JPH1020197A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH1020197A5 JPH1020197A5 JP1996188365A JP18836596A JPH1020197A5 JP H1020197 A5 JPH1020197 A5 JP H1020197A5 JP 1996188365 A JP1996188365 A JP 1996188365A JP 18836596 A JP18836596 A JP 18836596A JP H1020197 A5 JPH1020197 A5 JP H1020197A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- catadioptric
- imaging
- concave mirror
- axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Description
【発明の名称】反射屈折光学系、その調整方法、投影露光装置及び投影露光方法
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は第1面に配置した物体上のパターンを、中間像を介して第2面に配置した物体上に投影露光するための反射屈折光学系、該反射屈折光学系の調整方法、該反射屈折光学系を用いた投影露光装置及び該反射屈折光学系を用いた投影露光方法に関するものである。
【発明の属する技術分野】
本発明は第1面に配置した物体上のパターンを、中間像を介して第2面に配置した物体上に投影露光するための反射屈折光学系、該反射屈折光学系の調整方法、該反射屈折光学系を用いた投影露光装置及び該反射屈折光学系を用いた投影露光方法に関するものである。
Claims (9)
- 第1面からの光束が往路のみ透過する往路光学系と、凹面鏡と該凹面鏡への入射光と反射光との双方が透過するレンズ群とからなる往復光学系とによって第1結像光学系を形成し、該第1結像光学系によって前記第1面の中間像を形成し、該中間像の近傍に前記第1結像光学系からの光束を第2結像光学系へ導くように第1のミラーを配置し、前記第2結像光学系によって前記中間像の再結像を第2面上に形成した反射屈折光学系において、
前記往路光学系内の少なくとも1枚のレンズを、光軸に沿って移動可能に、又は光軸と直交する方向に移動可能に、若しくは光軸と直交する軸を中心として回転可能に配置したことを特徴とする反射屈折光学系。 - 第1面からの光束が往路のみ透過する往路光学系と、凹面鏡と該凹面鏡への入射光と反射光との双方が透過するレンズ群とからなる往復光学系とによって第1結像光学系を形成し、該第1結像光学系によって前記第1面の中間像を形成し、該中間像の近傍に前記第1結像光学系からの光束を第2結像光学系へ導くように第1のミラーを配置し、前記第2結像光学系によって前記中間像の再結像を第2面上に形成した反射屈折光学系の調整方法であって、
前記往路光学系内の少なくとも1枚のレンズを、光軸に沿って移動可能に、又は光軸と直交する方向に移動可能に、若しくは光軸と直交する軸を中心として回転可能に配置し、
前記第1面にテストパターンを配置し、前記第2面に投影されるテストパターン上の一部分の結像位置を検出する位置検出手段を設け、
該位置検出手段を移動して前記テストパターン上の複数部分の結像位置を検出し、これら複数部分の結像位置に基づいて前記少なくとも1枚のレンズを移動することを特徴とする反射屈折光学系の調整方法。 - 第1面に配置される第1物体上のパターンを第2面に配置される第2物体上に投影する反射屈折光学系において、
凹面鏡を含み前記第1面の中間像を形成する第1結像光学系と、
前記中間像の像を前記第2面上に再結像する第2結像光学系と、
前記第1及び第2結像光学系の間に配置された第1のミラーとを備え、
前記第1結像光学系は、前記第1面と前記凹面鏡との間の光路中に配置されて前記第1面からの光路が往路のみ透過する往路光学系と、前記往路光学系と前記凹面鏡との間の光路中に配置されて前記凹面鏡への入射光と反射光との双方が透過する往復光学系とを備え、
前記往路光学系内の少なくとも1つのレンズは、光軸に沿って移動可能、前記光軸と直交する方向に移動可能、又は前記光軸と直交する軸を中心として回転可能であることを特徴とする反射屈折光学系。 - 前記第1のミラーは、前記第1結像光学系からの光束を前記第2結像光学系へ導くように配置されることを特徴とする請求項3記載の反射屈折光学系。
- 第1面に配置される第1物体上のパターンの中間像を形成し、該中間像の像を第2面に配置される第2物体上に投影する反射屈折光学系において、
凹面鏡と、
前記第1面からの光束が往路のみ透過する往路光学系と、
前記凹面鏡への入射光と反射光との双方が透過する往復光学系とを備え、
前記往復光学系内の少なくとも1つのレンズは、光軸に沿って移動可能、前記光軸と直交する方向に移動可能、又は前記光軸と直交する軸を中心として回転可能であることを特徴とする反射屈折光学系。 - 第1面に配置される第1物体上のパターン中間像を形成し、該中間像の像を第2面に配置される第2物体上に投影する反射屈折光学系の調整方法であって、
前記反射屈折光学系は、凹面鏡と、前記第1面からの光束が往路のみ通過する往路光学系と、前記凹面鏡への入射光と反射光との双方が透過する往復光学系とを備え、
前記往復光学系内の少なくとも1つのレンズは、光軸に沿って移動可能、前記光軸と直交する方向に移動可能、又は前記光軸と直交する軸を中心として回転可能であって、
前記反射屈折光学系を介した前記第1面からの光に基づいて、前記少なくとも1つのレンズを移動させて、前記反射屈折光学系の収差を補正することを特徴とする反射屈折光学系の調整方法。 - 前記反射屈折光学系により前記第2面上に形成された前記第1面の像の検出結果に基づいて前記反射屈折光学系の収差を補正することを特徴とする請求項6記載の反射屈折光学系の調整方法。
- 第1面に配置される第1物体上のパターンを第2面に配置される第2物体上に投影する投影露光装置において、
前記第1物体上の前記パターンの像を前記第2物体上に投影するために、請求項1、3〜5の何れか一項記載の反射屈折光学系、または請求項2、6、7の何れか一項記載の調整方法により調整された反射屈折光学系を備えることを特徴とする投影露光装置。 - 第1面に配置される第1物体上のパターンを第2面に配置される第2物体上に投影する投影露光方法において、
請求項1、3〜5の何れか一項記載の反射屈折光学系、または請求項2、6、7の何れか一項記載の調整方法により調整された反射屈折光学系を用いて、前記第1物体上の前記パターンの像を前記第2物体上に投影する工程を含むことを特徴とする投影露光方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8188365A JPH1020197A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 反射屈折光学系及びその調整方法 |
| KR1019970022137A KR100470953B1 (ko) | 1996-06-28 | 1997-05-30 | 반사굴절광학계및그조정방법 |
| US08/882,939 US5835284A (en) | 1996-06-28 | 1997-06-26 | Catadioptric optical system and adjusting method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8188365A JPH1020197A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 反射屈折光学系及びその調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1020197A JPH1020197A (ja) | 1998-01-23 |
| JPH1020197A5 true JPH1020197A5 (ja) | 2004-10-21 |
Family
ID=16222350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8188365A Pending JPH1020197A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 反射屈折光学系及びその調整方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5835284A (ja) |
| JP (1) | JPH1020197A (ja) |
| KR (1) | KR100470953B1 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6512631B2 (en) * | 1996-07-22 | 2003-01-28 | Kla-Tencor Corporation | Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system |
| US5969882A (en) * | 1997-04-01 | 1999-10-19 | Nikon Corporation | Catadioptric optical system |
| AU2747899A (en) | 1998-03-20 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Photomask and projection exposure system |
| EP1079253A4 (en) | 1998-04-07 | 2004-09-01 | Nikon Corp | DEVICE AND PROCESS FOR PROJECTION EXPOSURE, AND OPTICAL SYSTEM WITH REFLECTION AND REFRACTION |
| EP0964307A3 (en) * | 1998-06-08 | 2001-09-05 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
| US6451507B1 (en) | 1998-08-18 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method |
| JP4717974B2 (ja) * | 1999-07-13 | 2011-07-06 | 株式会社ニコン | 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置 |
| JP4532647B2 (ja) * | 2000-02-23 | 2010-08-25 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| US7301605B2 (en) * | 2000-03-03 | 2007-11-27 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices |
| JP2002083766A (ja) | 2000-06-19 | 2002-03-22 | Nikon Corp | 投影光学系、該光学系の製造方法、及び前記光学系を備えた投影露光装置 |
| DE10136387A1 (de) * | 2001-07-26 | 2003-02-13 | Zeiss Carl | Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie |
| US7136220B2 (en) * | 2001-08-21 | 2006-11-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric reduction lens |
| TW575904B (en) * | 2001-08-21 | 2004-02-11 | Asml Us Inc | Optical projection for microlithography |
| DE102006038398A1 (de) * | 2006-08-15 | 2008-02-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61156737A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-16 | Canon Inc | 回路の製造方法及び露光装置 |
| US5052763A (en) * | 1990-08-28 | 1991-10-01 | International Business Machines Corporation | Optical system with two subsystems separately correcting odd aberrations and together correcting even aberrations |
| JPH0821955A (ja) * | 1994-07-07 | 1996-01-23 | Nikon Corp | 反射屈折縮小投影光学系 |
| US5668673A (en) * | 1991-08-05 | 1997-09-16 | Nikon Corporation | Catadioptric reduction projection optical system |
| JPH06331932A (ja) * | 1993-05-19 | 1994-12-02 | Topcon Corp | 投影光学装置 |
| JP2817615B2 (ja) * | 1994-01-31 | 1998-10-30 | 日本電気株式会社 | 縮小投影露光装置 |
| JP3232473B2 (ja) * | 1996-01-10 | 2001-11-26 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
| EP1079253A4 (en) * | 1998-04-07 | 2004-09-01 | Nikon Corp | DEVICE AND PROCESS FOR PROJECTION EXPOSURE, AND OPTICAL SYSTEM WITH REFLECTION AND REFRACTION |
-
1996
- 1996-06-28 JP JP8188365A patent/JPH1020197A/ja active Pending
-
1997
- 1997-05-30 KR KR1019970022137A patent/KR100470953B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-26 US US08/882,939 patent/US5835284A/en not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH1020197A5 (ja) | ||
| JP2830492B2 (ja) | 投影露光装置及び投影露光方法 | |
| EP0783135B1 (en) | Imaging-apparatus and method for manufacture of microdevices | |
| US4901109A (en) | Alignment and exposure apparatus | |
| JP4183228B2 (ja) | 投影露光装置、ならびに、特にミクロリソグラフィのための投影露光装置の投影光学系で発生する結像誤差を補正する方法 | |
| US4473293A (en) | Step-and-repeat projection alignment and exposure system | |
| CA2424169A1 (en) | Method and apparatus for measuring wavefront aberrations | |
| KR970072024A (ko) | 투영노광장치 | |
| JPS59100805A (ja) | 物体観察装置 | |
| JPH09311278A5 (ja) | ||
| JPH04218909A (ja) | 位置付け方法、半導体デバイスの製造方法及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JPH08153662A (ja) | ステージ移動制御装置及び投影型露光装置 | |
| JPH10172878A5 (ja) | ||
| JP4478302B2 (ja) | 干渉装置及びそれを搭載した半導体露光装置 | |
| JPH09293676A5 (ja) | ||
| JPH1050585A5 (ja) | ||
| JPH1020197A (ja) | 反射屈折光学系及びその調整方法 | |
| JPH10223525A5 (ja) | ||
| JP2000147382A (ja) | 偏光光学補正対物レンズ | |
| KR101985859B1 (ko) | 노광 광학계에서 dmd를 정렬하기 위한 장치 및 그 방법 | |
| JPH05259031A (ja) | 傾き検出装置 | |
| JPH0744138B2 (ja) | 位置合わせ装置 | |
| JP2765162B2 (ja) | 照明装置 | |
| JPH09260252A5 (ja) | ||
| JPH05343292A (ja) | 露光装置 |