JPH0971865A - シート状長尺被処理物の真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 所定真空下でシート状長尺被処理物の各部に
所定の処理を連続的に施すための真空処理装置であっ
て、真空処理室に対するシート状長尺被処理物の搬入及
び搬出を該処理室の所定真空状態を破ることなく繰り返
し簡単に行うことができるシール装置を提供する。 【解決手段】 真空処理室４の入口スリット４１１及び
出口スリット４２１に壁部材５１、６１で囲繞した被処
理物通路５２、６２を連設し、各通路に、シート状長尺
被処理物Ｓを挟着しつつ回転してその通過を許す回転ロ
ーラ群７１、７２等であって両端部が磁性流体シール装
置７４によって気密にシールされたものを含む気密ゲー
ト７を設置して予備排気室９１、９２を形成し、さらに
各予備排気室に補助気密ゲート８を設けるとともに、真
空処理室４及び予備排気室９１、９２をそれぞれ所定真
空状態にするための排気装置１００を設けたシート状長
尺被処理物の真空処理装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、シート状長尺被処
理物に対し、所定真空下で成膜処理、エッチング処理、
表面改質処理、洗浄処理等の真空処理を連続的に施すシ
ート状長尺被処理物の真空処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば長尺ゴムシート上に耐摩耗
性向上の目的でＤＬＣ（Diamond LikeCarbon ）膜を形
成したり、樹脂フィルム表面に付着した油脂等の汚れを
除去する目的で該フィルムに対しプラズマによる洗浄処
理を行ったりする場合のように、シート状長尺被処理物
に対し所定真空下での処理を施す場合、通常、図５に示
す真空処理装置が用いられる。

【０００３】この装置は、排気装置１１が付設され、室
壁の一部にゲート弁Ｇが設けられた真空処理室１を有
し、室１内には成膜処理、エッチング処理、表面改質処
理、洗浄処理等の所定の真空処理を行える処理部２が備
えられている。また、シート状長尺被処理物Ｓの処理に
あたっては、室１内に、処理前の被処理物Ｓを巻いたリ
ールＲ１と処理済の被処理物Ｓを巻き取るリールＲ２が
処理部２を挟み相対する位置に設置される。

【０００４】この真空処理装置によると、未処理の被処
理物Ｓを巻いたリールＲ１及びリールＲ２をゲート弁Ｇ
を介して室１内に搬入し、所定の位置に設置した後、ゲ
ート弁Ｇを閉じ、排気装置１１の運転にて室１内を所定
の真空度とする。次いで、リールＲ１からリールＲ２に
被処理物Ｓを巻き取りつつ装置２により該被処理物Ｓの
各部に順次真空処理を施す。その後、室１内を常圧に戻
し、ゲート弁を開けて、処理済の被処理物ＳをリールＲ
２ごと室１外へ搬出する。

【０００５】また、図６に示す装置も用いられる。この
装置は、内部に所定の真空処理を行える処理部２を備え
た真空処理室３と、その入口部及び出口部にそれぞれ複
数（通常５室程度）の予備真空室３ａ１、３ａ２・・・
３ａｎ及び３ｂ１、３ｂ２・・・３ｂｎを有している。
真空処理室３並びに予備真空室３ａ１、３ａ２・・・３
ａｎ及び３ｂ１、３ｂ２・・・３ｂｎには、それぞれ弁
ｖ並びに弁ｖａ１、ｖａ２・・・ｖａｎ及びｖｂ１、ｖ
ｂ２・・・ｖｂｎを介して排気装置３１が接続されてい
る。また、各室間の隔壁には、それぞれシート状長尺被
処理物Ｓが通過できるだけの大きさを有するスリットが
設けられている。図３中、各スリットは、真空処理室３
側から遠い方に向かって、順にｓａ０、ｓａ１・・・ｓ
ａｎ及びｓｂ０、ｓｂ１・・・ｓｂｎで表している。

【０００６】この装置によると、先ず、予備真空室３ａ
ｎの外側に被処理物Ｓを巻いたリールＲ１を、予備真空
室３ｂｎの外側に処理済の被処理物Ｓを巻き取るリール
Ｒ２を設置する。そして、リールＲ１から繰り出した被
処理物端を各スリットに順次通すことで処理室３の入口
側の各予備室、処理室３、処理室３の出口側の各予備室
に順次通してリールＲ２に連結する一方、真空処理室３
並びに予備真空室３ａ１、３ａ２・・・３ａｎ及び３ｂ
１、３ｂ２・・・３ｂｎを、それぞれ弁ｖ並びに弁ｖａ
１、ｖａ２・・・ｖａｎ及びｖｂ１、ｖｂ２・・・ｖｂ
ｎによる調整のもとに排気装置３１の運転にて所定の真
空度とする。次いで、被処理物ＳをリールＲ２に巻き取
りつつ、処理室３において装置２により被処理物各部に
所定の処理を施す。最終的に処理済の被処理物が全量リ
ールＲ２に巻き取られ、処理が終了する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図５に
示す真空処理装置を用いた真空処理では、処理済の被処
理物を処理室外に搬出するにあたり、一旦、処理室内の
真空状態を破り大気圧にした後、リールに巻いた処理済
の被処理物を取り出さなければならず、また、次の未処
理の被処理物を巻いたリールの処理にあたり、再び該処
理室内を真空引きして所定の真空状態にしなければなら
ず、手間がかかり、生産性が悪い。また、いちいち真空
を破らなければならないので、各処理ごとで処理にバラ
ツキが生じ易く、ひいては各処理品の品質にバラツキが
生じ易い。また、未処理の被処理物を巻いたリールと巻
き取りリールとを真空処理室内に設置するため該処理室
の容積が大きくなり、その分排気に要するコストが高く
なる。

【０００８】また、図６に示す装置を用いた真空処理で
は、被処理物を通過させるための室間隔壁におけるスリ
ット部分から気体の出入りが相当あるため、真空処理室
内を所定の処理真空度に保つためには、該室の両側にそ
れぞれ通常５室程度の予備真空室を連設しなければなら
ず、それだけ装置が大型化し、排気に要するコストが高
くなる。

【０００９】そこで本発明は、所定真空下でシート状長
尺被処理物の各部に所定の処理を連続的に施すための真
空処理装置であって、真空処理室に対するシート状長尺
被処理物の搬入及び搬出を該処理室の所定真空状態を破
ることなく繰り返し簡単に行うことができ、それだけ所
定の処理を容易に、生産性よく、また、バラツキ少なく
安定的に実施でき、しかも装置全体を比較的小型にする
ことができ、また、ランニングコストも抑制できるシー
ト状長尺被処理物の真空処理装置を提供することを課題
とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の真空処理装置は、所定真空下でシート状長尺被処理
物に所定の処理を施すための真空処理室の被処理物入口
部及び出口部のそれぞれに周囲を壁部材で囲繞したシー
ト状長尺被処理物通路を連設し、前記各通路に、前記シ
ート状長尺被処理物を気密に又は略気密に挟着しつつ回
転してその通過を許す回転ローラ群であって両端部が磁
性流体シール手段によって気密にシールされたものを含
む気密ゲートを１又は２以上設置して前記真空処理室の
入口部及び出口部のそれぞれに１又は２以上の予備排気
室を形成するとともに、前記真空処理室及び前記各予備
排気室をそれぞれ所定真空状態にするための排気手段を
設けたことを特徴としている。

【００１１】前記気密ゲートにおける気密状態が悪化し
たとき等に備えて、前記予備排気室のうち少なくとも前
記真空処理室に隣合う予備排気室において、該予備排気
室を形成している前記気密ゲートより該真空処理室に近
い位置に前記シート状長尺被処理物に気密に又は略気密
に接触しつつその通過を許す可撓性シール部材からなる
補助気密ゲートを設けてもよい。

【００１２】本発明の真空処理装置では、真空処理室の
被処理物入口部側における一番外側の予備排気室の外側
に未処理のシート状長尺被処理物を巻き取った第１のリ
ールを配置するとともに、真空処理室の被処理物出口部
側における一番外側の予備排気室の外側に処理済のシー
ト状長尺被処理物を巻き取る第２のリールを配置し、真
空処理室及び各予備排気室を排気手段により所定の真空
度に排気し、第１のリールから被処理物端を繰り出し、
各気密ゲートに、そして補助気密ゲートが設けてあると
きはその補助気密ゲートにも順次通すことで真空処理室
入口側の各予備排気室、真空処理室、及び真空処理室出
口側の各予備排気室に順次通して第２のリールに連結
し、それに巻き取りつつ、真空処理室において被処理物
各部に所定の処理を施す。最終的に処理済の被処理物を
全量第２リールに巻き取る。かくして一連のシート状長
尺被処理物の各部に連続的に所定の処理を施すことがで
きる。処理済長尺物を巻き取った第２リールは取り外さ
れ、次の工程、保管場所等へ搬送される。

【００１３】続けて処理を行う場合は、空になった第１
リールを次の被処理物を支持した新たなリールに交換す
るとともに、第２リールのあった位置に空の巻き取り用
リールを設置する。以後は前記と同様にして被処理物に
対する処理を実施できる。このとき、真空処理室に対す
る新たなシート状長尺被処理物の搬入及び搬出は、真空
処理室及び各予備排気室の真空を破ることなく簡単に行
うことができ、従って、新たな被処理物についても所定
の処理を容易に、生産性よく、また、前回の処理と同様
の条件でバラツキ少なく安定的に実施できる。

【００１４】第１及び第２のリールは真空処理室や予備
排気室に設置しなくてよいので、真空処理装置全体をそ
れだけ小型にすることができる。また、予備排気室を形
成している前記の気密ゲートは、従来装置の予備真空室
における、シート状長尺被処理物を通過させるスリット
と比べるとはるかに気密性が良く、これと前記の装置を
小型にできることとが相まって、排気装置による各室の
排気も容易に迅速に行うことができ、それだけランニン
グコストを抑制できる。

【００１５】前記予備排気室のうち少なくとも前記真空
処理室に隣合う予備排気室において、該予備排気室を形
成している前記気密ゲートより該真空処理室に近い位置
に前記シート状長尺被処理物に気密に又は略気密に接触
しつつその通過を許す可撓性シール部材からなる補助気
密ゲートを設けてあるときは、排気装置による真空処理
室等の排気を一層容易、迅速に行うことができ、また、
気密ゲートの気密性が悪化する等の事態が発生しても、
真空処理室の所定真空度を維持し易い利点がある。

【００１６】予備排気室を形成している前記の気密ゲー
トについては、一つの好ましい例として、前記シート状
長尺被処理物を気密に又は略気密に挟着しつつ回転して
その通過を許す前記の回転ローラ群が、少なくとも被処
理物挟着のための表層部が柔軟な材料から形成されてい
てシート状長尺被処理物を気密に又は略気密に挟着しつ
つ回転してその通過を許す一対の主回転ローラと、該各
主回転ローラに気密に又は略気密に接触するバックアッ
プ回転ローラと、該各バックアップ回転ローラの回転を
許しつつ該ローラに気密に又は略気密に接触するととも
に前記の被処理物通路内面に対し気密に固定された固定
バックアップ部材とを含み、該主回転ローラ及びバック
アップ回転ローラの両端部が前記の磁性流体シール手段
によって気密にシールされているものを挙げることがで
きる。

【００１７】この場合一対の主回転ローラにおける少な
くとも被処理物挟着のための表層部の材質は、被処理物
の厚さ、形状等に応じて該被処理物にできるだけ気密に
接触してこれを挟着しつつ通過を許すように回転できる
ものであればよく、例えば、柔軟なウレタンゴム、シリ
コンゴム、ネオプレンゴム等のゴムを挙げることができ
る。

【００１８】また、バックアップ回転ローラは、硬質
で、固定バックアップ部材との摩擦抵抗が少ないものが
好ましく、例えば四フッ化エチレン樹脂からなるものが
考えられる。固定バックアップ部材も硬質なものが好ま
しく、例えば四フッ化エチレン樹脂からなるものが考え
られる。補助気密ゲートを設けるとき、前記シート状長
尺被処理物に気密に又は略気密に接触しつつその通過を
許す可撓性シール部材として、被処理物の通過位置を挟
んで突き合わせ状に配置される一対のシート状可撓性シ
ール部材を例示できる。或いは、比較的厚味の大きい長
尺被処理物についてその両側端面についても気密性を向
上させるために、前記一対のシート状可撓性シール部材
に加え、さらに、該一対のシール部材の両外側にそれぞ
れ設置されて該シール部材の側端面及び該シール部材の
間を通過する長尺被処理物の側端面に気密に又は略気密
に接触しつつ該被処理物の通過を許す可撓性のある一対
のシート状サイドシール部材を設けてもよい。

【００１９】いずれにしても、かかる可撓性シール部材
の材質としては、ウレタンゴム、シリコンゴム、ネオプ
レンゴム等のゴムを例示できる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。図１は本発明の１実施の形態である真空処理装置
の概略構成を示している。図２は図１のＸ−Ｘ線に沿う
断面及びＹ─Ｙ線に沿う断面を重ねて一緒に示す断面図
であり、図３は図２のＺ─Ｚ線に沿う断面図である。

【００２１】図示の真空処理装置は、中央に真空処理室
４を備えており、真空処理室４の一端には壁４１が設け
られ、その中央部にシート状長尺被処理物Ｓの通過を許
すだけの寸法のスリット４１１が設けられ、これが室４
の入口部となっている。真空処理室４の他端には壁４２
が設けられ、その中央部にシート状長尺被処理物Ｓの通
過を許すだけの寸法のスリット４２１が設けられ、これ
が室４の出口部となっている。

【００２２】真空処理室４の内部には、所定真空下でシ
ート状長尺被処理物Ｓの表面に所定の処理（成膜処理
等）を施す処理部４０が設けられている。入口スリット
４１１には周囲を壁部材５１で気密に囲まれた四角形筒
形状の被処理物Ｓの通路５２が連設されている。出口ス
リット４２１にも周囲を壁部材６１で気密に囲まれた四
角形筒形状の被処理物Ｓの通路６２が連設されている。

【００２３】通路５２には気密ゲート７が設けてあり、
該ゲート７と真空処理室４の一端壁４１との間に予備排
気室９１が形成されている。また、予備排気室９１にお
いて、前記壁４１に近い位置に補助気密ゲート８が設け
られている。通路６２にも、通路５２におけるものと同
構造の気密ゲート７が設けてあり、このゲート７と真空
処理室４の他端壁４２との間に予備排気室９２が形成さ
れている。また、予備排気室９２には、前記壁４２に近
い位置に、前記の予備排気室９１におけるものと同構造
の補助気密ゲート８が設けられている。

【００２４】真空処理室４及び予備排気室９１、９２に
は、それぞれ弁Ｖ４、Ｖ９１、Ｖ９２を介して排気ポン
プ１００が接続されている。前記の各気密ゲート７は、
図２及び図３に示すように、シート状長尺被処理物Ｓを
実質的に気密に挟着しつつ回転してその通過を許す一対
の上下の主回転ローラ７１、７１と、上側及び下側の各
主回転ローラ７１に実質的に気密に接触するバックアッ
プ回転ローラ７２と、各バックアップ回転ローラ７２に
その回転を許しつつ実質的に気密に接触するとともに被
処理物通路５２（６２）の壁部材５１（６１）内面に気
密に固定された固定バックアップ部材７３とを含んでい
る。

【００２５】各主回転ローラ７１は磁性金属芯棒７１１
の周囲に、芯棒７１１の両端部を残して柔軟なシリコン
ゴム層７１２を被覆したもので、芯棒７１１の各端には
軸棒７１３が突出しており、これは壁部材５１（６１）
に設けた回転軸受７１４に回転可能に支持されている。
一対の主回転ローラ７１、７１は、これらの間に被処理
物を挟着していないときは、互いに気密に接触してい
る。

【００２６】上下の各バックアップ回転ローラ７２は磁
性金属芯棒７２１の周囲に、芯棒７２１の両端部を残し
て硬質の四フッ化エチレン樹脂層７２２を被覆したもの
で、芯棒７２１の各端には軸棒７２３が突出しており、
これは壁部材５１（６１）に設けた回転軸受７２４に回
転可能に支持されている。一対の主回転ローラ７１、７
１及びこれらに接触する上下のバックアップ回転ローラ
７２、７２の磁性金属芯棒７１１、７１１、７２１、７
２１の各端部は一連に構成さた磁性流体シール装置７４
に囲繞され、気密にシールされている。このシール装置
７４は通路壁部材５１（６１）に気密に固定されたケー
シング７５に嵌着されている。

【００２７】上下の各固定バックアップ部材７３は硬質
の四フッ化エチレン樹脂から、断面形状にして略半楕円
形状に形成されており、隣合うバックアップ回転ローラ
７２に気密に接触しているとともに、両端が磁性流体シ
ール装置７４及びそのケーシング７５に気密に接触して
いる。一方の主回転ローラ７１は適当な伝動装置７６を
介してモータＭにより回転駆動される。該ローラ７１が
モータＭにより回転駆動されると、他方の主回転ローラ
７１及び各主回転ローラに当接しているバックアップ回
転ローラ７２、７２は相互接触摩擦力で従動回転する。
このとき各バックアップ回転ローラ７２は固定バックア
ップ部材７３に対し気密接触を維持して摺動する。

【００２８】なお、モータＭで回転駆動される主回転ロ
ーラ７１に対し他方の主回転ローラ７１及びバックアッ
プ回転ローラ７２、７２を歯車伝動装置等の適当な伝動
手段を介して従動可能に連結してもよい。各補助気密ゲ
ート８は、図１に示すように、被処理物Ｓの通過位置を
挟んで突き合わせ状に配置された可撓性のあるシリコン
ゴムシートからなる、上下一対の可撓性シール部材８
１、８１から構成されている。

【００２９】上側のシール部材８１はその上端及びそれ
に連続する両側端の一部が通路壁部材５１（６１）に気
密に接続され、両側端の残部が通路壁部材に気密状に摺
動可能に接触している。下側のシール部材８１はその下
端及びそれに連続する両側端の一部が通路壁部材５１
（６１）に気密に接続され、両側端の残部が通路壁部材
に気密状に摺動可能に接触している。両シール部材８
１、８１の間に被処理物Ｓが通っていないときは、上下
シール部材の突き合わせ部分は略気密状に相互接触して
いる。

【００３０】以上説明した真空処理装置では、真空処理
室４の被処理物入口スリット４１１に隣合う予備排気室
９１の外側に未処理のシート状長尺被処理物Ｓを巻き取
った第１のリールＲ１０を配置するとともに、真空処理
室４の被処理物出口スリット４２１に隣合う予備排気室
９２の外側に処理済のシート状長尺被処理物Ｓを巻き取
る第２のリールＲ２０を配置し、真空処理室４及び各予
備排気室９１、９２を弁Ｖ４、Ｖ９１、Ｖ９２の開度を
調整して排気ポンプ１００により所定の真空度に排気
し、真空処理室４においては処理部４０を処理に備え整
える。また、各気密ゲート７においてモータＭを運転
し、一方の主回転ローラ７１を送り回転駆動し、他のロ
ーラをこれに従動回転させる。

【００３１】しかるのち、リールＲ１０から被処理物Ｓ
の端を繰り出し、予備排気室９１における気密ゲート７
の一対の主回転ローラ７１、７１間に差し込むと、該対
ローラはその表層部の柔軟性で変形して被処理物Ｓを周
囲から実質的に気密に挟着しつつ被処理物Ｓを送り開始
する。このように搬送される被処理物Ｓは室９１の補助
気密ゲート８における上下の気密シール部材８１、８１
間に突入し、該シール部材は被処理物に実質上気密に接
触しつつその通過を許す。かくして被処理物Ｓは真空処
理室４に搬入されていき、処理部４０により所定の処理
を施され、引き続き予備排気室９２の補助気密ゲート８
の上下の気密シール部材８１、８１間に突入する。該シ
ール部材は処理済の被処理物Ｓに実質上気密に接触しつ
つその通過を許す。被処理物Ｓはさらに室９２の気密ゲ
ート７の一対の主回転ローラ７１、７１間に差し込まれ
る。該対ローラは被処理物Ｓを実質的に気密に挟着しつ
つ被処理物Ｓを送り出す。送り出された被処理物Ｓは第
２のリールＲ２０に接続され、これに巻き取られてい
く。かくして被処理物Ｓの各部に連続的に目的とする処
理が施され、最終的に処理済の被処理物Ｓが全量第２リ
ールＲ２０に巻き取られる。

【００３２】処理済長尺物を巻き取った第２リールＲ２
０は取り外され、次の工程や保管場所等へ搬送される。
続けて処理を行う場合は、空になった第１リールＲ１０
を次の被処理物を支持した新たなリールに交換するとと
もに、第２リールＲ２０のあった位置に空の巻き取り用
リールを設置する。以後は前記と同様にして被処理物に
対する処理を実施できる。このとき、真空処理室４に対
する新たなシート状長尺被処理物Ｓの搬入及び搬出は、
真空処理室４及び各予備排気室９１、９２の真空を破る
ことなく簡単に行うことができ、従って、新たな被処理
物についても所定の処理を容易に、生産性よく、また、
前回の処理と同様の条件でバラツキ少なく安定的に実施
できる。

【００３３】また、第１及び第２のリールＲ１０、Ｒ２
０は真空処理室４や予備排気室９１、９２に設置しなく
てよいので、真空処理装置全体をそれだけ小型にするこ
とができる。また、予備排気室９１、９２を形成してい
る気密ゲート７は、従来装置の予備真空室における、シ
ート状長尺被処理物を通過させるスリットと比べるとは
るかに気密性がよく、このことと装置を小型にできるこ
ととが相まって、排気ポンプ１００による各室の排気も
容易に迅速に行うことができ、それだけランニングコス
トを抑制できる。

【００３４】また、前記のとおり補助気密ゲート８を設
けてあるので、排気ポンプ１００による真空処理室４等
の排気を一層容易、迅速に行うことができ、また、気密
ゲート７の気密性が悪化する等の事態が発生しても、真
空処理室４の所定真空度を維持し易い利点がある。な
お、排気装置については、各室に対しそれぞれ設けても
よく、或いは適当に組み合わせた室に対しそれぞれ設け
てもよい。

【００３５】本発明の他の実施の形態として、以上説明
した真空処理装置における各補助気密ゲート８に代えて
図４に示す補助気密ゲート８０を採用してもよい。図４
は補助気密ゲート８０の、被処理物進行方向α左側部分
を示している。図示していないが右側部分はこの左側部
分に対し左右対称構造に形成されている。図４のゲート
は、可撓性のあるシリコンゴムシートからなる上下一対
のシート状可撓性シール部材８０１、８０１を含んでい
る。これら一対のシール部材８０１、８０１は上（下）
端が通路５２（６２）の天井部（底部）にそれぞれ気密
に取り付けられ、それと反対側の自由端部８０１ａが被
処理物Ｓの通過位置を挟んで突き合わせ状に配置されて
いる。これらの間に被処理物が通されていないとき、両
者は気密に又は略気密に接触しあっている。

【００３６】ゲート８０はまた、可撓性のあるシリコン
ゴムシートからなる左右一対のシート状サイドシール部
材８０２、８０２（図には左側のもののみ図示）を備え
ている。各サイドシール部材８０２は、被処理物Ｓの進
行方向αにおいて上流側の端部８０２ａが通路５２（６
２）の内側部に気密に取り付けられており、且つ、上下
端が通路５２（６２）の天井部及び底部に気密に又は略
気密に摺動可能に接触しており、さらに、上下のシール
部材８０１、８０１の側端面にも気密に又は略気密に接
している。

【００３７】被処理物Ｓは、上下シール部材８０１、８
０１と左右サイドシール部材８０２、８０２で囲まれる
部分８００に通され、この部分８００を通過するとき、
上下のシール部材８０１、８０１が被処理物の上下面に
気密に又は略気密に接触するとともに両サイドシール部
材８０２、８０２が被処理物Ｓの両側端面にも気密に又
は略気密に接する。このゲート８０は比較的厚味の大き
い被処理物Ｓの気密シールに適している。

【００３８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
所定真空下でシート状長尺被処理物の各部に所定の処理
を連続的に施すための真空処理装置であって、真空処理
室に対するシート状長尺被処理物の搬入及び搬出を該処
理室の所定真空状態を破ることなく繰り返し簡単に行う
ことができ、それだけ所定の処理を容易に、生産性よ
く、また、バラツキ少なく安定的に実施でき、しかも装
置全体を比較的小型にすることができ、また、ランニン
グコストも抑制できるシート状長尺被処理物の真空処理
装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の１実施形態である真空処理装置の概略
構成を示す図である。

【図２】図１のＸ−Ｘ線に沿う断面及びＹ─Ｙ線に沿う
断面を重ねて一緒に示す断面図である。

【図３】図２のＺ─Ｚ線に沿う断面図である。

【図４】補助気密ゲートの他の例の一部の概略斜視図で
ある。

【図５】従来の真空処理装置の１例の概略構成を示す図
である。

【図６】従来の真空処理装置の他の例の概略構成を示す
図である。

【符号の説明】

Ｓ シート状長尺被処理物 ４ 真空処理室 ４０ 真空処理部 ４１ 真空処理室４の一端壁 ４１１ スリット（入口部） ４２ 真空処理室４の他端壁 ４２１ スリット（出口部） ５１ 通路壁部材 ５２ 入口スリット４１１に連設された被処理物通路 ６１ 通路壁部材 ６２ 出口スリット４２１に連設された被処理物通路 ７ 気密ゲート ７１ 主回転ローラ ７１１ 磁性金属芯棒 ７１２ ローラ表層部 ７１３ 軸棒 ７１４ 回転軸受 ７２ バックアップ回転ローラ ７２１ 磁性金属芯棒 ７２２ ローラ表層部 ７２３ 軸棒 ７２４ 回転軸受 ７３ 固定バックアップ部材 ７４ 磁性流体シール装置 ７５ シール装置のケーシング ８ 補助気密ゲート ８１ シート状可撓性シール部材 ９１、９２ 予備排気室 １００ 排気ポンプ Ｖ４、Ｖ９１、Ｖ９２ 弁 ８０ 補助気密ゲート ８０１ シート状可撓性シール部材 ８０２ 可撓性のあるシート状サイドシール部材 ８００ 被処理物の通過部位

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定真空下でシート状長尺被処理物に所
   定の処理を施すための真空処理室の被処理物入口部及び
   出口部のそれぞれに周囲を壁部材で囲繞したシート状長
   尺被処理物通路を連設し、前記各通路に、前記シート状
   長尺被処理物を気密に又は略気密に挟着しつつ回転して
   その通過を許す回転ローラ群であって両端部が磁性流体
   シール手段によって気密にシールされたものを含む気密
   ゲートを１又は２以上設置して前記真空処理室の入口部
   及び出口部のそれぞれに１又は２以上の予備排気室を形
   成するとともに、前記真空処理室及び前記各予備排気室
   をそれぞれ所定真空状態にするための排気手段を設けた
   ことを特徴とするシート状長尺被処理物の真空処理装
   置。
2. 【請求項２】 前記予備排気室のうち少なくとも前記真
   空処理室に隣合う予備排気室において、該予備排気室を
   形成している前記気密ゲートより該真空処理室に近い位
   置に前記シート状長尺被処理物に気密に又は略気密に接
   触しつつその通過を許す可撓性シール部材からなる補助
   気密ゲートを設けた請求項１記載のシート状長尺被処理
   物の真空処理装置。