JPH095926A - 熱現像感光材料 - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
R2 は脂肪族炭化水素基又はアリール基等を置換基とし
て有するアリール、ピリジル又はキノリル基を表す。)
Description
し、特に感度低下や色調を悪化させることなく、カブリ
防止、感材保存性、画像保存性を向上させる技術に関す
る。
る熱現像感光材料は、例えば米国特許第3152904
号、3457075号、及びD.モーガン(Morgan) と
B.シェリー(Shely)による「熱によって処理される銀
システム(Thermally Processed Silver Systems) 」
(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアル
ズ(Imaging Processes and Materials )Neblette 第8
版、スタージ(Sturge) 、V.ウォールワース(Walwor
th) 、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、1969
年)に開示されている。このような熱現像感光材料は、
還元可能な銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量の光触
媒(例えばハロゲン化銀)、銀の色調を制御する色調剤
及び還元剤を通常(有機)バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。熱現像感光材料は常温で
安定であるが、露光後高温(例えば、80℃以上)に加
熱した場合に還元可能な銀源(酸化剤として機能する)
と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。
この酸化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によ
って促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし、画像の形成がなされる。
ぶり防止剤は水銀イオンであった。感光材料中にかぶり
防止剤として水銀化合物を使用することについては、例
えば米国特許第3589903号に開示されている。し
かし、水銀化合物は環境的に好ましくない。また非水銀
かぶり防止剤は、米国特許第3874946号及び47
56999号に開示されているような化合物、−C(X
1 )(X2 )(X3 )(ここでX1 及びX2 はハロゲン
(例えば、F、Cl、Br及びI)でX3 は水素又はハ
ロゲン)で表される1以上の置換基を備えたヘテロ環状
化合物であるがこれらはそのまま使用すると銀の色調を
著しく悪化させたり、感度低下を引き起こすなどの問題
があり、改善が必要であった。更に該感光材料を積層し
た形で過加湿・加温の強制条件下に経時した後、露光・
現像すると未露光部におけるかぶりが上昇するといった
問題があり、これら問題のないかぶり防止剤の開発が望
まれていた。
下や色調を悪化させることなく、カブリが低く、感材保
存性、画像保存性を改良した熱現像感光材料を提供する
ことにある。
により達成できた。 (1)下記一般式(I)で表される化合物を少なくとも
一種含有する熱現像感光材料。 一般式(I)
たはキノリル基を表す。R2 は、脂肪族炭化水素基、ア
リール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカ
ルボニルアミノ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、
カルバモイル基、スルホニルアミノ基、リン酸アミド
基、スルファモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、チオカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ウレイド基、チオウレイド基、チオアミド基、ヒド
ロキシ基、メルカプト基、スルホ基、ホスホノ基、ヒド
ロキサム酸基及びヘテロ環基の中から選ばれる少なくと
も一つの置換基を有する、アリール基、ピリジル基また
はキノリル基を表す。)
を少なくとも1種と、下記一般式(II)で表される化合
物を少なくとも一種含有する熱現像感光材料。 一般式(II)
を表す。X1 およびX2 はそれぞれハロゲン原子を表
す。Yは−C(=O)−、−SO−または−SO2 −を
表す。Aは、水素原子、ハロゲン原子または電子吸引性
基を表す。nは、0または1を表す。)
徴とする上記(1)又は(2)の熱現像感光材料。
に説明する。R1 およびR2 で表されるアリール基とし
ては、好ましくは炭素数6〜30のものであり、より好
ましくは炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基
であり、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、特に
好ましくはフェニルである。
キノリル基は置換基を有してもよく、置換基としては、
例えばアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好
ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8
のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、iso−
プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシ
ル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル
基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数
2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルケニル基
であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペ
ンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好まし
くは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、
特に好ましくは炭素数2〜8のアルキニル基であり、例
えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられ
る。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より
好ましくは炭素6〜20、特に好ましくは炭素数6〜1
2のアリール基であり、例えばフェニル、p−メチルフ
ェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、アミノ基(好
ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜1
0、特に好ましくは炭素数0〜6のアミノ基であり、例
えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、アル
コキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは
炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8のアルコ
キシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシな
どが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭
素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好
ましくは炭素数6〜12のアリールオキシ基であり、例
えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げら
れる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より
好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜
12のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、
ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキ
シカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ま
しくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12
のアルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、ア
リールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜2
0、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭
素数7〜10のアリールオキシカルボニル基であり、例
えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、
アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ま
しくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10
のアシルオキシ基であり、例えばアセトキシ、ベンゾイ
ルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ま
しくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素2〜16、
特に好ましくは炭素数2〜10のアシルアミノ基であ
り、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙
げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好まし
くは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、
特に好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニル
アミノ基であり、例えばメトキシカルボニルアミノなど
が挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基
(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7
〜16、特に好ましくは炭素数7〜12のアリールオキ
シカルボニルアミノ基であり、例えばフェニルオキシカ
ルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミ
ノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素
1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルホニル
アミノ基であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベン
ゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファ
モイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは
炭素0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12のスルフ
ァモイル基であり、例えばスルファモイル、メチルスル
ファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルフ
ァモイルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素1〜16、
特に好ましくは炭素数1〜12のカルバモイル基であ
り、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチ
ルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられ
る。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、
より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数
1〜12のアルキルチオ基であり、例えばメチルチオ、
エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好
ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素6〜1
6、特に好ましくは炭素数6〜12のアリールチオ基で
あり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、スル
ホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは
炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスル
ホニル基であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられ
る。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、
より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数
1〜12のスルフィニル基であり、例えばメタンスルフ
ィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、
ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましく
は炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のウ
レイド基であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フ
ェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のリン酸アミド
基であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン
酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカ
プト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボ
キシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ
基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基(例えばイミダゾリル、
ピリジル、フリル、ピペリジル、モルホリノなどが挙げ
られる。)などが挙げられる。これらの置換基は更に置
換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、
同じでも異なってもよい。
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシ
ルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリール
オキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スル
ファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド
基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ス
ルホ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ
基、ヘテロ環基であり、より好ましくはアルコキシ基、
アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、
アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン
酸アミド基、ヘテロ環基であり、更に好ましくはアルコ
キシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、スルホニ
ルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレ
イド基、リン酸アミド基であり、特に好ましくはアシル
アミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基、ウレイド基である。
ル基、ピリジル基、キノリル基であり、より好ましくは
フェニル基、ナフチル基であり、更に好ましくはフェニ
ル基であり、特に好ましくはアシルアミノ基、スルホニ
ルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基及びウ
レイド基から選ばれた置換基で置換されたフェニル基で
ある。
キノリル基の置換基について説明する。脂肪族炭化水素
基は、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好
ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8
のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、iso−
プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシ
ル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル
基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数
2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルケニル基
であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペ
ンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好まし
くは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、
特に好ましくは炭素数2〜8のアルキニル基であり、例
えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられ
る。)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜30、よ
り好ましくは炭素数7〜20、更に好ましくは炭素数7
〜12のアラルキル基であり、例えばベンジル、フェネ
チルなどが挙げられる。)であり、好ましくはアルケニ
ル基、アルキニル基である。アリール基、アミノ基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アシル
オキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニ
ルアミノ基、リン酸アミド基、スルファモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、チオカルボニル基、スル
ホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、チオウレイド
基、チオアミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、スル
ホ基、ホスホノ基、ヒドロキサム酸基及びヘテロ環基
は、R1 の置換基で説明した基と同義であり、また好ま
しい範囲も同様である。
置換基として挙げたもので置換されてもよい。
されたフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、キノリル
基であり、より好ましくは上記置換基で置換されたフェ
ニル基、ナフチル基であり、更に好ましくは上記置換基
で置換されたフェニル基であり、特に好ましくはアシル
アミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基及びウレイド基の中から選ばれた置換基で
置換されたフェニル基である。一般式(I)で表される
化合物のうち、好ましくは一般式(I−a)で表される
化合物である。 一般式(I−a)
と同義であり、また好ましい範囲も同様である。) 一般式(I)で表される化合物のうち、より好ましくは
一般式(I−b)で表される化合物である。 一般式(I−b)
ルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基または
ウレイド基を表し、mは1、2または3を表す。またフ
ェニル基はXの他にR1 の置換基として挙げたもので置
換されていてもよい。) Xで表されるアシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ス
ルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基は、一般
式(I)におけるR1 の置換基で説明したそれらの基と
同義であり、また好ましい範囲も同様である。Xとして
好ましくはアシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレ
イド基であり、より好ましくはスルホニルアミノ基であ
る。mが2または3のとき、Xは同一または互いに異な
ってもよい。mとして好ましくは、1または2であり、
より好ましくは1である。
ち、より好ましくはXがジスルフィド基に対してオルト
位又はパラ位に置換された化合物である。一般式(I)
で表される化合物のうち、更に好ましくは一般式(I−
c)又は(I−d)で表される化合物である。 一般式(I−c)
炭化水素基、アリール基又はヘテロ環基を表す。Rc2及
びRd2は、それぞれ水素原子、脂肪族炭化水素基、アリ
ール基又はヘテロ環基を表す。また一般式(I−c)、
(I−d)におけるフェニル基は、−N(RC2)SO2
RC1、−N(Rd2)SO2 Rd1で表される基の他に、置
換されていてもよい。)RC1、Rd1として好ましくは脂
肪族炭化水素基、アリール基であり、より好ましくは炭
素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のフェニル
基であり、更に好ましくは炭素数4〜16のアルキル
基、炭素数6〜16のフェニル基であり、特に好ましく
は、炭素数6〜14のアルキル基、炭素数6〜14のフ
ェニル基である。RC2、Rd2として好ましくは、水素原
子、脂肪族炭化水素基であり、より好ましくは水素原
子、アルキル基であり、更に好ましくは水素原子、炭素
数1〜6のアルキル基であり、特に好ましくは水素原
子、メチル基である。
ェニル基の−N(Rd2)SO2 Rd1、−N(Re2)SO
2 Re1以外の置換基として好ましくは、脂肪族炭化水素
基であり、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基で
あり、更に好ましくはメチル基である。以下に一般式
(I)で表される化合物の具体例を挙げるが本発明はこ
れらに限定されるものではない。
してもよい。本発明の一般式(I)で表される化合物
は、例えば、新実験化学講座(日本化学会編、丸善)1
4−III 、8章8.4あるいは、ORANIC FUNCTIONAL GR
OUP PREPARATIONS(Sandler,Karo , ACADEMIC PRESS Ne
w York and London )I-Chapt.18に記載のある様な種々
の方法によって合成することが可能である。それらの合
成法を大別すると以下の様になる。 (1)対応するメルカプタンの酸化による方法 (2)対応するアルキル(アリール)ハライドと多硫化
アルカリ金属塩との求核置換による方法 (3)対応するアニリン誘導体をジアジニウム塩に変換
した後に多硫化アルカリ金属塩との求核置換反応させる
方法
とは、アルキル、アリールメルカプタン共に特に制限さ
れる事項はなく、酸化手段としては、空気酸化(酸素酸
化)、ジメチルスルホキシド酸化、過酸化水素酸化、次
亜塩素酸酸化などが挙げられる。これらの方法を行う
際、反応系中をアルカリ性にすることにより反応を加速
できる。また、銅、鉄などの金属触媒を添加することに
よっても反応を加速することができる事が知られてい
る。
ルハライドとは、その分子内に求核攻撃を受けやすい官
能基(例えば、ケトン、アルデヒド、エノンなど)を持
たないものが好ましく、またアルキルハライドの級数は
1級が最も反応性が高く、2級、3級の順に反応性が低
下するので級数が低いもの程好ましい。(2)の方法で
用いることができるアリールハライドとは、一般的に電
子吸引的な性格を有する物が好ましく、ベンゼン環型ハ
ライドでは更にハロゲン、ニトロなどの置換基を持つも
のが反応性が高く効率的に目的物を得ることができる点
で好ましい。芳香環内にヘテロ原子を有するヘテロ芳香
族ハライドの場合には、ベンゼン環に比べて電子吸引的
であるため特に電子吸引性基をヘテロ芳香環内に持たな
くても目的物が得られることが多い。また、アルキルハ
ライドの場合と同様、これらのアリールハライドも分子
内に求核攻撃を受けやすい官能基(例えば、ケトン、ア
ルデヒド、エノンなど)を持たないものが好ましい。
ン誘導体とは、特に制限される事項はないが、ジアゾニ
ウム塩を形成させ、水性条件下に多硫化アルカリ金属塩
と反応させる都合上、アニリン誘導体の塩、および形成
されるジアゾニウム塩が水溶性となるものが好ましい。
水溶性が比較的低く、ジアゾニウム塩が効率的に生成し
ないアニリン誘導体を用いる場合には溶媒としてアルコ
ール類を水に混合して用いることも可能である。また、
ジアゾニウム塩形成の際に用いる酸としては、塩酸、硫
酸が一般的であるが、形成された塩の安定性を上げる目
的からホウ弗化水素酸を用いる事もある。
成法としては、新実験化学講座(日本化学会編、丸善)
14−III 、8章8.1、ORANIC FUNCTIONAL GROUP PR
EPARATIONS(Sandler,Karo , ACADEMIC PRESS New York
and London )I-Chapt.18あるいはTHE CHEMISTRY OF F
UNCTINONAL GROUPS (Patai , JONE WILLY & SONS)"
The Chemistry of the thiol group"−Chapt.4 に記載
のある様な種々の方法によって合成することが可能であ
る。
物の代表的合成例を以下に示す。 合成例 化合物I−3の合成 4,4’−ジチオジアニリン5.00g(0.020モ
ル)をアセトニトリル40mlに溶解し、窒素雰囲気
下、0℃以下に冷却し、攪拌しながらトリエチルアミン
4.45g(0.044モル)を加え、更にベンゾイル
クロリド6.19g(0.044モル)を反応液が5℃
を越えないように滴下した。5℃以下で20分攪拌した
後、室温にて更に1時間攪拌した。反応液を水にあけ、
析出した固体を濾取し、ジメチルホルムアミド/メタノ
ールにて再結晶することによって目的化合物I−3を
6.80g(0.0149モル)得た。 収率74.5
%融点 260℃以上
アセトニトリル250mlに溶解し、窒素雰囲気下に攪
拌しながらピリジン15.6ml(0.2モル)を加
え、更にアセチルクロライド20.4g(0.2モル)
をゆっくりと滴下した。室温で2時間攪拌したところ、
目的物が析出してきたのでアセトニトリル150mlを
加えて加熱、溶解させた後に氷冷、再結晶を行った。析
出物をろ取し、目的化合物I−4を28.0g(0.0
84モル)得た。収率84.2%融点 167−168
℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更にペンタフルオロベンゾ
イルクロライド9.2g(0.040モル)を反応液が
15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌し
ながら徐々に室温まで上昇させたところ、目的物が析出
した。析出物をろ取し、ジメチルホルムアミド/イソプ
ロピルアルコールにて再結晶することによって目的化合
物I−16を10.5g(0.016モル)得た。収率8
2.7% 融点 218−219℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.4ml
(0.044モル)を加え、更にベンゼンスルホニルク
ロライド7.4g(0.042モル)を反応液が10℃
を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しながら
徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間反応させた。
反応液を水にあけ、酢酸エチル250mlを加えて抽出
した。抽出液を乾燥濃縮後、シリカゲルクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/ヘキサン=1/1)にて原点成分を
除去、精製することによって目的化合物I−45を9.
3g(0.017モル)得た。収率87.7% 融点
166−167℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.4ml
(0.044モル)を加え、更にベンゼンスルホニルク
ロライド7.4g(0.042モル)を反応液が15℃
を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しながら
徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間反応させた。
反応液を水にあけ、析出した固体をろ取し、酢酸エチル
/イソプロピルアルコールにて再結晶することによって
目的化合物I−46を8.4g(0.016モル)得
た。収率79.0% 融点 148−149℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更にジフェニルリン酸クロ
ライド10.7g(0.040モル)を反応液が15℃
を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しながら
徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間反応させた。
反応液を水にあけ、析出した固体をろ取し、ジメチルホ
ルムアミド/イソプロピルアルコールにて再結晶するこ
とによって目的化合物I−48を8.9g(0.012
モル)得た。収率62.2% 融点 183−185
℃
ル)をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気
下、5℃以下に冷却し、攪拌しながらフェニルイソシア
ネート7.14g(0.060モル)を反応液が15℃
を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しながら
徐々に室温まで上昇させたところ、目的物が析出した。
析出物をろ取し、アセトニトリルにて洗浄目的化合物I
−56を13.6g(0.028モル)得た。収率93.
0% 融点 209−211℃
ル)をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気
下、5℃以下に冷却し、攪拌しながらフェニルイソシア
ネート7.14g(0.060モル)を反応液が15℃
を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しながら
徐々に室温まで上昇させたところ、目的物が析出した。
析出物をろ取し、アセトニトリルにて洗浄することによ
って目的化合物I−105 を14.0g(0.029モ
ル)得た。収率95.9% 融点 250℃以上
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更にペンタフルオロプロピ
オン酸無水物12.4g(0.040モル)を反応液が
15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌し
ながら徐々に室温まで上昇させたところ、目的物が析出
した。析出物をろ取し、酢酸エチル/エチルアルコール
にて再結晶することによって目的化合物I−81を4.6
g(0.0085モル)得た。収率42.6% 融点
210−211℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更にペンタフルオロプロピ
オン酸無水物12.4g(0.040モル)を反応液が
15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌し
ながら徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間反応さ
せた。反応液を水にあけ、析出した固体をろ取し、エチ
ルアルコール/水にて再結晶することによって目的化合
物I−83を6.0g(0.011モル)得た。収率5
6.0%融点 97−97.5℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更にペンタフルオロベンゾ
イルクロライド9.2g(0.040モル)を反応液が
15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌し
ながら徐々に室温まで上昇させたところ、目的物が析出
した。析出物をろ取し、ジメチルホルムアミド/イソプ
ロピルアルコールにて再結晶することによって目的化合
物I−84を8.2g(0.013モル)得た。収率6
4.6%融点 236−238℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更に1−ナフタレンスルホ
ニルクロライド9.1g(0.040モル)を反応液が
15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌し
ながら徐々に室温まで上昇させたところ、目的物が析出
した。析出物をろ取し、ジメチルホルムアミド/イソプ
ロピルアルコールにて再結晶することによって目的化合
物I−85を5.4g(0.0086モル)得た。収率4
2.8% 融点 220−222℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更に2−ナフタレンスルホ
ニルクロライド9.1g(0.040モル)を反応液が
15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌し
ながら徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間反応さ
せた。反応液を水にあけ析出した固体をろ取し、ジメチ
ルホルムアミド/イソプロピルアルコールにて再結晶す
ることによって目的化合物I−86を8.3g(0.01
3モル)得た。収率65.9% 融点 171−17
2℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更にp−トルエンスルホニ
ルクロライド7.6g(0.040モル)を反応液が1
5℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しな
がら徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間反応させ
た。反応液を水にあけ、酢酸エチル250mlを加えて
抽出した。抽出液を乾燥、濃縮すると目的物が析出し
た。析出物をろ取し、酢酸エチル/ヘキサンにて再結晶
することによって目的化合物I−87を9.0g(0.0
16モル)得た。収率80.8%融点 164−166
℃
をアセトニトリル100mlに溶解し、窒素雰囲気下、
5℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更にp−メトキシベンゼン
スルホニルクロライド8.3g(0.040モル)を反
応液が15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、
攪拌しながら徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間
反応させた。反応液を水にあけ、酢酸エチル250ml
を加えて抽出した。抽出液を乾燥濃縮し、得られたオイ
ル状生成物を酢酸エチルに溶解させた後、ヘキサンを加
えて晶析させることによって目的化合物I−88を6.8
g(0.012モル)得た。収率58.0% 融点 1
31−132℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更に2,4,5−トリクロ
ロベンゼンスルホニルクロライド11.2g(0.04
0モル)を反応液が15℃を越えないように滴下した。
滴下終了後、攪拌しながら徐々に室温まで上昇させ、そ
のまま2時間反応させた。反応液を水にあけ析出した固
体をろ取し、ジメチルホルムアミド/イソプロピルアル
コールにて再結晶することによって目的化合物I−89を
9.9g(0.013モル)得た。収率67.3% 融
点 228−229℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更に2−メシチレンスルホ
ニルクロライド8.7g(0.040モル)を反応液が
15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌し
ながら徐々に室温まで上昇させ、一晩放置したところ、
目的物が析出した。析出物をろ取し、酢酸エチル/イソ
プロピルアルコールにて再結晶することによって目的化
合物I−90を8.2g(0.013モル)得た。収率6
6.7% 融点 140−141℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更に2−ナフタレンカルボ
ン酸クロライド7.6g(0.040モル)を反応液が
15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌し
ながら徐々に室温まで上昇させ、2時間反応させたとこ
ろ、目的物が析出した。析出物にアセトニトリル50m
lを加えて加熱、溶解させた後に氷冷、再結晶を行っ
た。析出物をろ取し、目的化合物I−91を10.6g
(0.019モル)得た。収率95.5% 融点 1
78−179℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン3.1ml
(0.040モル)を加え、更にジフェニルリン酸クロ
ライド10.7g(0.040モル)を反応液が15℃
を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しながら
徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間反応させたと
ころ、目的物が析出した。析出物にアセトニトリル50
mlを加えて加熱、溶解させた後に氷冷、再結晶を行っ
た。析出物をろ取し、目的化合物I−92を4.6g
(0.0065モル)得た。収率32.2% 融点
121−123℃
ニル)ジスルフィドの合成水酸化カリウム50gにエチ
レングリコール100mlを加え、90℃に加熱溶解さ
せた後に2−アミノ−6−クロロベンゾチアゾール1
0.3g(0.056モル)をアルカリ溶液に添加し
た。反応液を165℃に加熱し、24時間反応させた。
反応液を室温まで放冷し水1.5lを加えて希釈した後
に空気を24時間通じ酸化を行った。沈澱物をろ別した
後に塩酸を加えてpHを6〜7に調整し析出した固体を
ろ取し、エチルアルコール/水にて再結晶することで目
的物を5.6g(0.018モル)得た。収率63%
ル)ジスルフィド2g(0.0063モル)をアセトニ
トリル25mlに溶解し、窒素雰囲気下、5℃以下に冷
却し、攪拌しながらピリジン1ml(0.013モル)
を加え、更にベンゾイルクロライド1.8g(0.01
28モル)を反応液が15℃を越えないように滴下し
た。滴下終了後、攪拌しながら徐々に室温まで上昇させ
たところ、目的物が析出した。析出物をろ取し、ジメチ
ルホルムアミド/エチルアルコールにて再結晶すること
によって目的化合物I−93を3.3g(0.0063モ
ル)得た。収率99.7% 融点 192−193℃
−ジクロロジフェニル)ジスルフィド2g(0.006
3モル)をアセトニトリル25mlに溶解し、窒素雰囲
気下、5℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン1ml
(0.013モル)を加え、更にベンゼンスルホニルク
ロライド2.2g(0.0125モル)を反応液が15
℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しなが
ら徐々に室温まで上昇させ、そのまま一晩放置したとこ
ろ、目的物が析出した。析出物をろ取し、酢酸エチル/
メチルアルコールにて再結晶することによって目的化合
物I−94を1.2g(0.0020モル)得た。収率3
1.8% 融点 175−178℃
ニル)ジスルフィドの合成 水酸化カリウム50gにエチレングリコール100ml
を加え、90℃に加熱溶解させた後に2−アミノ−6−
メチルベンゾチアゾール10.0g(0.061モル)
をアルカリ溶液に添加した。反応液を165℃に加熱
し、24時間反応させた。反応液を室温まで放冷し水
1.5lを加えて希釈した後に空気を24時間通じ酸化
を行った。析出物をろ別し目的物を4.1g(0.01
5モル)得た。収率49%
ル)ジスルフィド2g(0.0072モル)をアセトニ
トリル25mlに溶解し、窒素雰囲気下、5℃以下に冷
却し、攪拌しながらピリジン1.1ml(0.0144
モル)を加え、更にベンゾイルクロライド2.0g
(0.0144モル)を反応液が15℃を越えないよう
に滴下した。滴下終了後、攪拌しながら徐々に室温まで
上昇させたところ、目的物が析出した。析出物をろ取
し、ジメチルホルムアミド/エチルアルコールにて再結
晶することによって目的化合物I−95を3.0g(0.
0062モル)得た。収率86.0% 融点 158
−159℃
−ジメチルジフェニル)ジスルフィド2g(0.007
2モル)をアセトニトリル25mlに溶解し、窒素雰囲
気下、5℃以下に冷却し、攪拌しながらピリジン1.1
ml(0.0144モル)を加え、更にベンゼンスルホ
ニルクロライド2.5g(0.0144モル)を反応液
が15℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌
しながら徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間反応
させた。反応液を水にあけ、析出した固体をろ取し、ジ
メチルホルムアミド/エチルアルコールにて再結晶する
ことによって目的化合物I−96を3.6g(0.006
5モル)得た。収率89.8% 融点 164−16
5℃
をトルエン100mlに懸濁し、攪拌下にピリジン1m
l、塩化チオニル4.8ml(0.066モル)を加え
た。反応液を80℃に加熱し3時間反応させた後に反応
系内を減圧にしてトルエンを留去し乾固させた。得られ
た固形物を放冷後、アセトニトリル50ml、テトラヒ
ドロフラン50mlを加えて溶解させ、そこにアニリン
6.6g(0.060モル)とピリジン4.7ml
(0.060モル)のアセトニトリル溶液(50ml)
を滴下した。室温で3時間反応させた後、反応液を水に
あけ、析出した固体をジメチルホルムアミド/エチルア
ルコールにて再結晶することによって目的物I−97を1
0.8g得た。収率78.8% 融点 239−242
℃。
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながら1−ナフタレンイソシア
ネート12.4g(0.0735モル)を反応液が15
℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しなが
ら徐々に室温まで上昇させ、そのまま一晩放置したとこ
ろ、目的物が析出した。析出物をろ取し、アセトニトリ
ルにて洗浄目的化合物I−98を18.2g(0.031
モル)得た。収率88.8% 融点 220−224℃
をアセトニトリル50mlに溶解し、窒素雰囲気下、5
℃以下に冷却し、攪拌しながら1−ナフタレンイソシア
ネート12.4g(0.0735モル)を反応液が15
℃を越えないように滴下した。滴下終了後、攪拌しなが
ら徐々に室温まで上昇させ、そのまま2時間反応させた
ところ、目的物が析出した。析出物をろ取し、アセトニ
トリルにて洗浄目的化合物I−99を18.8g(0.0
32モル)得た。収率91.7%融点 256−259
℃
て詳細に説明する。Qで表されるアリール基としては、
好ましくは炭素数6〜30のものであり、より好ましく
は炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であ
り、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、特に好ま
しくはフェニルである。Qで表されるヘテロ環基は、炭
素数1〜30で、N、OまたはS原子の少なくとも一つ
を含む3ないし10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環
基であり、これらは単環であってもよいし、更に他の環
と縮合環を形成してもよい。
員の芳香族ヘテロ環基であり、より好ましくは窒素原子
を含む5ないし6員の芳香族ヘテロ環基であり、更に好
ましくは窒素原子を1ないし3原子含む5ないし6員の
芳香族ヘテロ環基である。ヘテロ環の具体例としては、
例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォ
リン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、
ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリア
ゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリ
ン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フ
タラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、
シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリ
ン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾ
ール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベン
ズチアゾールなどが挙げられる。ヘテロ環として好まし
くは、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、
ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリア
ゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、チア
ジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジ
ン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノ
リン、プテリジン、テトラゾール、チアゾール、オキサ
ゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベ
ンズチアゾール、インドレニンであり、より好ましくは
ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラ
ジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インド
ール、インダゾール、チアジアゾール、オキサジアゾー
ル、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリ
ン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズ
イミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾー
ル、インドレニンであり、特に好ましくは、ピリジン、
トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、オキサジ
アゾール、キノリン、テトラゾール、チアゾール、オキ
サゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、
ベンズチアゾール、インドレニンである。
基である。
一または互いに異なってもよくフッ素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子であり、より好ましくは塩素原子、
臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
O2 −を表し、好ましくは−SO2−である。
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、好ましくは塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、より好ましくは
塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子で
ある。
は、σp 値が0.01以上1.0以下の置換基であり、
より好ましくは0.1以上1.0以下の置換基である。
電子吸引性基としては、例えばトリハロメチル基(CB
r3 (0.29)、CCl3(0.33)、CF
3 (0.54))、シアノ基(0.66)、ニトロ基
(0.78)、炭素数1〜10のスルホニル基(メタン
スルホニル(0.72))、炭素数2〜10のアシル基
(アセチル(0.50))、炭素数2〜10のアルキニ
ル基(C≡CH(0.23))、炭素数2〜10のアル
コキシカルボニル基(メトキシカルボニル(0.4
5))、炭素数7〜12のアリールオキシカルボニル基
(フェノキシカルボニル(0.44))、炭素数1〜1
0のカルバモイル基(カルバモイル(0.36))、炭
素数0〜10のスルファモイル基(スルファモイル
(0.57))などが挙げられ、好ましくはスルホニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基である。
より好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であ
り、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好
ましくは臭素原子である。nは、0または1を表し、好
ましくはYが−SO2 −の場合は1である。
ましくは下記一般式(II−a)で表される化合物であ
る。 一般式(II−a)
一般式(II)におけるそれらと同義であり、また好まし
い範囲も同様である。Q’は芳香族含窒素ヘテロ環基を
表す。)
して好ましくは、窒素原子を1ないし3原子含む5ない
し6員の芳香族ヘテロ環であり、例えばピロール、イミ
ダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジ
ン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾ
ール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キ
ノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キ
ナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェ
ナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾー
ル、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサ
ゾール、ベンズチアゾール、インドレニンなどが挙げら
れ、より好ましくはピリジン、トリアゾール、トリアジ
ン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、テ
トラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダ
ゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、イン
ドレニンである。
ましくは下記一般式(II−b)で表される化合物であ
る。 一般式(II−b)
(II)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲
も同様である。Q’は一般式(II−a)におけるそれと
同義であり、また好ましい範囲も同様である。X3 はハ
ロゲン原子を表す。)
くは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ま
しくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素
原子である。以下に一般式(II)で表される化合物の具
体例を挙げるが本発明はこれらに限定されるものではな
い。
してもよい。本発明の一般式(II)で表される化合物
は、例えば米国特許第3874946号、欧州特許公開
第605981号等に記載の方法に準じて合成できる。
該一般式(I)又は(II)で表わされる化合物は感光層
でも非感光層でも添加することができる。好ましくは感
光層である。該一般式(I)、(II)で表される化合物
とも所望の目的により異なるが10-4モル〜1モル/A
gモル、好ましくは10-3モル〜0.3モル/Agモル
添加すると良い。いずれの化合物も有機溶剤に溶かして
添加することが好ましい。
しさから、好ましくはモノシート型(画像形成するため
に供与した材料は全て観察される画像シートとして完成
される型)熱現像感光材料である。また、赤外レーザー
露光用熱現像感光材料であることが好ましい。さらに赤
外レーザー露光の波長が750nm以上、さらに好まし
くは800nm以上であるとよい。このような波長域の
レーザーに対応させるためには、これらの波長域、即
ち、赤外域に感度を有するように分光増感させる必要が
ある。赤外分光増感色素としては公知のものを用いれば
よい。
を用いて写真画像を形成するものである。このような熱
現像感光材料としては前述のとおり例えば米国特許第3
152904号、3457075号、及びD.モーガン
(Morgan) とB.シェリー(Shely)による「熱によって
処理される銀システム(Thermally Processed SilverSy
stems) 」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・
マテリアルズ(Imaging Processes and Materials )Neb
lette 第8版、スタージ(Sturge) 、V.ウォールワー
ス(Walworth) 、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、
1969年)等に開示されている。
用いて写真画像を形成するものであればよいが、還元可
能な銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例
えばハロゲン化銀)及び還元剤を通常(有機)バインダ
ーマトリックス中に分散した状態で含有している熱現像
感光材料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材
料は常温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃
以上)に加熱することで現像される。加熱することで還
元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元剤との間
の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反
応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促進され
る。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は
黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画
像の形成がなされる。
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。感光層に通過す
る光の量または波長分布を制御するために感光層と同じ
側または反対側にフィルター層を形成しても良いし、感
光層に染料または顔料を含ませても良い。感光層は複数
層にしても良く、また階調の調節のため感度を高感層/
低感層または低感層/高感層にしても良い。各種の添加
剤は感光層、非感光層、またはその他の形成層のいすれ
に添加しても良い。
体には、例えば紙、ポリエチレンを被覆した紙、ポリプ
ロピレンを被覆した紙、羊皮紙、布等の材料;例えば、
アルミニウム、銅、マグネシウム、亜鉛のような金属の
シート又は薄膜;ガラス又は、クロム合金、スチール、
銀、金、白金のような金属で被覆したガラス;ポリ(ア
ルキルメタクリレート類)(例えば、ポリ(メチルメタ
クリレート))、ポリ(エステル類)(例えば、ポリ
(エチレンテレフタレート))、ポリ(ビニルアセター
ル類)、ポリ(アミド類)(例えば、ナイロン)、セル
ロースエステル類(例えば、セルロースニトレート、セ
ルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネ
ート、セルロースアセテートブチレート)等の合成ポリ
マー状材料がある。本発明の熱現像感光材料には例え
ば、界面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外
線吸収剤、被覆助剤等を用いても良い。
にそれぞれのバインダー層(例えば、合成ポリマー)は
自己支持フィルムを形成してもよい。支持体を、公知の
補助材料、例えば、塩化ビニリデン、アクリル酸モノマ
ー(例えば、アクリロニトリルやメチルアクリレート)
及び不飽和ジカルボン酸(例えば、イタコン酸、アクリ
ル酸)、カルボキシメチルセルロース、ポリ(アクリル
アミド)のコポリマー及びターポリマー;及び類似のポ
リマー状材料で補助的に被覆してもよい。
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば:
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリ
ドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポ
リ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン
酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)
類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポ
リ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ
(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ
(アミド)類がある。バインダーは水又は有機溶媒また
はエマルションから被覆形成してもよい。
調剤の例は調査報告第17029号に開示されており、
次のものがある:イミド類(例えば、フタルイミド);
環状イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリ
ノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピ
ラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾ
リン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイ
ミド類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタール
イミド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミ
ントリフルオロアセテート)、メルカプタン類(例え
ば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N
−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例
えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);
ブロックされたピラゾール類、イソチウロニウム(isot
hiuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ
(例えば、N,N’ヘキサメチレン(1−カルバモイル
−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−(3,6−
ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオ
ロアセテート)、及び2−(トリブロモメチルスルホニ
ル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロシアニン染
料(例えば、3−エチル−5−((3−エチル−2−ベ
ンゾチアゾリニリデン(benzothiazolinylidene)) −1
−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4−オキサゾリ
ジンジオン(oxazolidinedione));フタラジノン、フタ
ラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、
4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラ
ジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び
2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタ
ラジン;フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わ
せ(例えば、6−クロロフタラジノン+ベンゼンスルフ
ィン酸ナトリウム又は8−メチルフタラジノン+p−ト
ルエンスルフィン酸ナトリウム);フタラジン+フタル
酸の組み合わせ;フタラジン(フタラジンの付加物を含
む)とマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフ
タレンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びそ
の無水物(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4
−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)か
ら選択される少なくとも1つの化合物との組み合わせ;
キナゾリンジオン類、ベンズオキサジン、ナルトキサジ
ン誘導体;ベンズオキサジン−2,4−ジオン類(例え
ば、1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオン);ピ
リミジン類及び不斉−トリアジン類(例えば、2,4−
ジヒドロキシピリミジン)、及びテトラアザペンタレン
誘導体(例えば、3,6−ジメロカプト−1,4−ジフ
ェニル−1H、4H−2,3a,5,6a−テトラアザ
ペンタレン。好ましい色調剤としてはフタラゾンまたは
フタラジンである。:
えばフェニドン、ヒドロキノン類、カテコール等を含有
してもよいが、ヒンダードフェノールが好ましい。米国
特許第4460681号に開示されているようなカラー
感光材料も、本発明の実現では考えられる。
448号、3773512号、3593863号、及び
調査報告(Research Disclosure)第17029及び29
963に記載されており、次のものがある:アミノヒド
ロキシシクロアルケノン化合物(例えば、2−ヒドロキ
シ−ピペリジノ−2−シクロヘキセノン);現像剤の前
駆体としてアミノリダクトン類(reductones) エステル
(例えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモノアセテ
ート);N−ヒドロキシ尿素誘導体(例えば、N−p−
メチルフェニル−N−ヒドロキシ尿素);アルデヒド又
はケトンのヒドラゾン類(例えば、アントラセンアルデ
ヒドフェニルヒドラゾン);ホスファーアミドフェノー
ル類;ホスファーアミドアニリン類;ポリヒドロキシベ
ンゼン類(例えば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロ
キノン、イソプロピルヒドロキノン及び(2,5−ジヒ
ドロキシ−フェニル)メチルスルホン);スルフヒドロ
キサム酸類(例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム
酸);スルホンアミドアニリン類(例えば、4−(N−
メタンスルホンアミド)アニリン);2−テトラゾリル
チオヒドロキノン類(例えば、2−メチル−5−(1−
フェニル−5−テトラゾリルチオ)ヒドロキノン);テ
トラヒドロキノキサリン類(例えば、1,2,3,4−
テトラヒドロキノキサリン);アミドオキシン類;アジ
ン類(例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラザイド
類とアスコルビン酸の組み合わせ);ポリヒドロキシベ
ンゼンとヒドロキシルアミンの組み合わせ、リダクトン
及び/又はヒドラジン;ヒドロキサン酸類;アジン類と
スルホンアミドフェノール類の組み合わせ;α−シアノ
フェニル酢酸誘導体;ビス−β−ナフトールと1,3−
ジヒドロキシベンゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾ
ロン類;スルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニ
リンダン(phenylindane) −1,3−ジオン等;クロマ
ン;1,4−ジヒドロピリジン類(例えば、2,6−ジ
メトキシ−3,5−ジカルボエトキシ−1,4−ジヒド
ロピリジン);ビスフェノール類(例えば、ビス(2−
ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メ
タン、ビス(6−ヒドロキシ−m−トリ)メシトール
(mesitol)、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチ
ルフェニル)プロパン、4,4−エチリデン−ビス(2
−t−ブチル−6−メチル)フェノール)、紫外線感応
性アスコルビン酸誘導体及び3−ピラゾリドン類。好ま
しい還元剤は一般式(A)のヒンダードフェノールであ
る:
〜10のアルキル基(例えば、−C4 H9 、2,4,4
−トリメチルペンチル)を表し、R5 及びR6 は炭素原
子数1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t
−ブチル)を表す。
化銀は感光性のいかなるハロゲン化銀(例えば、臭化
銀、ヨウ化銀、銀化銀、塩臭化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ
臭化銀等)であってもよいがヨウ素イオンを含むことが
好ましい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像形成
層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元可
能な銀源に近接するように配置する。一般にハロゲン化
銀は還元可能銀源に対して0.75〜30重量%の量を
含有することが好ましい。ハロゲン化銀は、ハロゲンイ
オンとの反応による銀石鹸部の変換によって調製しても
よく、予備形成して石鹸の発生時にこれを添加してもよ
く、またはこれらの方法の組み合わせも可能である。後
者が好ましい。
含有するいかなる材料でもよい。有機及びヘテロ有機酸
の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは15〜25
の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸が好ましい。配位子
が、4.0〜10.0の銀イオンに対する総安定定数を
有する有機又は無機の銀塩錯体も有用である。好適な銀
塩の例は、調査報告(Research Disclosure)第1702
9及び29963に記載されており、次のものがある:
有機酸の塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、
ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等);銀のカ
ルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1−(3−カル
ボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプロ
ピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);アルデヒドと
ヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成
物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド)、ヒドロキ
シ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5−
ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサリチル酸)、
チオエン類の銀塩又は錯体(例えば、3−(2−カルボ
キシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン
−2−チオエン、及び3−カルボキシメチル−4−チア
ゾリン−2−チオエン)、イミダゾール、ピラゾール、
ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テトラ
ゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−
トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択される窒
素酸と銀との錯体また塩;サッカリン、5−クロロサリ
チルアルドキシム等の銀塩;及びメルカプチド類の銀
塩。好ましい銀源はステアリン酸及びベヘン酸銀であ
り、ベヘン酸が特に好ましい。還元可能な銀源は好まし
くは銀量として3g/m2以下である。さらに好ましくは
2g/m2以下である。
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
4639414号、同4740455号、同47419
66号、同4751175号、同4835096号に記
載された増感色素が使用できる。
拌しながら溶液を5分かけて添加しその後溶液を2
5分かけて添加する。そのまま20分攪拌した後、35
℃に降温する。35℃でより激しく攪拌しながら溶液
を5分かけて添加し、そのまま90分間攪拌し続ける。
その後、溶液を加え、攪拌をとめて放置し、水相を含
まれる塩とともに抜き、油相を得、脱溶媒して痕跡の水
を抜いた後、溶液を添加して50℃で激しく攪拌した
後、溶液を20分かけて添加し、105分攪拌して感
光性乳剤Aを得た。
伸された175μの厚みのポリエチレンテレフタレート
の支持体(下塗り層なし)の上に以下の各層を順次形成
していった。乾燥は各々75℃5分間で行った。
830nmのレーザーダイオードを垂直面より13°傾
いたビームで露光した。その後ヒートドラムを用いて1
20℃×5秒と125℃×10秒熱現像処理した。そし
てその時のカブリ値の測定と色調の目視評価を行なっ
た。
く、色調が黒く良いことがわかる。
拌しながら溶液Aを10分かけて添加し、続いて溶液
を5分かけて添加し、その後、溶液を25分かけて添
加する。そのまま20分攪拌した後、35℃に降温す
る。35℃でより激しく攪拌しながら溶液を5分かけ
て添加し、そのまま90分間攪拌し続ける。その後、溶
液を加え、攪拌をとめて放置し、水相を含まれる塩と
ともに抜き、油相を得、脱溶媒して痕跡の水を抜いた
後、溶液を添加して50℃で激しく攪拌した後、10
5分攪拌して乳剤Bを得た。
ン層を感光層面側の感光層の下に設けた。)テストを行
なった。本発明の化合物を用いた試料は実施例1と同様
にカブリが低く色調が黒く良かった。 実施例3 《ハロゲン化銀粒子Aの調製》水700mlにフタル化ゼ
ラチン16g及び臭化カリウム30mgを溶解して温度3
5℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.6g
を含む水溶液159mlと臭化カリウムとヨウ化カリウム
(92/8)を含む水溶液をpAg7.7に保ちながら
コントロールダブルジェット法で10分間かけて添加し
た。その後、硝酸銀55.4gを含む水溶液476mlと
臭化カリウムを含む水溶液をpAg7.7に保ちながら
30分間かけて添加し、pHを下げて凝集沈降させ脱塩
処理した後、フェノキシエタノール0.1gを加え、p
H7.9、pAg8.2に調整しヨウ臭化銀粒子A(コ
ア 8モル%、平均2モル%、0.05μ立方体、投影
直径面積変動係数8%、(100)面比率88%)の調
製を終了した。
オ硫酸ナトリウムとセレン化合物II−1とテルル化合物
a−1と塩化金酸とチオシアン酸カリウムを添加し12
0分間熟成した後に35℃に急冷して化学増感を終了し
てハロゲン化銀粒子を調製した。添加量は以下の量とし
た。 チオ硫酸ナトリウム 8.5×10-5モル/銀モル セレン化合物S−1 1.1×10-5モル/銀モル テルル化合物T−1 1.5×10-5モル/銀モル 塩化金酸 3.5×10-6モル/銀モル チオシアン酸カリウム 2.7×10-4モル/銀モル
中にベヘン酸10.6gを入れ90℃に加熱溶解し、十
分攪拌した状態で1Nの水酸化ナトリウム31.1mlを
添加し、そのままの状態で1時間放置した。その後30
℃に冷却し、1Nのリン酸7.0mlを添加して十分攪拌
した状態でN−ブロモこはく酸イミド0.01gを添加
した。その後、あらかじめ調製したハロゲン化銀粒子A
をベヘン酸に対して銀量として10モル%となるように
40℃に加温した状態で攪拌しながら添加した。さらに
1N硝酸銀水溶液25mlを2分かけて連続添加し、その
まま攪拌した状態で1時間放置した。
ニルの酢酸ブチル溶液1.2wt%37gを徐々に添加
して分散物のフロックを形成した。その後に水を取り除
き、更に2回の水洗を行った。(水洗水伝導度30μS
・cm)次にポリビニルブチラール(分子量3000)の
2−ブタノン溶液2.5wt%20ccを添加して10分
間十分な速度で攪拌した。次に下記の化合物と2−ブタ
ノン40g及びポリビニルブチラール(分子量400
0)6.0gを添加して1時間十分な速度で攪拌し、有
機脂肪酸銀乳剤Bの調製を終了した。
布液を下記の如く調製した。 セルロースアセテートブチレート 7.5g 2−ブタノン 80g メタノール 10g フタラジン 71.5mmol 4−メチルフタル酸 0.3g テトラクロロフタル酸無水物 0.07g 塗布助剤−1 0.01g
層塗布液を下記の如く調製した。 ポリビニルブチラール(10% 2−ブタノン溶液) 30ml セルロースアセテートブチレート 30ml (10% 酢酸エチルエステル溶液) ハレーション防止染料(イ) 0.05g ハレーション防止染料(ロ) 0.06g 色調調節染料(ハ) 0.1g 色調調節染料(ニ) 0.002g シリカマット剤(サイロイド162) 0.1g イソシアネート(デスモジュール社製N3300) 0.8g 酢酸エチルエステル 140ml 塗布助剤−1 0.1g
を二軸延伸された青色に着色された厚さ175μmのポ
リエチレンテレフタレートフィルムに810nmの吸光
度が1.2ポリエチレンテレフタレートフィルムより高
くなるように塗布した。
エチレンテレフタレートのバッキング層を塗布した反対
面に塗布銀量が2.0g/m2となるように塗布し乾燥し
た。その後表面保護層塗布液をセルロースアセテートブ
チレートが2.5g/m2となるように塗布した。こうし
て塗布試料を調製した。
りサイズに加工した後、富士写真フイルム(株)社製F
CR7000を改造して810nmの半導体レーザーを
用いて像様露光した。塗布試料の露光面と露光レーザー
光の角度は80degとした。また、レーザーの出力は
150mWであり、但し高周波重畳をし縦マルチモード
で出力した。熱現像処理はヒートドラムを用いて均一加
熱を行い、120℃×15秒と125℃×15秒の2種
類行った。そしてその時のカブリ値の測定を行った。ま
た、表3における試料 No.1の最高濃度を100とした
とき、各試料の最高濃度を相対値で評価した。結果を表
3に示す。
試料を入れた後、50℃で7日間経時した(強制経
時)。この中の2枚目の試料と比較用経時(室温にて遮
光容器中に保存)の試料とを写真性の評価に用いたもの
と同じ処理を行い、カブリ部分の濃度を測定した。 (カブリの増加)=(強制経時のカブリ)−(比較用経
時のカブリ)
り、かつ、カブリが低いことがわかる。また、感材の保
存安定性も良好であることがわかる。
く、かつ色調が良い。また、感材の保存安定性が良好で
ある。
キノリル基は置換基を有してもよく、置換基としては、
例えばアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好
ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8
のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、iso−
プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシ
ル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル
基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数
2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルケニル基
であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペ
ンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好まし
くは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、
特に好ましくは炭素数2〜8のアルキニル基であり、例
えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられ
る。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より
好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜
12のアリール基であり、例えばフェニル、p−メチル
フェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、アミノ基
(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0
〜10、特に好ましくは炭素数0〜6のアミノ基であ
り、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジ
エチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられ
る。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1
〜8のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキ
シ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基
(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6
〜16、特に好ましくは炭素数6〜12のアリールオキ
シ基であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキ
シなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好まし
くは炭素数1〜12のアシル基であり、例えばアセチ
ル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられ
る。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2
〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましく
は炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基であり、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙
げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましく
は炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特
に好ましくは炭素数7〜10のアリールオキシカルボニ
ル基であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙
げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜
20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは
炭素数2〜10のアシルオキシ基であり、例えばアセト
キシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシル
アミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは
炭素2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10のアシル
アミノ基であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルア
ミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミ
ノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素
数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12のアルコキ
シカルボニルアミノ基であり、例えばメトキシカルボニ
ルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好まし
くは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12の
アリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えばフェ
ニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、ス
ルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好
ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜1
2のスルホニルアミノ基であり、例えばメタンスルホニ
ルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられ
る。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜2
0、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭
素数0〜12のスルファモイル基であり、例えばスルフ
ァモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモ
イル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、
カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ま
しくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12
のカルバモイル基であり、例えばカルバモイル、メチル
カルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバ
モイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好まし
くは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、
特に好ましくは炭素数1〜12のアルキルチオ基であ
り、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられ
る。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、
より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数
6〜12のアリールチオ基であり、例えばフェニルチオ
などが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素
数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ま
しくは炭素数1〜12のスルホニル基であり、例えばメ
シル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルフィニル
基であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフ
ィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは
炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に
好ましくは炭素数1〜12のウレイド基であり、例えば
ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙
げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜
20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは
炭素数1〜12のリン酸アミド基であり、例えばジエチ
ルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられ
る。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子
(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ
基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、
ヘテロ環基(例えばイミダゾリル、ピリジル、フリル、
ピペリジル、モルホリノなどが挙げられる。)などが挙
げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。ま
た、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なっても
よい。
ェニル基の−N(Rc2)SO2 Rc1、−N(Rd2)SO
2 Rd1以外の置換基として好ましくは、脂肪族炭化水素
基であり、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基で
あり、更に好ましくはメチル基である。以下に一般式
(I)で表される化合物の具体例を挙げるが本発明はこ
れらに限定されるものではない。
してもよい。本発明の一般式(I)で表される化合物
は、例えば、新実験化学講座(日本化学会編、丸善)1
4−III 、8章8.4あるいは、ORGANIC FUNCTIONAL G
ROUP PREPARATIONS (Sandler,Karo , ACADEMIC PRESS
New York and London )I-Chapt.18に記載のある様な種
々の方法によって合成することが可能である。それらの
合成法を大別すると以下の様になる。 (1)対応するメルカプタンの酸化による方法 (2)対応するアルキル(アリール)ハライドと多硫化
アルカリ金属塩との求核置換による方法 (3)対応するアニリン誘導体をジアジニウム塩に変換
した後に多硫化アルカリ金属塩との求核置換反応させる
方法
成法としては、新実験化学講座(日本化学会編、丸善)
14−III 、8章8.1、ORGANIC FUNCTIONAL GROUP P
REPARATIONS (Sandler,Karo , ACADEMIC PRESS New Yo
rk and London )I-Chapt.18あるいはTHE CHEMISTRY OF
FUNCTINONAL GROUPS (Patai , JONE WILLY & SONS
)"The Chemistry of the thiol group"−Chapt.4 に
記載のある様な種々の方法によって合成することが可能
である。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で表わされる化合物を
少なくとも一種含有することを特徴とする熱現像感光材
料。 一般式(I) 【化1】 (式中、R1 はアリール基、ピリジル基またはキノリル
基を表す。R2 は、脂肪族炭化水素基、アリール基、ア
ミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシ
カルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル
基、スルホニルアミノ基、リン酸アミド基、スルファモ
イル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオカルボ
ニル基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、
チオウレイド基、チオアミド基、ヒドロキシ基、メルカ
プト基、スルホ基、ホスホノ基、ヒドロキサム酸基及び
ヘテロ環基の中から選ばれる少なくとも一つの置換基を
有する、アリール基、ピリジル基またはキノリル基を表
す。) - 【請求項2】 一般式(I)で表わされる化合物を少な
くとも一種と一般式(II)で表わされる化合物を少なく
とも一種含有することを特徴とする熱現像感光材料。 一般式(II) 【化2】 (式中、Qはアリール基またはヘテロ環基を表す。X1
およびX2 はそれぞれハロゲン原子を表す。Yは−C
(=O)−、−SO−または−SO2 −を表す。Aは、
水素原子、ハロゲン原子または電子吸引性基を表す。n
は、0または1を表す。) - 【請求項3】 赤外レーザー露光用であることを特徴と
する請求項1、2に記載の熱現像感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8085994A JPH095926A (ja) | 1995-04-18 | 1996-03-15 | 熱現像感光材料 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11527495 | 1995-04-18 | ||
| JP7-115274 | 1995-04-18 | ||
| JP8085994A JPH095926A (ja) | 1995-04-18 | 1996-03-15 | 熱現像感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095926A true JPH095926A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=26427018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8085994A Pending JPH095926A (ja) | 1995-04-18 | 1996-03-15 | 熱現像感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH095926A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0949537A3 (en) * | 1998-04-10 | 2000-03-01 | Konica Corporation | Thermally developable photosensitive material |
| WO2001090060A1 (en) * | 2000-05-19 | 2001-11-29 | Alcon Universal Ltd. | Disulfide derivatives useful for treating allergic diseases |
| US6372802B2 (en) | 2000-05-19 | 2002-04-16 | Alcon Universal Ltd. | Aniline disulfide derivatives for treating allergic diseases |
| US6492418B2 (en) | 2000-05-19 | 2002-12-10 | Alcon Universal Ltd. | Compositions containing a benzamide disulfide derivative for treating allergic diseases |
| WO2016084870A1 (ja) * | 2014-11-25 | 2016-06-02 | 国立大学法人大阪大学 | アシルアミノフェニル基を有する化合物及びその用途 |
-
1996
- 1996-03-15 JP JP8085994A patent/JPH095926A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6452052B1 (en) | 2000-05-19 | 2002-09-17 | Alcon Universal Ltd. | Aniline disulfide derivatives for treating allergic diseases |
| US6492418B2 (en) | 2000-05-19 | 2002-12-10 | Alcon Universal Ltd. | Compositions containing a benzamide disulfide derivative for treating allergic diseases |
| US6492552B2 (en) | 2000-05-19 | 2002-12-10 | Alcon Universal Ltd. | Disulfide derivatives useful for treating allergic diseases |
| US6500864B1 (en) | 2000-05-19 | 2002-12-31 | Alcon Universal Ltd. | Disulfide derivatives useful for treating allergic diseases |
| US6506802B2 (en) | 2000-05-19 | 2003-01-14 | Alcon Universal Ltd. | Disulfide derivatives useful for treating allergic diseases |
| JP2003534318A (ja) * | 2000-05-19 | 2003-11-18 | アルコン,インコーポレイテッド | アレルギー性疾患を処置するために有用なジスルフィド誘導体 |
| WO2016084870A1 (ja) * | 2014-11-25 | 2016-06-02 | 国立大学法人大阪大学 | アシルアミノフェニル基を有する化合物及びその用途 |
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