JPH10241131A - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

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JPH10241131A
JPH10241131A JP4339397A JP4339397A JPH10241131A JP H10241131 A JPH10241131 A JP H10241131A JP 4339397 A JP4339397 A JP 4339397A JP 4339397 A JP4339397 A JP 4339397A JP H10241131 A JPH10241131 A JP H10241131A
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JP
Japan
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magnetic head
film magnetic
thin
polishing
fixing
Prior art date
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JP4339397A
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English (en)
Inventor
Takashi Hayasaka
孝 早坂
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄膜磁気ヘッドのABS面の面粗度を小と
し、記録再生信号のスペーシングロスを小とする薄膜磁
気ヘッドおよびその製造方法の提供。 【解決手段】 薄膜磁気ヘッド2aを薄膜磁気ヘッド固
定治具7に固定して磁気記録媒体記録面の対向面である
ABS面を研磨する工程が、ABS面に形成される研磨
痕方向を空気流入溝6形成方向と直交する方向の一方向
のみに形成する仕上げ工程を有することを特徴とするも
のであり、薄膜磁気ヘッド2aの空気流入溝6の形成方
向を薄膜磁気ヘッド固定治具7の回転中心を通る中心線
方向に固定する工程と、ABS面を研磨装置の定盤8に
圧接させるとともに薄膜磁気ヘッド固定治具7と定盤8
を何れも回転させてABS面に仕上げ代を残して研磨す
る工程と、定盤8の回転を停止し、薄膜磁気ヘッド固定
治具7のみの回転によりABS面の仕上げ代を研磨する
工程とを有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は薄膜磁気ヘッドおよ
びその製造方法に関し、さらに詳しくは、磁気記録媒体
との対向面に形成される研磨痕形成方向に特徴を有する
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録においては高密度記録を
実現するために短波長記録が行われている。ところで、
この短波長記録を阻害する要因の一つに、磁気ヘッドと
磁気記録媒体との間に薄い空気層が生じて記録再生信号
を劣化させるスペーシングロスがある。このスペーシン
グロスを小とする有効な手段の一つは、磁気ヘッドの磁
気記録媒体記録面との対向面粗度を極力小に仕上げるこ
とである。以下、ハードディスク駆動装置などに搭載さ
れる薄膜磁気ヘッドの製造方法について図面を参照して
説明する。
【0003】先ず、図1の概略平面図に示したように、
ウェハ1上に蒸着、スパッタリングあるいはエッチング
などの真空薄膜形成技術により複数の薄膜磁気ヘッド素
子2をマトリックス状に形成する。
【0004】次に、図2の概略平面図に示したように、
薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体記録面との対向面(以
下、単にAir Bearing Surfaceを略
したABS面と記す)となるABS面4が一方向に揃う
方向からウェハ1を切断し、複数の薄膜磁気ヘッド素子
2を一列に連設した短冊状のブロック3を形成する。
【0005】次に、図3の概略側面図に示したように、
薄膜磁気ヘッド素子2のABS面4を上面にしてブロッ
ク3をブロック固定治具5に接着などで固定する。そし
て、薄膜磁気ヘッド素子2のギャップデプスが所定の値
となるようにABS面4を研磨する。
【0006】次に、図4の概略平面図に示したように、
ABS面4をエッチングして空気流入溝6を形成する。
【0007】次に、図5の概略平面図に示したように、
薄膜磁気ヘッド素子2を一個毎に切断する。これが一個
の薄膜磁気ヘッド2aとなる。
【0008】次に、図6の概略平面図に示したように、
薄膜磁気ヘッド2aのABS面4を上面にして円盤状の
薄膜磁気ヘッド固定治具7の外周縁部に接着などで固定
する。そして、図7の概略平面図に示したように、研磨
機の定盤8に薄膜磁気ヘッド2aのABS面4が圧接す
るように薄膜磁気ヘッド固定治具7をセットし、研磨装
置の定盤8と薄膜磁気ヘッド固定治具7を何れも回転さ
せてABS面4の研磨を行う。以上の工程を経て、薄膜
磁気ヘッド2aが完成する。
【0009】しかしながら、研磨装置の定盤8と薄膜磁
気ヘッド固定治具7とを何れも回転させてABS面4の
研磨を行った場合、図8におけるA部の概略拡大図であ
る図11に示したように研磨痕10がランダムに形成さ
れ、ABS面4の表面粗度を小とすることが困難となっ
ていた。このようなランダムの研磨痕10がABS面4
にあると、現状では図11における概略C−C断面図で
ある図12に示したように、空気流入溝6を挟んで両側
に形成されているレール14のうちの一方のレール14
に記録ギャップ12および再生ギャップ13が形成され
ているコア部9において、レール上面15と金属膜11
上面との段差Cを10nm、レール上面15と金属膜構
成面16との段差Dを13nmとするのが限界であり、
記録再生信号のスペーシングロスを小にしてより短波長
記録の実現を図る上で、これを阻害する一要因となって
いた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、薄膜
磁気ヘッドの磁気記録媒体記録面との対向面であるAB
S面の面粗度を小とし、記録再生信号のスペーシングロ
スを小とする薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供
することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1の発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、
ウェハ上に薄膜磁気ヘッド素子を所定間隔でマトリック
ス状に形成する工程と、薄膜磁気ヘッド素子のABS面
を一方向に揃えて複数個の薄膜磁気ヘッド素子が一列に
連設する短冊状のブロックに切り出す工程と、ブロック
固定治具に固定されたブロックのABS面の研磨により
ギャップデプスと空気流入溝とを形成する工程と、ブロ
ックを切断して一個の薄膜磁気ヘッド素子を有する薄膜
磁気ヘッドを形成する工程と、薄膜磁気ヘッドのABS
面を上面にして円盤状の固定治具に固定する工程と、薄
膜磁気ヘッドのABS面を研磨装置の定盤に圧接させる
とともに、薄膜磁気ヘッドを固定した固定治具と研磨装
置の定盤を何れも回転させてABS面を研磨する工程と
を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、薄膜磁気
ヘッドを固定治具に固定する工程が、薄膜磁気ヘッドの
空気流入溝の形成方向を固定治具の回転中心を通る中心
線方向に固定する工程であり、薄膜磁気ヘッドを固定治
具に固定して薄膜磁気ヘッドのABS面を研磨する工程
が、ABS面を研磨装置の定盤に圧接させるとともに、
薄膜磁気ヘッドを固定した固定治具と研磨装置の定盤を
何れも回転させてABS面に仕上げ代を残して研磨する
工程と、研磨装置の定盤の回転を停止し、薄膜磁気ヘッ
ドを固定した固定治具のみの回転によりABS面の仕上
げ代を研磨する工程とを有することを特徴とする。
【0012】請求項2の発明の薄膜磁気ヘッドの製造方
法では、ウェハ上に薄膜磁気ヘッド素子を所定間隔でマ
トリックス状に形成する工程と、薄膜磁気ヘッド素子の
ABS面を一方向に揃えて複数個の薄膜磁気ヘッド素子
が一列に連設する短冊状のブロックに切り出す工程と、
ブロック固定治具に固定されたブロックのABS面の研
磨によりギャップデプスと空気流入溝とを形成する工程
と、ブロックを切断して一個の薄膜磁気ヘッド素子を有
する薄膜磁気ヘッドを形成する工程と、薄膜磁気ヘッド
のABS面を上面にして円盤状の固定治具に固定する工
程と、薄膜磁気ヘッドのABS面を研磨装置の定盤に圧
接させるとともに、薄膜磁気ヘッドを固定した固定治具
と研磨装置の定盤を何れも回転させて研磨する工程とを
有する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、薄膜磁気ヘ
ッドを固定治具に固定する工程が、薄膜磁気ヘッドに形
成された空気流入溝の形成方向を一方向に揃えて固定す
る工程であり、薄膜磁気ヘッドを固定治具に固定してA
BS面を研磨する工程が、薄膜磁気ヘッドのABS面を
研磨装置の定盤に圧接させるとともに、薄膜磁気ヘッド
を固定した固定治具と研磨装置の定盤を何れも回転させ
て、薄膜磁気ヘッドのABS面に仕上げ代を残して研磨
する工程と、薄膜磁気ヘッドを固定した固定治具を空気
流入溝の形成方向が研磨装置定盤の回転方向と直交方向
となる位置で停止させ、研磨装置の定盤のみの回転によ
り薄膜磁気ヘッドのABS面の仕上げ代を研磨する工程
とを有することを特徴とする。
【0013】請求項3の発明の薄膜磁気ヘッドは、上記
した請求項1または請求項2の薄膜磁気ヘッドの製造方
法により得られるものであり、磁気記録媒体記録面との
対向面であるABS面が、ABS面に形成されている空
気流入溝形成方向の直交方向の一方向のみに研磨痕を有
するものであることを特徴とする。
【0014】上述した手段による作用としては、薄膜磁
気ヘッドのABS面に形成される研磨痕を空気流入溝形
成方向の直交方向の一方向のみで仕上げることができ、
薄膜磁気ヘッドのABS面の面粗度を小とすることがで
きることである。また、薄膜磁気ヘッドのABS面に形
成されている空気流入溝を挟んで両側に形成されたレー
ルのうちの一方のレールに記録ギャップおよび再生ギャ
ップが形成されているコア部において、レール上面と記
録ギャップおよび再生ギャップを構成する三本の平行な
金属膜上面との段差、レール上面と三本の平行な金属膜
が構成されている面との段差を従来よりも小とすること
ができるので、記録再生信号のスペーシングロスを小と
することができることである。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方
法では、薄膜磁気ヘッドを固定治具に固定して磁気記録
媒体記録面の対向面であるABS面を研磨する工程が、
ABS面に形成される研磨痕方向を空気流入溝形成方向
と直交する方向の一方向のみに形成する仕上げ工程を有
し、ABS面の面粗度を小に仕上げることを特徴とす
る。以下、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造工程について
図面を参照して説明するが、従来例において図1〜図5
を参照して説明した事例の、ブロック3を切断して一個
の薄膜磁気ヘッド素子2を有する薄膜磁気ヘッド2aを
形成するまでの工程は同様であるので、重複する説明は
省略する。なお、図中の構成要素で従来の技術と同様の
構造を成しているものについては、同一の参照符号を付
すものとする。
【0016】図6の概略平面図に示したように、薄膜磁
気ヘッド2aのABS面4を上面にして、薄膜磁気ヘッ
ド固定治具7の外周縁部に接着固定する。このとき、固
着する全ての薄膜磁気ヘッド2aの固定する方向は、空
気流入溝6の形成されている方向が薄膜磁気ヘッド固定
治具7の回転中心方向となるように揃える。
【0017】次に、図7の概略平面図に示したように、
研磨機の定盤8に薄膜磁気ヘッド2aのABS面4が圧
接するように薄膜磁気ヘッド固定治具7をセットし、定
盤8と薄膜磁気ヘッド固定治具7を何れも回転させてA
BS面4を研磨し、ABS面4に仕上げ代を残して定盤
8の回転を停止し、薄膜磁気ヘッド固定治具7のみの回
転によりABS面4の仕上げ代を研磨する。このよう
に、定盤8を停止し薄膜磁気ヘッド固定治具7のみの回
転によるABS面4の仕上げ代の研磨を行えば、図8に
おけるA部の拡大図である図9の図中に示した矢印方
向、すなわち空気流入溝6の形成方向と直交する方向の
一方向のみに研磨痕10が形成されることとなり、AB
S面4の面粗度を小に仕上げることができる。また、図
9における概略B−B断面図であり、従来の技術におい
て参照した図11における概略C−C断面図と共通の図
12に示したレール上面15と金属膜11上面との段差
Cが従来の10nmよりも3nm小である7nm、レー
ル上面15と金属膜構成面16との段差Dが従来の13
nmよりも3nm小である10nmと何れも小に形成す
ることができた。
【0018】上記に示した事例のように、空気流入溝6
の形成方向と直交する方向の一方向のみに研磨痕10を
ABS面4に形成する他の手段による工程としては、図
10の概略平面図に示したように、薄膜磁気ヘッド固定
治具7に固定する薄膜磁気ヘッド2aの固定方向を、空
気流入溝6が一方向となるように揃えて固定する。そし
て、空気流入溝6の方向が定盤8の回転方向と直交する
状態で薄膜磁気ヘッド固定治具7の回転を停止させ、研
磨装置の定盤8のみの回転によりABS面4の仕上げ代
を研磨する工程としても良い。この工程により、空気流
入溝6の形成方向と直交する方向の一方向のみに研磨痕
10が形成されることとなり、ABS面4の面粗度を小
に仕上げることができる。また、レール上面15と金属
膜11上面との段差Cが従来の10nmよりも3nm小
である7nm、レール上面15と金属膜構成面16との
段差Dが従来の13nmよりも3nm小である10nm
と何れも小に形成することができた。
【0019】
【発明の効果】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法によ
れば、薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体記録面との対向面
であるABS面の面粗度を小にすることができ、記録再
生信号のスペーシングロスを小とする薄膜磁気ヘッドお
よびその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 ウェハ上に薄膜磁気ヘッド素子を形成した状
態の、概略平面図である。
【図2】 ウェハを切断し、複数の薄膜磁気ヘッドが一
列に連設したブロックの、概略平面図である。
【図3】 ブロックをブロック固定治具に固定した状態
の、概略側面図である。
【図4】 ブロックのABS面に空気流入溝を形成した
状態の、概略平面図である。
【図5】 ブロックを切断し、一個の薄膜磁気ヘッド素
子を有する薄膜磁気ヘッドを形成した状態の概略平面図
である。
【図6】 薄膜磁気ヘッドを薄膜磁気ヘッド固定治具に
固定した状態の、概略平面図である。
【図7】 研磨装置の定盤に薄膜磁気ヘッド固定治具を
セットした状態の、概略平面図である。
【図8】 薄膜磁気ヘッドの概略平面図である。
【図9】 図8における概略A部拡大図である。
【図10】 薄膜磁気ヘッドを薄膜磁気ヘッド固定治具
に固定した状態の、概略平面図である。
【図11】 図8における概略A部拡大図であり、従来
の工程により形成される研磨痕の状態を示すものであ
る。
【図12】 図9における概略B−B断面図および図1
1における概略C−C断面図である。
【符号の説明】
1…ウェハ、2…薄膜磁気ヘッド素子、2a…薄膜磁気
ヘッド、3…ブロック、4…ABS面、5…ブロック固
定治具、6…空気流入溝、7…薄膜磁気ヘッド固定治
具、8…定盤、9…コア部、10…研磨痕、11…金属
膜、12…記録ギャップ、13…再生ギャップ、14…
レール、15…レール上面、16…金属膜構成面

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェハ上に薄膜磁気ヘッド素子を所定間
    隔でマトリックス状に形成する工程と、 前記薄膜磁気ヘッド素子の磁気記録媒体記録面との対向
    面となる側を一方向に揃えて、複数個の前記薄膜磁気ヘ
    ッド素子が一列に連設する短冊状のブロックに切り出す
    工程と、 前記対向面に空気流入溝を形成する工程と、 前記ブロックを切断し、一個の前記薄膜磁気ヘッド素子
    を有する薄膜磁気ヘッドを形成する工程と、 前記対向面を上面にして前記薄膜磁気ヘッドを固定治具
    に固定する工程と、 前記対向面を研磨装置の定盤に圧接させるとともに、前
    記固定治具と前記定盤を何れも回転させて研磨する工程
    とを有する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、 前記薄膜磁気ヘッドを前記固定治具に固定する工程が、
    前記空気流入溝の形成方向を前記固定治具の回転中心を
    通る中心線方向に固定する工程であり、 前記対向面を研磨する工程が、 前記対向面を前記定盤に圧接させるとともに、前記固定
    治具と前記定盤を何れも回転させて前記対向面に仕上げ
    代を残して研磨する工程と、 前記定盤の回転を停止し、前記固定治具のみの回転によ
    り前記仕上げ代を研磨する工程とを有することを特徴と
    する薄膜磁気ヘッドの製造方法。
  2. 【請求項2】 ウェハ上に薄膜磁気ヘッド素子を所定間
    隔でマトリックス状に形成する工程と、 前記薄膜磁気ヘッド素子の磁気記録媒体記録面との対向
    面となる側を一方向に揃えて、複数個の前記薄膜磁気ヘ
    ッド素子が一列に連設する短冊状のブロックに切り出す
    工程と、 前記対向面に空気流入溝を形成する工程と、 前記ブロックを切断し、一個の前記薄膜磁気ヘッド素子
    を有する薄膜磁気ヘッドを形成する工程と、 前記対向面を上面にして前記薄膜磁気ヘッドを固定治具
    に固定する工程と、 前記対向面を研磨装置の定盤に圧接させるとともに、前
    記固定治具と前記定盤を何れも回転させて研磨する工程
    とを有する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、 前記薄膜磁気ヘッドを前記固定治具に固定する工程が、
    前記空気流入溝の形成方向を一方向に揃えて固定する工
    程であり、 前記対向面を研磨する工程が、 前記対向面を前記定盤に圧接させるとともに、前記固定
    治具と前記定盤を何れも回転させて前記対向面に仕上げ
    代を残して研磨する工程と、 前記固定治具を前記空気流入溝の形成方向が前記定盤の
    回転方向と直交方向となる位置で停止させ、前記定盤の
    みの回転により前記仕上げ代を研磨する工程とを有する
    ことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
  3. 【請求項3】 磁気記録媒体記録面との対向面に空気流
    入溝が形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記対向面が、前記空気流入溝形成方向の直交方向の一
    方向のみに研磨痕を有するものであることを特徴とする
    薄膜磁気ヘッド。
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