JPH10258207A - 浴槽装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 浴槽水の水回路に堆積する垢や各種細菌を浄
化すること。 【解決手段】 浴槽水の水回路の浄化において、アダプ
タ３，戻り管４，循環ポンプ５，ろ過槽６および往き管
８から構成された水回路を手動加熱と、自然放置中に上
限設定温度と下限設定温度を設けた温度域を自動加熱、
自動排水、自動残留塩素含有水を通水する手段を設ける
ことにより、水回路に堆積する垢や各種細菌を加熱殺
菌、洗浄、殺菌浄化し、複数の人が続けて入浴したり、
浴槽水を続けて使用しても、水回路を常にきれいにし、
清潔に保つことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽の浴槽水を循
環し、水回路および浴槽水を浄化・殺菌して清潔に保つ
ことができる浴槽装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、浴槽の浴槽水の水回路の浄化は図
１１に示すような浴槽装置であった。

【０００３】浴槽水１は浴槽２に取りつけたアダプタ３
の戻り部に接続した戻り管５，循環ポンプ６，ろ過材７
を充填したろ過槽８を通り、アダプタ３の往き部に接続
した往き管９からなる水回路を循環ポンプ６により循環
し浴槽水１の汚れをろ過槽８により浄化する。浴槽水１
の水回路には、浴槽水１を加熱する加熱源９を循環ポン
プ６とろ過槽８との間に設けている。また浴槽２へのお
湯はりは、給湯用水回路の加熱源１１を介し、水回路の
一部に設けた給水部より、前記水回路の戻り管５、往き
管９を通り供給される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
浴槽装置では、まず浴槽水の汚れ成分である大きな垢や
髪の毛等をアダプタに設置した一次フィルタにより簡易
浄化し、前記一次フィルタを通過した比較的大きな垢粒
子（おおよそ１０ミクロン以上）を水回路のろ過槽でろ
過浄化できるが、複数の人が続けて入浴したり、浴槽水
を続けて使用することによって生じる微細粒子（約１ミ
クロン程度）の各種細菌（一般細菌、大腸菌等）による
汚れ成分を、ろ過槽でのろ過浄化が不十分のため、水回
路は汚れ、不清潔になりやすい。さらに重要なことは、
水回路は循環ポンプ、ろ過槽、往き管、戻り管およびア
ダプタの接続部分は、凹凸構成部が多く、水の流れが悪
く（乱流大）、各種細菌の栄養源となる垢が堆積しやす
く、また各種細菌が増殖しやすい環境となっている。特
に、ろ過槽入口までは、浴槽水の汚れ成分はそのまま循
環するため、さらに不清潔になりやすく、これらをきれ
いに、清潔にするためには浴槽水を常時交換し、新鮮水
を頻繁に通水するか、洗浄剤を浴槽水に投入して通水洗
浄するかして強制的に洗浄しなければならないため、大
変不経済で手間のかかる作業であるという課題を有して
いた。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、本発明の浴槽装置は、浴槽水を循環する水
回路の一部に循環ポンプと加熱源とろ過槽を設け、循環
ポンプ，加熱源，ろ過槽と浴槽に取りつけたアダプタと
の間に各々戻り管、往き管を接続した水回路を構成し、
自然放置中に上限設定温度と下限設定温度を設けた温度
域を自動で加熱する加熱手段、一定時間毎に一定時間ま
たは一定量、自動で水回路から浴槽水の排水と水回路の
一部に設けた給水部より、水回路から浴槽水に残留塩素
含有水を通水する手段を備えたものである。

【０００６】上記発明によれば、加熱手段による浴槽の
浴槽水を自動で設定温度に加熱する手段により、浴槽水
の水回路を高温水による高温殺菌浄化させる。また一定
時間毎に一定時間または一定量、自動で浴槽水を水回路
より排水して浴槽水を少なくし、前記排水により少なく
なった浴槽水に残留塩素含有水を排水前とほぼ同水量ま
で通水することにより、通水力で水回路に堆積した垢等
の汚れ成分を洗浄浄化するとともに、前記残留塩素含有
水の残留塩素により水回路の各種細菌等の汚れ成分を殺
菌浄化する相乗浄化効果によって、水回路を常にきれい
に、清潔に保つことによって、複数の人が続けて入浴し
たり、浴槽水を続けて使用することができる。また前記
相乗浄化効果により、浴槽水の併用浄化することも可能
となる二重浄化効果を呈することができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明は水回路の一部に設けられ
浴槽水を循環する循環ポンプと、浴槽水をろ過するろ過
槽と、浴槽と水回路を接続するアダプタと、水回路に残
留塩素含有水を一定時間毎に給水する給水部と、前記給
水部から給水された残留塩素含有水または浴槽水の少な
くとも一つを加熱する加熱手段と、浴槽水を自然放置中
に上限設定温度と下限設定温度を設けた温度域に自動で
加熱する自動加熱手段、一定時間毎に自動で水回路を介
し浴槽水を排水する排水手段とを設けてなるものであ
る。

【０００８】そして、自然放置中に下限設定温度以下、
すなわち蛇口から冷水（大気レベルの水温）を落とし込
んだ浴槽水は、下限設定温度以下のため、リモコンの運
転ＳＷをＯＮすると上限設定温度まで加熱される。上限
設定温度まで加熱された浴槽水は自然放置され、浴槽水
水温は徐々に下限設定温度まで低下する。下限設定温度
まで低下すると、再び自動で上限設定温度まで加熱さ
れ、前記上限設定温度と下限設定温度を繰り返す。この
時上限設定温度に加熱より、再び高温水が流れ、水回路
通路中の各種細菌が再高温殺菌浄化され、前記自動加熱
により、より高温殺菌浄化される。そして、自然放置中
に一定時間毎に一定時間または一定量、自動で水回路通
路から浴槽水を排水する手段により、浴槽水排水通路の
汚れ成分である垢や各種細菌を排水浄化する。そして一
定時間毎に一定時間または一定量、自動で水回路の一部
に設けた給水部より、水回路から浴槽水に残留塩素含有
水を通水する手段により、少なくとも排水した浴槽水を
ほぼ元の浴槽水量まで供給し、通水力で水回路に堆積し
た垢等の汚れ成分をさらに洗浄浄化するとともに、残留
塩素含有水の残留塩素により、各種細菌等の汚れ成分を
殺菌浄化することによって、水回路を高温殺菌浄化と洗
浄浄化と残留塩素殺菌浄化の相乗浄化効果により、水回
路を常にきれいに、清潔に保つことができる。また水回
路を常にきれいに、清潔に保つことによって、複数の人
が続けて入浴したり、浴槽水を続けて使用することがで
きる。そして前記相乗浄化効果により、浴槽水の併用浄
化することも可能となる二重浄化効果を呈することがで
きる。

【０００９】自動加熱手段により少なくとも１日１回以
上上限設定温度まで加熱または下限設定温度まで自然放
置した後、排水手段により浴槽水を排水し給水部により
水回路を介し浴槽に残留塩素含有水を給水するものであ
る。

【００１０】そして少なくとも１日１回以上、前記上限
設定温度まで加熱または下限設定温度まで自然放置した
後、一定時間または一定量排水する手段と一定時間また
は一定量通水する手段の順位にすることにより、まず水
回路に高温水を流し、前記水回路に堆積した垢等を高温
水より、付着力を小さくして垢等の汚れ成分を剥離しや
すくさせ、通水力により洗浄浄化するとともに、高温殺
菌浄化する。次に少なくとも上限設定温度まで加熱また
は下限設定温度まで自然放置が１回カウントすると、次
に一定時間または一定量排水する手段とし、浴槽水の排
水通路の汚れ成分である垢や各種細菌を排水浄化すると
ともに、最後に一定時間または一定量通水する手段によ
って、通水で水回路に堆積した垢等の汚れ成分を再洗浄
浄化し、さらに残留塩素含有水の残留塩素によって、各
種細菌等の汚れ成分を殺菌浄化する手段を繰り返し行う
ことにより、水回路に堆積する垢を少なくし、前記垢を
栄養源とする各種細菌の増殖を押さえた条件下で、高温
殺菌浄化、洗浄浄化、残留塩素殺菌浄化による相乗効果
によって水回路の浄化をより大きく、確実にすることが
できる。さらにまた、効果的な手段として、上限設定温
度まで加熱後、一定時間または一定量排水し、そして一
定時間または一定量通水する動作を繰り返し行うことに
より、上限設定温度は、特に各種細菌の増殖しやすい環
境温度（約３５〜３７℃と言われている）であることか
ら、まず浴槽水を少なくし、冷水（大気レベルの水温）
を通水させ、浴槽水水温をより早く前記各種細菌の増殖
しやすい環境温度より低くすることにより、各種細菌の
増殖を軽減させ、また残留塩素含有水の残留塩素によ
り、各種細菌等の汚れ成分を殺菌浄化することができる
相乗効果を有することができる。

【００１１】また給水部から水回路への給水方向に切り
換える切換弁を設け、給水部から水回路に残留塩素含有
水を給水する際、切換弁を戻り側または往き側に切り換
えるものである。

【００１２】そして、戻り側、又は往き側のみに残留塩
素含有水を給水するため、戻り側、往き側同時に給水し
た場合に比べ、戻り側、往き側に流れる給水量は増え、
洗浄能力を向上させることができる。

【００１３】また給水部から給水された残留塩素含有水
が水回路を経て循環アダプタに達した後に、給水を停止
し、残留塩素含有水を一定時間水回路に滞留してなるも
のである。

【００１４】そして、少なくとも浴槽水の水回路全容量
に残留塩素含有水を通水後、残留塩素含有水を一定時間
水回路に滞留することにより、より時間的な殺菌効果を
大きくして浄化することができる。

【００１５】（実施例１）以下、本発明の実施例１にお
ける浴槽水の水回路の浄化手段について図面を用い説明
する。なお、従来と同一構成要素のものについては同一
番号を付し説明する。

【００１６】図１において、浴槽水１の浄化は浴槽水１
中の大きな垢粒子や髪の毛等の汚れ成分は制御部の信号
により循環ポンプ５を作動させると、水回路である浴槽
２に取りつけたアダプタ３を通り、前記アダプタ３の戻
り部に接続した戻り管４，循環ポンプ５，切換弁Ａ１
１，切換弁Ｂ１２の切り換えにより、浴槽水１を加熱す
る加熱源９通路またはバイパス通路１６を通り、ろ過槽
６の上部往き通路１５の切換弁Ｃ１３より、下向流でろ
過槽６に充填したろ過材７で大きな垢粒子や髪の毛等の
汚れ成分をろ過浄化する。そして、浄化された浴槽水１
は切換弁Ｄ１４を通り、浴槽２に取りつけたアダプタ３
の往き部に接続した往き管８，アダプタ３より浴槽２に
戻り、制御部の信号による循環ポンプ５の停止まで浴槽
水１は連続循環浄化される。

【００１７】また浴槽水１の追いだきは、手動すなわち
入浴者の意思により制御部の信号によって循環ポンプ５
を作動させ、浴槽水１をガスの燃焼熱等からなる加熱手
段である加熱源９通路に循環させ、前記加熱源９の燃焼
熱を吸収し熱交換して高温加熱され、加熱源９の出口か
ら浴槽１に取りつけられたアダプタ３の出口まで高温水
が流れ、浴槽水１全体が設定温度になるまで加熱され、
この時、高温水が流れる水回路通路中の各種細菌が高温
殺菌浄化される。

【００１８】また、自動すなわち予めマイクロコンピュ
タに記憶させた制御部の信号により、自然放置中に上限
設定温度（約３５〜４０℃）と下限設定温度（約３０〜
３５℃）を設けた温度域を自動で上限設定温度（約３５
〜４０℃）に加熱し、加熱後、下限設定温度（約３０〜
３５℃）まで自然放置させ繰り返し動作を行うことによ
って、入浴者の意思で手動で入浴設定温度に加熱する時
間を短くして、早く入浴可能温度にすることができる。
特に冬場には、もし上限設定温度と下限設定温度が無け
れば、翌日の入浴帯（前日の入浴から２０〜２４時間
後）まで自然放置すると、浴槽水温はほぼ大気温度レベ
ルまで低下する。前記低下温度レベルから手動で設定温
度に加熱沸き上げする時間が非常に時間がかかることか
ら、前記温度域を自動制御することによって解決するこ
とができる。そして、前記上限設定温度に加熱と下限設
定温度に自然放置する手段中も循環ポンプ５が作動し、
浴槽水１の垢や髪の毛等の比較的大きな汚れ成分は、ろ
過槽６に充填したろ過材７によりろ過浄化されている。
前記汚れ成分は循環ポンプ５が作動し、浴槽水が循環し
ている状態では、常時連続的にろ過浄化される。そして
一定時間毎に浴槽水１の汚れ成分（比較的大きな垢粒子
や髪の毛等）による目詰りを考慮して、マイクロコンピ
ュタに記憶させた制御部の信号により自動的に循環ポン
プ５を一旦停止させ、切換弁Ｂ１２切り換えにより、浴
槽水１を加熱する加熱源９通路側またはバイパス通路１
６側のどちらかの通路を形成するとともに、切換弁Ｃ１
３と切換弁Ｄ１４を逆洗排水側に切り換える。そして再
び循環ポンプ５を作動させ浴槽水１を用い、切換弁Ｂ１
２，浴槽水１を加熱する加熱源９通路側またはバイパス
通路１６側のどちらかの通路より、下部逆洗通路１７，
切換弁Ｄ１４を通り、上向流でろ過槽６に充填したろ過
材７でろ過浄化した汚れ成分を逆洗洗浄し、前記逆洗洗
浄した汚れ成分を多く含んだ浴槽水１は切換弁Ｃ１３に
接続した排水管１８より一定時間または一定量排水させ
る。

【００１９】そしてまた、浴槽２の浴槽水１が一定時間
または一定量排水されると、マイクロコンピュタに記憶
させた制御部の信号により自動的循環ポンプ５を停止さ
せ、給水弁１９を開弁させ、残留塩素含有水を一定時間
または一定量通水させることにより、循環ポンプ５，戻
り管４からなる戻り水回路通路、切換弁Ｂ１２，バイパ
ス通路１６側または加熱源９側から上部往き管１５の切
換弁Ｃ１３，切換弁Ｄ１４，往き管９からなる往き水回
路の単独水回路に通水または戻りと往きの複合水回路へ
の繰り返し通水あるいは同時通水、前記単独水回路と複
合水回路の組合せ通水を選択し、前記水回路の特に凹凸
構成部に堆積し各種細菌の栄養源となる垢等の堆積物を
通水力により、洗浄あるいは軽減して洗浄浄化させると
ともに、各種細菌を残留塩素含有水の残留塩素により、
殺菌浄化させることができる。

【００２０】図２、図３では、前記に詳述した水回路の
基本的な浄化シーケンスのフローチャートとタイミング
チャートを各々示す。まず浄化シーケンスについて説明
すると、マイクロコンピュタを内蔵した制御部と有線ま
たは無線で制御できるシーケンスＮｏ．１０１のリモコ
ンの運転ＳＷをＯＮすると、１０２の各種切換弁を循環
回路側（戻り管４から往き管８に循環する）に切り換
え、各種切換弁が切り換わると１０３の循環ポンプ５が
ＯＮする。１０３の循環ポンプ５がＯＮすると１０９、
１１７のタイマＡ（同設定時間）はカウントを始める。
浴槽水１が１０４の上限設定温度に達しているかチェッ
クし、１０４の上限設定温度以上であれば、１０８の下
限設定温度まで自然放置される。また前記１０４の上限
設定温度以下の場合、１０５の加熱源９がＯＮし、浴槽
水１が加熱され、１０６の上限設定温度に達すると、１
０７の加熱源９がＯＦＦする。そして浴槽水１は自然放
置され、１０８の下限設定温度に達したら、再び１０５
の加熱源がＯＮし、前記操作を繰り返す。

【００２１】一方、１０９のタイマＡの設定時間に達す
るまで循環浄化し、設定時間に達すると１１０の循環ポ
ンプ５がＯＦＦし、１１１の各種切換弁を排水回路側
（下部逆洗通路１７からろ過槽６を通り排水管１８に排
水する）に切り換え、各種切換弁が切り換わると１１２
の循環ポンプ５がＯＮし、１１３の排水タイマがカウン
トを始め、前記１１３の排水タイマが設定時間に達する
まで排水浄化すなわちろ過槽６のろ過材７にろ過浄化し
た各種汚れ成分を浴槽水１を用い上向流で逆洗洗浄する
とともに浴槽水１を排水させる。設定時間に達すると１
１４の循環ポンプ５がＯＦＦし排水を停止させ、１１５
で各種切換弁を循環回路側に切り換え、１１６で循環ポ
ンプ５をＯＮさせ、再び循環浄化モードにして浴槽水１
を循環浄化する。そして再び１０９のタイマＡ（前記排
水手段中もタイマはカウントしている）に移行し、前記
操作を繰り返す。

【００２２】次に前記１０９のタイマＡと同設定時間の
１１７のタイマＡの設定時間内の１１０から１１６の排
水手段の操作時間が終了すると、１１０から１１６の排
水手段の操作時間より長くした１１８のタイマＢがカウ
ントを始める。前記タイマＢは１１７のタイマＡよりも
設定時間を短く、かつ前記１１７のタイマＡ中に操作で
きるようにタイマ時間を設定する。１１８のタイマＢが
設定時間に達すると、１１９の循環ポンプ５がＯＦＦし
て、予め残留塩素含有水を給水する１２０の給水弁１９
がＯＮし、１２１の通水タイマがカウントを始め、前記
１２１の通水タイマが設定時間に達するまで通水浄化す
なわち水回路に堆積した垢等の汚れ成分を通水力で洗浄
浄化するとともに、残留塩素含有水の残留塩素により、
各種細菌等の汚れ成分を殺菌浄化する。１２１の通水タ
イマが設定時間に達すると１２２の循環ポンプ５をＯＮ
させ、再び循環浄化モードにして浴槽水１を循環浄化す
る。そして再び１０９のタイマＡ（前記排水手段中もタ
イマはカウントしている）に移行し、前記操作を繰り返
す。

【００２３】そして前記各操作中に１２４の手動により
追いだきＳＷをＯＮすると、循環ポンプ５がＯＮしてい
る１０９，１１７，１１８の各種タイマＡ，Ｂの設定時
間中は操作可能で、１２５の加熱源９がＯＮして、予め
浴槽水１全体が設定した１２６の設定温度まで前記１２
５の加熱源９が継続ＯＮし、設定温度に達すると１２７
で加熱源９をＯＦＦして浴槽水２の加熱を停止する。こ
の時、加熱源９の出口からアダプタ３の出口からなる往
き通路に高温水が流れ各種細菌が高温殺菌浄化される。
そして前記１２８の加熱源９がＯＦＦすると同時に１２
８の追いだきＳＷがＯＦＦする。

【００２４】上記実施例では詳述していないが、１２４
の手動により追いだきＳＷをＯＮしてから１２８の追い
だきＳＷがＯＦＦする間中も前記各種タイマは各々タイ
マカウントしている。また１２４の手動により追いだき
ＳＷをＯＮすると、手動すなわち入浴者の意思により浴
槽水１を設定温度に沸き上げしたいことから、前記自動
浄化シーケンスより優先操作にすることも可能である。

【００２５】さらに手動の設定温度と自動での浴槽水１
の保温設定温度範囲は異なる。手動での浴槽水１の設定
温度範囲は、一般的に入浴可能温度で約３７〜４８℃、
自動での浴槽水１の保温設定温度範囲、すなわち上限設
定温度と上限設定温度は、基本的に非入浴時間帯の自然
放置中の自動であり、入浴意思のない時間帯であること
から、手動での浴槽水１の設定温度範囲より低い設定温
度でよく、約３０〜４０℃が望ましい。なぜなら少なく
とも水回路の加熱源９の出口からアダプタ３の出口まで
の往き通路を高温殺菌浄化が目的であるから余り設定温
度を高温する必要はなく、設定温度を高温すると入浴の
安全性や浴槽の耐久性等に問題が生じることから好まし
くない。また加熱源９の種類による加熱水の上限設定温
度を試算すると、たとえば電気ヒータ（１ＫＷ＝８６０
ｋｃａｌ／時）による直接加熱源の場合、熱効率を約９
０％、循環流量６ｌ／分設定温度４５℃沸き上げする時
の往き通路の加熱水水温は； ８６０ｋｃａｌ／時×０．９／６ｌ／分／６０分＝２．
２ｄｅｇ 往き通路の加熱水水温は、４５℃＋２．２ｄｅｇ＝４
７．２℃となり、高温殺菌浄化効果は期待できない。一
方、一般的な浴槽水加熱用のガス燃焼（１２０００ｋｃ
ａｌ／時）による間接加熱（熱交換器使用）の場合、熱
効率を約７５％、循環流量６ｌ／分、手動での追いだき
設定温度４２℃沸き上げする時の往き通路の加熱水水温
は； １２０００ｋｃａｌ／時×０．７５／６ｌ／分／６０分
＝２５ｄｅｇ 往き通路の加熱水水温は、４２℃＋２５ｄｅｇ＝６７℃
となり、高温殺菌浄化効果は大である。他方、保温時の
上限設定温度３５℃沸き上げする時の往き通路の加熱水
水温は； １２０００ｋｃａｌ／時×０．７５／６ｌ／分／６０分
＝２５ｄｅｇ 往き通路の加熱水水温は、３５℃＋２５ｄｅｇ＝６０℃
となり、保温時の加熱操作でも高温殺菌浄化効果は十分
期待できる。このように高容量の加熱源９として、ガス
や石油を使用することが望ましい。

【００２６】次に自動タイマについて説明する。自動タ
イマーとは、自動的に排水、通水動作を実施するもの
で、少なくとも１日（２４時間）に一回以上が望まし
く、４〜１８時間毎すなわち１日に２〜４回程度、前記
動作を実施することが好ましい。４時間以内の自動タイ
マでは、浄化効果（洗浄および殺菌浄化）に対し有効で
はあるが、排水量、通水量が多くなり、保温時の加熱回
数も増加することから、省資源、省エネルギを考慮する
と好ましくない。一方、１８時間以上の自動タイマで
は、前記入浴時間帯と重なる可能性が大きく、入浴中に
浴槽水が低下したり、冷水（大気レベルの水温）通水の
場合、たとえば冷たい水が浴槽水に流出されるため、入
浴感が悪くなること、さらに浄化効果がやや劣るなどの
欠点を考慮し、自動タイマの時間設定も重要である。

【００２７】次に排水タイマ設定時間と通水タイマ設定
時間について説明する。排水タイマは、循環ポンプ５の
能力とろ過槽６のろ過材７の目詰まり状態により決定す
ることが必要であるが、タイマ時間を長くすると浴槽水
１の排水量が多くなり、水の省資源とはならないことか
ら、前記浴槽水１の排水量は浴槽水１量の約５〜１０％
程度が望ましい。すなわち浴槽水１量が１５０〜２００
ｌとすると、７．５〜２０ｌを排水する循環ポンプ５の
能力によりタイマ設定時間が決定される。一方、通水タ
イマ設定時間は、少なくとも通水量として水回路の全容
量を通水する量以上、すなわち通水圧と水回路の抵抗に
より決定することが必要であるが、タイマ時間を長くす
ると、浴槽水１への注水量が多くなり浴槽２より溢れて
しまうため、前記排水量とほぼ同程度の水回路の全容量
の通水量が好ましい。通水する残留塩素含有水により、
浴槽水１を殺菌浄化することも考慮すると浴槽水１量の
約５〜２０％程度の通水タイマ設定時間が望ましい。排
水量に対する通水量を多く設定することによって、水回
路はもちろんのこと、浴槽水１を前記残留塩素含有水
（通水残留塩素含有水の残留塩素の１／１０から１／５
の低濃度）により、殺菌浄化が可能となる。また本実施
例では詳述していないが、排水タイマ設定時間、通水タ
イマ設定時間と排水量と通水量を併用制御する方法も可
能で本発明の範囲内である。

【００２８】次に、水回路の一部に設けた給水部からの
通水する手段について詳述する。浴槽水の水回路への通
水として（１）往き循環水回路通水、（２）戻り循環水
回路通水、（３）往き、戻り循環水回路に繰り返し通水
または（４）戻り、往き水回路に同時通水のいずれか単
独通水または複合通水あるいは単独と複合の組合せ通水
として、残留塩素含有水を通水することにより、全水回
路の各種細菌の栄養源となる垢の堆積を集中的に洗浄浄
化するとともに、各種細菌を残留塩素による集中殺菌浄
化がより確実に浄化させることができる。

【００２９】次に、残留塩素含有水について詳述する。
残留塩素含有水とは、残留塩素として０．１ｐｐｍ以上
を含有した新鮮水で、塩素ガスを溶解させたもの、次亜
塩素酸ナトリウムを溶解させ、別途濃度制御したもので
ある。別途濃度制御する手段として、前記濃度制御とし
て塩素ガス溶解水や次亜塩素酸ナトリウム水等の高残留
塩素濃度水を定量ポンプ等で給水に定量注水し、濃度制
御したものである。給水の残留塩素濃度は前記０．１ｐ
ｐｍ以上としたが、水回路の構成部品の材質として、銅
および銅合金、ＮＢＲおよびＥＰＤＭゴム、ＰＰおよび
ＰＯＭ樹脂等が一般的であり、これらの材質の耐久性を
考慮すると１０ｐｐｍ以下が望ましい。また、短時間で
殺菌効果を効果的にし、かつ構成部品材質の耐久性を考
慮すると、好ましい残留塩素含有水の残留塩素濃度は、
０．３〜５ｐｐｍである。

【００３０】図４は本発明と従来法の浄化効果を判定す
る水回路構成および浄化判定プレート構成を示す。
（ａ）は水回路の構成図で、浄化判定プレート部２０，
２１はアダプタ３に接続した戻り管４，往き管８を各々
設置している。また、（ｂ）は浄化判定プレート部２
０，２１の上面構成図、（ｃ）は浄化判定プレート部２
０，２１の断面構成図を示し、浄化判定プレート２２
（幅：１０ｍｍ、厚さ：１ｍｍの白色樹脂プレート）を
シール治具を介して戻り管４、往き管８の通水部に装着
している。

【００３１】表１は図１で詳述した水回路構成を用い、
本発明と従来法の浄化効果を示したものである。表中に
記載していない詳細な条件および評価として、入浴条
件：入浴温度４２℃／手動加熱（４回）、浄化条件：
通水時の残留塩素含有水の残留塩素濃度は、０．５〜１
ｐｐｍ、（１）排水タイマ３０秒（排水量：１０ｌ）、
（２）通水タイマ：６０秒（通水量：１０ｌ）、（３）
タイマＡ：６時間、（４）タイマＢ：５分、（５）上限
設定温度：３５℃、下限設定温度：３０℃、評価：表
２の評価指数（汚れ指数５段階評価：色変化＝汚れ、垢
堆積を目視評価）にて評価した。

【００３２】

【表１】

【００３３】

【表２】

【００３４】表１から明らかなように、上限設定温度へ
の加熱と下限設定温度までの自然放置手段、排水手段、
残留塩素含有水通水手段を繰り返し制御することによ
り、水回路に堆積しやすい汚れ成分（垢）を軽減するこ
とができる。また、一般的に言われている水垢（垢が栄
養源となり各種細菌が異常増殖したもの）は、評価指数
４レベルで発生しやすく、従来法の戻り管の評価指数４
では前記水垢が微少ではあるが発生していたことから
も、本発明の残留塩素含有水を通水させることにより、
各種細菌の増殖を押さえ、水回路を清潔に保つことがで
きる。

【００３５】（実施例２）本発明の実施例２の浴槽水の
水回路の浄化について、図５の保温、排水、通水モード
に基づいて説明する。

【００３６】図５において、制御部の信号による自動シ
ーケンス１３１の循環ポンプ５がＯＮから１３６の下限
設定温度までの自然放置は、実施例１の１０３〜１０８
と同一操作のため、説明を省略する。１３７のタイマＡ
がカウントを始め１３７のタイマＡが設定時間に達する
まで浴槽水２を循環浄化し、設定時間に達すると１３８
の循環ポンプ５がＯＦＦし、１３９の各種切換弁を排水
回路側（下部逆洗通路１７からろ過槽６を通り排水管１
８に排水する）に切り換え、各種切換弁が切り換わる
と、１４０の循環ポンプ５がＯＮし、１４１の排水タイ
マがカウントを始め、前記１４１の排水タイマが設定時
間に達するまで排水浄化、すなわちろ過槽６のろ過材７
にろ過浄化した各種汚れ成分を浴槽水１を用い上向流で
逆洗洗浄するとともに浴槽水１を排水させる。設定時間
に達すると、１４２の循環ポンプ５がＯＦＦし排水を停
止させ、１４３の各種切換弁を循環回路側（戻り管４か
ら往き管８に循環する）に切り換え、各種切換弁が切り
換わると、予め残留塩素含有水を給水する１４４の給水
弁１９がＯＮし、１４５の通水タイマがカウントを始
め、前記１４５の通水タイマが設定時間に達するまで通
水浄化、すなわち水回路に堆積した垢等の汚れ成分を通
水力で洗浄浄化するとともに、残留塩素含有水の残留塩
素により、各種細菌等の汚れ成分を殺菌浄化する。１４
５の通水タイマが設定時間に達すると、１４６の給水弁
１９をＯＦＦし、再び１４７の循環ポンプ５がＯＮし、
前記操作をタイマＡの設定時間毎に繰り返す。この時の
排水タイマと通水タイマの詳細条件は、前記実施例１の
記載と同条件であることから、説明を省略する。実施例
で詳述した、特に排水後、通水する手段にすることによ
り、上限設定温度範囲の３５〜３７℃の温度域は、特に
各種細菌の増殖しやすい環境温度であることから、浴槽
水１の水量を少なくして、次に通水する通水量で浴槽水
１水温をより早く低くすることによって、各種細菌の増
殖を軽減させることができる。また浴槽水１中の残留塩
素濃度をすこしでも高濃度に保つため、残留塩素の分解
を少なくして、浴槽水１の各種細菌の増殖を軽減もしく
は殺菌することが可能となるものである。

【００３７】（実施例３）本発明の実施例３の浴槽水の
水回路の浄化として、水回路から浴槽水に残留塩素含有
水を通水する手段について説明する。また、浴槽水１に
残留塩素含有水を通水する水回路は、（ａ）戻り管通路
とは、切換弁１２を加熱源９通路側とバイパス通路１６
に流れないように切り換え、給水弁１９をＯＮすると切
換弁１１，循環ポンプ５，戻り管４，アダプタ３の戻り
通路を通り、浴槽水２に供給する通路、（ｂ）往き管通
路とは、切換弁１１を前記（ａ）戻り管通路側に流れな
いように切り換え、給水弁１９をＯＮすると切換弁１２
により加熱源９通路側またはバイパス通路１６，上部往
き通路１５，切換弁１３，ろ過槽６，切換弁１４，往き
管８，アダプタ３の往き通路を通り、浴槽水１に供給す
る通路の２通路から構成され、そして浴槽水２に残留塩
素含有水を通水する手段は、（１）（ａ）戻り管通路、
（２）（ｂ）往き管通路に各々単独通水、（３）（ａ）
戻り管通路と（ｂ）往き管通路に繰り返し通水、（４）
（ａ）戻り管通路と（ｂ）往き管通路に同時通水の通水
手段に加え、（１）（ａ）戻り管通路と、（４）（ａ）
戻り管通路と（ｂ）往き管通路に同時通水する等の複合
組合せ通水手段である。

【００３８】前記通水手段中、（ｂ）往き管通路の加熱
源９、加熱源９出口から上部往き通路１５，切換弁１
３，ろ過槽６，切換弁１４，往き管８，アダプタ３の往
き通路は手動および自動による加熱源９の加熱により、
高温水が流れることから一定時間毎に高温殺菌浄化され
る。この時、高温水が流れることにより、特に水回路の
各接続の凹凸構成部に堆積しやすい垢等を高温水により
付着力を小さくして、通水力で洗浄または軽減し、洗浄
浄化できることから、高温殺菌浄化との相乗効果を有す
る。一方、（ｂ）往き管通路のバイパス通路１６には高
温水が流れないため、本実施例では水回路の往き循環回
路として、加熱源９通路側より通水抵抗が少ないバイパ
ス通路１６側にして循環ポンプ５の能力をより活用でき
るようにしていることから、残留塩素含有水を通水する
時は前記バイパス通路１６側に流すことにより、殺菌浄
化することができる。他方、（ａ）戻り管通路は前記水
回路の各接続の凹凸構成部に垢等が堆積しやすいことか
ら、垢等をバイパス通路１６側と同様に残留塩素含有水
を通水することにより、通水力で洗浄または軽減し、洗
浄浄化し、そして残留塩素含有水の残留塩素より殺菌浄
化する。このように残留塩素含有水の残留塩素による殺
菌浄化を、より有効する通水手段として、（３）（ａ）
戻り管通路と（ｂ）往き管通路に繰り返し通水または
（４）（ａ）戻り管通路と（ｂ）往き管通路に同時通水
することが望ましい。前記に詳述したように、少なくと
も高温殺菌のできない水回路の（ａ）戻り管通路に残留
塩素含有水を必須通水することが好ましい。

【００３９】（実施例４）本発明の実施例４の浴槽水の
水回路の浄化について、図６の同時通水、滞留モードに
基づいて説明する。

【００４０】図６において、制御部の信号により（以下
シーケンスＮｏ．は省略する）循環ポンプ５をＯＦＦし
停止させ、予め残留塩素含有水を給水する給水弁１９が
ＯＮし、通水タイマがカウントを始め、前記実施例３で
詳述した水回路の（４）の（ａ）戻り管通路と（ｂ）往
き管通路の全容量以上になる設定時間とし、設定時間に
達するまで同時通水し、設定時間に達すると給水弁１９
をＯＦＦし通水を停止させる。そして給水弁１９がＯＦ
Ｆすると、滞留タイマがカウントを始め、残留塩素含有
水が通水された水回路に、前記残留塩素含有水を設定時
間に達するまで滞留させる。この滞留設定時間により水
回路の各種細菌を残留塩素含有水に接触させ、より殺菌
浄化効果を大きく、かつ確実にすることができる。

【００４１】次に、滞留タイマの滞留設定時間は、残留
塩素含有水の残留塩素濃度によって決定される。各種細
菌により殺菌濃度と時間は異なるが、一般的には残留塩
素濃度が低濃度の場合、設定時間は長時間とし、また高
濃度の場合、設定時間は短時間の設定となっているが、
本発明者らが実施した殺菌評価の結果を図７に示す。図
７の殺菌評価条件は、検水量：５００ｍｌ、水温：
２０℃、初期一般細菌数：５，０００，０００コ／ｍ
ｌ、残留塩素濃度：０，０．１，０．５，２ｐｐｍの
各種条件で試験した。

【００４２】図７に示したように、水道水基準である一
般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための滞留時間は、
残留塩素含有水の低残留塩素濃度が０．１ｐｐｍで約１
５分、０．５ｐｐｍで約５分、２ｐｐｍで約２分で可能
となる。よって、好ましい滞留時間は、残留塩素濃度に
よって異なるが１５分以上である。

【００４３】（実施例５）本発明の実施例５の浴槽水の
水回路の浄化について、図８，図９に基づいて説明す
る。

【００４４】図８において、制御部の信号により循環ポ
ンプ５をＯＦＦし停止させると、給湯用水回路の加熱源
１０がＯＮ、給水弁１９がＯＮし、予め設定された高設
定温度まで給水する残留塩素含有水を加熱するととも
に、通水タイマがカウントを始め、水回路、すなわち前
記実施例４で詳述した（４）の（ａ）戻り管通路と
（ｂ）往き管通路に設定時間に達するまで同時高温水通
水させる。設定時間に達すると、加熱源１０をＯＦＦ、
給水弁１９をＯＦＦし、そして給水弁１９がＯＦＦする
と、滞留タイマがカウントを始め、残留塩素含有水が通
水された水回路に、前記残留塩素含有水を設定時間に達
するまで滞留させる。この滞留設定時間と滞留温水によ
り水回路に堆積した垢の付着力を小さくするとともに、
各種細菌を残留塩素含有水に接触させ、より殺菌浄化効
果を大きく、かつ確実にすることができる。また加熱通
水が高温水であることから、各種細菌を高温殺菌と残留
塩素殺菌の相乗効果により、より確実に殺菌浄化するこ
とができる。実施例では詳述していないが、繰り返し通
水として、特に高温水を通水した後に冷水（大気温度レ
ベルの水温）を一定時間通水することにより、水回路の
構成部品の耐久性、火傷の防止等を考慮して、冷却させ
るものである。

【００４５】次に高温殺菌とは、各種細菌が高温に弱い
性質を利用して、殺菌するものである。各種細菌により
高温殺菌温度と時間は異なるが、一般的には比較的低温
度の場合、保持時間は長時間とし、高温度の場合、短時
間の保持時間でよいとなっているが、本発明者らが実施
した高温殺菌評価の結果を図９に示す。図９の高温殺菌
評価条件は、検水量：１００ｍｌ、５，０００，０
００コ／ｍｌをビーカに入れ、前記検水に熱電対を浸せ
きしたものを電子レンジで加熱、水温：５０，５５，
６０，６５，７０℃の条件で試験した。前記の加熱温度
は、温度上昇の最高温度で、公差２ｄｅｇ以内とし、持
時間内は恒温水槽で保持した。また、保持時間とは、温
度上昇の最高温度で、公差２ｄｅｇ以内に達してからの
時間である。

【００４６】図９に示したように、水道水基準である一
般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための加熱温度は、
５５℃以上で５分以上が必要である。また６０℃では、
６０℃に達したらほぼ１００％高温殺菌浄化が可能であ
る。

【００４７】（実施例６）本発明の実施例６の浴槽水の
水回路の浄化について図１０に基づいて説明する。

【００４８】図１０において、制御部の信号により給水
弁１９をＯＮして、残留塩素含有水として、一般家庭で
使用している水道水を設定時間または一定量、実施例３
で詳述した（２）の戻りと往き水回路に同時通水させる
ことによって、利便性と経済性に優れた浄化をすること
ができる。

【００４９】

【発明の効果】以上のように、本発明の浴槽水の水回路
の浄化方法は、アダプタ，戻り管，循環ポンプ，加熱
源，ろ過槽，往き管およびアダプタからなる水回路を用
い、前記加熱源による浴槽水を手動で設定温度に加熱す
る手段と自然放置中に上限設定温度と下限設定温度を設
けた温度域を自動で加熱する手段、一定時間毎に一定時
間または一定量、浴槽水の排水と浴槽水に残留塩素含有
水を通水する手段を設けることにより、手動加熱と自動
加熱により加熱源の出口から浴槽に取りつけられたアダ
プタの出口まで高温水が流れ、水回路通路中の各種細菌
を高温殺菌浄化し、水回路を常にきれいに、清潔にする
ことができる。また、自然放置中に一定時間毎に一定時
間または一定量、自動で水回路の排水通路の汚れ成分で
ある垢や各種細菌を排水浄化し、さらにまた残留塩素含
有水を通水することにより、各種細菌等の汚れ成分を洗
浄浄化および残留塩素殺菌浄化することにより、より水
回路を常にきれいに、清潔に保つことができる。そして
水回路を常にきれいに、清潔に保つことによって、複数
の人が続けて入浴したり、浴槽水を続けて使用すること
ができる。

【００５０】また、上限設定温度と下限設定温度を設け
た温度域を自動で加熱する手段に加え、少なくとも１日
１回以上、一定時間毎に一定時間または一定量、自動で
浴槽水の排水手段、一定時間毎に一定時間または一定
量、自動で浴槽水に残留塩素含有水を通水する手段の順
位として、前記排水通路の汚れ成分を排水浄化し、次に
残留塩素含有水の通水により、通水力で汚れ成分を洗浄
浄化、残留塩素殺菌浄化することにより、より水回路を
さらに常にきれいに、清潔に保つことができる。

【００５１】また、往き管通水、戻り管通水、往き管と
戻り管繰り返し通水、往き管と戻り管同時通水のいずれ
かの単独通水または複合通水あるいは単独と複合の組合
せ通水手段により、水回路を集中的に浄化または確実に
浄化することができる。

【００５２】また、少なくとも浴槽水の水回路全容量に
残留塩素含有水を通水後一定時間、残留塩素含有水を滞
留させることにより、より水回路の殺菌浄化効果を大き
くして浄化することができる。

【００５３】また、冷水と温水を繰り返し通水すること
により、さらに水回路の接続部分の凹凸構成部に堆積し
やすい各種細菌の栄養源となる垢堆積を軽減し、各種細
菌の増殖を抑えることができる。また、高温加熱通水す
ることにより、高温殺菌と残留塩素含有水の相乗効果に
より、より確実に殺菌することができる。

【００５４】さらにまた、残留塩素含有水として、水道
水を通水することにより、利便性と経済性に優れた浄化
とすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１の浴槽装置の水回路の構成図

【図２】本発明の実施例１の浴槽装置の基本的な浄化シ
ーケンスを示すフローチャート

【図３】本発明の実施例１の浴槽装置の基本的な浄化シ
ーケンスを示すタイミングチャート

【図４】（ａ）本発明の実施例１と従来法の比較試験用
水回路の構成図 （ｂ）同比較試験用水回路の浄化プレート部の上面構成
図 （ｃ）同比較試験用水回路の浄化プレート部の断面構成
図

【図５】本発明の実施例２の浴槽装置の保温、排水、通
水モードを示すフローチャート

【図６】（ａ）本発明の実施例４の浴槽装置の水回路の
構成図 （ｂ）同水回路の同時通水、滞留モードを示すフローチ
ャート

【図７】（ａ）本発明の実施例４の浴槽装置の殺菌評価
効果を示す図 （ｂ）同殺菌評価効果を示す図

【図８】（ａ）本発明の実施例５の浴槽装置の水回路の
構成図 （ｂ）同水回路の高温滞留モードを示すフローチャート

【図９】（ａ）本発明の実施例６の浴槽装置の高温殺菌
評価効果を示す図 （ｂ）同高温殺菌評価効果を示す図

【図１０】本発明の実施例７の浴槽装置の水回路の構成
図

【図１１】従来の浴槽装置の水回路の構成図

【符号の説明】

１ 浴槽水 ３ アダプタ ４ 戻り管 ５ 循環ポンプ ６ ろ過槽 ７ ろ過材 ８ 往き管 ９ 加熱源 １０ 加熱源 １１ 切換弁Ａ １２ 切換弁Ｂ １３ 切換弁Ｃ １４ 切換弁Ｄ １５ 上部往き通路 １６ バイパス通路 １７ 下部逆洗通路 １８ 排水管 １９ 給水管 ２０，２１ 浄化判定プレート部 ２２ 浄化判定プレート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０Ｂ ５５０ ５５０Ｈ ５６０ ５６０Ａ ５６０Ｚ 1/76 1/76 Ａ Ｆ２４Ｈ 1/00 ３０２ Ｆ２４Ｈ 1/00 ６０２Ａ (72)発明者 青木 哲郎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 岩本 龍志 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】水回路の一部に設けられ浴槽水を循環する
   循環ポンプと、浴槽水をろ過するろ過槽と、浴槽と水回
   路を接続するアダプタと、水回路に残留塩素含有水を一
   定時間毎に給水する給水部と、前記給水部から給水され
   た残留塩素含有水または浴槽水の少なくとも一つを加熱
   する加熱手段と、浴槽水を自然放置中に上限設定温度と
   下限設定温度を設けた温度域に自動で加熱する自動加熱
   手段、一定時間毎に自動で水回路を介し浴槽水を排水す
   る排水手段とを設けてなる浴槽装置。
2. 【請求項２】自動加熱手段により少なくとも１日１回以
   上上限設定温度まで加熱または下限設定温度まで自然放
   置した後、排水手段により浴槽水を排水し給水部により
   水回路を介し浴槽に残留塩素含有水を給水する請求項１
   記載の浴槽装置。
3. 【請求項３】給水部から水回路への給水方向を切り換え
   る切換弁を設け、給水部から水回路に残留塩素含有水を
   給水する際、切換弁を戻り側または往き側に切り換える
   請求項１または２記載の浴槽装置。
4. 【請求項４】給水部から給水された残留塩素含有水が水
   回路を経て、循環アダプタに達した後に、給水を停止
   し、残留塩素含有水を一定時間水回路に滞留してなる請
   求項１から３のいずれか１項記載の浴槽装置。
5. 【請求項５】残留塩素含有水を加熱する加熱手段を設け
   た請求項１から４のいずれか１項記載の浴槽装置。
6. 【請求項６】加熱手段により加熱された残留塩素含有水
   を水回路に給水した後に、加熱手段により加熱されてい
   ない残留塩素含有水を水回路に給水する請求項４記載の
   浴槽装置。
7. 【請求項７】加熱手段により加熱された残留塩素含有の
   温度を５５℃以上としてなる請求項５または６記載の浴
   槽装置。
8. 【請求項８】給水部から給水される残留塩素含有水とし
   て、水道水としてなる請求項１から７のいずれか１項記
   載の浴槽装置。