】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］で示されるように、窒素置換した反応器へ、金属マ
グネシウム１．１モルと乾燥ジエチルエーテル２００ｍ
ｌを入れ、ついでヨウ素１ミリモルを入れ、赤褐色の溶
液が無色になるまで撹拌する。次いでＢ工程で得られた
末端エトキシアルキルブロミドである４−エトキシブチ
ルブロミドまたは５−エトキシペンチルブロミドを各
０．１モル加え、還流が生じるまで撹拌する。次いで残
りの４−エトキシブチルブロミド０．９モル、または５
−エトキシブチルブロミド０．９モルと乾燥ジエチルエ
ーテル各５００ｍｌを滴下ロートに入れ、還流が持続す
るように滴下し、滴下完了後、１時間還流し反応を完結
させる。次いで注射器で反応液を抜き取り、反応容器の
底にたまった未反応金属マグネシウムの塊個を乾燥ジエ
チルエーテル３００ｍｌで洗浄し、０．８モル／リット
ルの４−エトキシブチルマグネシウムブロミドまたは５
−エトキシペンチルマグネシウムブロミドのエーテル溶
液（収率８０％）であるグリニャール試薬が得られる。

【００４１】（第二段反応）第二段反応の反応式の一例
を鉱酸として塩酸を用いた場合について示すと、式
（２）

【００４２】

【化２４】

【００４３】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］の通りであり、第一段反応で得られた反応生成物１
モルを３グラム当量の鉱酸で加水分解することにより、
１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端
エトキシアルキルケトン（以下、ヒドロキシケトンとい
う）が生成する。鉱酸としては塩酸、硫酸、硝酸等が挙
げられ、それらの中でも塩酸が特に好ましい。鉱酸の使
用量は出発原料化合物１モルに対して３〜４グラム当量
が好ましい。３グラム当量未満では反応生成物の加水分
解が不完全となり易く、４グラム当量を 超えると経済
的とはいえない。鉱酸の濃度は２〜５規定が好ましい。
２規定未満では水層の量が多すぎ、生成するヒドロキシ
ケトンが水層にも溶解し、ヒドロキシケトンの抽出操作
が煩雑となり、経済的とはいえない。５規定を超えると
反応熱により、温度制御が困難となり、ヒドロキシケト
ンの収率低下を招く恐れがある。

【００４４】第二段反応は、第一段反応で得られた反応
生成物溶液に鉱酸水溶液を滴下して行うのが、ヒドロキ
シケトンを高収率で得るために好ましい。逆の滴下を行
うと、反応熱の制御が困難となり、ヒドロキシケトンの
収率低下を招く。反応系への鉱酸水溶液の滴下時間は、
出発原料化合物１モルに対して３０〜９０分が好まし
い。あまりに早いと反応熱の制御が困難となり、ヒドロ
キシケトンの収率低下を招き、あまりに長いと経済的と
はいえない。第二段反応である加水分解反応はできるだ
け穏やかな温度で行うのが好ましく、常温が特に好適で
ある。あまりに高い温度では溶媒であるエーテルの引火
の危険を招く恐れがあるとともに、ヒドロキシケトンの
収率低下を招く。あまりに低い温度では経済的とはいえ
ない。鉱酸の滴下完了後、引き続き２０分間攪拌保持す
ることにより、加水分解反応を完結させる。加水分解反
応を完了後、エーテル抽出し、抽出液を水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、
溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得る。この残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色
透明な液状のヒドロキシケトンを得る。この生成物は各
種スペクトル分析により、１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル末端エトキシアルキルケトンであ
ることを確認できる。

【００４５】かくして得られるヒドロキシケトンの式
（２）中、ｍは３〜６を示すが、ｍが３未満の化合物は
沸点が低くなり取扱いづらく、ｍが６を越える化合物は
製造しづらい。−（ＣＨ₂）_m−は具体的には１，３−ト
リメチレン基、１，４−テトラメチレン基、１，５−ペ
ンタメチレン基および１，６−ヘキサメチレン基を包含
する。ヒドロキシケトンを具体的に開示すると、１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−３−エト
キシプロピルケトン、１−ヒドロキシ−２，２，２−ト
リフルオロエチル−４−エトキシブチルケトン、１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−５−エト
キシペンチルケトンおよび１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル−６−エトキシヘキシルケトンが
挙げられる。

【００４６】（第三段反応）第二段反応で得られたヒド
ロキシケトンと光学分割剤とを反応させてジアステレオ
マー混合物を生成させる。第三段反応を式で示すと、式
（３）

【００４７】

【化２５】

【００４８】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］の通りであり、ヒドロキシケトンと光学分割剤とを
混合し、該混合液を減圧下で還流することにより、ヒド
ロキシケトン中の水酸基の水素原子と光学分割剤中の塩
素原子とが反応し、発生する塩化水素ガスを連続的に除
去し、次いで、未反応化合物ヒドロキシケトンおよび未
反応光学分割剤をより高真空度、より高温にして還流す
ることにより留去し、（２Ｓ）−２−［（２´Ｓ）−２
´−アセトキシプロピオニルオキシ］末端エトキシ−
１，１，１−トリフルオロアルカノン−３［以下、
｛（２Ｓ），（２´Ｓ）｝体アルカノン−３という］お
よび（２Ｒ）−２−［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプ
ロピオニルオキシ］末端エトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロアルカノン−３［以下、｛（２Ｒ），（２´
Ｓ）｝体アルカノン−３という］からなり、その生成比
率｛（２Ｓ），（２´Ｓ）｝体／｛（２Ｒ），（２´
Ｓ）｝体＝１／１（面積比）のジアステレオマー混合物
（以下、単にジアステレオマー混合物という）を得る。
以下、第三段反応について詳細に説明する。

【００４９】光学分割剤としては、（Ｓ）−２−アセト
キシプロピオニルクロリドを用いる。 ［光学分割剤：（Ｓ）−２−アセトキシプロピオニルク
ロリド］アルコール誘導体であるヒドロキシケトンを光
学分割剤を用いて、ジアステレオメリックな生成物と
し、このジアステレオマーの性質の差を利用して光学分
割する方法では、光学分割剤として次の事項が要求され
る。 アルコール誘導体であるヒドロキシケトンとジアステ
レオメリックな生成物を形成するためには光学分割剤は
クロリドでなければならない。 生成されたジアステレオマー混合物はシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー等により、容易に分取されるよう
な光学分割剤が好ましい。 分取されたジアステレオメリックな化合物は鉱酸等で
容易に加水分解される光学分割剤が好ましい。

【００５０】末端に塩素原子を有する光学分割剤として
（Ｓ）−２−アセトキシプロピオニルクロリド、Ｎ−
（パラトルエンスルホニル）−Ｌ−フェニルアラニルク
ロリドおよび（＋）−１０−カンファースルホニルクロ
リド等を取り上げ、ヒドロキシケトンを光学分割するた
めの好適な光学分割剤の選定実験を行った。その結果は
以下の通りであった。 ｉ）シリカゲルカラムクロマトグラフィー等で容易に分
取できるジアステレオマー混合物を形成する光学分割剤
は（Ｓ）−２−アセトキシプロピオニルクロリドであっ
た。 ｉｉ）鉱酸で容易に加水分解できる、分取されたジアス
テレオメリックな化合物を形成する光学分割剤は（Ｓ）
−２−アセトキシプロピオニルクロリドであった。 以上の結果より、光学分割剤としては（Ｓ）−２−アセ
トキシプロピオニルクロリドが好適であった。（Ｓ）−
２−アセトキシプロピオニルクロリドは新規物質ではな
いが、市販されておらず、製造しなければならない。こ
の製造方法は（Ｓ）体乳酸とアセチルクロリドとを反応
させ、（Ｓ）−２−アセトキシプロピオン酸を生成させ
る。次いで、この生成物と塩化チオニルとを反応させる
ことにより、簡単に製造することができる。また、この
製造方法によれば、安価に製造することができる。

【００５１】ヒドロキシケトンと光学分割剤との混合液
を弱減圧下で還流することにより、ヒドロキシケトン中
の水酸基の水素原子と光学分割剤中の塩素原子が反応
し、発生した塩化水素ガスを連続的に系外に除去し、次
いで、より高真空度、高温で還流することにより、未反
応ヒドロキシケトンおよび未反応光学分割剤を留去し、
ジアステレオマー混合物を得る。ヒドロキシケトンと光
学分割剤との混合割合は、ヒドロキシケトン１モルに対
して１．０〜１．２モルが好ましく、特に好ましくは
１．０５〜１．１５モルである。１モル未満では、ジア
ステレオマー混合物の収率低下を招く恐れがあり、１．
２モルを超えると経済的とはいえない。ヒドロキシケト
ンと光学分割剤との混合方法は特に制限がなく、いずれ
の混合方法でもよい。また混合温度は常温が好ましい。
ヒドロキシケトンと光学分割剤との反応条件は、副生塩
化水素ガスがスムースに生成し、かつ該塩化水素ガスを
連続的に系外に除去するために、真空度１５０〜２００
ｍｍＨｇ、温度４０〜６０℃の条件で還流するのが好ま
しい。真空度１５０〜２００ｍｍＨｇで、温度４０℃未
満では還流が生ぜず、反応が進みにくい。６０℃を超え
ると、塩化水素ガスの異常発生を生じるとともに、収率
低下を伴う恐れがある。他方、温度４０〜６０℃におい
て、真空度１５０ｍｍＨｇ未満では、ヒドロキシケトン
と光学分割剤の一部が蒸発し、収率低下を招く恐れがあ
り、２００ｍｍＨｇを超えると、塩化水素ガスの除去が
困難となり、収率低下を招く恐れがある。

【００５２】脱塩化水素ガス反応の反応時間は、ヒドロ
キシケトン１モルに対して３０〜９０分間が好ましい。
３０分未満では脱塩化水素ガス反応が不十分となり、収
率低下を招く恐れがあり、９０分を超えると経済的とは
いえない。塩化水素ガスの発生が終了した後、未反応ヒ
ドロキシケトンおよび未反応光学分割剤を除去するため
に、真空度３０〜７０ｍｍＨｇ、温度８０〜１００℃の
条件で還流するのが好ましい。真空度３０〜７０ｍｍＨ
ｇで、温度８０℃未満では、未反応ヒドロキシケトンお
よび未反応光学分割剤の除去時間が長くなり、経済的と
はいえず、温度１００℃を超えると、ジアステレオマー
混合物の一部が蒸発し、収率低下を招く恐れがある。他
方、温度８０〜１００℃において、真空度３０ｍｍＨｇ
未満では、ジアステレオマー混合物の一部が蒸発し、収
率低下を招く恐れがあり、真空度７０ｍｍＨｇを超える
と、未反応ヒドロキシケトンおよび未反応光学分割剤の
除去が不十分となり、ジアステレオマー混合物の純度が
低下する恐れがある。なお、還流時間は、ヒドロキシケ
トン１モルに対して６０〜１２０分が好ましい。６０分
未満では、未反応ヒドロキシケトンおよび未反応光学分
割剤の除去が不十分となり、１２０分を超えると経済的
とはいえない。

【００５３】以上の操作により、無色透明な液状の生成
物が得られる。この生成物は以下に述べる通り、光学活
性な２−［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニル
オキシ］−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアル
カノン−３からなる生成比率１／１（面積比）のジアス
テレオマー混合物であることが確認される。すなわち、
第三段反応において、光学分割剤の２位の不斉炭素原子
の立体配置は、反応に無関係であり、（２´Ｓ）配置で
あること、また、生成物の各種スペクトルを測定する
と、生成物は２−［２´−アセトキシプロピオニルオキ
シ］−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカノ
ン−３であることが確認できる。さらに、¹⁹ＦＮＭＲス
ペクトルは２本のピークが得られ、第１ピーク／第２ピ
ーク＝１／１（面積比）であること等より、生成物は上
述のジアステレオマー混合物であることが確認できる。

【００５４】［ジアステレオマー混合物：｛（２Ｓ），
（２´Ｓ）｝体アルカノン−３および｛（２Ｒ），（２
´Ｓ）｝体アルカノン−３からなり、その生成比率
｛（２Ｓ），（２´Ｓ）｝体／｛（２Ｒ），（２´
Ｓ）｝体＝１／１（面積比）のジアステレオマー混合
物］かくして得られる式（３）で示されるジアステレオ
マー混合物において、ｍは式（１）におけると同義であ
り、その好適な具体例を示すと、（２Ｓ）−２−［（２
´Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキシ］−６−
エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘキサノン−３お
よび（２Ｒ）−２−［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプ
ロピオニルオキシ］−６−エトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘキサノン−３からなり、その生成比率［（２
Ｓ），（２´Ｓ）］体／［（２Ｒ），（２´Ｓ）］体＝
１／１（面積比）のジアステレオマー混合物、（２Ｓ）
−２−［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオ
キシ］−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タノン−３および（２Ｒ）−２−［（２´Ｓ）−２´−
アセトキシプロピオニルオキシ］−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタノン−３からなり、その生
成比率［（２Ｓ），（２´Ｓ）］体／［（２Ｒ），（２
´Ｓ）］体＝１／１（面積比）のジアステレオマー混合
物、（２Ｓ）−２−［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプ
ロピオニルオキシ］−８−エトキシ−１，１，１−トリ
フルオロオクタノン−３および（２Ｒ）−２−［（２´
Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキシ］−８−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロオクタノン−３から
なり、その生成比率［（２Ｓ），（２´Ｓ）］体／
［（２Ｒ），（２´Ｓ）］体＝１／１（面積比）のジア
ステレオマー混合物、および（２Ｓ）−２−［（２´
Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキシ］−９−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロノナノン−３および
（２Ｒ）−２−［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロピ
オニルオキシ］−９−エトキシ−１，１，１−トリフル
オロノナノン−３からなり、その生成比率［（２Ｓ），
（２´Ｓ）］体／［（２Ｒ），（２´Ｓ）］体＝１／１
（面積比）のジアステレオマー混合物等が挙げられる。

【００５５】（第四段反応）第四段反応を式で示すと、
式（４）

【００５６】

【化２６】

【００５７】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］の通りであり、第三段反応で得られたジアステレオ
マー混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにか
け、第１ピークである第一フラクションおよび第２ピー
クである第二フラクションを分取し、減圧濃縮して溶媒
を留去することにより、無色透明な液状の第一フラクシ
ョンからの生成物と無色透明な液状の第二フラクション
からの生成物を得る。これらの生成物の取得比率は１／
１（面積比）であることが確認できる。すなわち、得ら
れた各フラクションからの生成物は各種スペクトルを測
定すると、第三段反応のジアステレオマー混合物と同じ
であり、また、第一フラクションからの生成物の¹⁹ ＦＮ
ＭＲスペクトルは第三段反応のジアステレオマー混合物
の¹⁹ ＦＮＭＲスペクトルの第１ピークと同じであり、第
二フラクションからの生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルは
第三段反応のジアステレオマー混合物の第２ピークと同
じであることが確認できる。さらに、後述の第五段反応
の同定例１より、第一フラクションからの生成物は
［（２Ｓ），（２´Ｓ）］体アルカノン−３であり、第
二フラクションからの生成物は［（２Ｒ），（２´
Ｓ）］体アルカノン−３であることが確認できる。

【００５８】（第五段反応）第五段反応を、例えば鉱酸
として硫酸水溶液を用いて加水分解した場合についての
反応式で示すと、式（５）および式（６）

【００５９】

【化２７】

【００６０】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］で示される通り、第四段反応で得られた第一フラク
ションからの生成物である［（２Ｓ），（２´Ｓ）］体
アルカノン−３、または第二フラクションからの生成物
である［（２Ｒ），（２´Ｓ）］体アルカノン−３を鉱
酸溶液で加水分解することにより、式（５）で示される
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル末端エトキシアルキルケトン（以下、（Ｓ）体ヒド
ロキシケトンという）、または式（６）で示される
（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル末端エトキシアルキルケトン（以下、（Ｒ）体ヒド
ロキシケトンという）を得ることができる。また、
（Ｓ）体乳酸と酢酸が各々副生する。

【００６１】以下、一例として、式（５）の反応につい
て、詳細に説明する。鉱酸としては、硫酸、塩酸、硝酸
等が挙げられ、それらの中でもガス発生の少ない硫酸が
好ましい。鉱酸の使用量は、例えば、第四段反応で得ら
れた第一フラクションからの生成物１モルに対して、５
〜１５グラム当量が好ましい。５グラム当量未満では加
水分解が不十分となり、収率低下を招く恐れがあり、１
５グラム当量を超えると経済的とはいえない。鉱酸の濃
度は２〜５規定が好ましい。２規定未満では精製操作が
煩雑になり、５規定を超えると経済的に有利とはいえな
い。第一フラクションからの生成物と鉱酸水溶液とを混
合し、次いで、均一に溶解させるためにメチルアルコー
ルまたはエチルアルコール等のアルコールを添加する。
アルコールの添加量は目安として鉱酸水溶液の１〜２倍
量である。１倍量未満では均一な溶液が得られず、加水
分解が不十分となり、収率低下を招く恐れがあり、２倍
量を超えると経済的とはいえない。加水分解反応は、還
流しながら、第一フラクションからの生成物１モルを基
準として、４〜８時間行う。４時間未満では加水分解が
不十分となり、収率低下を招く恐れがあり、８時間を超
えると経済的とはいえない。

【００６２】加水分解終了後、室温まで冷却した後、エ
ーテル抽出し、抽出液を２０％炭酸水素ナトリウム水溶
液、水で順次洗浄し、次いで、無水硫酸マグネシウムを
加えて水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、得られた
シロップ状の残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、無色透明な液状の生成物（生成物−１とす
る）を得る。この生成物−１の各種スペクトルを測定し
た結果はヒドロキシケトンと同じであり、この生成物−
１は１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル
末端エトキシアルキルケトンであることが確認できる。
また、第一フラクションからの生成物の代わりに第二フ
ラクションからの生成物を用いた以外は、上と同様な操
作を行うことにより、無色透明な液状の生成物（生成物
−２とする）を得ることができる。

【００６３】［同定例１：生成物−１が（Ｓ）−１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキ
シアルキルケトンであり、生成物−２が（Ｒ）−１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキ
シアルキルケトンであることの同定］（Ｓ）−Ｎ−（２
−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオニ
ル）ピロリジンと末端エトキシアルキルマグネシウム＝
ブロミドからなるグリニャール試薬から合成された
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル末端エトキシアルキルケトン［以下、（Ｓ）体標品
という。特願平７−２３７７４４。（Ｓ）体標品の製造
方法を後記参考例１〜３に示す］を光学異性体分離用カ
ラムを有するガスクロマトグラフィー（以下、光学活性
ガスクロマトグラフィーという）にかけると、１本の光
学活性ピークが得られる。次いで、１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキシアルキル
ケトンの鏡像異性体混合物であるヒドロキシケトンを上
述の光学活性ガスクロマトグラフィーにかけると２本の
光学活性なピークが得られ、その第１ピークの保持時間
が（Ｓ）体標品の保持時間と一致したことにより、第１
ピークは（Ｓ）体ヒドロキシケトンであることが確認さ
れ、残りの第２ピークは（Ｒ）体ヒドロキシケトンであ
ることが判明する。

【００６４】よって、式（５）で得られた生成物−１を
上述の光学活性ガスクロマトグラフィーにかけると、１
本の光学活性なピークが得られ、そのピークの保持時間
が（Ｓ）体標品の保持時間と一致したことにより、生成
物−１は（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチル末端エトキシアルキルケトンであることが
確認できる。また、式（６）で得られた生成物−２を上
述の光学活性ガスクロマトグラフィーにかけると、１本
の光学活性なピークが得られ、そのピークの保持時間
が，（Ｒ）体ヒドロキシケトンと一致したことにより、
生成物−２は（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−ト
リフルオロエチル末端エトキシアルキルケトンであるこ
とが確認できる。したがって、第四段工程で得られた第
一フラクションからの生成物は（２Ｓ）−２−［（２´
Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキシ］−１，
１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカノン−３であ
り、第二フラクションからの生成物は（２Ｒ）−２−
［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキシ］
−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカノン−
３であることが確認できる。また、第一フラクションか
らの生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第１ピークは
｛（２Ｓ），（２´Ｓ）｝体アルカノン−３であり、第
二フラクションからの生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの
第２ピークは｛（２Ｓ），（２´Ｓ）｝体アルカノン−
３であることが確認できる。

【００６５】さらに、第三段反応で得られた生成物の¹⁹
ＦＮＭＲスペクトルの第１ピークは、第四段工程で得ら
れた｛（２Ｓ），（２´Ｓ）｝体アルカノン−３の¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトルのピークと一致し、第２ピークは、第
四段工程で得られた｛（２Ｒ），（２´Ｓ）｝体アルカ
ノン−３の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルのピークと一致し、か
つ第１ピーク／第２ピーク＝１／１（面積比）であるこ
とより、第三段反応で得られた生成物は、（２Ｓ）−２
−［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキ
シ］−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカノ
ン−３および（２Ｒ）−２−［（２´Ｓ）−２´−アセ
トキシプロピオニルオキシ］−１，１，１−トリフルオ
ロ末端エトキシアルカノン−３からなり、その生成比率
［（２Ｓ），（２´Ｓ）］体／［（２Ｒ），（２´
Ｓ）］体＝１／１（面積比）のジアステレオマー混合物
であることが確認できる。以上の結果より、ヒドロキシ
ケトンと光学分割剤とを反応させ、生成したジアステレ
オマー混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
分取し、次いで鉱酸で加水分解することにより、（Ｓ）
−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末
端エトキシアルキルケトンおよび（Ｒ）−１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキシアル
キルケトンに光学分割される。

【００６６】かくして得られる、式（５）および（６）
で示される（Ｓ）体ヒドロキシケトンおよび（Ｒ）体ヒ
ドロキシケトン中のｍは、３〜６の整数であるが、ｍが
３未満のものは沸点が低くなり取り扱いづらく、ｍが６
を越えるものは製造しづらい。具体的に開示された−
（ＣＨ₂）_m−基は１，３−トリメチレン基、１，４−テ
トラメチレン基、１，５−ペンタメチレン基および１，
６−ヘキサメチレン基が挙げられる。（Ｓ）体ヒドロキ
シケトンを具体的に開示すると、（Ｓ）−１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル−３−エトキシプ
ロピルケトン、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトン、
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル−５−エトキシペンチルケトンおよび（Ｓ）−１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−６−エ
トキシヘキシルケトンが挙げられる。（Ｒ）体ヒドロキ
シケトンを具体的に開示すると、（Ｒ）−１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル−３−エトキシプ
ロピルケトン、（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトン、
（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル−５−エトキシペンチルケトンおよび（Ｒ）−１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−６−エ
トキシヘキシルケトンが挙げられる。

【００６７】（第六段反応） ［ジオール誘導体−１：ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジ
オールおよびｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールからな
るジアステレオマー混合物、およびジオール誘導体−
２：ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型ジオールおよびｓｙｎ
体（２Ｒ，３Ｓ）型ジオールからなるジアステレオマー
混合物の各製造方法］第六段反応を反応式で示すと、式
（７）および式（８）

【００６８】

【化２８】

【００６９】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］で示される通り、（Ｓ）体ヒドロキシケトンおよび
（Ｒ）体ヒドロキシケトンのカルボニル炭素への金属水
素化物のヒドリドのジアステレオ面区別した攻撃を経由
してアルコキシドが生成し、これを酸処理することによ
り、光学活性な１，１，１−トリフルオロ末端エトキシ
アルカン−２，３−ジオールのジアステレオマー混合
物、すなわち、（Ｓ）体ヒドロキシケトンより、ａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロ末端エ
トキシアルカン−２，３−ジオール［以下、ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールという］およびｓｙｎ−（２
Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシア
ルカン−２，３−ジオール［以下、ｓｙｎ体（２Ｓ，３
Ｒ）型ジオールという］からなるジアステレオマー混合
物（以下、ジオール誘導体−１という）、および（Ｒ）
体ヒドロキシケトンより、ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−
１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカン−２，
３−ジオール［以下、ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型ジオ
ールという］およびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−１，１，
１−トリフルオロ末端エトキシアルカン−２，３−ジオ
ール［以下、ｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型ジオールとい
う］からなるジアステレオマー混合物（以下、ジオール
誘導体−２という）を製造することができる。

【００７０】以下、式（７）で示されるジオール誘導体
−１、すなわち、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオール
およびｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールからなるジア
ステレオマー混合物の製造方法について詳細に説明す
る。上記製造方法において、金属水素化物は、カルボニ
ル基を還元する化合物であれば特に限定されることなく
使用でき、例えば水素化アルミニウムリチウムおよび水
素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられる。これら
の金属水素化物は、（Ｓ）体ヒドロキシケトン中のカル
ボニル基をジアステレオ面区別還元し、ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型ジオールとｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオ
ールの生成比率に最も大きな影響を及ぼすと考えられ
る。したがって、目的に応じて、金属水素化物を適宜選
択すればよい。すなわち、特定の金属水素化物を用いる
ことにより、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールを選
択的に優位に生成させることができる。例えば、光学活
性なａｎｔｉ体に富んだジアステレオマー混合物を得る
のに好適な金属水素化物としては、水素化アルミニウム
リチウムが最適である。

【００７１】（Ｓ）体ヒドロキシケトンと金属水素化物
の反応系への供給割合は、（Ｓ）体ヒドロキシケトン１
モルに対して、金属水素化物を２〜２．４グラム当量
（金属水素化物中の水素原子換算、以下同様）が好まし
く、特に好ましくは、水素化アルミニウムリチウムの場
合には２．０５〜２．１５グラム当量であり、水素化ジ
イソブチルアルミニウムの場合には２．１〜２．３グラ
ム当量である。金属水素化物の量が２グラム当量未満で
は収率低下を招く恐れがあり、２．４グラム当量を超え
ると、後処理工程が煩雑となり、経済的とはいえない。
（Ｓ）体ヒドロキシケトンと金属水素化物の好適な混合
方法は、金属水素化物の種類によって異なり、例えば、
水素化アルミニウムリチウムの場合は、これを含有した
有機溶媒の懸濁液中に、（Ｓ）体ヒドロキシケトンを含
有した有機溶媒溶液を滴下するのが好適であり、また、
水素化ジイソブチルアルミニウムの場合には、（Ｓ）体
ヒドロキシケトンを含有した有機溶媒溶液中に、水素化
ジイソブチルアルミニウムを含有した有機溶媒溶液を滴
下するのが好適である。逆の滴下を行うと、水素が異常
発生し、突沸や発火の危険を招く恐れがある。いずれの
場合も溶液の滴下時間は３０分程度が好ましく、あまり
に早い滴下時間では、急激に水素が発生して突沸や発火
の危険を生じる可能性があり、あまりに遅い滴下時間で
は経済的とはいえない。

【００７２】有機溶媒としては、ｎ−ヘキサン、ジエチ
ルエーテル、トルエン、ＴＨＦ等が好ましい。光学活性
なジアステレオマー混合物におけるａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型ジオールとｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオール
の生成比率は、有機溶媒の種類によっても影響を受ける
ため、金属水素化物の種類に対応させて、有機溶媒の種
類を適宜選択することが望ましい。例えば、ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールに富んだジアステレオマー混
合物を得るのに好適な有機溶媒の一例はジエチルエーテ
ルであり、これとａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオール
の生成を優先させる水素化アルミニウムリチウム等の金
属水素化物を用いることによって、生成するａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールを効果的に増加させることが
できる。有機溶媒の使用割合は、（Ｓ）体ヒドロキシケ
トン１モルを基準として、１．０〜２．０Ｌが好まし
く、特に好ましくは１．３〜１．７Ｌである。例えば、
（Ｓ）体ヒドロキシケトン１モルと、金属水素化物とし
て水素化アルミニウムリチウムを前述した特に好適な量
である２．０５〜２．１５グラム当量用いた場合、上記
した有機溶媒の好適な量のうちの１Ｌ程度を用い、残り
の量を（Ｓ）体ヒドロキシケトンに対して用いるのが好
適である。有機溶媒があまりに少ないと金属水素化物を
分散させるのに不十分となり、反応の制御が困難となる
恐れがあり、２Ｌを超えると経済的とはいえない。
（Ｓ）体ヒドロキシケトンと金属水素化物との反応の温
度は−１０〜１０℃が好ましい。−１０℃未満では経済
的とはいえず、１０℃を超えると突沸が起こりやすい。
滴下完了後、室温まで昇温し、引き続き６時間攪拌保持
して反応を完結させる。

【００７３】次いで、得られた生成物を酸処理すること
により、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよびｓ
ｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールからなるジアステレオ
マー混合物を生成する。酸としては鉱酸が適しており、
具体的には塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられ、特に好まし
くは硫酸水溶液である。例えば、硫酸水溶液を用いた場
合には、（Ｓ）体ヒドロキシケトン１モルを基準として
２〜３グラム当量が好ましい。２グラム当量未満では酸
処理が不足し、収率低下を招く恐れがあり、３グラム当
量を超えると経済的とはいえない。鉱酸の濃度は１〜４
規定が好ましい。１規定未満では抽出操作が煩雑とな
り、４規定を超えると、副反応が生じて収率低下を招く
恐れがある。鉱酸滴下時間は、（Ｓ）体ヒドロキシケト
ン１モルを基準として１０〜３０分が好ましく、あまり
に早い滴下時間では反応温度の制御が困難となり、あま
りに遅い滴下時間では経済的とはいえない。上記酸処理
温度は−１０〜１０℃が好ましく、特に好ましくは０℃
である。−１０℃未満では経済的とはいえず、１０℃を
超えると反応温度の制御が困難になる。

【００７４】鉱酸の滴下完了後、引き続き３０分間攪拌
保持して酸処理反応を完結させる。酸処理完了後、攪拌
しながら、室温まで昇温し、金属水素化物として水素化
アルミニウムリチウムを用いた場合のみ、未反応水素化
アルミニウムリチウム塊を除去した後（水素化ジイソブ
チルアルミニウムの場合には有機溶媒に溶解しているた
め塊はない）、エーテル抽出し、抽出液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムを加えて水分を除去した後、減圧濃縮して溶媒
を留去し、シロップ状の残渣を得る。この残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色透明な液
状の生成物であるａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオール
およびｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールからなるジア
ステレオマー混合物を取得する。

【００７５】［生成物がジオール誘導体−１、すなわ
ち、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよびｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールからなるジアステレオマー
混合物であることの確認］この生成物の各種スペクトル
を測定した結果、生成物は１，１，１−トリフルオロ末
端エトキシアルカン−２，３−ジオールであることが確
認される。また、¹⁹ＦＮＭＲスペクトルは２本のピーク
を有し、第２ピーク／第１ピークの面積比が金属水素化
物の種類により一定値であることが確認される。次い
で、生成物を光学活性ガスクロマトグラフィーにかける
と２本の光学活性なピークが認められ、その第２ピーク
／第１ピークの面積比は、上記¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの
第２ピーク／第１ピークの面積比と一致したことより、
生成物は光学活性な１，１，１−トリフルオロ末端エト
キシアルカン−２，３−ジオールのジアステレオマー混
合物であることが確認される。

【００７６】次いで、上述で得られた生成物に２，２−
メトキシプロパンを加えパラトルエンスルホン酸１水塩
の存在下で５時間還流し、アセタール交換反応を行い、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて分取し、
８２℃で蒸留し、留分を濃縮し、無色透明な液状の化合
物を得る。この化合物の各種スペクトルを測定した結
果、この化合物は２，２−ジメチル−４−末端エトキシ
アルキル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソ
ラン（以下、１，３−ジオキソラン誘導体という）であ
ることが確認される。なお、¹⁹ＦＮＭＲスペクトルは２
本のピークを有し、その第２ピーク／第１ピークの面積
比が１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカン−
２，３−ジオールの¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第２ピーク
／第１ピークの面積比と一致することが確認される。ま
た、¹ＨＮＭＲスペクトルのメチル基の位置と面積比よ
り、この化合物はｃｉｓ−２，２−ジメチル−４−末端
エトキシアルキル−５−トリフルオロメチル−１，３−
ジオキソラン（以下、ｃｉｓ体１，３−ジオキソラン誘
導体という）およびｔｒａｎｓ−２，２−ジメチル−４
−末端エトキシアルキル−５−トリフルオロメチル−
１，３−ジオキソラン（以下、ｔｒａｎｓ体１，３−ジ
オキソラン誘導体という）からなるジアステレオマー混
合物であることが判明する。したがって、ｃｉｓ体１，
３−ジオキソラン誘導体の面積比と一致する化合物の¹⁹
ＦＮＭＲスペクトルの第２ピークはｃｉｓ体１，３−ジ
オキソラン誘導体であり、ｔｒａｎｓ体１，３−ジオキ
ソラン誘導体の面積比と一致する化合物の¹⁹ＦＮＭＲス
ペクトルの第１ピークはｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソ
ラン誘導体であることが確認される。

【００７７】さらに、生成物は（Ｓ）体ヒドロキシケト
ンを金属水素化物で還元し、酸処理することによって得
られることから、２位の不斉炭素原子の不斉中心は変ら
ず（２Ｓ）配置であることから、生成物はａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロ末端エトキ
シアルカン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，
３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカ
ン−２，３−ジオールからなるジアステレオマー混合物
であることが確認できる。よって、ｃｉｓ体１，３−ジ
オキソラン誘導体の面積比と一致する生成物の光学活性
ガスクロマトグラフィーの第２ピークおよび生成物の¹⁹
ＦＮＭＲスペクトルの第２ピークはａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型ジオールであり、ｔｒａｎｓ体１，３−ジオキ
ソラン誘導体の面積比と一致する生成物の光学活性ガス
クロマトグラフィーの第１ピークおよび生成物の¹⁹ＦＮ
ＭＲスペクトルの第１ピークはｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型ジオールであることが確認できる。

【００７８】また、（Ｓ）体ヒドロキシケトンの代りに
（Ｒ）体ヒドロキシケトンを用いて、上述と同様な製造
を行うことにより、式（８）の反応式に示されるよう
に、ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型ジオールおよびｓｙｎ
体（２Ｒ，３Ｓ）型ジオールからなるジアステレオマー
混合物を得ることができる。上記の製造方法によれば、
金属水素化物の種類にもよるが、光学活性なａｎｔｉ体
ジオール／光学活性なｓｙｎ体ジオール＝５５〜８８／
４５〜１２（面積比）からなるジアステレオマー混合物
が得られる。

【００７９】かくして、上記第六段反応によって得られ
る、式（７）で示されるジオール誘導体−１の好適な具
体例を開示すると、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−６−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘキサン−２，３−
ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−６−エトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘキサン−２，３−ジオー
ルからなるジアステレオマー混合物、ａｎｔｉ−（２
Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ン−２，３−ジオールからなるジアステレオマー混合
物、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−８−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロオクタン−２，３−ジオールおよ
びｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−８−エトキシ−１，１，１
−トリフルオロオクタン−２，３−ジオールからなるジ
アステレオマー混合物、およびａｎｔｉ−（２Ｓ，３
Ｓ）−９−エトキシ−１，１，１−トリフルオロノナン
−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−９
−エトキシ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３
−ジオールからなるジアステレオマー混合物が挙げられ
る。

【００８０】また、上記第六段反応によって得られる、
式（８）で示されるジオール誘導体−２の好適な具体例
を開示すると、ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−６−エトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘキサン−２，３−ジオ
ールおよびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−６−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘキサン−２，３−ジオール
からなるジアステレオマー混合物、ａｎｔｉ−（２Ｒ，
３Ｒ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）
−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−
２，３−ジオールからなるジアステレオマー混合物、ａ
ｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−８−エトキシ−１，１，１−
トリフルオロオクタン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ
−（２Ｒ，３Ｓ）−８−エトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロオクタン−２，３−ジオールからなるジアステレ
オマー混合物、およびａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−９−
エトキシ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−
ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−９−エトキシ
−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオール
からなるジアステレオマー混合物等が挙げられる。

【００８１】（第七段反応） ［ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メ
トキシアルカンおよびｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型２−ヒ
ドロキシ−３−メトキシアルカンからなるジアステレオ
マー混合物（以下、ジアステレオマー混合物−１とい
う）、およびａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型２−ヒドロキ
シ−３−メトキシアルカンおよびｓｙｎ体（２Ｒ，３
Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシアルカンからなる
ジアステレオマー混合物（以下、ジアステレオマー混合
物−２という）の製造方法］第七段反応を，式で示す
と、式（９）および（１０）

【００８２】

【化２９】

【００８３】

【化３０】

【００８４】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
り、Ａはアルカリ金属を表わす］で示される通りであ
り、第六段反応で得られる、ジオール誘導体−１である
ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよびｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールからなるジアステレオマー混
合物、またはジオール誘導体−２であるａｎｔｉ体（２
Ｒ，３Ｒ）型ジオールおよびｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型
ジオールからなるジアステレオマー混合物において、２
位の不斉炭素原子に結合した水酸基はトリフルオロメチ
ル基の電子吸引力により、強酸性を示し、他方３位の不
斉炭素原子に結合した水酸基はアルコールの性質を示
す。よって、ジオール誘導体−１またはジオール誘導体
−２ １モルとアルカリ金属水素化物１モルとを反応さ
せると、選択的に２位の不斉炭素原子に結合した水酸基
と反応してアルカリ金属アルコキシドである反応生成物
を形成し、次いでこれとアセチルクロリドとを反応させ
て、２位の不斉炭素原子に結合した水酸基をアセトキシ
化してＯ−アセチル化誘導体−１またはＯ−アセチル化
誘導体−２を製造し（第一段工程）、次いで、Ｏ−アセ
チル化誘導体−１またはＯ−アセチル化誘導体−２をア
ルカリ金属水素化物１モルと反応させると、３位の不斉
炭素原子に結合した水酸基と反応してアルカリ金属アル
コキシドである反応生成物を形成し、次いでヨウ化メチ
ルと反応させて、３位の不斉炭素原子に結合した水酸基
をメトキシ化してＯ−メチル化誘導体−１またはＯ−メ
チル化誘導体−２を製造し（第二段工程）、次いで、炭
酸カリウム／メタノール／水のアルカリ水溶液により、
２位の不斉炭素原子に結合したアセトキシ基が容易に加
水分解されて水酸基となり、ジアステレオマー混合物−
１およびジアステレオマー混合物−２を製造する（第三
段工程）ことができる。以下、これらの反応を、式
（９）で示されるように、ジオール誘導体−１を用い
て、３つの工程によりジアステレオマー混合物−１を製
造する場合について、詳細に説明する。式（１０）で示
される、ジオール誘導体−２を用いるジアステレオマー
混合物−２の製造も同様にして行うことができる。

【００８５】（第一段工程）第一段工程を反応式で示す
と、式（１１）

【００８６】

【化３１】

【００８７】（式中、ｍは式（１）におけると同義であ
り、Ａはアルカリ金属を表わす］に示される通り、有機
溶媒中で、第六段反応で得られたジオール誘導体−１と
アルカリ金属水素化物とを反応させ、得られた反応生成
物とアセチルクロリドとを反応させることにより、Ｏ−
アセチル化誘導体−１を生成させる。有機溶媒として
は、特に限定されるものではなく、例えばジエチルエー
テル、ｎ−ヘキサン、トルエン、ＴＨＦ、塩化メチレン
等が挙げられ、特に好ましくはジエチルエーテルであ
る。上記有機溶媒は、ジオール誘導体−１ １モルに対
して、１〜３Ｌが好ましい。１Ｌ未満では反応熱の上昇
により、水素の発生速度が増大して危険となる場合があ
り、３Ｌを超えると経済的とはいえない。アルカリ金属
水素化物としては水素化ナトリウム、水素化カリウム、
水素化リチウム等が挙げられ、経済的に安価である等の
点から、水素化ナトリウムが特に好ましい。市販のアル
カリ金属水素化物は通常油性であるので、ｎ−ヘキサン
等で洗浄、精製、乾燥した後、有機溶媒に懸濁したもの
を用いるのがよい。アルカリ金属水素化物はジオール誘
導体−１ １モルに対して、１．０〜１．２モルが好ま
しい。１．０モル未満では反応生成物の収率低下を招
き、１．２モルを超えると経済的とはいえない。

【００８８】第一段工程前段の反応は、水素の異常発生
を避け、反応生成物を高収率で得るために、アルカリ金
属水素化物の有機溶媒懸濁液中に、ジオール誘導体−１
の有機溶媒溶液を滴下することが好ましい。有機溶媒の
使用比率はアルカリ金属水素化物／ジオール誘導体−１
＝１／７程度の容量比に按分することが好ましい。ジオ
ール誘導体−１の反応系への滴下速度はジオール誘導体
−１ １モルを３０〜９０分間かけて滴下するのが好ま
しい。滴下をあまり短時間に行うと、水素の発生速度が
増大して危険を伴う恐れがあり、滴下速度が遅いと経済
的とはいえない。第一段工程前段の反応は−１０〜１０
℃が好ましく、特に好ましくは０℃付近である。−１０
℃未満では経済的とはいえず、１０℃を超えると水素の
発生速度が増大して危険を伴う恐れがある。ジオール誘
導体−１の滴下完了後、室温まで昇温し、引き続き６０
分間攪拌保持して反応を完結させ、反応生成物溶液を得
る。

【００８９】次いで、有機溶媒中で、上述で得られた反
応生成物とアセチルクロリドとを反応させることによ
り、Ｏ−アセチル化誘導体−１を生成させる。有機溶媒
は上述で用いた有機溶媒が使用できる。したがって、上
述で得られた反応生成物溶液に、アセチルクロリドの有
機溶媒溶液を直接加えることにより、反応を行うことが
できる。アセチルクロリドの反応系への供給速度はジオ
ール誘導体−１ １モルに対して、１．１〜１．３モル
が好ましい。１．１モル未満ではＯ−アセチル化誘導体
−１の収率低下を招く恐れがあり、１．３モルを超える
と経済的とはいえない。アセチルクロリドは有機溶媒で
希釈して反応系へ供給するのが好ましい。有機溶媒の好
適な混合割合はアセチルクロリド１モルに対して０．４
〜１Ｌが好ましい。０．４Ｌ未満では反応温度の制御が
困難となる場合があり、１Ｌを超えると経済的とはいえ
ない。

【００９０】アセチルクロリドの反応系への滴下速度は
ジオール誘導体−１ １モルに対して６０〜１２０分が
好ましい。６０分未満では反応温度の制御が困難となる
場合があり、１２０分を超えると経済的とはいえない。
第一段工程後段の反応は−１０〜１０℃が好ましく、特
に好ましくは０℃付近である。−１０℃未満では経済的
とはいえず、１０℃を超えると反応温度の制御が困難と
なる恐れがある。アセチルクロリドの滴下完了後、引き
続き１２０分間攪拌保持して反応を完結させる。反応完
了後、室温まで昇温した後、減圧濃縮して有機溶媒と過
剰のアセチルクロリドを留去した後、水を加えて、エー
テル抽出し、抽出液を水洗した後、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて水分を除去した後、減圧濃縮してエーテルを
留去し、シロップ状の残渣を得る。この残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色透明な液状
の生成物であるＯ−アセチル化誘導体−１を得る。

【００９１】（第二段工程）第二段工程を反応式で示す
と、式（１２）

【００９２】

【化３２】

【００９３】［式中、ｍおよびＡは式（１１）における
と同義である］で示される通り、有機溶媒中で、第一段
工程で得られたＯ−アセチル化誘導体−１とアルカリ金
属水素化物とを反応させ、次いで得られた反応生成物と
ヨウ化メチルとを有機溶媒中で反応させることにより、
Ｏ−メチル化誘導体−１を生成させる。有機溶媒として
は、特に限定されるものではなく、例えばジエチルエー
テル、ｎ−ヘキサン、トルエン、ＴＨＦ、塩化メチレン
等が挙げられ、特に好ましくはジエチルエーテルであ
る。上記有機溶媒は、ジオール誘導体−１換算１モルに
対して、１〜３Ｌが好ましい。１Ｌ未満では反応熱の上
昇により、水素の発生速度が増大して危険となる場合が
あり、３Ｌを超えると経済的とはいえない。アルカリ金
属水素化物としては水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、水素化リチウム等が挙げられ、経済的に安価である
等の点から、水素化ナトリウムが特に好ましい。市販の
アルカリ金属水素化物は通常油性であるので、ｎ−ヘキ
サン等で洗浄、精製、乾燥した後、有機溶媒に懸濁した
ものを用いるのがよい。アルカリ金属水素化物はジオー
ル誘導体−１換算１モルに対して、１．０〜１．１モル
が好ましい。１．０モル未満では反応生成物の収率低下
を招く恐れがあり、１．１モルを超えると経済的とはい
えない。

【００９４】第二段工程前段の反応は、水素の異常発生
を避け、反応生成物を高収率で得るために、アルカリ金
属水素化物の有機溶媒懸濁液中に、Ｏ−アセチル化誘導
体−１の有機溶媒溶液を滴下することが好ましい。有機
溶媒の使用比率はアルカリ金属水素化物／Ｏ−アセチル
化誘導体−１＝１／７程度の容量比に按分することが好
ましい。Ｏ−アセチル化誘導体−１の反応系への滴下速
度はジオール誘導体−１換算１モルを３０〜９０分間か
けて滴下するのが好ましい。あまりに早い滴下速度では
水素の発生速度が増大して危険を招く恐れがあり、あま
りに遅い滴下速度は経済的とはいえない。第二段工程前
段の反応の反応温度は−１０〜１０℃が好ましく、特に
好ましくは０℃付近である。−１０℃未満では経済的と
はいえず、１０℃を超えると水素の発生速度が増大して
危険を招く恐れがある。Ｏ−アセチル化誘導体−１の滴
下完了後、室温まで昇温し、引き続き６０分間攪拌保持
して反応を完結させ、反応生成物を得る。

【００９５】次いで、有機溶媒中で、上述で得られた反
応生成物とヨウ化メチルとを反応させることにより、Ｏ
−メチル化誘導体−１を生成させる。有機溶媒は上述で
用いた有機溶媒が使用できる。したがって、上述で得ら
れた反応生成物溶液に、ヨウ化メチルの有機溶媒溶液を
直接加えることにより、反応を行うことができる。ヨウ
化メチルの反応系への供給速度はジオール誘導体−１換
算１モルに対して、１．１〜１．３モルが好ましい。
１．１モル未満ではＯ−メチル化誘導体−１の収率低下
を招く恐れがあり、１．３モルを超えると経済的とはい
えない。ヨウ化メチルは水素の異常発生を避けるため
に、有機溶媒で希釈して反応系へ供給するのが好まし
い。有機溶媒の好適な混合割合はヨウ化メチル１モルに
対して０．４〜１Ｌが好ましい。０．４Ｌ未満では水素
の異常発生を招く恐れがあり、、１Ｌを越えると経済的
とはいえない。

【００９６】ヨウ化メチルの反応系への滴下速度は、ジ
オール誘導体−１換算１モルに対して６０〜１２０分が
好ましい。６０分未満では水素の異常発生を招く恐れが
あり、１２０分を超えると経済的とはいえない。第二段
工程後段の反応は−１０〜１０℃が好ましく、特に好ま
しくは０℃付近である。−１０℃未満では経済的とはい
えず、１０℃を超えると水素の異常発生を招く恐れがあ
る。ヨウ化メチルの滴下完了後、引き続き３時間攪拌保
持して反応を完結させる。反応完了後、室温まで昇温し
た後、減圧濃縮して有機溶媒と未反応ヨウ化メチルを留
去した後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて、遊
離ヨウ素を除去した後、エーテル抽出し、抽出液を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮してエーテルを留去し、シロップ状の残渣
を得る。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、無色透明な液状の生成物であるＯ−メチル
化誘導体−１を得る。

【００９７】（第三段工程）第三段工程の反応を反応式
で示すと、式（１３）

【００９８】

【化３３】

【００９９】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］で示される通り、第二段工程で得られたＯ−メチル
化誘導体−１をアルカリ混合水溶液で加水分解して、２
位の不斉炭素原子に結合したアセトキシ基をヒドロキシ
基に換えることにより、ジアステレオマー混合物−１を
得る。アルカリ混合水溶液は炭酸カリウム−メタノール
−水溶液および炭酸ナトリウム−メタノール−水溶液が
挙げられ、それらの中でも炭酸カリウム−メタノール−
水溶液が好ましい。アルカリ混合水溶液中のアルカリの
使用量はジオール誘導体−１換算１モルに対して、炭酸
カリウム１〜５モルが好ましい。１モル未満では加水分
解反応が不十分となり、ジアステレオマー混合物−１の
収率低下を招く恐れがあり、５モルを超えると経済的と
はいえない。

【０１００】炭酸カリウムと水との混合割合は炭酸カリ
ウム１モルに対して、水１〜５モルが好ましい。１モル
未満では加水分解反応が不十分となり、ジアステレオマ
ー混合物−１の収率低下を招く恐れがあり、５モルを超
えると経済的とはいえない。メタノールはＯ−メチル化
誘導体−１を溶解するために使用される。メタノールの
供給量はジオール誘導体−１換算１モルに対して１．０
〜５．０Ｌである。１．０Ｌ未満ではＯ−メチル化誘導
体−１が溶けづらく、ジアステレオマー混合物−１の収
率低下を招く恐れがあり、５Ｌを超えると経済的とはい
えない。加水分解時間はジオール誘導体−１換算１モル
に対して６〜１０時間が好ましい。６時間未満では加水
分解が不十分となり、ジアステレオマー混合物−１の収
率低下を招く恐れがあり、１０時間を超えると経済的と
はいえない。アルカリ加水分解反応は室温が好ましい。
アルカリ加水分解反応完了後、減圧濃縮してメタノール
を留去した後、水を加えてエーテル抽出し、抽出液に無
水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、減圧濃
縮してエーテルを留去し、シロップ状の残渣を得る。こ
の残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、無色透明な液状の生成物であるジアステレオマー混
合物−１を得る。

【０１０１】［ジアステレオマー混合物−１：ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシアル
カンおよびｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型２−ヒドロキシ−
３−メトキシアルカンからなるジアステレオマー混合物
であることの確認］上述で得られた生成物の各種スペク
トル分析より、生成物は２−ヒドロキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカンであ
り、かつ¹⁹ＦＮＭＲスペクトル分析によれば、２本のピ
ークを有し、その第２ピークと第１ピークの面積比は、
第六段反応で得られたジオール誘導体−１の生成比率を
示すａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールとｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールの面積比と一致する。また、
上記生成物を光学活性ガスクロマトグラフィーにかける
と、２本の光学活性なピークが認められ、かつ第２ピー
クと第１ピークの面積比は、第六段反応で得られたジオ
ール誘導体−１の生成比率を示すａｎｔｉ体（２Ｓ，３
Ｓ）型ジオールとｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールの
面積比と一致する。したがって、第六段反応で得られた
ジオール誘導体−１の２位の不斉炭素原子に結合した水
酸基をアセトキシ基に換え、次いで、３位の不斉炭素原
子に結合した水酸基をメトキシ基に換えた後、アルカリ
加水分解して、アセトキシ基を水酸基に換えても２位と
３位の不斉炭素原子の絶対配置は変わらないことより、
上記生成物はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキ
シ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ末端エト
キシアルカンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒド
ロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ末端
エトキシアルカンからなるジアステレオマー混合物であ
り、その生成比率はａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオー
ルとｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールの生成比率と同
じであるジアステレオマー混合物−１であることが確認
できる。

【０１０２】また、式（９）で示されるジオール誘導体
−１の代わりに式（１０）で示されるジオール誘導体−
２を用いた以外は上述と同じ反応をすることにより、ａ
ｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−メトキ
シ−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカンお
よびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−２−ヒドロキシ−３−メ
トキシ−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカ
ンからなるジアステレオマー混合物であるジアステレオ
マー混合物−２を得ることができる。

【０１０３】上述した第七段反応によって得られる、式
（９）で示されるジアステレオマー混合物−１の好適な
具体例を開示すると、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−６−
エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘキサンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−６−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘキサンからなるジアステレオマ
ー混合物、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−
２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフル
オロヘプタンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エト
キシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタンからなるジアステレオマー混合物、
ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−８−エトキシ−２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロオクタ
ンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−８−エトキシ−２−
ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ
オクタンからなるジアステレオマー混合物、およびａｎ
ｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−９−エトキシ−２−ヒドロキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロノナンおよ
びｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−９−エトキシ−２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロノナン
からなるジアステレオマー混合物が挙げられる。

【０１０４】式（１０）で示されるジアステレオマー混
合物−２の好適な具体例を開示すると、ａｎｔｉ−（２
Ｒ，３Ｒ）−６−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘキサンおよびｓｙｎ
−（２Ｒ，３Ｓ）−６−エトキシ−２−ヒドロキシ−３
−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘキサンからな
るジアステレオマー混合物、ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）
−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンおよびｓｙｎ−（２Ｒ，
３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなるジアステ
レオマー混合物、ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−８−エト
キシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−ト
リフルオロオクタンおよびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−８
−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロオクタンからなるジアステレオマー混
合物、およびａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−９−エトキシ
−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロノナンおよびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−９−エト
キシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−ト
リフルオロノナンからなるジアステレオマー混合物が挙
げられる。

【０１０５】（第八段反応） ［ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メ
トキシアルカン、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型２−ヒドロ
キシ−３−メトキシアルカン、ａｎｔｉ体（２Ｒ，３
Ｒ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシアルカンおよびｓ
ｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシ
アルカンの製造方法］第八段反応を式で示すと、式（１
４）および式（１５）

【０１０６】

【化３４】

【０１０７】［式中、ｍは式（１）におけると同義であ
る］の通り、前述の第七段反応で得られたジアステレオ
マー混合物−１およびジアステレオマー混合物−２を中
低圧液体クロマトグラフィーで分取することにより、上
記４種類の生成物を取得することができる。すなわち、
式（１４）で示されるように、前述の第七段反応で得ら
れたジアステレオマー混合物−１を中低圧液体クロマト
グラフィーで第２ピークである第２フラクションおよび
第１ピークである第１フラクションを分取し、溶離液を
留去し、第２フラクションから得られる無色透明な液状
の生成物であるａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ末端エ
トキシアルカン（以下、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型２
−ヒドロキシ−３−メトキシアルカンという）、および
第１フラクションから得られる無色透明な液状の生成物
であるｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアル
カン（以下、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型２−ヒドロキシ
−３−メトキシアルカンという）を取得することができ
る。

【０１０８】また、式（１５）で示されるように、前述
の第七段反応で得られたジアステレオマー混合物−２を
上と同様な操作に付すことにより、第２ピークである第
２フラクションから得られる無色透明な液状の生成物で
あるａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアル
カン（以下、ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型２−ヒドロキ
シ−３−メトキシアルカンという）、および第１ピーク
である第１フラクションから得られる無色透明な液状の
生成物であるｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−２−ヒドロキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ末端エトキ
シアルカン（以下、ｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型２−ヒド
ロキシ−３−メトキシアルカンという）を取得すること
ができる。

【０１０９】［ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型２−ヒドロ
キシ−３−メトキシアルカン、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型２−ヒドロキシ−３−メトキシアルカン、ａｎｔｉ体
（２Ｒ，３Ｒ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシアルカ
ンおよびｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３
−メトキシアルカン］上記４種の化合物は式（１４）お
よび（１５）に示される通りであり，式中、ｍは３〜６
の整数を表わすが、ｍが３未満のものは沸点が低く、取
り扱いづらく、ｍが６を超えるものは製造しづらい。好
ましい−（ＣＨ₂）_m−基は１，３−トリメチレン基、
１，４−テトラメチレン基、１，５−ペンタメチレン基
および１，６−ヘキサメチレン基等が挙げられる。ａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシ
アルカンの好適な具体例を開示すると、ａｎｔｉ−（２
Ｓ，３Ｓ）−６−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘキサン、ａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン、ａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−８−エトキシ−２−ヒドロキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロオクタンおよ
びａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−９−エトキシ−２−ヒド
ロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロノナ
ン等が挙げられる。ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型２−ヒド
ロキシ−３−メトキシアルカンの好適な具体例を開示す
ると、ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−６−エトキシ−２−ヒ
ドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
キサン、ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−
ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタン、ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−８−エトキシ−２
−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオ
ロオクタンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−９−エトキ
シ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロノナン等が挙げられる。

【０１１０】ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型２−ヒドロキ
シ−３−メトキシアルカンの好適な具体例を開示する
と、ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−６−エトキシ−２−ヒ
ドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
キサン、ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−２
−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオ
ロヘプタン、ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−８−エトキシ
−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロオクタンおよびａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−９−
エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロノナン等が挙げられる。ｓｙｎ体（２
Ｒ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキシアルカンの
好適な具体例を開示すると、ｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−
６−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘキサン、ｓｙｎ−（２Ｒ，３
Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン、ｓｙｎ−（２Ｒ，
３Ｓ）−８−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロオクタンおよびｓｙｎ−
（２Ｒ，３Ｓ）−９−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロノナン等が挙げら
れる。

【０１１１】（第九段反応〜第十一段反応の概要） ［最終有用化合物：ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
［４´−｛４´´−（４´´´−ｎ−アルコキシ−３´
´´−フルオロフェニル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾイ
ルオキシ］−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタンの製造方法］最終有用化合物
は、有機溶媒中で、式

【０１１２】

【化３５】

【０１１３】で示される、前記第八段反応で得られたａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型２−ヒドロキシ−３−メトキ
シアルカンの一種であるａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７
−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタン（以下、ヒドロキシメトキシ
ヘプタンという）と、４−ベンジルオキシベンゾイック
アシッドとを、脱水縮合剤としてジシクロヘキシルカル
ボジイミド等を用い、触媒としてＮ，Ｎ−ジメチル−４
−アミノピリジン等の有機塩基を用いて反応させ（第九
段反応）、得られたａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
（４´−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ン（以下、ベンジルオキシベンゾイルオキシヘプタンと
いう）を、溶媒中で、パラジウム炭素触媒の存在下、水
素ガスで還元し（第十段反応）、得られたａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４´−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタン（以下、ヒドロキシベンゾイルオキ
シヘプタンという）と、式

【０１１４】

【化３６】

【０１１５】（式中、Ｒは炭素数６〜１４の直鎖状アル
キル基を表わす）で示される４−（４´−アルコキシ−
３´−フルオロフェニル）ベンゾイックアシッドとを、
第九段反応と同様、有機溶媒中で、脱水縮合剤としてジ
シクロヘキシルカルボジイミド等を用い、触媒として
Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン等の有機塩基を
用いて反応させる（第十一段反応）ことにより、製造す
ることができる。

【０１１６】（第九段反応） ［ベンジルオキシベンゾイルオキシヘプタンの製造方
法］第九段反応を反応式で示すと、式（１６）

【０１１７】

【化３７】

【０１１８】で示される通り、有機溶媒中で、ヒドロキ
シメトキシヘプタンと、４−ベンジルオキシベンゾイッ
クアシッドとを、脱水縮合剤としてジシクロヘキシルカ
ルボジイミド等を用い、触媒としてＮ，Ｎ−ジメチル−
４−アミノピリジン等の有機塩基を用いて反応させるこ
とにより、容易にベンジルオキシベンゾイルオキシヘプ
タンを製造することができる。有機溶媒は塩化メチレン
またはクロロホルム等の塩素系溶媒が好ましい。有機溶
媒の使用量はヒドロキシメトキシヘプタン１モルを基準
として５〜９Ｌが好ましい。５Ｌ未満の場合には４−ベ
ンジルオキシベンゾイックアシッドが溶解しにくい場合
があり、収率低下を招く恐れがあり、９Ｌを超えると経
済的とはいえない。ヒドロキシメトキシヘプタンと４−
ベンジルオキシベンゾイックアシッドとの供給割合は、
前者１モルを基準として後者１．１〜１．３モルが好ま
しい。１．１モル未満の場合には収率低下を招く恐れが
あり、１．３モルを超えると経済的とはいえない。ヒド
ロキシメトキシヘプタンとＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミ
ノピリジン等の有機塩基との混合割合は、前者１モルを
基準として後者０．４〜０．８モルが好ましい。０．４
モル未満では脱水時間が長くなり、収率低下を招く恐れ
があり、０．８モルを超えると経済的とはいえない。

【０１１９】反応操作の一例を挙げると、ヒドロキシメ
トキシヘプタン、４−ベンジルオキシベンゾイックアシ
ッド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジンおよび塩
化メチレンを混合し、室温で攪拌しながら均一な溶液を
調合する。次いで、上述の溶液を攪拌しながら、ジシク
ロヘキシルカルボジイミドを加える。ジシクロヘキシル
カルボジイミドの上述の溶液への供給量は、ヒドロキシ
メトキシヘプタン１モルを基準として１．３〜１．７モ
ルが好ましい。１．３モル未満では脱水縮合反応が不十
分となり、収率低下を招く恐れがあり、１．７モルを超
えると経済的とはいえない。ジシクロヘキシルカルボジ
イミドの供給完了後、攪拌しながら、室温で反応させ
る。その反応時間はヒドロキシメトキシヘプタン１モル
に対して、８〜１２時間が好ましい。８時間未満では収
率低下を招く恐れがあり、１２時間を超えると経済的と
はいえない。反応温度は室温が好ましい。反応完了後、
析出したジシクロヘキシル尿素の白色結晶をろ過して除
去し、ろ液を１規定塩酸、１０％炭酸水素ナトリウム水
溶液および水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
を加えて水分を除去した後、減圧濃縮して塩化メチレン
を留去し、シロップ状の残渣を得る。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色透明
な液状の生成物であるベンジルオキシベンゾイルオキシ
ヘプタンを得る。

【０１２０】（第十段反応） ［ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ヒドロキシベンゾイルオ
キシヘプタンの製造］第十段反応を反応式で示すと、式
（１７）

【０１２１】

【化３８】

【０１２２】で示される通り、溶媒中で、第九段反応で
得られたベンジルオキシベンゾイルオキシヘプタンをパ
ラジウム炭素触媒の存在下、水素で還元することによ
り、脱トルエンし、ヒドロキシベンゾイルオキシヘプタ
ンを製造することができる。溶媒としては、例えば、メ
タノール、エタノール、水、ジエチルエーテル、ｎ−ヘ
キサンおよびＴＨＦ等が挙げられ、それらの中でも、特
に好ましくはメタノールである。その使用量はベンジル
オキシベンゾイルオキシヘプタン１ｇを基準として４〜
２６ｍｌが好ましく、特に好ましくは１３〜１７ｍｌで
ある。４ｍｌ未満では反応系の粘度が増し、パラジウム
炭素触媒が均一に分散されにくく、収率低下を招く恐れ
があり、２６ｍｌを超えると脱トルエン速度が遅くな
り、経済的とはいえない。パラジウム炭素触媒は、例え
ば、パラジウム含有量、１、３、５、１０％の各パラジ
ウム炭素触媒が挙げられ、それらの中でも、パラジウム
原子換算で安価であることから、１０％パラジウム炭素
触媒が好適である。パラジウム炭素触媒の反応系への供
給割合は、ベンジルオキシベンゾイルオキシヘプタン１
０ｇを基準として５〜３５ｍｇ（パラジウム純度換算、
以下同様）が好ましく、１５〜２５ｍｇが特に好まし
い。５ｍｇ未満では還元能力が不足し、収率低下を招く
恐れがあり、３５ｍｇを超えると経済的とはいえない。

【０１２３】反応方法は、例えば密閉式の反応容器に、
ベンジルオキシベンゾイルオキシヘプタンと溶媒を加え
て均一な溶液を調合し、次いで、攪拌しながら、パラジ
ウム炭素触媒を入れ、できるだけ均一に分散した懸濁液
を調合した後、１．０５〜１．１５気圧程度の水素ガス
で反応系をシールし、還元反応を行う。還元時間は水素
ガスの吸収がなくなるまで供給する。例えば、ベンジル
オキシベンゾイルオキシヘプタン１０ｇを基準として、
水素ガスを５〜７時間程度供給するのが好ましい。５時
間未満では還元が不足し、収率低下を招き、７時間を超
えると経済的とはいえない。還元温度は１５〜３０℃が
好ましい。１５℃未満では還元速度が遅く、経済的とは
いえず、３０℃を超えると水素ガスの使用量が多くな
り、収率低下を招く恐れがある。反応終了後、例えば、
ろ過により、パラジウム炭素触媒を除去し、ろ液を減圧
濃縮して溶媒を除去し、次いで、真空ポンプ等でより高
真空度にして生成した溶媒を除去し、シロップ状の残渣
を得る。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー等で精製し、無色透明な液状の生成物を得る。

【０１２４】この生成物の各種スペクトルを測定した結
果、生成物は２−（４´−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンであることが確認される。また、生成
物を光学活性液体クロマトグラフィーにかけると、１本
の光学活性なピークしか認められないことより、ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型であるヒドロキシメトキシヘプタ
ンの２位の不斉炭素原子に結合した水酸基を４´−ベン
ジルオキシベンゾイルオキシ基に換え、次いで、水素雰
囲気下で、還元し、４´−ヒドロキシベンゾイルオキシ
基に換えても、反応前後では２位の不斉炭素原子の絶対
配置は変わらず（２Ｓ）配置であることが判明し、生成
物はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４´−ヒドロキ
シベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであるヒドロキシベ
ンゾイルオキシヘプタン［すなわち、ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型ヒドロキシベンゾイルオキシヘプタン］を
得ることができる。

【０１２５】（第十一段反応） ［最終有用化合物であるａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２
−［４´−｛４´´−（４´´´−ｎ−アルコキシ−３
´´´−フルオロフェニル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾ
イルオキシ］−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンの製造方法］第十一段反応を
反応式で示すと、式（１８）

【０１２６】

【化３９】

【０１２７】［式中、Ｒは炭素数６〜１４の直鎖状アル
キル基を表わす］の通りであり、有機溶媒中で、第十段
反応で得られたヒドロキシベンゾイルオキシヘプタン
と、式（１８）で示される４−（４´−アルコキシ−３
´−フルオロフェニル）ベンゾイックアシッドとを、脱
水縮合剤としてジシクロヘキシルカルボジイミド等を用
い、触媒としてＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン
等の有機塩基を用いて、反応させることにより、最終有
用化合物であるａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´
−｛４´´−（４´´´−ｎ−アルコキシ−３´´´−
フルオロフェニル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾイルオキ
シ］−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンを容易に製造することができる。式
（１８）で示される４−（４´−アルコキシ−３´−フ
ルオロフェニル）ベンゾイックアシッドを具体的に説明
すると、式中、Ｒで表わされる直鎖状アルキル基の好適
な具体例としては、４−（４´−ｎ−オクチルオキシ−
３´−フルオロフェニル）ベンゾイックアシッド、４−
（４´−ｎ−ノニルオキシ−３´−フルオロフェニル）
ベンゾイックアシッド、４−（４´−ｎ−デシルオキシ
−３´−フルオロフェニル）ベンゾイックアシッド、４
−（４´−ｎ−ウンデシルオキシ−３´−フルオロフェ
ニル）ベンゾイックアシッドおよび４−（４´−ｎ−ド
デシルオキシ−３´−フルオロフェニル）ベンゾイック
アシッド等が挙げられる。

【０１２８】有機溶媒は塩化メチレンまたはクロロホル
ム等の塩素系溶媒が好ましい。有機溶媒の使用量はヒド
ロキシベンゾイルオキシヘプタン１モルを基準として２
０〜４０Ｌが好ましい。２０Ｌ未満の場合には４−（４
´−アルコキシ−３´−フルオロフェニル）ベンゾイッ
クアシッドが溶解しにくい場合があり、収率低下を招く
恐れがあり、４０Ｌを超えると経済的とはいえない。ヒ
ドロキシベンゾイルオキシヘプタンと４−（４´−アル
コキシ−３´−フルオロフェニル）ベンゾイックアシッ
ドとの供給割合は、前者１モルを基準として後者１．０
〜１．１モルが好ましい。１．０モル未満の場合には収
率低下を招く恐れがあり、１．１モルを超えると経済的
とはいえない。ヒドロキシベンゾイルオキシヘプタンと
Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジンとの供給割合
は、前者１モルを基準として後者０．４〜０．８モルが
好ましい。０．４モル未満では脱水時間が長くなり、収
率低下を招く恐れがあり、０．８モルを超えると経済的
とはいえない。

【０１２９】ヒドロキシベンゾイルオキシヘプタン、４
−（４´−アルコキシ−３´−フルオロフェニル）ベン
ゾイックアシッド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリ
ジンおよび塩化メチレンを混合し、室温で攪拌しながら
均一な溶液を調合する。次いで、上述の溶液を攪拌しな
がら、ジシクロヘキシルカルボジイミドを加える。ジシ
クロヘキシルカルボジイミドの上述の溶液への供給量は
ヒドロキシベンゾイルオキシヘプタン１モルを基準とし
て、１．３〜１．７モルが好ましい。１．３モル未満で
は脱水縮合反応が不十分となり、収率低下を招く恐れが
あり、１．７モルを超えると経済的とはいえない。ジシ
クロヘキシルカルボジイミドの供給完了後、攪拌しなが
ら、室温で反応させる。その反応時間はヒドロキシベン
ゾイルオキシヘプタン１モルに対して、２５〜３５時間
が好ましい。２５時間未満では収率低下を招く恐れがあ
り、３５時間を超えると経済的とはいえない。反応温度
は室温が好ましい。

【０１３０】反応完了後、析出したジシクロヘキシル尿
素の白色結晶をろ過して除去し、ろ液を１規定塩酸、１
０％炭酸水素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、
減圧濃縮して溶媒を留去し、シロップ状の残渣を得る。
この残渣を熱ｎ−ヘキサンで溶解した後、冷却晶析し
て、白色の粗結晶を得る。次いで、この粗結晶をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色透明な液
状の最終有用化合物であるａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−
２−［４´−｛４´´−（４´´´−ｎ−アルコキシ−
３´´´−フルオロフェニル）ベンゾイルオキシ｝ベン
ゾイルオキシ］−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンを得る。また、この反応
は式（１６）のヒドロキシメトキシヘプタンの２個の不
斉炭素原子の立体配置には無関係であることより、光学
活性な不斉中心は変化せず、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）
型である。

【０１３１】最終有用化合物は式（１８）に示す通りで
あり、式中、Ｒで表わされるアルキル基は炭素数６〜１
４の直鎖状アルキル基、すなわち、ｎ−ヘキシル基、ｎ
−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デ
シル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリ
デシル基および−テトラデシル基等が挙げられ、それら
の中でも有用なアルキル基は炭素数８〜１２の直鎖状ア
ルキル基である。最終有用化合物の好ましい具体例を示
すと、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´−｛４´
´−（４´´´−ｎ−オクチルオキシ−３´´´−フル
オロフェニル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾイルオキシ］
−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフル
オロヘプタン、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´
−｛４´´−（４´´´−ｎ−ノニルオキシ−３´´´
−フルオロフェニル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾイルオ
キシ］−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタン、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
［４´−｛４´´−（４´´´−ｎ−デシルオキシ−３
´´´−フルオロフェニル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾ
イルオキシ］−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタン、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−２−［４´−｛４´´−（４´´´−ｎ−ウンデシル
オキシ−３´´´−フルオロフェニル）ベンゾイルオキ
シ｝ベンゾイルオキシ］−７−エトキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタン、およびａｎｔｉ
−（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´−｛４´´−（４´´´
−ｎ−ドデシルオキシ−３´´´−フルオロフェニル）
ベンゾイルオキシ｝ベンゾイルオキシ］−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン等
が挙げられる。

【０１３２】最終有用化合物は、高速応答性および高チ
ルト角を有し、３安定状態であるＳ_CA☆を示す反強誘電
性液晶化合物であり、液晶表示素子として用いることが
できる。例えば、最終有用化合物の一例であるａｎｔｉ
−（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´−｛４´´−（４´´´
−ｎ−デシルオキシ−３´´´−フルオロフェニル）ベ
ンゾイルオキシ｝ベンゾイルオキシ］−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン（以
下、最終有用化合物−１という）の相転移温度を測定し
た結果、Ｓ_CA☆の温度範囲が

【０１３３】

【化４０】

【０１３４】となり、最終有用化合物−１は単独でＳ_CA
☆が低温から室温まで広い温度領域を有する反強誘電性
液晶化合物であることが確認できる。さらに、最終有用
化合物−１を用いた液晶表示素子を作成し、その表示素
子を用い、１２．５℃での印加電圧変化に対する透過光
量変化より１つの暗状態と２つの明状態を有する３安定
状態のダブルヒステリシス曲線が得られる。これをもと
に、液晶表示素子の性能を測定した結果、高速応答性お
よび高チルト角を有することにより、最終有用化合物−
１は室温でのスイッチング操作ができる液晶表示素子を
形成し、壁掛けテレビ等の材料に適する優れた反強誘電
性液晶化合物であることが確認される。

【０１３５】

【実施例】以下、第一段反応〜第十一段反応、およびそ
れによって得られる化合物およびその物性、並びに第十
一段反応によって得られる最終有用化合物の有用性を示
す試験を実施例に示す。また、第五段反応の生成物の同
定（同定例−１）に用いた（Ｓ）体標品の製造例を参考
例１〜３に示す。

【０１３６】実施例１ （１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−
４−エトキシブチルケトンの製造）（第一段反応および
第二段反応） 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、０．８モル／リットルのグリニ
ャール試薬９３５ｍｌ［４−エトキシブチルマグネシウ
ム＝ブロミド１５３．３４ｇ（７４８ミリモル）、残り
ジエチルエーテル］を入れ、氷水バスに浸漬し、０℃に
調整した。滴下ロートに２−ヒドロキシ−３，３，３−
トリフルオロプロピオニル４２．５ｇ（３４０ミリモ
ル）と乾燥ジエチルエーテル４２５ｍｌを入れ、撹拌し
ながら、１１０分間かけて滴下し、滴下完了後、引き続
き、２時間撹拌保持して反応を完結させ、反応生成物溶
液を得た。次いで、氷水バスを取り去り、撹拌しなが
ら、室温まで昇温した。新しい滴下ロートに３．５規定
塩酸３４０ｍｌを入れ、撹拌しながら、３４分間かけて
滴下した。滴下完了後、引き続き２０分間撹拌保持し
て、加水分解反応を完結させた。加水分解反応終了後、
エーテル抽出し、抽出液を水洗した後、無水硫酸マグネ
シウムを加えて水分を除去した後、減圧濃縮して溶媒を
留去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／ク
ロロホルム＝７５／２５（容量比）］で精製し、無色透
明な液状の生成物［収量６２．０２ｇ（２７２ミリモ
ル）収率８０％］を得た。

【０１３７】この生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブ
チルケトンであることが確認された。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃） ０．９４〜１．０８ｐｐｍ（３Ｈ）、１．１８〜１．４
８ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６１〜２．８０ｐｐｍ（２
Ｈ）、３．２０〜３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．４６〜
３．７８ｐｐｍ（１Ｈ）、４．２１〜４．３１ｐｐｍ
（２Ｈ）、¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） −４．６６ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ^-1（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ^-1（Ｃ
Ｏ）、３，２８０ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２２８（Ｍ⁺） また、¹ＨＮＭＲスペクトル図を図１に示した。なお、
グリニャール試薬の製造例を後記参考例２に示す。

【０１３８】実施例２ ［（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロ
エチル−４−エトキシブチルケトンおよび（Ｒ）−１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エ
トキシブチルケトンの各製造］（第三段反応〜第五段反
応） ［第三段反応：（２Ｓ）−２−｛（２´Ｓ）−２´−ア
セトキシプロピオニルオキシ｝−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタノン−３および（２Ｒ）−
２−｛（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキ
シ｝−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ノン−３からなる生成比率１／１（面積比）のジアステ
レオマー混合物の製造］温度計、撹拌機、滴下ロートお
よび還流冷却器を備へ、還流冷却器の先端が力性ソーダ
吸収塔および塩化カルシウム塔を備へ、その先端がアス
ピレーターにつながっている四ツ口丸底フラスコに、実
施例１で得た１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオ
ロエチル−４−エトキシブチルケトンの鏡像異性体混合
物６０．４２ｇ（２６５ミリモル）と光学分割剤である
（Ｓ）−２−アセトキシプロピオニルクロリド４３．８
７ｇ（２９１．５ミリモル）を入れ、真空度１８０ｍｍ
Ｈｇに保ち、５０℃の温水バスに浸漬し、撹拌しなが
ら、沸騰させ、引き続き３１分間還流し、脱塩化水素ガ
ス反応を行い、発生した塩化水素ガスを連続的に系外に
除去した。還流が停止した時点で、脱塩化水素ガス反応
が完了したと判断し、撹拌しながら、真空度を上げ、真
空度を５０ｍｍＨｇに保ち、温水バスを９５℃に昇温
し、沸騰させ、引き続き４７分間還流して未反応光学分
割剤および未反応１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチル−４−エトキシブチルケトンの鏡像異性体
混合物を除去し、無色透明な液状の生成物［収量８１．
５７ｇ（２３８．５ミリモル）収率９０％］を得た。

【０１３９】この生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、光学活性な２
−［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキ
シ］−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ノン−３からなる生成比率１／１（面積比）のジアステ
レオマー混合物であることが確認された。すなわち、光
学分割剤の２位の不斉炭素原子の絶対配置は反応に無関
係であることより、生成物は（２´Ｓ）配置であるこ
と、また、生成物の各種スペクトル分析より、生成物は
２−（２´−アセトキシプロピオニルオキシ）−７−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３であ
ることが確認された。さらに生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペク
トル分析より、２本のピークが得られ、かつ第１ピーク
／第２ピーク＝１／１（面積比）であること等により、
生成物は上述のジアステレオマー混合物であることが確
認できた。

【０１４０】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃） １．０３〜１．０９ｐｐｍ（３Ｈ）、１．２２〜１．２
７ｐｐｍ（３Ｈ）、１．４３〜１．７３ｐｐｍ（６
Ｈ）、２．６４〜２．７６ｐｐｍ（２Ｈ）、３．１１〜
３．１８ｐｐｍ（２Ｈ）、３．３２〜３．３７ｐｐｍ
（３Ｈ）、４．３２〜４．３７ｐｐｍ（１Ｈ）、４．５
０〜４．５４ｐｐｍ（１Ｈ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−１．９９ｐｐｍ、面積比１［（２Ｓ），
（２´Ｓ）］体ヘプタノン−３ ☆１ 第２ピーク：−２．１０ｐｐｍ、面積比１［（２Ｒ），
（２´Ｓ）体ヘプタノン−３ ☆１ （☆１：同定例１で確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１１０ｃｍ^-1（ＣＯＣ）、１，６８０ｃｍ^-1（Ｃ
Ｏ）、１，７２０ｃｍ^-1（ＣＯＯ） ＭＳスペクトル ｍ／ｓ ３４２（Ｍ⁺） また、¹ＨＮＭＲスペクトル図を図２に示した。

【０１４１】［第四段反応：（２Ｓ）−２−｛（２´
Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキシ｝−７−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３およ
び（２Ｒ）−２−｛（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロ
ピオニルオキシ｝−７−エトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタノン−３の製造］ 上述の第三段反応で得られたジアステレオマー混合物で
ある生成物７９．８ｇ（２３３ミリモル）を下記条件で
中低圧液体クロマトグラフィーにかけ、第一フラクショ
ンと第二フラクションに分取し、減圧濃縮して溶離液を
留去し、無色透明な液状の第一フラクションからの生成
物および無色透明な液状の第二フラクションからの生成
物を得た。

【０１４２】中低圧液体クロマトグラフィー： ＬＯＢＡＲカラムＲＥＣＨＲＯＰＲＥＰ．Ｓｉ６０ サイズ：内径４０ｍｍ、長さ６００ｍｍ 溶離液：ｎ−ヘキサン／クロロホルム＝８０／２０（容
量比） 流量：０．５ｍｌ／ｍｉｎ チャージ量：５ｇ 検出：紫外検出器 波長２５４ｎｍの紫外吸収を用い
た。 第一フラクションからの生成物：［（２Ｓ），（２´
Ｓ）］体ヘプタノン−３ ☆２ 分取時間：４０〜１００分 取得量：３５．９１ｇ（１０５ミリモル）、取得率４５
％、取得比率１¹⁹ ＦＮＭＲスペクル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃ＣＯ
ＯＨ）：−１．９９ｐｐｍ、面積比１ 第二フラクションからの生成物［（２Ｒ），（２´
Ｓ）］体ヘプタノン−３ 分取時間：１２０〜２７０分 取得量：３５．９１ｇ（１０５ミリモル）、取得率４５
％、取得比率１¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ）：−２．１０ｐｐｍ、面積比１ （☆２：同定例１で確認）

【０１４３】これらの各生成物の各種スペクトルは第三
段反応で得られたジアステレオマー混合物と一致した。
また¹⁹ＦＮＭＲスペクトル分析より、各々１本のピーク
が認められ、第一フラクションからの生成物の¹⁹ＦＮＭ
Ｒスペクトルは第三段反応で得られたジアステレオマー
混合物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第１ピークと一致し、
第二フラクションからの生成物の ¹⁹ＦＮＭＲスペクト
ルは第三段反応で得られたジアステレオマー混合物の¹⁹
ＦＮＭＲスペクトルの第２ピークと一致した。

【０１４４】［第五段反応：（Ｓ）−１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチル
ケトンおよび（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−ト
リフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンの製造］
温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに第四段反応で得られた第一フラク
ションからの生成物３４．２ｇ（１００ミリモル）と
３．５規定硫酸水溶液２９０ｍｌを入れた。滴下ロート
にメタノール４４０ｍｌを入れ、撹拌しながら、１０分
間かけて滴下し、均一な溶液を調合した。次いで、８０
℃の温水バスに該フラスコを浸漬し、撹拌しながら、沸
騰するまで昇温し、引き続き２時間還流し、加水分解反
応を行った。

【０１４５】加水分解反応完了後、温水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、エーテル抽出
し、抽出液を２０％炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除
去した後、減圧濃縮して溶媒を留去し、シロップ状の残
渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー［溶離液ｎ−ヘキサン／クロロホルム＝９／１（容
量比）］で精製し、無色透明な液状の生成物−１［収量
２０．５２ｇ（９０ミリモル）収率９０％］を得たこの
生成物−１の各種スペクトルを測定した結果は、実施例
１で得られた１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオ
ロエチル−４−エトキシブチルケトンの鏡像異性体混合
物と一致した。また、第四段反応で得られた第一フラク
ションからの生成物の替りに第二フラクションからの生
成物を用いた以外は上記と同様な操作を行うことによ
り、無色透明な液状の生成物−２［収量２０．５２ｇ
（９０ミリモル）収率９０％］を得た。この生成物−２
の各種スペクトルを測定した結果もまた１−ヒドロキシ
−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチ
ルケトンの鏡像異性体混合物と一致した。

【０１４６】［同定例１：生成物−１が（Ｓ）−１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エト
キシブチルケトン｛以下、（Ｓ）体ヒドロキシケトンと
いう｝および生成物−２が（Ｒ）−１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチル
ケトン｛以下、（Ｒ）体ヒドロキシケトンという｝であ
ることの同定］（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，
３，３−トリフルオロプロピオニル）ピロリジンと４−
エトキシブチルマグネシウム＝ブロミドからなるグリニ
ャール試薬から合成された（Ｓ）−１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチル
ケトン［すなわち、（Ｓ）体標品である。特願平７−２
３７７４４。（Ｓ）体標品の製造方法は後記参考例１〜
３に示す。］と、実施例１で得られた１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチル
ケトンの鏡像異性体混合物を、下記条件で、光学異性体
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー（以下、
光学活性ガスクロマトグラフィーという）にかけた。 カラム ：商品名ＣＨＩＲＡＬＤＥＸ， Ｂ−ＴＡ（ＡＳＴＥＣ社製） ：内径０．２５ｍｍ、長さ１０ｍ、シリカキャピラリーカラ ム カラム温度 ：１００℃×１０分保持した後、昇温速度４℃／ｍｉｎで ２００℃まで昇温。 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量７０Ｎｌ／ｍｉｎ、スプリット比１００ ／１ 検出 ：ＦＩＤ

【０１４７】（Ｓ）体標品の光学活性ガスクロマトグラ
フィーのチャートは図３の通りであり、図３の解析結果
より、１本の光学活性なピークが得られ、（Ｓ）体標品
の保持時間は３４．６７分となった。１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチル
ケトンの鏡像異性体混合物の光学活性ガスクロマトグラ
フィーのチャートは図４の通りであり、図４の解析結果
より、各２本の光学活性なピークが得られ、その第１ピ
ークの保持時間は３４．６７分となり、（Ｓ）体標品と
一致したことより、（Ｓ）体ヒドロキシケトンであるこ
とが確認された。また、第１ピークと第２ピークとの面
積比１／１であることより、第２ピークの保持時間３
７．６７分は（Ｒ）体ヒドロキシケトンであることが判
明した。 ［（Ｓ）体標品：（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトン］ 保持時間：３４．６７分、（Ｓ）体ヒドロキシケトン ［１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−
４−エトキシブチルケトンの鏡像異性体混合物］ 第１ピーク：保持時間３４．６７分、面積比１、（Ｓ）
体ヒドロキシケトン 第２ピーク：保持時間３７．６７分、面積比１、（Ｒ）
体ヒドロキシケトン

【０１４８】第五段反応で得られた生成物−１および生
成物−２を上記と同様な条件で光学活性ガスクロマトグ
ラフィーにかけると、図５、図６の通りであり、図の解
析結果より、各々１本ずつの光学活性ピークが得られ、
生成物−１の保持時間は３４．６７分となり、（Ｓ）−
１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４
−エトキシブチルケトンであり、生成物−２の保持時間
は３７．６７分となり、（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケト
ンであることが確認できた。よって、第四段反応の第一
フラクションからの生成物は（２Ｓ）−２−［（２´
Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキシ］−７−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３であ
り、第二フラクションからの生成物は（２Ｒ）−２−
［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキシ］
−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン
−３であることが確認できた。また、第三段反応の生成
物は（２Ｓ）−２−｛（２´Ｓ）−２´−アセトキシプ
ロピオニルオキシ｝−７−エトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタノン−３および（２Ｒ）−２−｛（２´
Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキシ｝−７−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３から
なる生成比率１／１（面積比）のジアステレオマー混合
物であることが確認できた。したがって、１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブ
チルケトンの鏡像異性体混合物と光学分割剤（Ｓ）−２
−アセトキシプロピオニルクロリドとを反応させること
により、前者を光学分割し、（Ｓ）体ヒドロキシケトン
−１および（Ｒ）体ヒドロキシケトン−１を各々高収率
で工業的に有利に製造することができた。

【０１４９】実施例３ ［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒド
ロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−２
−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオ
ロヘプタンの各製造、実施例２で得られた生成物−１で
ある（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオ
ロエチル−４−エトキシブチルケトンを用い、金属水素
化物として水素化アルミニウムリチウムで還元する場
合］（第六段反応〜第八段反応） ［第六段反応：ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオ
ールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
からなるジアステレオマー混合物（以下、ジオール誘導
体−１−１という）の製造］温度計、撹拌機、還流冷却
器および滴下ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、水
素化アルミニウムリチウム１．６８ｇ（４４．２１ミリ
モル）とジエチルエーテル４２ｍｌを入れ、撹拌しなが
ら、できるだけ均一に分散された懸濁液とし、氷水バス
中に浸漬し、０℃に調整した。次いで、滴下ロートに実
施例２で得られた生成物−１である（Ｓ）−１−ヒドロ
キシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシ
ブチルケトン１９．２０ｇ（８４．２ミリモル）とジエ
チルエーテル８５ｍｌを入れ、撹拌しながら、９分間か
けて滴下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌
しながら、室温まで昇温し、引き続き６時間撹拌保持し
て反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。

【０１５０】次いで、上記で得た反応生成物溶液の入っ
たフラスコを再度氷水バス中に浸漬し、０℃に調整し
た。滴下ロートに２．５規定硫酸水溶液８５ｍｌを入
れ、撹拌しながら、６分間かけて滴下し、滴下完了後、
引き続き３０分間撹拌保持して反応を完結させた。酸処
理反応完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら室温
まで昇温し、未反応水素化アルミニウムリチウムの塊を
除去した後、エーテル抽出し、抽出液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムを加えて水分を除去した後、減圧濃縮してエーテ
ルを留去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ｎ−ヘキサ
ン）で精製し、無色透明な液状の生成物［収量１８．４
ｇ（８０ミリモル）収率９５％］を得た。

【０１５１】この生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、７−エトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオー
ルであることが確認された。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃） ０．８６〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０６〜１．２
４ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６９〜２．８０ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．９５〜３．１６ｐｐｍ（１Ｈ）、３．２０〜
３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５２〜３．６６ｐｐｍ
（２Ｈ）、４．０８〜４．１６ｐｐｍ（１Ｈ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４８ｐｐｍ、面積比１２％、［ｓｙ
ｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型］ ☆３ 第２ピーク：−２．２１ｐｐｍ、面積比８８％、［ａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型］ ☆３ （☆３：同定例２で確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１５０ｃｍ^-1（ＣＯＣ）、３，２７０ｃｍ^-1（Ｏ
Ｈ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２３０（Ｍ⁺） また、¹ＨＮＭＲスペクトル図を図７に示した。

【０１５２】［同定例２：上記で得られた生成物がａｎ
ｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−
（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフル
オロヘプタン−２，３−ジオールからなり、その生成比
率ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３
Ｒ）型＝８８／１２（面積比）のジアステレオマー混合
物であるジオール誘導体−１−１であることの同定］上
記で得られた生成物を、下記条件で、光学活性ガスクロ
マトグラフィーにかけた。 カラム ：商品名シクロデックスβ２３６Ｍ（クロムパック社製） サイズ；内径０．２５ｍｍ、長さ２５ｍ、シリカキャピラ リーカラム カラム温度 ：４０℃×１０分保持した後、昇温速度２℃／ｍｉｎで２００ ℃まで昇温。 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量７０ＮＬ／ｍｉｎ、スプリット比１００ ／１ 検出 ：ＦＩＤ 光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートを図８に示
した。図８のチャートの解析結果より、２本の光学活性
なピークが認められ、各ピークの保持時間と面積比を示
すと次の通り。 第１ピーク：保持時間７４分、面積比１２％、［ｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型］ ☆４ 第２ピーク：保持時間７９．５分、面積比８８％、［ａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型］ ☆４ （☆４：本同定例で確認）

【０１５３】次いで、温度計、撹拌機、還流冷却器を備
えた三ツ口丸底フラスコに、上述で得られた７−エトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオ
ール１．１５ｇ（５ミリモル）と２，２−ジメトキシプ
ロパン５ｍｌとパラトルエンスルホン酸１水塩０．１ｇ
を入れ、９０℃の温水バスに浸漬し、撹拌しながら、５
時間還流し、アセタール交換反応を行い、反応終了後、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキ
サン／イソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］
を用いて分取し、８２℃で蒸留し、留分を減圧濃縮して
無色透明な液状の反応生成物を得た。

【０１５４】この反応生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、
¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、２，２−
ジメチル−４−（４´−エトキシブチル）−５−トリフ
ルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、１，３−
ジオキソラン誘導体−１という）であることが確認され
た。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃） １．００〜１．０５ｐｐｍ（３Ｈ）、１．３６〜２．０
７ｐｐｍ（６Ｈ）、１．５８ｐｐｍ（ＣＨ₃）、１．７
５ｐｐｍ（ＣＨ₃）、１．８２ｐｐｍ（ＣＨ₃）、１．９
０ｐｐｍ（ＣＨ₃）、２．７３〜２．８４ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．９５〜３．０４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５５〜
３．８０ｐｐｍ（２Ｈ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４６ｐｐｍ、面積比１２％、（ｔｒ
ａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体−１） ☆５ 第２ピーク：−３．６６ｐｐｍ、面積比８８％（ｃｉｓ
体１，３−ジオキソラン誘導体−１） ☆５ （☆５：本同定例にて確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１４０ｃｍ^-1（ＣＯＣ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２７０（Ｍ⁺） また、¹ＨＮＭＲスペクトル図を図９に示した。

【０１５５】また、上述で得られた反応生成物である
１，３−ジオキソラン誘導体−１の¹ＨＮＭＲスペクト
ル中のメチル基の位置と面積比を求めると表１の通りで
ある。表１より面積比８８％であるメチル基の位置
（１．５８ｐｐｍ、１．９０ｐｐｍ）はｃｉｓ−２，２
−ジメチル−４−（４´−エトキシブチル）−５−トリ
フルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、ｃｉｓ
体１，３−ジオキソラン誘導体−１という）であり、面
積比１２％であるメチル基の位置（１．７５ｐｐｍ、
１．８２ｐｐｍ）はｔｒａｎｓ−２，２−ジメチル−４
−（４´−エトキシブチル）−５−トリフルオロメチル
−１，３−ジオキソラン（以下、ｔｒａｎｓ体１，３−
ジオキソラン誘導体−１という）であることが判明し
た。よって、反応生成物はｃｉｓ−２，２−ジメチル−
４−（４´−エトキシブチル）−５−トリフルオロメチ
ル−１，３−ジオキソランおよびｔｒａｎｓ−２，２−
ジメチル−４−（４´−エトキシブチル）−５−トリフ
ルオロメチル−１，３−ジオキソランからなり、その生
成比率ｃｉｓ体／ｔｒａｎｓ体＝８８／１２（面積比）
のジアステレオマー混合物であることが確認された。

【０１５６】

【表１】表１

【０１５７】また、反応生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル
のメチル基の位置（１．５８ｐｐｍ、１．９０ｐｐｍ）
の面積比８８％であるｃｉｓ体１，３−ジオキソラン誘
導体−１と反応生成物の ¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第２
ピーク（−３．６６ｐｐｍ）の面積比が一致したことに
より、第２ピークはｃｉｓ体１，３−ジオキソラン誘導
体−１であり、¹ＨＮＭＲスペクトルのメチル基の位置
（１．７５ｐｐｍ、１．８２ｐｐｍ）の面積比１２％で
あるｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体−１と反
応生成物の ¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク（−
０．４６ｐｐｍ）の面積比が一致したことにより、第１
ピークはｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体−１
であることが確認された。また、前述の実施例２の第五
段反応で得られた生成物−１である（Ｓ）−１−ヒドロ
キシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシ
ブチルケトンのカルボニル炭素を金属水素化物として水
素化アルミニウムリチウムで還元することによって得ら
れるため、生成物の２位の不斉炭素原子の立体配置は還
元反応には無関係であり、（２Ｓ）配置であることが確
認できた。

【０１５８】よって、表１のｃｉｓ体１，３−ジオキソ
ラン誘導体−１の面積比８８％と一致する７−エトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオー
ルの光学活性ガスクロマトグラフィーの第２ピーク（保
持時間７９．５分）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−
エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３
−ジオール［以下、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオー
ル−１という］であり、他方、ｔｒａｎｓ体１，３−ジ
オキソラン誘導体−１の面積比１２％と一致する７−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−
ジオールの光学活性ガスクロマトグラフィーの第１ピー
ク（保持時間７４分）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−
エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３
−ジオール［以下、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオール
−１という］であることが判明した。また、上述の生成
物である７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タン−２，３−ジオールの¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの面積
比８８％の第２ピーク（−２．２１ｐｐｍ）はａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオール−１であり、¹⁹ＦＮＭＲス
ペクトルの面積比１２％の第１ピーク（−０．４８ｐｐ
ｍ）はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオール−１であるこ
とが確認できた。したがって、上述の生成物はａｎｔｉ
−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２
Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタン−２，３−ジオールからなり、その生成比率ａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型
＝８８／１２（面積比）のジアステレオマー混合物であ
るジオール誘導体−１−１であることが確認出来た。

【０１５９】［第七段反応：ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，
３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなるジアステ
レオマー混合物（以下、ジアステレオマー混合物−１−
１という）の製造］ （第七段反応の第一段工程：Ｏ−アセチル化誘導体−１
−１の製造）温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロート
を備えた四ツ口丸底フラスコに、水素化ナトリウム１．
９２ｇ（８０ミリモル）とジエチルエーテル１８ｍｌを
入れ、氷水バスに浸漬し、０℃の水素化ナトリウム懸濁
液を調合した。次いで、滴下ロートに、上記第六段反応
で得られたａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
／ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール＝８８／１
２（面積比）からなるジアステレオマー混合物１６．７
２ｇ（７２．７ミリモル）とジエチルエーテル１２８ｍ
ｌを入れ、撹拌しながら、１７分間かけて滴下した。滴
下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温ま
で昇温し、引き続き６０分間撹拌保持して、反応を完結
させ、反応生成物溶液を得た。次いで、上記反応生成物
溶液の入った四ツ口丸底フラスコを再度氷水バスに浸漬
し、０℃に調整した。

【０１６０】滴下ロートにアセチルクロリド６．８５ｇ
（８７．２ミリモル）とジエチルエーテル５１ｍｌを入
れ、撹拌しながら、２５分間かけて滴下し、滴下完了
後、引き続き１２０分間撹拌保持して反応を完結させ
た。反応完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、
室温まで昇温した後、減圧濃縮して、有機溶媒と過剰の
アセチルクロリドを留去した後、水を加えた後、エーテ
ル抽出し、抽出液を水洗した後、無水硫酸マグネシウム
を加えて水分を除去した後、減圧濃縮してエーテルを留
去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソ
プロピルアルコール＝９５／５（容量比）］で精製し、
無色透明な液状の生成物であるＯ−アセチル化誘導体−
１−１［収量１７．７９ｇ（６５．４ミリモル）収率９
０％］を得た。

【０１６１】（第七段反応の第二段工程：Ｏ−メチル化
誘導体−１−１製造）温度計、撹拌機、還流冷却器、滴
下ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、水素化ナトリ
ウム１．８３ｇ（７６．３ミリモル）とジエチルエーテ
ル１７ｍｌを加えて、氷水バスに浸漬し、撹拌しなが
ら、０℃の懸濁液を調合した。次いで、滴下ロートに、
上述の第一段工程で得られたＯ−アセチル誘導体−１−
１の全量とジエチルエーテル１２０ｍｌを入れ、撹拌し
ながら、１７分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バ
スを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、引き続
き６０分間撹拌保持して、反応を完結させ、反応生成物
溶液を得た。次いで、上記反応生成物溶液の入った四ツ
口丸底フラスコを再度氷水バスに浸漬し、０℃に調整し
た。

【０１６２】滴下ロートにヨウ化メチル１２．３８ｇ
（８７．２ミリモル）とジエチルエーテル６１ｍｌを入
れ、撹拌しながら、２５分間かけて滴下し、滴下完了
後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温
し、引き続き１２０分間撹拌保持して、反応を完結させ
た。反応完了後、減圧濃縮してジエチルエーテルおよび
未反応ヨウ化メチルを留去した後、飽和チオ硫酸ナトリ
ウム水溶液を遊離ヨウ素の色が消えるまで加えて、遊離
ヨウ素を除去した後、エーテル抽出し、抽出液を水洗し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮してエーテルを留去し、シロップ状の残渣
を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９
５／５（容量比）］で精製し、無色透明な液状の生成物
であるＯ−メチル化誘導体−１−１［収量１５．９ｇ
（５５．６ミリモル）収率８５％］を得た。

【０１６３】（第七段反応の第三段工程：ジアステレオ
マー混合物−１−１の製造）温度計、撹拌機、還流冷却
器、滴下ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、上記第
二段工程で得られたＯ−メチル化誘導体−１−１の全量
と炭酸カリウム３０．１ｇ（２１８．１ミリモル）と水
１１．８ｇ（６５４．３ミリモル）とメタノール２２０
ｍｌを入れ、撹拌しながら、室温で３時間撹拌保持し
て、加水分解反応を行った。加水分解反応完了後、減圧
濃縮してメタノールを除去した後、水を加えて、エーテ
ル抽出し、抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて、水
分を除去した後、減圧濃縮して、エーテルを留去し、シ
ロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピル
アルコール＝９５／５（容量比）］で精製し、無色透明
の生成物であるジアステレオマー混合物−１−１［収量
１２．２ｇ（５０ミリモル）収率９０％］を得た。

【０１６４】このジアステレオマー混合物−１−１の¹
ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収
スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結果は次の
通りであり、７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃） ０．８０〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０４〜１．３
０ｐｐｍ（６Ｈ）、２．４８〜２．６４ｐｐｍ（２
Ｈ ）、２．６９ｐｐｍ（３Ｈ ）、２．８４〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．１２〜３．２６ｐｐｍ（２Ｈ）、
３．７７〜３．９０ｐｐｍ（１Ｈ）、４．０２〜４．１
４ｐｐｍ（１Ｈ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．１２ｐｐｍ、面積比１２％、［ｓｙ
ｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型］ ☆６ 第２ピーク：−４．１４ｐｐｍ、面積比８８％、［ａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型］ ☆６ （☆６：同定例３で確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ^-1（ＣＯＣ）、３，３００ｃｍ^-1（Ｏ
Ｈ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２４４（Ｍ⁺） また、¹ＨＮＭＲスペクトル図を図１０に示した。

【０１６５】［同定例３：上記で得られたジアステレオ
マー混合物−１−１がａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−
エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率
ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型＝８８／１２（面積比）のジアステレオマー混合物で
あることの同定］上記で得られたジアステレオマー混合
物−１−１を、下記条件で、光学活性ガスクロマトグラ
フィーにかけた。 カラム ：商品名シクロデックスβ２３６Ｍ（クロムパック社製） サイズ内径０．２５ｍｍ、長さ２５ｍ、シリカキャピラリー カラム カラム温度 ：１００℃×１０分保持した後、昇温速度４℃／ｍｉｎで ２００℃まで昇温。 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量６０ＮＬ／ｍｉｎ、スプリット比１００ ／１ 検出 ：ＦＩＤ 光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートを示すと図
１１となった。図１１のチャートの解析結果より、２本
の光学活性なピークが認められ、各ピークの保持時間と
面積比を示すと次の通り。 第１ピーク：保持時間１４．５５分、面積比１２％、
［ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型］ ☆７ 第２ピーク：保持時間１５．２７分、面積比８８％、
［ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型］ ☆７ （☆７：本同定例で確認）

【０１６６】第六段反応で得られたジオール誘導体−１
−１である、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオー
ルおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオールから
なり、その生成比率ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙ
ｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２（面積比）のジアス
テレオマー混合物の２位の不斉炭素原子に結合した水酸
基を水素化ナトリウムと反応させた後、アセチルクロリ
ドと反応させることにより、アセトキシ基に換へ、Ｏ−
アセチル化誘導体−１−１を生成し、次いで、３位の不
斉炭素原子に結合した水酸基を水素化ナトリウムと反応
させた後、ヨウ化メチルと反応させることにより、メト
キシ基に換へ、Ｏ−メチル化誘導体−１−１を生成し、
次いで、２位の不斉炭素原子に結合したアセトキシ基を
アルカリ加水分解することによりヒドロキシ基に換える
ことによって得られるジアステレオマー混合物−１−１
は光学活性ガスクロマトグラフィーにかけると２本の光
学活性なピークしか得られず、かつ第２ピーク／第１ピ
ーク＝８８／１２（面積比）となり、第六段反応で得ら
れたジオール誘導体−１−１の面積比と一致したことに
より、ジアステレオマー混合物−１−１とジオール誘導
体−１−１との反応前後では２位と３位の各不斉炭素原
子の絶対配置は変化しないことが判明した。

【０１６７】よって、ジアステレオマー混合物−１−１
の光学活性ガスクロマトグラフィーの面積比８８％であ
る第２ピーク（保持時間１５．２７分）はａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであり、
他方、光学活性ガスクロマトグラフィーの面積比１２％
である第１ピーク（保持時間１４．５５分）はｓｙｎ−
（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであるこ
とが確認された。また、光学活性ガスクロマトグラフィ
ーの第２ピーク（保持時間１５．２７分）の８８％の面
積比と一致するジアステレオマー混合物−１−１の¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトルの第２ピーク（−４．１４ｐｐｍ）は
ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンであり、他方、光学活性ガスクロマトグラフィーの第
１ピーク（保持時間１４．５５分）の１２％の面積比と
一致するジアステレオマー混合物−１−１の¹⁹ＦＮＭＲ
スペクトルの第１ピーク（−２．１２ｐｐｍ）はｓｙｎ
−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３
−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンである
ことが確認された。したがって、第七段反応の第三段工
程で得られたジアステレオマー混合物−１−１はａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンおよ
びｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンからなり、その生成比率ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型
／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２（面積比）の
ジアステレオマー混合物であることが確認できた。

【０１６８】［第八段反応：ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，
３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンの製造］第七段反
応の第三段工程で得られたジアステレオマー混合物−１
−１ １１．１１ｇ（４５．５ミリモル）を下記条件
で、中低圧液体クロマトグラフィーにかけ、第１ピーク
である第一フラクションおよび第２ピークである第二フ
ラクションを各々分取した後、減圧濃縮して溶離液を留
去し、無色透明な液状の第一フラクションからの生成物
［収得量１．２ｇ（４．９ミリモル）収得率１０．８
％］および無色透明な液状の第二フラクションからの生
成物［収得量８．８ｇ（３６．１ミリモル）収得率７
９．２％］を得た。

【０１６９】これらの生成物の各種スペクトルを測定し
た結果、第七段反応の第三段工程で得られたジアステレ
オマー混合物−１−１と一致し、７−エトキシ−２−ヒ
ドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンであった。また、¹⁹ＦＮＭＲスペクトルは各々１
本のピークが認められ、第一フラクションからの生成物
の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルはジアステレオマー混合物−１
−１の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク（−２．１２
ｐｐｍ）と一致し、第二フラクションからの生成物の¹⁹
ＦＮＭＲスペクトルはジアステレオマー混合物−１−１
の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第２ピーク（−４．１４ｐｐ
ｍ）と一致した。また、これらの生成物を、第七段反応
の第三段工程の同定例３と同じ条件で光学活性ガスクロ
マトグラフィーにかけた。光学活性ガスクロマトグラフ
ィーのチャートを示すと図１２および図１３となった。
これらのチャートの解析結果より、各々１本の光学活性
なピークが認められ、それらの保持時間は以下の通りで
あった。第一フラクションからの生成物の保持時間は同
定例３の第１ピークの保持時間（１４．５５分）と一致
し、第二フラクションからの生成物の保持時間は同定例
３の保持時間（１５．２７分）と一致したことにより、
第二フラクションからの生成物はａｎｔｉ−（２Ｓ，３
Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであり、第一フラク
ションからの生成物はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エ
トキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−
トリフルオロヘプタンであることが確認できた。

【０１７０】中低圧液体クロマトグラフィー：ＬＯＢＡ
ＲカラムＲＥＣＨＲＯＰＲＥＰ．Ｓｉ６０（メルク社
製）：サイズ 内径４０ｍｍ、高さ６００ｍｍ 溶離液：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９５
／５（容量比） 流量 ：０．５Ｌ／ｍｉｎ 供給量：４．５ｇ 検出 ：紫外検出器、波長２５４ｎｍの紫外吸収を用い
た。 第一フラクションからの生成物：ｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン 分取時間：１４０〜２３０分 取得量：１．２ｇ（４．９ミリモル）、取得率１０．８
％、取得比率１２％¹⁹ ＦＮＭＲスペクル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃ＣＯ
ＯＨ） −２．１２ｐｐｍ ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型 光学活性ガスクロマトグラフィー 保持時間：１４．５５分 ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型 第二フラクションからの生成物：ａｎｔｉ−（２Ｓ，３
Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン 分取時間：２８０〜４００分 取得量：８．８ｇ（３６．１ミリモル）、取得率７９．
２％、取得比率８８％¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） −４．１４ｐｐｍ ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型 光学活性ガスクロマトグラフィー 保持時間：１５．２７分 ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）
型

【０１７１】実施例４ ［ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒド
ロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タンおよびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−２
−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオ
ロヘプタンの各製造、実施例２第五段反応で得られた生
成物−２である（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンを用
い、金属水素化物として水素化ジイソブチルアルミニウ
ムで還元する場合］ ［第六段反応：ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオ
ールおよびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
からなるジアステレオマー混合物（以下、ジオール誘導
体−２−１という）の製造］温度計、撹拌機、還流冷却
器および滴下ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、実
施例２の第五段反応で得られた生成物−２である（Ｒ）
−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−
４−エトキシブチルケトン１９．２０ｇ（８４．２ミリ
モル）とジエチルエーテル７０ｍｌを入れ、氷水バス中
に浸漬し、撹拌しながら、０℃に調整した。次いで、滴
下ロートに水素化ジイソブチルアルミニウム２６．３０
ｇ（１８５．２ミリモル）とジエチルエーテル７０ｍｌ
を入れ、撹拌しながら、９分間かけて滴下した。滴下完
了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇
温し、引き続き６時間撹拌保持して反応を完結させ、反
応生成物溶液を得た。

【０１７２】次いで、上記で得た反応生成物溶液の入っ
たフラスコを再度氷水バス中に浸漬し、０℃に調整し
た。滴下ロートに２．５規定硫酸水溶液８５ｍｌを入
れ、撹拌しながら、６分間かけて滴下し、滴下完了後、
引き続き３０分間撹拌保持して反応を完結させた。酸処
理反応完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室
温まで昇温した後、エーテル抽出し、抽出液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムを加えて水分を除去した後、減圧濃縮して
エーテルを留去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ｎ−ヘ
キサン）で精製し、無色透明な液状の生成物［収量１
７．８ｇ（７７．５ミリモル）収率９２％］を得た。

【０１７３】この生成物の各種スペクトルを測定した結
果は実施例３の第六段反応の各種スペクトルと同じであ
り、７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン
−２，３−ジオールであることが確認された。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４８ｐｐｍ、面積比４５％、［ｓｙ
ｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型］ ☆８ 第２ピーク：−２．２１ｐｐｍ、面積比５５％、［ａｎ
ｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型］ ☆８ （☆８、同定例４で確認）

【０１７４】［同定例４：上記で得られた生成物がａｎ
ｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−
（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフル
オロヘプタン−２，３−ジオールからなり、その生成比
率ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型／ｓｙｎ体（２Ｒ，３
Ｓ）型＝５５／４５（面積比）のジアステレオマー混合
物であるジオール誘導体−２−１であることの同定］上
記で得られた生成物を、実施例３の第六段反応の同定例
２と同じ条件で光学活性ガスクロマトグラフィーにかけ
た。光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートを図１
４に示した。図１４のチャートの解析結果より、２本の
光学活性なピークが認められ、各ピークの保持時間と面
積比を示すと次の通り。 第１ピーク：保持時間７３．６分、面積比４５％、［ｓ
ｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型］ ☆９ 第２ピーク：保持時間７９．９分、面積比５５％、［ａ
ｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型］ ☆９ （☆９、本同定例で確認）

【０１７５】次いで、上記で得られた生成物１．１５ｇ
（５ミリモル）を用い、実施例３の第六段反応の同定例
２と同様な操作によりアセタール交換反応を行い、無色
透明な液状の反応生成物を得た。この反応生成物の各種
スペクトルを測定した結果は実施例３の同定例２と同じ
であり、２，２−ジメチル−４−（４´−エトキシブチ
ル）−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン
（以下、１，３−ジオキソラン誘導体−２という）であ
ることが確認された。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４６ｐｐｍ、面積比４５％、（ｔｒ
ａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体−２） 第２ピーク：−３．６６ｐｐｍ、面積比５５％（ｃｉｓ
体１，３−ジオキソラン誘導体−２） また、¹ＨＮＭＲスペクトル図を図１５に示した。

【０１７６】図より、上記で得られた反応生成物の¹Ｈ
ＮＭＲスペクトル中のメチル基の位置と面積比を求める
と表２の通りである。表２より面積比５５％であるメチ
ル基の位置（１．５８ｐｐｍ、１．９０ｐｐｍ）はｃｉ
ｓ−２，２−ジメチル−４−（４´−エトキシブチル）
−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以
下、ｃｉｓ体１，３−ジオキソラン誘導体−２という）
であり、面積比４５％であるメチル基の位置（１．７５
ｐｐｍ、１．８２ｐｐｍ）はｔｒａｎｓ−２，２−ジメ
チル−４−（４´−エトキシブチル）−５−トリフルオ
ロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、ｔｒａｎｓ体
１，３−ジオキソラン誘導体−２という）であることが
判明した。よって、反応生成物はｃｉｓ−２，２−ジメ
チル−４−（４´−エトキシブチル）−５−トリフルオ
ロメチル−１，３−ジオキソランおよびｔｒａｎｓ−
２，２−ジメチル−４−（４´−エトキシブチル）−５
−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソランからな
り、その生成比率ｃｉｓ体／ｔｒａｎｓ体＝５５／４５
（面積比）のジアステレオマー混合物であることが確認
された。

【０１７７】

【表２】表２

【０１７８】また、前述の実施例２の第五段反応で得ら
れた生成物−２である（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケト
ンのカルボニル炭素を金属水素化物として水素化ジイソ
ブチルアルミニウムで還元することによって得られるた
め、生成物の２位の不斉炭素原子の立体配置は還元反応
には無関係であり、（２Ｒ）配置であることが確認でき
た。よって、表２のｃｉｓ体１，３−ジオキソラン誘導
体−２の面積比５５％と一致する生成物の光学活性ガス
クロマトグラフィーの第２ピーク（保持時間７９．９
分）はａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール［以
下、ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型ジオール−１という］
であり、他方、ｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導
体−２の面積比４５％と一致する生成物の光学活性ガス
クロマトグラフィーの第１ピーク（保持時間７３．６
分）はｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール［以
下、ｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型ジオール−１という］で
あることが判明した。

【０１７９】また、上記の生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクト
ルの面積比５５％の第２ピーク（−２．２１ｐｐｍ）は
ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型ジオール−１であり、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトルの面積比４５％の第１ピーク（−０．
４８ｐｐｍ）はｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型ジオール−１
であることが確認できた。したがって、上述の生成物は
ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオールおよびｓｙ
ｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタン−２，３−ジオールからなり、その生
成比率ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型／ｓｙｎ体（２Ｒ，
３Ｓ）型＝５５／４５（面積比）のジアステレオマー混
合物であるジオール誘導体−２−１であることが確認で
きた。

【０１８０】［第七段反応：ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）
−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンおよびｓｙｎ−（２Ｒ，
３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなるジアステ
レオマー混合物（以下、ジアステレオマー混合物−２−
１という）の製造］ （第七段反応の第一段工程：Ｏ−アセチル化誘導体−２
−１の製造）温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロート
を備えた四ツ口丸底フラスコに、水素化ナトリウム１．
８５ｇ（７７ミリモル）とジエチルエーテル１７ｍｌを
入れ、氷水バス中に浸漬し、０℃の水素化ナトリウム懸
濁液を調合した。次いで、滴下ロートに、上記第六段反
応で得られたジオール誘導体−２−１１６．１ｇ（７０
ミリモル）とジエチルエーテル１２３ｍｌを入れ、撹拌
しながら、１７分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水
バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、引き
続き６０分間撹拌保持して、反応を完結させ、反応生成
物溶液を得た。次いで、上記反応生成物溶液の入った四
ツ口丸底フラスコを再度氷水バスに浸漬し、０℃に調整
した。

【０１８１】次いで、滴下ロートにアセチルクロリド
６．５９ｇ（８４ミリモル）とジエチルエーテル４９ｍ
ｌを入れ、撹拌しながら２５分間かけて滴下し、滴下完
了後、引き続き１２０分間撹拌保持して反応を完結させ
た。以下、実施例３の第七段反応の第一段工程と同様の
操作を行い、無色透明な液状の生成物であるＯ−アセチ
ル化誘導体−２−１［収量１７．１４ｇ（６３ミリモ
ル）収率９０％］を得た。

【０１８２】（第七段反応の第二段工程：Ｏ−メチル化
誘導体−２−１の製造）温度計、撹拌機、還流冷却器、
滴下ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、水素化ナト
リウム１．７６ｇ（７３．５ミリモル）とジエチルエー
テル１６ｍｌを加えて、氷水バスに浸漬し、撹拌しなが
ら、０℃の懸濁液を調合した。次いで、滴下ロートに、
上記の第一段工程で得られたＯ−アセチル誘導体−２−
１の全量とジエチルエーテル１２０ｍｌを入れ、撹拌し
ながら、１７分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バ
スを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、引き続
き６０分間撹拌保持して、反応を完結させ、反応生成物
溶液を得た。

【０１８３】次いで、上記反応生成物溶液の入った四ツ
口丸底フラスコを再度氷水に浸漬し、０℃に調整した。
次いで、滴下ロートにヨウ化メチル１１．９３ｇ（８４
ミリモル）とジエチルエーテル５９ｍｌを入れ、撹拌し
ながら、２５分間かけて滴下し、滴下完了後、氷水バス
を取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、引き続き
１２０分間撹拌保持して、反応を完結させた。以下、実
施例３の第七段反応の第二段工程と同様な処理を行い、
無色透明な液状の生成物であるＯ−メチル化誘導体−２
−１［収量１５．３２ｇ（５３．５５ミリモル）収率８
５％］を得た。

【０１８４】（第七段反応の第三段工程：ジアステレオ
マー混合物−２−１の製造）温度計、撹拌機、還流冷却
器、滴下ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、上記第
三段工程で得られたＯ−メチル化誘導体−２の全量と炭
酸カリウム２８．９８ｇ（２１０ミリモル）、水１１．
３４ｇ（６３０ミリモル）とメタノール２１０ｍｌを入
れ、撹拌しながら、室温で３時間撹拌保持して、加水分
解反応を行った。以下、実施例３の第七段反応の第三段
工程と同様な操作を行い、無色透明の生成物であるジア
ステレオマー混合物−２−１［収量１１．７６ｇ（４
８．２ミリモル）収率９０％］を得た。このジアステレ
オマー混合物−２−１の各種スペクトルを測定した結果
は、実施例３の第七段反応の第三段工程と同じであり、
７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンであった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．１２ｐｐｍ、面積比４５％、［ｓｙ
ｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型］ ☆１０ 第２ピーク：−４．１４ｐｐｍ、面積比５５％、［ａｎ
ｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型］ ☆１０ （☆１０、同定例１０で確認）

【０１８５】［同定例５：上記で得られたジアステレオ
マー混合物−２−１がａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−
エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタンおよびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）
−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率
ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型／ｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）
型＝５５／４５（面積比）のジアステレオマー混合物で
あることの同定］上記で得られたジアステレオマー混合
物−２−１を、実施例３の第七段反応の第三段工程の同
定例３と同様な条件で、光学活性ガスクロマトグラフィ
ーにかけた。光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを示すと図１６となった。図１６のチャートの解析結
果より、２本の光学活性なピークが認められ、各ピーク
の保持時間と面積比を示すと次の通り。 第１ピーク：保持時間１４．３３分、面積比４５％、
［ｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型］ ☆１１ 第２ピーク：保持時間１５．６０分、面積比５５％、
［ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型］ ☆１１ （☆１１、本同定例で確認）

【０１８６】第六段反応で得られたジオール誘導体−２
−１であるａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
およびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオールから
なり、その生成比率ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型／ｓｙ
ｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型＝５５／４５（面積比）のジアス
テレオマー混合物の２位の不斉炭素原子に結合した水酸
基を水素化ナトリウムと反応させた後、アセチルクロリ
ドと反応させることにより、アセトキシ基に換へ、Ｏ−
アセチル化誘導体−２−１を生成し、次いで、３位の不
斉炭素原子に結合した水酸基を水素化ナトリウムと反応
させた後、ヨウ化メチルと反応させることにより、メト
キシ基に換へ、Ｏ−メチル化誘導体−２−１を生成し、
次いで、２位の不斉炭素原子に結合したアセトキシ基を
アルカリ加水分解することによりヒドロキシ基に換える
ことによって得られるジアステレオマー混合物−２−１
は光学活性ガスクロマトグラフィーにかけると２本の光
学活性なピークしか得られず、かつ第２ピーク／第１ピ
ーク＝５５／４５（面積比）となり、第六段反応で得ら
れたジオール誘導体−２−１の面積比と一致したことに
より、ジアステレオマー混合物−２−１とジオール誘導
体−２−１との反応前後では２位と３位の各不斉炭素原
子の絶対配置は変化しないことが判明した。

【０１８７】よって、ジアステレオマー混合物−２−１
の光学活性ガスクロマトグラフィーの面積比５５％であ
る第２ピーク（保持時間１５．６０分）はａｎｔｉ−
（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであり、
他方、光学活性ガスクロマトグラフィーの面積比４５％
である第１ピーク（保持時間１４．３３分）はｓｙｎ−
（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであるこ
とが確認された。また、光学活性ガスクロマトグラフィ
ーの第２ピーク（保持時間１５．６０分）の５５％の面
積比と一致するジアステレオマー混合物−２−１の¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトルの第２ピーク（−４．１４ｐｐｍ）は
ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンであり、他方、光学活性ガスクロマトグラフィーの第
１ピーク（保持時間１４．３３分）の４５％の面積比と
一致するジアステレオマー混合物−２−１の¹⁹ＦＮＭＲ
スペクトルの第１ピーク（−２．１２ｐｐｍ）はｓｙｎ
−（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３
−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンである
ことが確認された。したがって、第三段工程で得られた
ジアステレオマー混合物−２はａｎｔｉ−（２Ｒ，３
Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンおよびｓｙｎ−（２
Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなり、そ
の生成比率ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型／ｓｙｎ体（２
Ｒ，３Ｓ）型＝５５／４５（面積比）のジアステレオマ
ー混合物であることが確認できた。

【０１８８】［第八段反応：ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）
−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンおよびｓｙｎ−（２Ｒ，
３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンの製造］第七段反
応の第三段工程で得られたジアステレオマー混合物−２
−１ ８．５４ｇ（３５ミリモル）を実施例３の第八段
反応と同様な条件で、中低圧液体クロマトグラフィーに
かけ、第１ピークである第一フラクションおよび第２ピ
ークである第二フラクションを各々分取した後、減圧濃
縮して溶離液を留去し、無色透明な液状の第一フラクシ
ョンからの生成物［収得量３．４６ｇ（１４．１８ミリ
モル）収得率４０．５％］および無色透明な液状の第二
フラクションからの生成物［収得量４．２３ｇ（１７．
３２ミリモル）収得率４９．５％］を得た。

【０１８９】これらの生成物の各種スペクトルを測定し
た結果、上述の第七段反応の第三段工程で得られたジア
ステレオマー混合物−２−１と一致し、７−エトキシ−
２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフル
オロヘプタンであった。また、¹⁹ＦＮＭＲスペクトルは
各々１本のピークが認められ、第一フラクションからの
生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルはジアステレオマー混合
物−２−１の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク（−
２．１２ｐｐｍ）と一致し、第二フラクションからの生
成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルはジアステレオマー混合物
−２−１の ¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第２ピーク（−４．
１４ｐｐｍ）と一致した。また、これらの生成物を、第
七段反応の第三段工程の同定例５と同じ条件で光学活性
ガスクロマトグラフィーにかけた。光学活性ガスクロマ
トグラフィーのチャートを示すと、図１７および図１８
となった。図１７のチャートの解析結果より、１本の光
学活性なピークが得られ、その保持時間はジアステレオ
マー混合物−２−１の光学活性ガスクロマトグラフィー
の第１ピークの保持時間（１４．３３分）と一致したこ
とより、第一フラクションからの生成物はｓｙｎ−（２
Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであることが
確認できた。また、図１８のチャートの解析結果より、
１本の光学活性なピークが得られ、その保持時間はジア
ステレオマー混合物−２−１の光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの第２ピークの保持時間（１５．６０分）と一
致したことより、第二フラクションからの生成物はａｎ
ｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あることが確認できた。

【０１９０】第一フラクションからの生成物： ｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロキ
シ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン 分取時間：１４０〜２３０分 取得量：３．４６ｇ（１４．１８ミリモル）、取得率４
０．５％、取得比率４５％¹⁹ ＦＮＭＲスペクル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃ＣＯ
ＯＨ） −２．１２ｐｐｍ ｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型 光学活性ガスクロマトグラフィー 保持時間：１４．３３分 第二フラクションからの生成物： ａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ン 分取時間：２８０〜４００分 取得量：４．２３ｇ（１７．３２ミリモル）、取得率４
９．５％、取得比率５５％¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） −４．１４ｐｐｍ ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型 光学活性ガスクロマトグラフィー 保持時間：１５．６０分 ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）
型

【０１９１】実施例５ ［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´−｛４´´−
（４´´´−ｎ−デシルオキシ−３´´´−フルオロフ
ェニル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾイルオキシ］−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタン（最終有用化合物）の製造］ （第一段反応：ベンジルオキシベンゾイルオキシヘプタ
ンの製造）温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを
備えた四ツ口丸底フラスコに、実施例３の第八段反応で
得たａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒ
ドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタン２．５１ｇ（１０．２９ミリモル）と、４−ベン
ジルオキシベンゾイックアシッド２．８１ｇ（１２．３
２ミリモル）と、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジ
ン０．７５ｇ（６．１６ミリモル）および塩化メチレン
７２ｍｌを入れ、室温で撹拌して、均一な溶液を調合し
た。次いで、滴下ロートにジシクロヘキシルカルボジイ
ミド３．１７ｇ（１５．４１ミリモル）を入れ、撹拌し
ながら、滴下し、引き続き、室温で２時間撹拌保持し
て、反応を完結させた。反応完了後、析出したジシクロ
ヘキシル尿素の白色結晶をろ過して除去し、ろ液を１規
定塩酸、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液および水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除
去した後、減圧濃縮して、塩化メチレンを留去し、シロ
ップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルア
ルコール＝９５／５（容量比）］で精製し、無色透明な
液状の生成物であるベンジルオキシベンゾイルオキシヘ
プタン［収量４．２０ｇ（９．２６ミリモル）収率９０
％］を得た。

【０１９２】［第七段反応：ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−２−（４´−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エ
トキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タン（以下、ヒドロキシベンゾイルオキシヘプタンＡと
いう）の製造］温度計、撹拌機、滴下ロート、水素ガス
チャージ管およびポリエチレン樹脂風船を備えた密閉型
の四ツ口丸底フラスコに、上述の第九段反応で得られた
ベンジルオキシベンゾイルオキシヘプタンＡ全量とメタ
ノール６３ｍｌを入れた。次いで、滴下ロートに、１０
％パラジウム炭素触媒０．１ｇを入れ、撹拌しながら、
ゆっくり滴下し、均一に分散された懸濁液を調合した。
次いで、室温で、撹拌しながら、圧力１．１ｋｇ／ｃｍ
²程度の水素ガスで反応系をシールし、還元反応を行っ
た。還元反応は懸濁液を撹拌しながら、水素ガスの吸収
がなくなるまで、４時間水素ガスを供給し、反応を完結
した。還元反応完了後、得られた反応懸濁液をろ過して
パラジウム炭素触媒を除去し、ろ液を減圧濃縮してメタ
ノールを留去した後、副生したトルエンを真空ポンプで
除去してシロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イ
ソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］で精製
し、無色透明な液状の生成物であるヒドロキシベンゾイ
ルオキシヘプタンＡ［収量３．２０ｇ（８．８０ミリモ
ル）収率９５％］を得た。

【０１９３】このヒドロキシベンゾイルオキシヘプタン
Ａの¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、１
Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結果
は次の通りであり、２−（４´−ヒドロキシベンゾイル
オキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−
トリフルオロヘプタンであることが確認された。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃） ０．８７〜０．９６ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０９〜１．５
３ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６０〜２．７２ｐｐｍ（２
Ｈ ）、２．７５ｐｐｍ（３Ｈ ）、２．８７〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．２７〜３．４２ｐｐｍ（２Ｈ）、
４．１８〜４．３５ｐｐｍ（１Ｈ）、５．４１ｐｐｍ
（１Ｈ）、６．６９〜７．９８ｐｐｍ（４Ｈ、ＡＢパタ
ーン）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） −２．３３ｐｐｍ ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型 ☆
１２ （☆１２、同定例６で確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１００ｃｍ^-1（ＣＯＣ）、１，７４０ｃｍ^-1（ＣＯ
Ｏ）、３，３００ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ３６４（Ｍ⁺） また、¹ＨＮＭＲスペクトル図を図１９に示す。

【０１９４】［同定例６、上述の第十段反応で得られた
ヒドロキシベンゾイルオキシヘプタンＡがａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４´−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタンであることの同定］上記ヒドロキシ
ベンゾイルオキシヘプタンＡを下記条件で光学活性液体
クロマトグラフィーにかけた。 光学異性体分離カラム：［商品名、アミロース系光学異
性体分離用ＨＰＬＣカラム：ダイセル化学工業（株）
製］ 分離剤：アミロース、トリス［（Ｓ）−１−フェニルエ
チルカルバメート］をシリカゲルでコーティングしたも
の（グレードＣＨＩＲＡＬＰＡＫ，ＡＳ） サイズ：内径４．６ｍｍ、長さ２５０ｍｍ 溶離液：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９５
／５（容量比） 流速 ：０．５ｍｌ／ｍｉｎ 検出 ：紫外検出器、波長２５４ｎｍの紫外吸収を用い
た。 試料 ：０．１ｍｇ 上記、光学活性液体クロマトグラフィーのチャートは図
２０の通りであり、図より１本の光学活性なピークが認
められ、その保持時間は１１．４６分であった。

【０１９５】したがって、実施例３の第八段反応で得ら
れたａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒ
ドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンの２位の不斉炭素原子に結合した水酸基を４−ベ
ンジルオキシベンゾイルオキシ化し、次いで、パラジウ
ム炭素触媒の存在下、水素で還元することにより、ヒド
ロキシベンゾイルオキシヘプタンＡが得られる反応で
は、光学活性液体クロマトグラフィー分析より、１本の
光学活性なピークしか認められないことから、反応前後
の２位の不斉炭素原子の立体配置は反転しないことより
（２Ｓ）配置であることが判明し、ヒドロキシベンゾイ
ルオキシヘプタンＡはａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
（４´−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あることが確認できた。よって、¹⁹ＦＮＭＲスペクトル
のピーク（−２．３３ｐｐｍ）はａｎｔｉ体（２Ｓ，３
Ｓ）型であることが確認された。

【０１９６】［（第十一段反応：最終有用化合物ａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´−｛４´´−（４´´
´−ｎ−デシルオキシ−３´´´−フルオロフェニル）
ベンゾイルオキシ｝ベンゾイルオキシ］−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの
製造）］温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備
えた四ツ口丸底フラスコに、上述の第七段反応で得られ
たａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４´−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン０．９１ｇ（２．５
０ミリモル）と、４−（４´−ｎ−デシルオキシ−３´
−フルオロフェニル）ベンゾイックアシッド１．０２ｇ
（２．７５ミリモル）と、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミ
ノピリジン０．１８ｇ（１．５０ミリモル）および塩化
メチレン７５ｍｌを入れ、室温で撹拌して、均一な溶液
を調合した。次いで、滴下ロートにジシクロヘキシルカ
ルボジイミド０．７７ｇ（３．７５ミリモル）を入れ、
撹拌しながら、滴下し、引き続き、室温で４時間撹拌保
持して、反応を完結させた。反応完了後、析出したジシ
クロヘキシル尿素の白色結晶をろ過して除去し、ろ液を
１規定塩酸、１０％炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除
去した後、減圧濃縮して塩化メチレンを留去し、シロッ
プ状の残渣を得た。この残渣を熱ｎ−ヘキサンに溶解し
た後、冷却晶析し、白色の粗結晶を得た。この粗結晶を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキ
サン／イソプロピルアルコール＝９６／４（容量比）］
で精製し、無色透明な液状の生成物［収量１．４４ｇ
（２ミリモル）収率８０％］を得た。

【０１９７】この生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、２−［４´−
｛４´´−（４´´´−ｎ−デシルオキシ−３´´´−
フルオロフェニル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾイルオキ
シ］−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンであった。また、この生成物は第十段
反応で得られたａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４´
−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの２位と
３位の不斉炭素原子の絶対配置には無関係の場所で反応
が行われるから、２位と３位の不斉炭素原子の不斉中心
は反応前後では変化しないことより、ａｎｔｉ−（２
Ｓ，３Ｓ）−２−［４´−｛４´´−（４´´´−ｎ−
デシルオキシ−３´´´−フルオロフェニル）ベンゾイ
ルオキシ｝ベンゾイルオキシ］−７−エトキシ−３−メ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの最終有用
化合物であることが確認できた。

【０１９８】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃） １．００〜１．０３ｐｐｍ（３Ｈ）、１．１３〜１．６
７ｐｐｍ（２５Ｈ）、２．６１〜２．７４ｐｐｍ（４
Ｈ ）、２．９０〜２．９５ｐｐｍ（３Ｈ ）、３．１１〜
３．１９ｐｐｍ（２Ｈ）、４．３１〜４．３６ｐｐｍ
（１Ｈ）、４．６５〜４．７０ｐｐｍ（１Ｈ）、７．０
４〜７．６４ｐｐｍ（１１Ｈ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） ＋４８．００ｐｐｍ（Ｆ）、−４．６２ｐｐｍ（Ｃ
Ｆ₃） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１１０ｃｍ^-1（ＣＯＣ）、１，７３０ｃｍ^-1（ＣＯ
Ｏ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ７１８（Ｍ⁺） また、¹ＨＮＭＲスペクトル図を図２１に示す。

【０１９９】実施例６ ［最終有用化合物の有用性を示す試験例］ （最終有用化合物の相転移温度の測定）最終有用化合物
について、ＤＳＣ、および後述の液晶表示素子の電場応
答を偏光顕微鏡で観察することにより、相転移温度を測
定した結果は次の通りである。ただし、Ｃｒｙ：結晶
相、Ｓ_CA☆：反強誘電性液晶相、Ｓ_C☆：強誘電性液晶
相、Ｓ_A：スメクチックＡ層およびＩＳＯ：等方性液体
相を表わす。また、上段の値は２℃／ｍｉｎで昇温した
とき、下段の値は２℃／ｍｉｎで降温したときの相転移
温度を表わす。

【０２００】

【化４１】

【０２０１】となり、最終有用化合物は低温から室温ま
での広い温度領域で反強誘電性液晶相を示した。

【０２０２】（液晶表示素子の作製）透明電極付きの２
枚のガラス基板に、ポリイミドをスピンコートした配向
膜をラビング処理し、それぞれのラビング方向が互に平
行となるように、２．０μｍのギャップ間隔で貼り合せ
て、セルを組み立てた。上記で得られたセルに実施例５
で得られた最終有用化合物を加熱し、等方性液体相にし
て注入した。次いで、液晶状態まで徐冷した。この液晶
入セルを透過軸を直交させた偏光子と検光子で挟み、カ
イラルスメクチックＣ相における分子層の法線方向と偏
光子または検光子の方向が一致するように設置し、電界
無印加時（０Ｖ）のとき、第３安定状態を暗状態とし、
電界印加によって、カイラルスメクチックＣに変化さ
せ、その状態を明状態として用いることにより、暗およ
び明の表示を行うことができる液晶表示素子を作成し
た。すなわち、印加電圧が０Ｖのとき透過光量が最小と
なるように偏光子に対するセルの角度を調整した。な
お、透過光量は検光子の透過軸を回転させ、偏光子の透
過軸と一致させたときの値を１００％とした。

【０２０３】（液晶表示素子の評価）上述で作成した液
晶表示素子を用い、１２．５℃において印加電圧±２５
Ｖに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図２２
となった。図より１つの暗状態と２つの明状態を示した
ダブルヒステリシス曲線が得られた。また、１２．５℃
における印加電圧変化に対する透過光量変化により、液
晶表示素子の性態評価を行った結果は以下の通りであっ
た。セル膜厚２μｍ、測定温度１２．５℃、印加電圧±
２５Ｖの条件で測定することにより、 応答時間：７５／９０μｓ［（暗→明／明→暗）状態に
変化させた時間］ 閾値電圧：１１．３Ｖ／μｍ（完全に明状態になる電
圧） チルト角：４０°（閾値電圧のとき、光軸が偏光子とな
す角度） となった。以上の結果、最終有用化合物は低温から室温
までの広い温度領域の反強誘電性液晶相を有し、それを
用いた液晶表示素子は１２．５℃で、３安定状態のダブ
ルヒステリシス曲線を示し、応答速度が早く、チルト角
が大きく、壁掛けテレビ用液晶材料等として優れた反強
誘電性液晶化合物であることが確認できた。

【０２０４】参考例１ ［（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフ
ルオロプロピオニル）ピロリジンの製造］温度計、撹拌
機、還流冷却器を備えた三ツ口丸底フラスコに（Ｓ）−
トリフルオロ乳酸２５．８ｇ（１７９ミリモル）、メタ
ノール５２０ｍｌおよび濃硫酸２７０ｍｌを入れ、撹拌
しながら加熱還流した。還流中、¹⁹ＦＮＭＲスペクトル
で乳酸ピークを追跡しながら、１２時間還流した結果、
反応液中の乳酸がなくなったことが確認され加熱還流を
停止し、撹拌しながら室温まで冷却した。次いで、反応
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ８〜９に調整
した後、エーテルで抽出し、抽出液を水洗した後、無水
硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、抽出液を
減圧濃縮し、残ったシロップ状の残渣を減圧蒸留し、無
色透明な液状の生成物［収量２６．９ｇ（１７０ミリモ
ル）収率９５％］を得た。

【０２０５】この生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した。またこの生成物の２位の炭素原子の
立体配置には無関係であり、光学的反転は起こらないこ
とより、この生成物は（Ｓ）−２−ヒドロキシ−３，
３，３−トリフルオロプロピオン酸メチルエステルであ
ることが確認された。

【０２０６】次いで、温度計、撹拌機、滴下ロートのつ
いたクライゼンフラスコの枝管にリービッヒコンデンサ
ーを取り付け、その出口にメチルアルコール回収ビンを
取り付け、その出口がアスピレーターにつながっている
装置を用い、上述で得られた（Ｓ）−２−ヒドロキシ−
３，３，３−トリフルオロプロピオン酸メチルエステル
２６．１ｇ（１６５ミリモル）とピロリジン１２．８ｇ
（１８０ミリモル）および濃硫酸０．７ミリモルを入
れ、２００ｍｍＨｇ×６０℃で反応させ、発生したメチ
ルアルコール蒸気を連続的にリービッヒコンデンサーに
送り、メチルアルコールを回収した。メチルアルコール
蒸気の発生がなくなったことを確認し、加熱を停止し、
室温まで放冷した後、常圧に戻して、反応を完了した。
次いで生成した淡褐色の固体を取り出し、水で洗浄した
後、熱ｎ−ヘキサンを加えて、溶解した後、冷却晶析し
て、白色針状結晶である生成物［収量２７．６ｇ（１４
０ミリモル）収率８５％］を得た。

【０２０７】この生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、かつこの生
成物の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光学
的反転は起こらないことより、生成物は原料化合物
（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリクル
オロプロピオニル）ピロリジンであることが確認され
た。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₂） １．５３〜２．３７ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、３．２１〜
３．８８ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、４．１４ｐｐｍ（１Ｈ，
ｂｒ）、４．５８（１Ｈ，ｑ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） −４．２ｐｐｍ（ｄ，Ｊ＝６．０） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，６４０ｃｍ^-1（ＣＯ）、３，３３０ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ １９７（Ｍ⁺）

【０２０８】参考例２ ［４−エトキシブチルマグネシウムブロミド（以下、グ
リニャール試薬−１という）の製造］温度計、撹拌機、
還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに
テトラヒドロフラン４０．０ｇ（５５６ミリモル）、エ
チルアルコール２８．２ｇ（６１２ミリモル）およびパ
ラトルエンスルホン酸１水塩５．２ｇ（２９ミリモル）
を入れ、温水バスに浸漬した。次いで８０℃×６時間還
流した後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣に水６２０ｍｌを加えた後、エーテル抽出し、抽出
後に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、
溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の４−エトキシブタ
ノール［収量５９．０ｇ（５００ミリモル）収率９０
％］を得た。

【０２０９】次いで温度計、撹拌機、滴下ロートを備え
た三ツ口フラスコに、上述で得た４−エトキシブタノー
ル５７．２ｇ（４８５ミリモル）と塩化メチレン１，４
５０Ｌを入れ、氷水バスに浸漬し、０℃に調整した。次
いで、滴下ロートにトリフエニルホスフィン１２６．６
ｇ（４８５ミリモル）と塩化メチレン４８５Ｌを入れ、
完全に均一な溶液を調合した。次いで、臭素７７．６ｇ
（４８５ミリモル）と塩化メチレン２４０ｍｌを混合し
た溶液を上記滴下ロートに加えた。滴下ロートより混合
液を撹拌しながら、６８分間かけて滴下し、滴下完了
後、引き続き１時間撹拌保持して反応を完結させた。次
いで、氷水バスを取り去り、撹拌しながら室温まで昇温
し、引き続き１時間撹拌保持し、トリフェニルホスフィ
ンオキシドの微結晶を生成させた。次いで減圧濃縮し、
塩化メチレンと臭化水素を除去し、スラッジを得た。次
いで、熱ｎ−ヘキサン３，８５０ｍｌを加えて溶解した
後、冷却晶析し、白色針状結晶である大部分のトリフェ
ニルホスフィンオキシドを濾過により除去し、濾液を濃
縮しシロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶離液ｎ−ヘキサン）で精製
し、無色透明な液状の４−エトキシブチルブロミド［収
量７０．２ｇ（３８８ミリモル）収率８０％］を得た。

【０２１０】次いで、温度計、撹拌機、還流冷却器、滴
下ロートおよび窒素挿入コックを備えた窒素置換したフ
ラスコに、金属マグネシウム１０．９ｇ（４５６ミリモ
ル）と乾燥ジエチルエーテル７６ｍｌを入れ、次いでヨ
ウ素０．１ｇ（０．３８ミリモル）を入れた。混合液の
赤褐色が消失するまで撹拌した。次いで上述で得られた
４−エトキシブチルブロミド６．９ｇ（３８ミリモル）
を加え、還流するまで撹拌した。還流が生じたら、４−
エトキシブチルブロミド６１．９ｇ（３４２ミリモル）
と乾燥ジエチルエーテル１９０ｍｌを滴下ロートに入
れ、還流が持続するように滴下し、滴下完了後、１時間
還流し、反応を完結させた。次いで、フラスコより注射
器で反応液を取り出し、残りの未反応金属マグネシウム
の固体を乾燥エーテル１１４ｍｌで洗浄した洗浄液を反
応液に戻し、濃度０．８モル／リットルの４−エトキシ
ブチルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液３
８０ｍｌ［４−エトキシブチルマグネシウムブロミド
［収量６２．３ｇ（３０４ミリモル）収率８０％］であ
るグリニャール試薬を得た。

【０２１１】参考例３ ［（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロ
エチル−４−エトキシブチルケトンの製造］温度計、撹
拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた四ツ口丸底
フラスコに、参考例２で得られる０．８モル／ｌのグリ
ニャール試薬−１ ３７１ｍｌ［４−エトキシブチルマ
グネシウムブロミド６０．９ｇ（２９７ミリモル）、残
りジエチルエーテル］を入れ、氷水バスに浸漬し、０℃
に調整した。滴下ロートに参考例１で得られる（Ｓ）−
Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロ
ピオニル）ピロリジン２６．６ｇ（１３５ミリモル）に
ジエチルエーテル２００ｍｌを加えて溶解した溶液を入
れ、撹拌しながら、６０分間かけて滴下し、滴下完了
後、引き続き、２時間撹拌保持して反応を完結させ、反
応生成物溶液を得た。次いで氷水バスを取り去り、撹拌
しながら、室温まで昇温した。次いで、滴下ロートに３
規定塩酸１６０ｍｌを入れ、撹拌しながら、２３分間か
けて滴下した。３規定塩酸の滴下完了後、引き続き２０
分間撹拌保持することにより、加水分解反応を完結させ
た。

【０２１２】加水分解反応終了後、２０ ％炭酸水素ナト
リウム水溶液でｐＨ８に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール
＝９／１（容量比）］で精製し、無色透明な液状の生成
物［収量１８．５ｇ（８１ミリモル）収率６０％］を得
た。この生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹ＦＮＭＲス
ペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを
測定した結果は次の通りであり、１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお、後述の同定例７より
生成物は（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであることが
確認された。

【０２１３】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃） ０．９４〜１．０８ｐｐｍ（３Ｈ）、１．１８〜１．４
８ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６１〜２．８０ｐｐｍ（２
Ｈ）、３．２０〜３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．４６〜
３．７８ｐｐｍ（１Ｈ）、４．２１〜４．３１ｐｐｍ
（１Ｈ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ₃Ｃ
ＯＯＨ） −４．６６ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル １，１２０ｃｍ^-1（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ^-1（Ｃ
Ｏ）、３，２８０ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２２８（Ｍ⁺） また、¹ＨＮＭＲスペクトル図を図２３に示した。

【０２１４】（同定例７）［生成物が（Ｓ）−１−ヒド
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキ
シブチルケトンであることの同定］ （Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジンの替りに、Ｎ−（２−ヒ
ドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオニル）ピ
ロリジンを用い、上述の実験の１／１０スケールにし
て、上述と同様な処理を行い、無色透明な液状の生成物
Ａ［収量１．８５ｇ（８．１ミリモル）収率６０％］を
得た。この生成物Ａの各種スペクトルを測定した結果は
上と同様であり、１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであった。

【０２１５】この生成物Ａを次の条件で、光学異性体分
離用カラムを有するガスクロマトグラフィー（以下、光
学活性ガスクロマトグラフィーという。）にかけた。 カラム ：商品名 ＣＨＩＲＡＬＤＥＸ，Ｂ−ＴＡ（ＡＳＴＥＣ社製） 内径０．２５ｍｍ、長さ１０ｍ、シリカキャピラリーカラ ム カラム温度 ：１００℃×１０分保持した後、昇温速度４℃／ｍｉｎで ２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量 ７０Ｎｌ／ｍｉｎ、スプリット比 １００／１ 検出 ：ＦＩＤ 光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図２４の
通りであり、図２４の解析結果より、２本の光学活性ピ
ークが得られ、それらのピークの保持時間と面積比を求
めると次の通り 第１ピーク：保持時間３４．６７分、面積比１ （Ｓ）
体 ☆１ 第２ピーク：保持時間３７．６７分、面積比１ （Ｒ）
体 ☆１ （☆１ 本同定例で確認） したがって、生成物Ａは１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンの鏡像
異性体混合物であった。

【０２１６】次いで、上述で得た生成物を上と同様な条
件で、光学活性ガスクロマトグラフィーにかけた。光学
活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図２５の通り
であり、図２５より１本の光学活性ピークが得られ、そ
の保持時間は３４．６７分であった。（Ｓ）−Ｎ−（２
−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオニ
ル）ピロリジンのＮ−ピロリジニル基をグリニャール試
薬−１中の４−エトキシブチル基に置換することによ
り、生成物が得られる。したがって２位の不斉炭素原子
の立体配置には無関係であり、反応前後では光学的反転
が起こらないことより、（Ｓ）配置であることが確認さ
れた。よって、生成物の光学活性ガスクロマトグラフィ
ーの保持時間３４．６７分は（Ｓ）体であることが判明
し、生成物は（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−ト
リフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであるこ
とが確認された。なお生成物Ａの光学活性ガスクロマト
グラフィーの第２ピークの保持時間３７．６７分は
（Ｒ）体であることが判明した。

【０２１７】

【発明の効果】本発明によって提供される、光学不活性
および光学活性な１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチル末端エトキシアルキルケトンは、反強誘電
性液晶化合物の中間原料として、あるいは医薬、農薬等
に用いられる化合物に種々の官能基を導入できるビルデ
ィングブロック剤として有用である。本発明において
は、また、光学不活性な１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル末端エトキシアルキルケトンの製造
方法、およびそれを光学分割して光学活性な１−ヒドロ
キシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキシア
ルキルケトンを製造する方法であって、長期間の操業安
定性に富み、分割効率が高い工業的分割方法が提供され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１（第一段〜第二段反応）で得られた１
−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−
エトキシブチルケトンの¹ＨＮＭＲスペクトル図であ
る。

【図２】実施例２の第三段反応で得られた（２Ｓ）−２
−［（２´Ｓ）−２´−アセトキシプロピオニルオキ
シ］−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ノン−３および（２Ｒ）−２−［（２´Ｓ）−２´−ア
セトキシプロピオニルオキシ］−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタノン−３からなる生成比率
１／１（面積比）のジアステレオマー混合物の¹ＨＮＭ
Ｒスペクトル図である。

【図３】実施例２の同定例１で得られた（Ｓ）体標品−
１である（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチル−４−エトキシブチルケトンの光学活性ガ
スクロマトグラフィーのチャートである。

【図４】実施例１で得られた１−ヒドロキシ−２，２，
２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンの
鏡像異性体混合物の光学活性ガスクロマトグラフィーの
チャートである。

【図５】実施例２の第五段反応で得られた生成物−１で
ある（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオ
ロエチル−４−エトキシブチルケトンの光学活性ガスク
ロマトグラフィーのチャートである。

【図６】実施例２の第五段反応で得られた生成物−２で
ある（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオ
ロエチル−４−エトキシブチルケトンの光学活性ガスク
ロマトグラフィーのチャートである。

【図７】実施例３の第六段反応で得られた生成物である
７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−
２，３−ジオールの¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図８】実施例３の第六段反応の同定例２で得られたジ
オール誘導体−１−１である、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３
Ｓ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｓ）−
７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−
２，３−ジオールからなり、その生成比率ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／
１２（面積比）のジアステレオマー混合物の光学活性ガ
スクロマトグラフィーのチャートである。

【図９】実施例３の第六段反応の同定例２で得られた反
応生成物である、ｃｉｓ−２，２−ジメチル−４−（４
´−エトキシブチル）−５−トリフルオロメチル−１，
３−ジオキソランおよびｔｒａｎｓ−２，２−ジメチル
−４−（４´−エトキシブチル）−５−トリフルオロメ
チル−１，３−ジオキソランからなり、その生成比率ｃ
ｉｓ体／ｔｒａｎｓ体＝８８／１２（面積比）のジアス
テレオマー混合物の¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図１０】実施例３の第七段反応の第三段工程で得られ
たジアステレオマー混合物−１−１である７−エトキシ
−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタンの¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図１１】実施例３の第七段反応の第三段工程の同定例
３で得られたジアステレオマー混合物−１−１である、
ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−
ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタンからなり、その生成比率ａｎｔｉ体（２Ｓ，３
Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２（面積
比）のジアステレオマー混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。

【図１２】実施例３の第八段反応で得られた第二フラク
ションからの生成物であるａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−
７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンの光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。

【図１３】実施例３の第八段反応で得られた第一フラク
ションからの生成物であるｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７
−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンの光学活性ガスクロマトグラ
フィーのチャートである。

【図１４】実施例４の第六段反応の同定例４で得られた
ジオール誘導体−２−１であるａｎｔｉ−（２Ｒ，３
Ｒ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−
７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−
２，３−ジオールからなり、その生成比率ａｎｔｉ体
（２Ｒ，３Ｒ）型／ｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型＝５５／
４５（面積比）のジアステレオマー混合物の光学活性ガ
スクロマトグラフィーのチャートである。

【図１５】実施例４の第六段反応の同定例４で得られた
反応生成物であるｃｉｓ−２，２−ジメチル−４−（４
´−エトキシブチル）−５−トリフルオロメチル−１，
３−ジオキソランおよびｔｒａｎｓ−２，２−ジメチル
−４−（４´−エトキシブチル）−５−トリフルオロメ
チル−１，３−ジオキソランからなり、その生成比率ｃ
ｉｓ体／ｔｒａｎｓ体＝５５／４５（面積比）のジアス
テレオマー混合物の¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図１６】実施例４の第七段反応の第三段工程の同定例
５で得られたジアステレオマー混合物−２であるａｎｔ
ｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−７−エトキシ−２−ヒドロキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンおよ
びｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−７−エトキシ−２−ヒドロ
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンからなり、その生成比率ａｎｔｉ体（２Ｒ，３Ｒ）型
／ｓｙｎ体（２Ｒ，３Ｓ）型＝５５／４５（面積比）の
ジアステレオマー混合物の光学活性ガスクロマトグラフ
ィー図である。

【図１７】実施例４の第八段反応で得られた第二フラク
ションからの生成物であるａｎｔｉ−（２Ｒ，３Ｒ）−
７−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンの光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。

【図１８】実施例４の第八段反応で得られた第一フラク
ションからの生成物であるｓｙｎ−（２Ｒ，３Ｓ）−７
−エトキシ−２−ヒドロキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンの光学活性ガスクロマトグラ
フィーのチャートである。

【図１９】実施例５の第十段反応で得られたヒドロキシ
ベンゾイルオキシヘプタンである２−（４´−ヒドロキ
シベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンの¹ＨＮＭＲスペク
トル図である。

【図２０】実施例５の第十段反応の同定例６で得られた
ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４´−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンの光学活性液体クロマト
グラフィーのチャートである。

【図２１】実施例５の第十一段反応で得られた最終有用
化合物であるａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´−
｛４´´−（４´´´−ｎ−デシルオキシ−３´´´−
フルオロフェニル）ベンゾイルオキシ｝ベンゾイルオキ
シ］−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンの¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図２２】実施例６である、最終有用化合物の有用性を
示す試験例において、実施例５で得られたａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−２−［４´−｛４´´−（４´´´−
ｎ−デシルオキシ−３´´´−フルオロフェニル）ベン
ゾイルオキシ｝ベンゾイルオキシ］−７−エトキシ−３
−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンを用い
た液晶表示素子のダブルヒステリシス曲線である。

【図２３】参考例３で得られた１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケト
ンの¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図２４】参考例３中の同定例７で得られた１−ヒドロ
キシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシ
ブチルケトンの鏡像異性体混合物の光学活性ガスクロマ
トグラフィーのチャートである。

【図２５】参考例３中の同定例７で得られた（Ｓ）−１
−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−
エトキシブチルケトンの光学活性ガスクロマトグラフィ
ーのチャートである。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式 【化１】 （式中、ｍは３〜６の整数を表わす）で示される１−ヒ
   ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキ
   シアルキルケトン。
2. 【請求項２】 有機溶媒中で、２−ヒドロキシ−３，
   ３，３−トリフルオロプロピオニトリルと式 【化２】 （式中、ｍは請求項１におけると同義である）で示され
   る末端エトキシアルキルマグネシウム＝ブロミドとを反
   応させ、次いで、反応生成物を鉱酸で加水分解すること
   を特徴とする請求項１記載の１−ヒドロキシ−２，２，
   ２−トリフルオロエチル末端エトキシアルキルケトンの
   製造方法。
3. 【請求項３】 式 【化３】 （式中、ｍは請求項１におけると同義である）で示され
   る（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロ
   エチル末端エトキシアルキルケトン。
4. 【請求項４】 式 【化４】 （式中、ｍは請求項１におけると同義である）で示され
   る（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロ
   エチル末端エトキシアルキルケトン。
5. 【請求項５】 請求項１記載の鏡象異性体混合物とし
   ての１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル
   末端エトキシアルキルケトンと光学分割剤（Ｓ）−２−
   アセトキシプロピオニルクロリドとを反応させ、生成し
   たジアステレオマー混合物をシリカゲルカラムクロマト
   グラフィーで分取し、次いで、鉱酸で加水分解すること
   を特徴とする請求項３記載の（Ｓ）−１−ヒドロキシ−
   ２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキシアルキル
   ケトンおよび／または請求項４記載の（Ｒ）−１−ヒド
   ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキシ
   アルキルケトンの製造方法。