JPH0963841A - 磁気記録媒体、及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体、及びその製造方法Info
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- JPH0963841A JPH0963841A JP21318195A JP21318195A JPH0963841A JP H0963841 A JPH0963841 A JP H0963841A JP 21318195 A JP21318195 A JP 21318195A JP 21318195 A JP21318195 A JP 21318195A JP H0963841 A JPH0963841 A JP H0963841A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 安価で、公害問題を起こし難いFe系材料を
用いて高記録密度化に対応できる磁気記録媒体を提供す
ることである。 【解決手段】 支持体上にFe系金属磁性膜が設けられ
てなる磁気記録媒体であって、前記Fe系金属磁性膜に
おける全金属成分中Feが95〜98.5%である磁気
記録媒体。
用いて高記録密度化に対応できる磁気記録媒体を提供す
ることである。 【解決手段】 支持体上にFe系金属磁性膜が設けられ
てなる磁気記録媒体であって、前記Fe系金属磁性膜に
おける全金属成分中Feが95〜98.5%である磁気
記録媒体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、Fe系金属磁性膜
を有する磁気記録媒体及びその製造方法に関する。
を有する磁気記録媒体及びその製造方法に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】磁性膜を蒸着やスパッ
タ等の乾式メッキ手段で構成した金属薄膜型の磁気記録
媒体が広く知られている。この磁性膜を構成する材料と
して種々のものが有る。このような磁性材料は、これま
で、主として、Co−NiやCo−Cr系の磁性合金が
用いられている。
タ等の乾式メッキ手段で構成した金属薄膜型の磁気記録
媒体が広く知られている。この磁性膜を構成する材料と
して種々のものが有る。このような磁性材料は、これま
で、主として、Co−NiやCo−Cr系の磁性合金が
用いられている。
【0003】しかし、Co,Ni,Cr等は価格が高
い。この問題点に鑑みて、Feが注目されている。この
Feは、価格が安く、かつ、公害問題を引き起こすこと
も少ない。しかし、高記録密度化に不可欠な保磁力が低
く、又、耐蝕性にも劣る問題がある。
い。この問題点に鑑みて、Feが注目されている。この
Feは、価格が安く、かつ、公害問題を引き起こすこと
も少ない。しかし、高記録密度化に不可欠な保磁力が低
く、又、耐蝕性にも劣る問題がある。
【0004】前記保磁力の点については、磁性膜をFe
のみで構成するのではなく、Fe−N系膜、Fe−N−
O系膜、Fe−C系膜、Fe−C−O系膜、Fe−N−
C−O系膜のように構成させることによって改善できる
ことが判って来た。一方、耐蝕性については、純度が高
いFeを用いて磁性膜を構成することが試みられた。例
えば、純度が99.95%以上のFe材料を蒸着させる
ことによって磁性膜を構成することが試みられた。しか
し、Feが安価な材料と言っても、純度が高くなると、
しかも極めて高純度なものになると、高いものになる。
のみで構成するのではなく、Fe−N系膜、Fe−N−
O系膜、Fe−C系膜、Fe−C−O系膜、Fe−N−
C−O系膜のように構成させることによって改善できる
ことが判って来た。一方、耐蝕性については、純度が高
いFeを用いて磁性膜を構成することが試みられた。例
えば、純度が99.95%以上のFe材料を蒸着させる
ことによって磁性膜を構成することが試みられた。しか
し、Feが安価な材料と言っても、純度が高くなると、
しかも極めて高純度なものになると、高いものになる。
【0005】この点について更なる検討を鋭意押し進め
て行った結果、99.95%以上と言った高純度Feを
用いるより多少純度が低いFeを用いた方が良い結果を
呈することが判って来た。本発明は係る知見に基づいて
なされたものであり、安価で、公害問題を起こし難いF
e系材料を用いて高記録密度化に対応できる磁気記録媒
体を提供することを目的とする。
て行った結果、99.95%以上と言った高純度Feを
用いるより多少純度が低いFeを用いた方が良い結果を
呈することが判って来た。本発明は係る知見に基づいて
なされたものであり、安価で、公害問題を起こし難いF
e系材料を用いて高記録密度化に対応できる磁気記録媒
体を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、支
持体上にFe系金属磁性膜が設けられてなる磁気記録媒
体であって、前記Fe系金属磁性膜における全金属成分
中Feが95〜98.5%であることを特徴とする磁気
記録媒体によって達成される。
持体上にFe系金属磁性膜が設けられてなる磁気記録媒
体であって、前記Fe系金属磁性膜における全金属成分
中Feが95〜98.5%であることを特徴とする磁気
記録媒体によって達成される。
【0007】特に、支持体上にFe系金属磁性膜が設け
られてなる磁気記録媒体であって、前記Fe系金属磁性
膜における全金属成分中Feが95〜98.5%であ
り、かつ、前記Fe系金属磁性膜における全金属成分中
Au,Pt,Agの合計量が0〜0.05%であること
を特徴とする磁気記録媒体によって達成される。ここ
で、Fe系金属磁性膜における全金属成分中Fe(%)
とは、〔Fe量/(Fe+その他の金属)量〕を百分率
で表示したものである。従って、これにはFe系金属磁
性膜に含まれるN,O,C量等を含まないものである。
られてなる磁気記録媒体であって、前記Fe系金属磁性
膜における全金属成分中Feが95〜98.5%であ
り、かつ、前記Fe系金属磁性膜における全金属成分中
Au,Pt,Agの合計量が0〜0.05%であること
を特徴とする磁気記録媒体によって達成される。ここ
で、Fe系金属磁性膜における全金属成分中Fe(%)
とは、〔Fe量/(Fe+その他の金属)量〕を百分率
で表示したものである。従って、これにはFe系金属磁
性膜に含まれるN,O,C量等を含まないものである。
【0008】上記のFe系金属磁性膜におけるFe以外
の金属成分として、Co,Ni,Mn,Crを代表的な
ものとして挙げることが出来る。すなわち、Fe系金属
磁性膜におけるFe以外の金属元素はCo,Ni,M
n,Crの群の中から選ばれる少なくとも一種が含まれ
る。又、支持体上にFe系金属磁性膜が設けられてなる
磁気記録媒体の製造方法であって、前記Fe系金属磁性
膜は乾式メッキ手段で成膜され、前記Fe系金属磁性膜
を乾式メッキ手段で構成する為の原料として純度が95
〜98.5%のFe系金属材料を用いることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
の金属成分として、Co,Ni,Mn,Crを代表的な
ものとして挙げることが出来る。すなわち、Fe系金属
磁性膜におけるFe以外の金属元素はCo,Ni,M
n,Crの群の中から選ばれる少なくとも一種が含まれ
る。又、支持体上にFe系金属磁性膜が設けられてなる
磁気記録媒体の製造方法であって、前記Fe系金属磁性
膜は乾式メッキ手段で成膜され、前記Fe系金属磁性膜
を乾式メッキ手段で構成する為の原料として純度が95
〜98.5%のFe系金属材料を用いることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
【0009】尚、Fe系金属磁性膜を乾式メッキ手段で
構成する為の原料として、全金属成分中Feが95〜9
8.5%、Au,Pt,Agの合計量が0〜0.05
%、残りがその他の金属成分であるFe系金属材料を用
いることが好ましい。残りのその他の金属成分として
は、Co,Ni,Mn,Crの群の中から選ばれるもの
が挙げられる。
構成する為の原料として、全金属成分中Feが95〜9
8.5%、Au,Pt,Agの合計量が0〜0.05
%、残りがその他の金属成分であるFe系金属材料を用
いることが好ましい。残りのその他の金属成分として
は、Co,Ni,Mn,Crの群の中から選ばれるもの
が挙げられる。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明は、支持体上にFe系金属
磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記F
e系金属磁性膜における全金属成分中Feが95〜9
8.5%である。特に、支持体上にFe系金属磁性膜が
設けられてなる磁気記録媒体であって、前記Fe系金属
磁性膜における全金属成分中Feが95〜98.5%で
あり、かつ、前記Fe系金属磁性膜における全金属成分
中Au,Pt,Agの合計量が0〜0.05%である。
磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記F
e系金属磁性膜における全金属成分中Feが95〜9
8.5%である。特に、支持体上にFe系金属磁性膜が
設けられてなる磁気記録媒体であって、前記Fe系金属
磁性膜における全金属成分中Feが95〜98.5%で
あり、かつ、前記Fe系金属磁性膜における全金属成分
中Au,Pt,Agの合計量が0〜0.05%である。
【0011】又、支持体上にFe系金属磁性膜が設けら
れてなる磁気記録媒体の製造方法であって、前記Fe系
金属磁性膜は乾式メッキ手段で成膜され、前記Fe系金
属磁性膜を乾式メッキ手段で構成する為の原料として純
度が95〜98.5%のFe系金属材料を用いるもので
ある。特に、支持体上にFe系金属磁性膜が設けられて
なる磁気記録媒体の製造方法であって、前記Fe系金属
磁性膜は乾式メッキ手段で成膜され、前記Fe系金属磁
性膜を乾式メッキ手段で構成する為の原料として、全金
属成分中Feが95〜98.5%、Au,Pt,Agの
合計量が0〜0.05%、残りがその他の成分であるF
e系金属材料を用いるものである。
れてなる磁気記録媒体の製造方法であって、前記Fe系
金属磁性膜は乾式メッキ手段で成膜され、前記Fe系金
属磁性膜を乾式メッキ手段で構成する為の原料として純
度が95〜98.5%のFe系金属材料を用いるもので
ある。特に、支持体上にFe系金属磁性膜が設けられて
なる磁気記録媒体の製造方法であって、前記Fe系金属
磁性膜は乾式メッキ手段で成膜され、前記Fe系金属磁
性膜を乾式メッキ手段で構成する為の原料として、全金
属成分中Feが95〜98.5%、Au,Pt,Agの
合計量が0〜0.05%、残りがその他の成分であるF
e系金属材料を用いるものである。
【0012】本発明の磁気記録媒体の支持体としてはあ
らゆるものを用いることが出来る。例えば、ポリエステ
ル系の樹脂、Al合金などの金属、ガラスやカーボン等
の無機材料を用いることが出来る。この支持体上に、蒸
着やスパッタ等のPVD(フィジカルベーパーデポジシ
ョン)法によりFe系金属磁性膜が設けられる。この成
膜を、成膜速度が大きな蒸着法を例にとって説明すると
次のようになる。先ず、全金属成分中Feが95〜9
8.5%(所謂、純度が95〜98.5%のFe)、A
u,Pt,Agの合計量が0〜0.05%(0であるこ
とに越したことはないが、不可避不純物として多少含ま
れる場合が有る。又、含有するにしても、AuとPtと
Agの合計量を出来るだけ少なく、そして0.05%以
下に抑える)、残りがその他の金属成分(例えば、C
o,Ni,Mn,Cr等)であるFe系金属材料を、斜
め蒸着装置のルツボの中に入れる。そして、斜め蒸着装
置内を所定の真空度に排気すると共に、電子銃あるいは
その他の手段によりFe系金属材料を蒸発させ、走行す
る支持上にFe系金属粒子を付着・堆積させる。この付
着・堆積に際しては、Fe系金属蒸発粒子あるいは堆積
面に向けて窒素ガス(又は窒素イオン)や酸素ガス(又
は酸素イオン)等を照射し、非磁性の支持体上に設ける
磁性膜をFe−N−O系膜とする。磁性膜がFe−N−
O系膜の場合には、Feが60〜90at%、Nが5〜
30at%、Oが5〜30at%の割合(FeとNとO
とで100at%)であることが好ましい。尚、酸素ガ
ス(又は酸素イオン)等を照射しない場合には、雰囲気
中のOが作用するのみであるから、O量は少なくなる。
このような場合には、Feが60〜92at%、Nが5
〜30at%、Oが3〜20at%の割合(FeとNと
Oとで100at%)となる。Fe−C−O系膜とした
場合には、Feが60〜90at%、Cが5〜30at
%、Oが5〜30at%の割合(FeとCとOとで10
0at%)であることが好ましい。尚、酸素ガス(又は
酸素イオン)等を照射しない場合には、雰囲気中のOが
作用するのみであるから、O量は少なくなる。このよう
な場合には、Feが60〜92at%、Cが5〜30a
t%、Oが3〜20at%の割合(FeとNとOとで1
00at%)となる。
らゆるものを用いることが出来る。例えば、ポリエステ
ル系の樹脂、Al合金などの金属、ガラスやカーボン等
の無機材料を用いることが出来る。この支持体上に、蒸
着やスパッタ等のPVD(フィジカルベーパーデポジシ
ョン)法によりFe系金属磁性膜が設けられる。この成
膜を、成膜速度が大きな蒸着法を例にとって説明すると
次のようになる。先ず、全金属成分中Feが95〜9
8.5%(所謂、純度が95〜98.5%のFe)、A
u,Pt,Agの合計量が0〜0.05%(0であるこ
とに越したことはないが、不可避不純物として多少含ま
れる場合が有る。又、含有するにしても、AuとPtと
Agの合計量を出来るだけ少なく、そして0.05%以
下に抑える)、残りがその他の金属成分(例えば、C
o,Ni,Mn,Cr等)であるFe系金属材料を、斜
め蒸着装置のルツボの中に入れる。そして、斜め蒸着装
置内を所定の真空度に排気すると共に、電子銃あるいは
その他の手段によりFe系金属材料を蒸発させ、走行す
る支持上にFe系金属粒子を付着・堆積させる。この付
着・堆積に際しては、Fe系金属蒸発粒子あるいは堆積
面に向けて窒素ガス(又は窒素イオン)や酸素ガス(又
は酸素イオン)等を照射し、非磁性の支持体上に設ける
磁性膜をFe−N−O系膜とする。磁性膜がFe−N−
O系膜の場合には、Feが60〜90at%、Nが5〜
30at%、Oが5〜30at%の割合(FeとNとO
とで100at%)であることが好ましい。尚、酸素ガ
ス(又は酸素イオン)等を照射しない場合には、雰囲気
中のOが作用するのみであるから、O量は少なくなる。
このような場合には、Feが60〜92at%、Nが5
〜30at%、Oが3〜20at%の割合(FeとNと
Oとで100at%)となる。Fe−C−O系膜とした
場合には、Feが60〜90at%、Cが5〜30at
%、Oが5〜30at%の割合(FeとCとOとで10
0at%)であることが好ましい。尚、酸素ガス(又は
酸素イオン)等を照射しない場合には、雰囲気中のOが
作用するのみであるから、O量は少なくなる。このよう
な場合には、Feが60〜92at%、Cが5〜30a
t%、Oが3〜20at%の割合(FeとNとOとで1
00at%)となる。
【0013】しかし、いずれのタイプの磁性膜とするに
せよ、このFe系金属磁性膜における全金属成分中Fe
を95〜98.5%とすることが大事である。好ましく
は全金属成分中Feが96〜98.5%である。上記の
ような組成のFe系金属磁性膜を斜め蒸着により成膜す
る上で大事なことは、蒸発源に置くFe材料である。す
なわち、全金属成分中Feが95〜98.5%、所謂純
度が95〜98.5%のFe材料を用いることが大事で
ある。そして、Fe材料中に含まれるAu,Pt,Ag
の合計量を0〜0.05%とすることが好ましい。残り
は、その他の金属元素、例えばCo,Ni,Mn,Cr
等である。
せよ、このFe系金属磁性膜における全金属成分中Fe
を95〜98.5%とすることが大事である。好ましく
は全金属成分中Feが96〜98.5%である。上記の
ような組成のFe系金属磁性膜を斜め蒸着により成膜す
る上で大事なことは、蒸発源に置くFe材料である。す
なわち、全金属成分中Feが95〜98.5%、所謂純
度が95〜98.5%のFe材料を用いることが大事で
ある。そして、Fe材料中に含まれるAu,Pt,Ag
の合計量を0〜0.05%とすることが好ましい。残り
は、その他の金属元素、例えばCo,Ni,Mn,Cr
等である。
【0014】上記のようにしてFe系金属磁性膜が設け
られると、必要に応じて、ダイヤモンドライクカーボ
ン、炭化ホウ素、窒化珪素などからなる50〜200Å
程度の厚さの保護膜がFe系金属磁性膜上に設けられ
る。又、パーフルオロポリエーテル等のフッ素系の潤滑
剤が10〜70Å程度の厚さ設けられる。上記のように
構成させた磁気記録媒体は、図1に示す如く、耐蝕性が
優れている。すなわち、Fe:N:Oの割合を一定とし
た場合におけるFeの純度と飽和磁束密度の減少率ΔB
sとの関係を示した図1から判る通り、Feの純度が9
9%以上の場合には、高純度になるにつれて耐蝕性が向
上する。しかし、純度が低いと耐蝕性が悪くなるもので
ないことも判る。すなわち、純度が98.5%より低く
なると、予想もされなかったことであるが、耐蝕性が逆
に向上した。
られると、必要に応じて、ダイヤモンドライクカーボ
ン、炭化ホウ素、窒化珪素などからなる50〜200Å
程度の厚さの保護膜がFe系金属磁性膜上に設けられ
る。又、パーフルオロポリエーテル等のフッ素系の潤滑
剤が10〜70Å程度の厚さ設けられる。上記のように
構成させた磁気記録媒体は、図1に示す如く、耐蝕性が
優れている。すなわち、Fe:N:Oの割合を一定とし
た場合におけるFeの純度と飽和磁束密度の減少率ΔB
sとの関係を示した図1から判る通り、Feの純度が9
9%以上の場合には、高純度になるにつれて耐蝕性が向
上する。しかし、純度が低いと耐蝕性が悪くなるもので
ないことも判る。すなわち、純度が98.5%より低く
なると、予想もされなかったことであるが、耐蝕性が逆
に向上した。
【0015】Fe:N:Oの割合を一定とした場合にお
けるFeの純度と飽和磁束密度Bsとの関係を示したの
が、図2である。これによれば、Feの純度が95%以
上であれば、問題にならないことが判る。又、Fe:
N:Oの割合を一定とした場合におけるFeの純度と保
磁力Hcとの関係も図2に示した。これによれば、Fe
の純度が高い点では却って保磁力が低くなる領域が有る
ものの、Feの純度が99.5%以下の範囲では高保磁
力を示すことが判る。
けるFeの純度と飽和磁束密度Bsとの関係を示したの
が、図2である。これによれば、Feの純度が95%以
上であれば、問題にならないことが判る。又、Fe:
N:Oの割合を一定とした場合におけるFeの純度と保
磁力Hcとの関係も図2に示した。これによれば、Fe
の純度が高い点では却って保磁力が低くなる領域が有る
ものの、Feの純度が99.5%以下の範囲では高保磁
力を示すことが判る。
【0016】上記のように、Fe系金属磁性膜の全金属
成分中Feを95〜98.5%にしておけば、耐蝕性に
優れ、しかも飽和磁束密度Bsや保磁力Hcのような磁
気特性および電磁変換特性が優れたものであり、高記録
密度化に対応できる磁気記録媒体となる。しかも、磁性
材料のFeは安価で、公害問題を起こし難い。特に、高
純度Feを用いるものではないから、コストがより低廉
である。
成分中Feを95〜98.5%にしておけば、耐蝕性に
優れ、しかも飽和磁束密度Bsや保磁力Hcのような磁
気特性および電磁変換特性が優れたものであり、高記録
密度化に対応できる磁気記録媒体となる。しかも、磁性
材料のFeは安価で、公害問題を起こし難い。特に、高
純度Feを用いるものではないから、コストがより低廉
である。
【0017】
【実施例1】図3は、本発明になる磁気記録媒体の製造
装置の概略図である。図3中、1は非磁性の支持体、例
えばPETフィルム、2aはPETフィルム1の供給側
ロール、2bはPETフィルム1の巻取側ロール、3は
冷却キャンロール、4は遮蔽板、5はルツボ、6はFe
系磁性金属、7は電子銃、8は真空槽、9は酸素ガス供
給ノズル、10はイオン銃である。これら各々の構成は
良く知られているから、詳細な説明は省略する。
装置の概略図である。図3中、1は非磁性の支持体、例
えばPETフィルム、2aはPETフィルム1の供給側
ロール、2bはPETフィルム1の巻取側ロール、3は
冷却キャンロール、4は遮蔽板、5はルツボ、6はFe
系磁性金属、7は電子銃、8は真空槽、9は酸素ガス供
給ノズル、10はイオン銃である。これら各々の構成は
良く知られているから、詳細な説明は省略する。
【0018】本実施例の磁気記録媒体(磁気テープ)は
図3に示すような斜め蒸着装置を用いることによって得
られる。すなわち、PETフィルム1を供給側ロール2
aと巻取側ロール2bとの間に掛け渡し、冷却キャンロ
ール3に沿って走行させる。真空槽8内を10-4〜10
-6Torr程度の真空度に排気した後、電子銃7からの
電子ビーム加熱によりルツボ5内の磁性金属(主成分の
組成を表−1に示す。表−1における単位はwt%。
0.01%未満は小数第3位の位を四捨五入)を溶融、
蒸発させ、PETフィルム1上に厚さが2000ÅのF
e系金属磁性膜を設けた。
図3に示すような斜め蒸着装置を用いることによって得
られる。すなわち、PETフィルム1を供給側ロール2
aと巻取側ロール2bとの間に掛け渡し、冷却キャンロ
ール3に沿って走行させる。真空槽8内を10-4〜10
-6Torr程度の真空度に排気した後、電子銃7からの
電子ビーム加熱によりルツボ5内の磁性金属(主成分の
組成を表−1に示す。表−1における単位はwt%。
0.01%未満は小数第3位の位を四捨五入)を溶融、
蒸発させ、PETフィルム1上に厚さが2000ÅのF
e系金属磁性膜を設けた。
【0019】 表−1 C Si Co Ni Mn Cr Au Pt Ag Fe及不可避不純物 No1 - - - 0.05 - - - - - 残り No2 - - 0.03 0.23 0.05 0.11 - - 0.08 残り No3 0.03 0.03 0.31 0.29 0.10 0.15 0.01 0.07 0.01 残り No4 0.05 0.06 0.38 0.29 0.37 0.15 - - - 残り No5 0.05 0.06 0.38 0.49 0.35 0.15 - - - 残り No6 0.05 0.06 0.38 0.98 0.35 0.15 - - 0.01 残り No7 0.05 0.06 1.38 1.98 0.30 0.15 - 0.05 - 残り No8 0.05 0.06 1.38 3.05 0.30 0.15 0.01 - - 残り No9 0.05 0.06 1.38 3.96 0.30 0.15 0.05 - 0.05 残り Fe系金属磁性膜の成膜時に、酸素ガス供給ノズル9か
ら酸素を供給すると共に、イオン銃10によってFe系
金属磁性膜に向けて窒素イオンを照射したので、Fe系
金属磁性膜はFe−N−O系金属磁性膜となっている。
尚、酸素ガス供給ノズル9から酸素を供給する代わり
に、イオン銃によってFe系金属磁性膜に向けて窒素イ
オンと酸素イオンとを照射しても、Fe−N−O系金属
磁性膜が得られる。この斜め蒸着において、Fe蒸着の
入射角は72°に設定した。
ら酸素を供給すると共に、イオン銃10によってFe系
金属磁性膜に向けて窒素イオンを照射したので、Fe系
金属磁性膜はFe−N−O系金属磁性膜となっている。
尚、酸素ガス供給ノズル9から酸素を供給する代わり
に、イオン銃によってFe系金属磁性膜に向けて窒素イ
オンと酸素イオンとを照射しても、Fe−N−O系金属
磁性膜が得られる。この斜め蒸着において、Fe蒸着の
入射角は72°に設定した。
【0020】この斜め蒸着手段により設けられたFe−
N−O系金属磁性膜について、Fe系金属磁性膜の全金
属成分中Feの占める割合を原子吸光分析により調べた
ので、その結果を表−2に示す。又、オージェ電子分光
分析によりFeとNとOの割合を調べたので、その結果
も表−2に示す。 表−2 Fe N O 全金属成分中Feの占める割合 備考 No1 40 40 20 99.95 発明外 No2 40 50 10 99.5 発明外 No3 70 15 15 99.0 発明外 No4 50 5 45 98.7 発明外 No5 80 10 10 98.5 本発明 No6 65 30 5 98.0 本発明 No7 65 5 30 96.0 本発明 No8 86 7 7 95.0 本発明 No9 50 10 40 94.0 発明外 上記のように構成された磁気テープを60℃、90%R
Hの雰囲気下に1週間放置し、飽和磁束密度の減少率Δ
Bsを調べたので、その結果を表−3に示す。又、VS
Mを用いて磁気特性を調べたので、これらの結果も併せ
て表−3に示す。
N−O系金属磁性膜について、Fe系金属磁性膜の全金
属成分中Feの占める割合を原子吸光分析により調べた
ので、その結果を表−2に示す。又、オージェ電子分光
分析によりFeとNとOの割合を調べたので、その結果
も表−2に示す。 表−2 Fe N O 全金属成分中Feの占める割合 備考 No1 40 40 20 99.95 発明外 No2 40 50 10 99.5 発明外 No3 70 15 15 99.0 発明外 No4 50 5 45 98.7 発明外 No5 80 10 10 98.5 本発明 No6 65 30 5 98.0 本発明 No7 65 5 30 96.0 本発明 No8 86 7 7 95.0 本発明 No9 50 10 40 94.0 発明外 上記のように構成された磁気テープを60℃、90%R
Hの雰囲気下に1週間放置し、飽和磁束密度の減少率Δ
Bsを調べたので、その結果を表−3に示す。又、VS
Mを用いて磁気特性を調べたので、これらの結果も併せ
て表−3に示す。
【0021】 表−3 ΔBs(%) Bs(G) Hc(Oe) 備考 No1 4 3900 940 発明外 No2 10 3800 1010 発明外 No3 14 5800 1760 発明外 No4 4 3500 840 発明外 No5 4 6000 1820 本発明 No6 2 5000 1900 本発明 No7 4 4400 1320 本発明 No8 6 6300 1760 本発明 No9 9 3400 680 発明外
【0022】
【実施例2】実施例1において成膜したFe−N−O系
金属磁性膜の代わりに、Fe−C−O系金属磁性膜を成
膜した。ルツボ5に充填した磁性金属は表−1に示した
No1〜No9である。得られたFe−C−O系金属磁
性膜について、Fe系金属磁性膜の全金属成分中Feの
占める割合を原子吸光分析により調べたので、その結果
を表−4に示す。又、オージェ電子分光分析によりFe
とCとOの割合を調べたので、その結果も表−4に示
す。
金属磁性膜の代わりに、Fe−C−O系金属磁性膜を成
膜した。ルツボ5に充填した磁性金属は表−1に示した
No1〜No9である。得られたFe−C−O系金属磁
性膜について、Fe系金属磁性膜の全金属成分中Feの
占める割合を原子吸光分析により調べたので、その結果
を表−4に示す。又、オージェ電子分光分析によりFe
とCとOの割合を調べたので、その結果も表−4に示
す。
【0023】 表−4 Fe C O 全金属成分中Feの占める割合 備考 No1 50 5 45 99.95 発明外 No2 70 15 15 99.5 発明外 No3 80 10 10 99.0 発明外 No4 40 40 20 98.7 発明外 No5 80 10 10 98.5 本発明 No6 60 10 30 98.0 本発明 No7 60 30 10 96.0 本発明 No8 70 15 15 95.0 本発明 No9 50 10 40 94.0 発明外 上記のように構成された磁気テープを60℃、90%R
Hの雰囲気下に1週間放置し、飽和磁束密度の減少率Δ
Bsを調べたので、その結果を表−5に示す。又、VS
Mを用いて磁気特性を調べたので、これらの結果も併せ
て表−5に示す。
Hの雰囲気下に1週間放置し、飽和磁束密度の減少率Δ
Bsを調べたので、その結果を表−5に示す。又、VS
Mを用いて磁気特性を調べたので、これらの結果も併せ
て表−5に示す。
【0024】 表−5 ΔBs(%) Bs(G) Hc(Oe) 備考 No1 3 2900 780 発明外 No2 13 5400 1490 発明外 No3 19 5800 1380 発明外 No4 5 3400 880 発明外 No5 5 5800 1510 本発明 No6 1 4200 1310 本発明 No7 4 4600 1690 本発明 No8 2 5500 1550 本発明 No9 8 2600 660 発明外
【0025】
【発明の効果】安価な材料を用いて高密度記録に適した
磁気記録媒体が得られる。しかも、この磁気記録媒体は
耐蝕性にも優れたものである。
磁気記録媒体が得られる。しかも、この磁気記録媒体は
耐蝕性にも優れたものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】Fe純度と耐蝕性との関係を示すグラフ
【図2】Fe純度と磁気特性(Bs,Hc)との関係を
示すグラフ
示すグラフ
【図3】本発明の磁気記録媒体の製造装置の概略図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 准子 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (5)
- 【請求項1】 支持体上にFe系金属磁性膜が設けられ
てなる磁気記録媒体であって、 前記Fe系金属磁性膜における全金属成分中Feが95
〜98.5%であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 支持体上にFe系金属磁性膜が設けられ
てなる磁気記録媒体であって、 前記Fe系金属磁性膜における全金属成分中Feが95
〜98.5%であり、 かつ、前記Fe系金属磁性膜における全金属成分中A
u,Pt,Agの合計量が0〜0.05%であることを
特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項3】 Fe系金属磁性膜におけるFe以外の金
属成分としてCo,Ni,Mn,Crの群の中から選ば
れる少なくとも一種が含まれることを特徴とする請求項
1又は請求項2の磁気記録媒体。 - 【請求項4】 支持体上にFe系金属磁性膜が設けられ
てなる磁気記録媒体の製造方法であって、 前記Fe系金属磁性膜は乾式メッキ手段で成膜され、 前記Fe系金属磁性膜を乾式メッキ手段で構成する為の
原料として純度が95〜98.5%のFe系金属材料を
用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項5】 Fe系金属磁性膜を乾式メッキ手段で構
成する為の原料として、全金属成分中Feが95〜9
8.5%、Au,Pt,Agの合計量が0〜0.05
%、残りがその他の成分であるFe系金属材料を用いる
ことを特徴とする請求項4の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21318195A JPH0963841A (ja) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | 磁気記録媒体、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21318195A JPH0963841A (ja) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | 磁気記録媒体、及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0963841A true JPH0963841A (ja) | 1997-03-07 |
Family
ID=16634892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21318195A Pending JPH0963841A (ja) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | 磁気記録媒体、及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0963841A (ja) |
-
1995
- 1995-08-22 JP JP21318195A patent/JPH0963841A/ja active Pending
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