JPH10249113A - 風呂給湯器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 浴槽水の循環用水回路に堆積する垢や各種細
菌を浄化する。 【解決手段】 浴槽水を循環する浴槽循環水通路３１
と、この浴槽循環水通路３１に給水する給湯通路３２
と、前記浴槽循環水通路３１に設けた循環ポンプ９およ
びろ過槽２１と、前記浴槽循環水通路３１の少なくとも
戻り通路側に残留塩素を含有した水を一定時間毎に通水
させる制御部３０とを備えた構成としてあり、浴槽循環
水が流れる戻り通路側に、残留塩素を含有した水を一定
時間毎に通水することにより、浴槽循環水通路３１の垢
堆積を洗浄あるいは軽減浄化するとともに、各種細菌を
殺菌浄化し、浴槽循環水通路を常にきれいに、清潔に保
つことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は浴槽循環水通路を浄
化・殺菌できる風呂給湯器に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の風呂給湯器は、図１３に示すよう
な構成になっていた。図１３において、水は水入口より
水量センサ１、水温センサ２を通り、給湯熱交換器３で
熱源４（ガス、灯油等の燃焼または電気ヒータ）の熱を
吸収して、給湯センサ５、水量制御弁６を通り、湯出口
より放出される。

【０００３】浴槽１２へのお湯はりは、給湯熱交換器３
で熱を吸収したお湯が給湯センサ５、水量制御弁６を通
り、注湯電磁弁７、縁切弁８、風呂熱交換器１８、切換
弁Ｂ２０、ろ過槽２１、切換弁Ｃ２２、往き通路１３お
よび循環ポンプ９、戻り通路１４を各々通り、循環用ア
ダプタ１０から浴槽に吐出する。

【０００４】そして、浴槽水１１は循環ポンプ９によ
り、浴槽１２に取りつけられた循環用アダプタ１０、戻
り通路１４、切換弁Ａ１５、風呂センサ１６、水流スイ
ッチ１７、風呂熱交換器１８、切換弁Ｂ２０、ろ過槽２
１、切換弁Ｃ２２、往き通路１３、循環用アダプタ１０
と循環し、汚れ成分を前記ろ過槽２１でろ過浄化すると
ともに、風呂センサ１６で検出する浴槽水１１の水温が
低下したときは、風呂熱交換器１８で熱源１９（ガス、
灯油等の燃焼または電気ヒータ）の熱を吸収して、浴槽
水１１を加熱する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の風呂給湯器では、単に浴槽水の汚れ成分である比較
的大きな垢粒子（おおよそ１０ミクロン以上）を浴槽循
環水通路のろ過槽２１でろ過浄化できるが、複数の人が
続けて入浴したり、浴槽水を続けて使用することによっ
て生じる微細粒子（約１ミクロン程度）の各種細菌（一
般細菌、大腸菌等）による汚れ成分をろ過槽２１では十
分ろ過浄化できず、浴槽循環水通路は汚れ、不清潔にな
りやすい。さらに重要なことは、浴槽循環水通路の接続
部分は、凹凸構成部で、水の流れが悪く（乱流大）、各
種細菌の栄養源となる垢が堆積しやすく、また各種細菌
が増殖しやすい環境となっている。特に、ろ過槽入口ま
では、浴槽水の汚れ成分はそのまま循環するため、さら
に不清潔になりやすく、これらをきれいに、清潔にする
ためには浴槽水を常時交換し、浴槽の掃除をするか、洗
浄剤で通水洗浄するかして強制的に洗浄しなければなら
ないため、大変不経済で手間のかかる作業であるという
課題を有していた。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、浴槽循環水通路に循環ポンプおよびろ過槽
を設け、かつ前記浴槽循環水通路の少なくとも戻り通路
側に残留塩素を含有した水を一定時間毎に通水させる制
御部を設けた構成としてある。

【０００７】上記発明によれば、浴槽水の汚れ成分であ
る比較的大きな垢粒子をろ過槽でろ過浄化させ、浴槽循
環水通路の凹凸構成部への垢堆積を新鮮な給水、給湯の
通水力で洗浄もしくは軽減し各種細菌の増殖を抑えると
ともに、ろ過槽でろ過浄化しにくい小さな各種細菌を殺
菌能力のある残留塩素を含有した給水により、殺菌浄化
することにより、浴槽循環水通路を常にきれいに、清潔
に保つことができる。また浴槽循環水通路を常にきれい
に、清潔に保つことによって、再吐出する汚れ成分を防
止し、複数の人が続けて入浴したり、浴槽水を続けて使
用することができる。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１に係る風呂給湯
器は、浴槽水を循環する浴槽循環水通路と、この浴槽循
環水通路に給水する給湯通路と、前記浴槽循環水通路に
設けた循環ポンプおよびろ過槽と、前記浴槽循環水通路
の少なくとも戻り通路側に残留塩素を含有した水を一定
時間毎に通水させる制御部とを備えた構成としてあり、
浴槽循環水が流れる戻り通路側に、残留塩素を含有した
水を一定時間毎に通水することにより、浴槽循環水通路
の垢堆積を洗浄あるいは軽減浄化するとともに、各種細
菌を殺菌浄化し、浴槽循環水通路を常にきれいに、清潔
に保つことができる。

【０００９】また請求項２に係る風呂給湯器は、浴槽水
を循環する浴槽循環水通路と、この浴槽循環水通路に給
水する給湯通路と、前記浴槽循環水通路に設けた循環ポ
ンプ、ろ過槽および水位センサと、前記浴槽循環水通路
の少なくとも戻り通路側に残留塩素を含有した水を水位
センサが検出した水位低下分だけ通水する制御部とを備
えた構成としてあり、残留塩素を含有した水を水位セン
サが検出した水位低下分だけ通水することにより、浴槽
循環水通路の垢堆積を洗浄あるいは軽減浄化するととも
に、各種細菌を殺菌浄化し、浴槽循環水通路を常にきれ
いに、清潔に保つことができる。

【００１０】さらに請求項３に係る風呂給湯器は、制御
部は残留塩素を含有した水を戻り通路の全容量分以上通
水後、一定時間滞留させる構成としてあり、少なくとも
戻り通路の全容量分以上通水後、残留塩素を含有した給
水を一定時間滞留させることにより、より時間的な殺菌
効果を大きくして浄化することができる。

【００１１】また請求項４に係る風呂給湯器は、制御部
は残留塩素を含有した水を冷水または温水あるいは冷水
と温水の繰り返し通水させる構成としてあり、冷水また
は温水あるいは冷水と温水を繰り返し通水させることに
より、冷通水は、残留塩素の分解を遅くらせ残留塩素濃
度を保持させて殺菌効果をより大きくし、温水通水は浴
槽循環水通路の凹凸部への堆積付着垢の付着力を小さく
させ、垢堆積を洗浄または軽減して、浄化能力を大きく
することができる。

【００１２】また請求項５に係る風呂給湯器は、残留塩
素を含有した水の温度を５５℃以上としてあり、残留塩
素濃度が低下しても、高温水による各種細菌を高温で殺
菌し、残留塩素殺菌と高温殺菌の相乗殺菌効果により、
殺菌時間を短時間にすることができる。

【００１３】また請求項６に係る風呂給湯器は、残留塩
素を含有した水として、水道水を用いる構成としてあ
り、一般家庭に供給されている水道水を使用することが
できるため、利便性と経済性に優れた浄化ができる。

【００１４】（実施例１）以下、本発明の実施例１にお
ける風呂給湯器について図面を用いて説明する。なお、
従来と同一構成要素のものについては同一番号を付し説
明する。

【００１５】図１において、２４は加熱源７をバイパス
するバイパス路、２５は上部往き通路、２６は下部往き
通路で、これら両通路２５、２６への浴槽循環水の流れ
は切換弁Ｂ２０、切換弁Ｃ２２の切り換えによって切り
換えられる。すなわち、浴槽循環水を浄化する時にはこ
の循環水がろ過槽２１を上から下向きに流れるように、
そしてろ過槽２１内を洗浄するときは循環水がろ過槽２
１内を下から上向きに逆流するようにしてろ過槽２１に
堆積した汚れ成分を排出口２１ａから排出する逆洗浄を
行なうようになっている。３０は上記各切換弁Ａ１５、
Ｂ２０、Ｃ２２、注湯電磁弁７、循環ポンプ９、熱源
４、１９等を制御するもので、それらの制御は以下の動
作説明で行う。

【００１６】まず、浴槽１２へのお湯はりは、水量セン
サ１、給湯熱交換器３で熱源４の熱を吸収したお湯が給
湯センサ５、水量制御弁６を通り、注湯電磁弁７、縁切
弁８、往き通路１３および戻り通路１４を通り、循環用
アダプタ１０から浴槽１２に吐出される。

【００１７】一方、浴槽水１１は循環ポンプ９により、
浴槽１２に取りつけた循環用アダプタ１０、戻り通路１
４、切換弁Ａ１５、循環ポンプ９、風呂センサ１６、水
流スイッチ１７、切換弁Ｄ２３、風呂熱交換器１８、上
部往き通路２５、切換弁Ｂ２０、ろ過槽２１、切換弁Ｃ
２２、往き通路１３および循環用アダプタ１０からなる
浴槽循環水通路３１を循環する。そして前記ろ過槽２１
を通る際に浴槽循環水の汚れ成分をろ過浄化する。ま
た、浴槽循環水通路３１の風呂センサ１６により、浴槽
水１１の湯温を検知し、湯温が低下したときには、風呂
熱交換器１８の熱源１９の熱を吸収して、浴槽水１１を
加熱する。

【００１８】次に、本発明の特徴である残留塩素含有水
を通水させての浴槽循環水通路３１の浄化・殺菌は以下
のように行われる。すなわち、残留塩素を含有した水は
給湯通路３２を利用して通水させる。例えば給湯通路３
２に残留塩素含有水を通水させると、この残留塩素含有
水は、水量を検知する水量センサ１を通り、非加熱に制
御された給湯熱交換器３、水量制御弁６、注湯電磁弁
７、縁切弁８を通り、浴槽循環水通路３１に給水され
る。そして、少なくとも浴槽１２に取りつけられた循環
用アダプタ１０を介して浴槽循環水が流れる循環ポンプ
９、切換弁Ａ１５、戻り通路１４からなる戻り浴槽循環
水通路側に流れる。

【００１９】制御部３０はこの残留塩素含有水の給水を
一定時間毎に行わせるように制御するもので、これによ
り、まず浴槽水１１の汚れ成分の一つである垢堆積を通
水力で洗浄または軽減するとともに、残留塩素により、
戻り通路１４の各種細菌を殺菌して、浴槽循環水通路３
１を浄化する。この時、当然ではあるが、循環ポンプ９
は停止した状態で通水される。

【００２０】ここで、一定時間毎とは、入浴条件すなわ
ち家族構成による入浴者数、入浴者年齢、入浴時間およ
び入浴時間帯等により異なるが、少なくとも２４時間に
１回は通水することが望ましい。２４時間以上すなわち
３６、４８時間毎の通水にすると、垢堆積量が大きくな
り、洗浄するための通水量が多くなり、よって入浴中に
浴槽水の湯温が低下してしまう。このことから、特に入
浴時間帯として、朝、夜入浴を考慮すると、６〜１２時
間毎、すなわち２〜４回／日が好ましい。

【００２１】次に、残留塩素を含有する給水について、
詳述する。残留塩素含有水とは、残留塩素として０．１
ｐｐｍ以上を含有した新鮮水で、塩素ガスを溶解させた
もの、次亜塩素酸ナトリウムを溶解させたもので、一般
家庭に供給されている水道水レベルに濃度制御したもの
である。濃度制御として、残留塩素濃度は前記の０．１
ｐｐｍ以上としたが、循環水通路の構成部品の材質とし
て、銅および銅合金、ＮＢＲおよびＥＰＤＭゴム、ＰＰ
およびＰＯＭ樹脂等が一般的であり、これらの材質の耐
久性を考慮すると１０ｐｐｍ以下が望ましい。また、短
時間で殺菌浄化を効果的にし、かつ構成部品材質の耐久
性を考慮すると、好ましい残留塩素含有水の残留塩素濃
度は、０．３〜５ｐｐｍである。

【００２２】図２は本発明と従来法の浄化効果を判定す
る浴槽循環水通路構成および浄化判定プレート構成を示
す。（ａ）は浴槽循環水通路の構成図で、浄化判定プレ
ート部２７は循環用アダプタ１０に接続した戻り通路１
４、往き通路１３に各々設置している。また、（ｂ）は
浄化判定プレート部２７の上面構成図、（ｃ）は浄化判
定プレート部２７の断面構成図を示し、浄化判定プレー
ト２８（幅：１０ｍｍ、厚さ：１ｍｍの白色樹脂プレー
ト）をシール治具を介して戻り通路１４、往き通路１３
の通水部に装着している。

【００２３】表１は図２で詳述した浴槽循環水通路構成
を用い、本発明と従来法の浄化の浄化効果を示したもの
である。表中に記載していない詳細な条件および評価と
して、入浴条件：４人／日、４２℃／４時間保温、浄化
条件：通水時の残留塩素含有水の残留塩素濃度は０．５
〜１ｐｐｍ、浴槽水温：４２℃／４時間保温以外は自然
冷却、循環条件：１１時間連続循環ポンプ作動後、ろ過
槽の逆洗浄流量２０ｌ／分で１分、循環ポンプ停止５９
分の繰り返しおよび、評価：表２の評価指数（汚れ指数
５段階評価：色変化＝垢堆積を目視評価）にて評価し
た。

【００２４】

【表１】

【００２５】

【表２】

【００２６】表１から明らかなように、残留塩素を含有
した水を通水させることにより、浴槽循環水通路に堆積
しやすい汚れ垢成分を洗浄および軽減することができ
る。また、一般的に言われている水垢（垢が栄養源とな
り各種細菌が異常繁殖したもの）は、評価指数４レベル
で発生しやすく、従来法の戻り通路の評価指数４では、
前記水垢が微少ではあるが発生していたことからも、本
発明の残留塩素を含有した給水を通水させることによ
り、各種細菌の増殖を抑え、浴槽循環水通路を清潔に保
つことができる。

【００２７】（実施例２）本発明の実施例２における風
呂給湯器について図３に基づいて説明する。図３におい
て、実施例１と異なる点は、戻り通路１４の一部に浴槽
水１１の水位を検知する水位センサ２９を設けるととも
に、制御部３０はこの水位センサ２９からの出力に基づ
いて以下の制御をする点である。すなわち、水位が低下
すると、少なくとも浴槽１２に取りつけられた循環用ア
ダプタ１０を介して浴槽循環水が流れる循環ポンプ９と
戻り通路１４側に、残留塩素含有水を水位センサ２９が
検出した水位低下分だけ通水する。これにより浴槽水１
１の水位を安定に保つとともに、浴槽循環水通路をきれ
いに、清潔に保つことができる。

【００２８】ここで言う水位センサ２９の水位低下検知
量は、水位センサ２９の分解能と入浴者のかけ湯等を考
慮して、１０〜６０ｍｍ程度が好ましい。浴槽の大きさ
によってことなるが、１０ｍｍの水位低下で約３〜５ｌ
である。

【００２９】（実施例３）本発明の実施例３の風呂給湯
器を図４〜図６に基づいて説明する。実施例１と異なる
のは制御部３０が図５に示す制御を行うことである。す
なわち、制御部３０は信号により循環ポンプ９を停止さ
せ、注湯電磁弁７をＯＮして、一定量残留塩素を含有し
た給水を浴槽循環水通路３１の全容量以上に通水させ
る。そして、注湯電磁弁７をＯＦＦし、一定時間すなわ
ち滞留設定時間だけ滞留させる。これにより、より殺菌
浄化効果を大きくすることができる。

【００３０】上記一定時間すなわち滞留設定時間は、前
記給水した残留塩素濃度によって決定される。各種細菌
により殺菌濃度と時間は異なるが、一般的には残留塩素
濃度が低濃度の場合、設定時間は長時間とし、高濃度の
場合、設定時間は短時間の設定となっているが、本発明
者らが実施した殺菌評価の結果を図６に示す。図６の殺
菌評価条件は、検水量５００ｍｌ、水温２０℃、初期一
般細菌数５、０００、０００コ／ｍｌ、残留塩素濃度
０、０．１、０．５、２ｐｐｍの条件として試験した。

【００３１】図６に示したように、水道水基準である一
般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための滞留時間は、
残留塩素濃度０．１ｐｐｍで約１５分、０．５ｐｐｍで
約５分、２ｐｐｍで約２分で可能となる。よって好まし
い滞留時間は、残留塩素濃度によってことなるが、好ま
しい滞留時間は２〜１５分以上である。詳細は表３に示
す通りである。

【００３２】

【表３】

【００３３】（実施例４）本発明の実施例４の繰り返し
通水による浄化・殺菌を行う風呂給湯器について図７、
図８を用いて説明する。実施例１と異なるのは制御部３
０が図５に示す制御を行うことである。すなわち、制御
部３０は、水量センサ１、水温センサ２、給湯センサ５
および水量制御弁６を制御し、給湯熱交換器３で加熱し
て温水とした後、給湯電磁弁７、縁切弁８を通して、浴
槽循環水通路３１に残留塩素含有水を給水する。そし
て、設定通水量を通水後、制御部３０の信号により、滞
留設定時間だけ滞留させ、温水による浴槽循環水通路３
１の凹凸構成部に堆積した堆積付着垢の付着力を小さく
して剥離浄化効果を大きくさせる。そして次に、給湯熱
交換器３の熱源４をＯＦＦしたまま、再度浴槽循環水通
路３１に残留塩素を含有した冷水（機械的に冷却したも
のではない大気温度レベルの水）を給水後、必要に応じ
再度制御部３０の信号により滞留設定時間だけ滞留させ
ることによって、さらに剥離浄化と殺菌浄化効果を大き
くすることができる。また、加熱通水が高温水の場合、
給湯通路や浴槽循環水通路も同時に高温となることか
ら、一定時間通水または滞留した後、前記給湯通路３２
や浴槽循環水通路３１の構成部品の耐久性や火傷の防止
等も考慮して、冷却させるものである。

【００３４】（実施例５）本発明の実施例５の高温殺菌
を行う風呂給湯器について図９〜図１１を用いて説明す
る。実施例１と異なるのは制御部３０が図１０に示す制
御を行うことである。すなわち、制御部３０は、給水を
給湯熱交換器３により高温に加熱し、浴槽循環水通路３
１に設定通水量を高温通水後、制御部３０の信号により
滞留設定時間だけ滞留させることにより、各種細菌を高
温殺菌と残留塩素を含有した水との相乗効果により、よ
り確実に殺菌浄化する。

【００３５】高温殺菌とは、各種細菌が高温に弱い性質
を利用して、殺菌するものである。各種細菌により高温
殺菌温度と時間は異なるが、一般的には比較的低い温度
の場合、保持時間は長時間とし、高温度の場合、短時間
の保持でよいとなっているが、本発明者らが実施した高
温殺菌評価の結果を図１１に示す。図１１の高温殺菌評
価条件は、検水量１００ｍｌ、初期一般細菌数５、００
０、０００コ／ｍｌをビーカに入れ、前記検水に熱電対
を浸積したものを、電子レンジで加熱、水温５０、５
５、６０、６５、７０℃の条件で試験した。前記の加熱
温度は、温度上昇の最高温度で、公差２ｄｅｇ以内と
し、保持時間内は恒温水槽で保持した。また保持時間と
は、温度上昇の最高温度で、公差２ｄｅｇ以内達してか
らの時間である。

【００３６】図１１に示したように、水道水基準である
一般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための加熱温度
は、５５℃以上で５分以上が必要である。また６０℃で
は、６０℃に達したらほぼ１００％高温殺菌浄化が可能
である。詳細は表４に示す通りである。

【００３７】

【表４】

【００３８】（実施例６）本発明の実施例６を図１２に
基づいて説明する。図１２においては、残留塩素含有水
として、一般家庭で使用している残留塩素を含有した水
道水を通水させるようになっており、利便性と経済性に
優れた浄化手段とすることができる。

【００３９】なお、上記各実施例では詳述していない
が、浴槽循環水通路３１への通水手段として、バイパス
通路２５、下部往き通路２６への通水を組合わせて行う
ことも当然行われることであり、これによって全浴槽循
環水通路３１の垢堆積の洗浄および軽減と各種細菌を殺
菌浄化することができる。

【００４０】

【発明の効果】以上のように、本発明の風呂給湯器は、
浴槽循環水通路に残留塩素を含有した水を一定時間毎に
通水することにより、浴槽水の汚れ成分の一つである垢
堆積を通水力で洗浄または軽減するとともに、残留塩素
により、各種細菌を殺菌して、浴槽循環水通路を浄化す
ることができる。

【００４１】また、残留塩素を含有した水を、水位セン
サが検出した水位低下分だけ通水することにより、浴槽
水の水位を安定に保つとともに、浴槽循環水通路をきれ
いに、清潔に保つことができる。

【００４２】また、残留塩素を含有した水を浴槽循環水
通路の全容量以上に通水し、一定時間滞留させることに
より、より殺菌浄化効果を大きくすることができる。

【００４３】また、残留塩素を含有した水を、冷水また
は温水あるいは冷水と温水を繰り返し通水させることに
より、剥離浄化と殺菌浄化効果を大きくしてより確実に
浴槽循環水通路を浄化することができる。

【００４４】また、残留塩素を含有した水を５５℃以上
の温水にすることにより、浴槽循環水通路を高温殺菌と
残留塩素殺菌の相乗効果で、より確実に殺菌浄化するこ
とができる。

【００４５】そしてまた、残留塩素を含有した水を、水
道水とすることにより、利便性と経済性に優れた浄化方
法とすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１における風呂給湯器の構成図

【図２】（ａ）同実施例１と従来法の比較試験用浴槽循
環水通路の構成図 （ｂ）同比較試験用浴槽循環水通路の浄化判定プレート
部の上面構成図 （ｃ）同比較試験用浴槽循環水通路の浄化判定プレート
部の断面構成図

【図３】本発明の実施例２における風呂給湯器の構成図

【図４】本発明の実施例３における風呂給湯器の構成図

【図５】同風呂給湯器の制御モードを示すフローチャー
ト

【図６】同実施例３の殺菌評価効果を示すグラフ

【図７】本発明の実施例４における風呂給湯器の構成図

【図８】同風呂給湯器の制御モードを示すフローチャー
ト

【図９】本発明の実施例５における風呂給湯器の構成図

【図１０】同風呂給湯器の制御モードを示すフローチャ
ート

【図１１】同実施例５の殺菌評価効果を示すグラフ

【図１２】本発明の実施例６における風呂給湯器の構成
図

【図１３】従来の風呂給湯器の構成図

【符号の説明】

３ 給湯熱交換器 ７ 注湯電磁弁 ９ 循環ポンプ １１ 浴槽水 １３ 往き通路 １４ 戻り通路 １５ 切換弁Ａ １８ 風呂熱交換器 ２１ ろ過槽 ２４ バイパス通路 ２９ 水位センサ ３０ 制御部 ３１ 浴槽循環水通路 ３２ 給湯通路

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０Ｂ ５５０ ５５０Ｌ ５５０Ｈ ５６０ ５６０Ｚ Ｆ２４Ｈ 1/00 ３０２ Ｆ２４Ｈ 1/00 ６０２Ｌ (72)発明者 青木 哲郎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山内 博明 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】浴槽水を循環する浴槽循環水通路と、この
   浴槽循環水通路に給水する給湯通路と、前記浴槽循環水
   通路に設けた循環ポンプおよびろ過槽と、前記浴槽循環
   水通路の少なくとも戻り通路側に残留塩素を含有した水
   を一定時間毎に通水させる制御部とを備えた風呂給湯
   器。
2. 【請求項２】浴槽水を循環する浴槽循環水通路と、この
   浴槽循環水通路に給水する給湯通路と、前記浴槽循環水
   通路に設けた循環ポンプ、ろ過槽および水位センサと、
   前記浴槽循環水通路の少なくとも戻り通路側に残留塩素
   を含有した水を水位センサが検出した水位低下分だけ通
   水する制御部とを備えた風呂給湯器。
3. 【請求項３】制御部は残留塩素を含有した水を戻り通路
   の全容量分以上通水後、一定時間滞留させる構成とした
   請求項１または２記載の風呂給湯器。
4. 【請求項４】制御部は残留塩素を含有した水を冷水また
   は温水あるいは冷水と温水の繰り返し通水させる構成と
   した請求項１ないし３のいずれか１項記載の風呂給湯
   器。
5. 【請求項５】残留塩素を含有した水の温度を５５℃以上
   とした請求項４記載の風呂給湯器。
6. 【請求項６】残留塩素を含有した水として、水道水を用
   いた請求項１ないし５のいずれか１項記載の風呂給湯
   器。