JPH10258206A - 浴槽装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 浴槽水の水回路に堆積する垢や各種細菌を浄
化すること。 【解決手段】 浴槽水の水回路の浄化において、アダプ
タ３，戻り管４，循環ポンプ５，ろ過槽６および往き管
８から構成された水回路を手動加熱と、自動加熱，自動
排水，自動残留塩素含有水を通水する手段を設けること
により、水回路に堆積する垢や各種細菌を加熱，洗浄，
殺菌浄化し、複数の人が続けて入浴したり、浴槽水を続
けて使用しても、水回路を常にきれいに、清潔に保つこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽の浴槽水を循
環し、水回路および浴槽水を浄化・殺菌して清潔に保つ
ことができる浴槽装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、浴槽水の水回路を浄化する浴槽装
置は図１１に示すようなものがあった。

【０００３】浴槽水１は浴槽２に取りつけたアダプタ３
の戻り部に接続した戻り管５，循環ポンプ６，ろ過材７
を充填したろ過槽８を通り、アダプタ３の往き部に接続
した往き管９からなる水回路を循環ポンプ６により循環
し浴槽水１の汚れをろ過槽８により浄化する。浴槽水１
の水回路には、浴槽水１を加熱する加熱源である加熱手
段Ｂ１０を循環ポンプ６とろ過槽８との間に設けてい
る。また浴槽２への給水またはお湯はりは、給湯用水回
路の加熱である加熱手段Ｂ１１を介し、水回路の一部に
設けた給水部より、前記水回路の戻り管５、往き管９を
通り供給される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
浴槽水を浄化する浴槽装置では、まず浴槽水の汚れ成分
である大きな垢や髪の毛等をアダプタに設置した一次フ
ィルタにより簡易浄化し、前記一次フィルタを通過した
比較的大きな垢粒子（おおよそ１０ミクロン以上）を水
回路のろ過槽でろ過浄化できるが、複数の人が続けて入
浴したり、浴槽水を続けて使用することによって生じる
微細粒子（約１ミクロン程度）の各種細菌（一般細菌、
大腸菌等）による汚れ成分をろ過槽ではろ過浄化が不十
分のため、水回路は汚れ、不清潔になりやすい。さらに
重要なことは、水回路は循環ポンプ、ろ過槽、往き管、
戻り管およびアダプタの接続部分は、凹凸構成部で、水
の流れが悪く（乱流大）、各種細菌の栄養源となる垢が
堆積しやすく、また各種細菌が増殖しやすい環境となっ
ている。特に、ろ過槽入口までは、浴槽水の汚れ成分は
そのまま循環するため、さらに不清潔になりやすく、こ
れらをきれいに、清潔にするためには浴槽水を常時交換
し、浴槽の掃除するか、洗浄剤で通水洗浄するかして強
制的に洗浄しなければならないため、大変不経済で手間
のかかるものであるという課題を有していた。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、本発明の浴槽水の水回路を浄化する浴槽装
置は、浴槽水を循環する水回路の一部に循環ポンプと、
加熱手段とろ過槽を設け、循環ポンプ，加熱手段，ろ過
槽と浴槽に取りつけたアダプタとの間に各々戻り管，往
き管を接続した水回路を構成し、給水部から給水された
残留塩素含有水または浴槽水の少なくとも１つを加熱す
る加熱手段と、浴槽水を自然放置中に一定時間毎に自動
で設定温度まで加熱する自動加熱手段、一定時間毎に自
動で水回路を介し浴槽水を排水する排水手段を備えたも
のである。

【０００６】上記発明によれば、一定時間毎に自動で浴
槽水の水回路を加熱水により殺菌浄化し、そして、排水
により浴槽水を少なくし前記排水により少なくなった浴
槽水に残留塩素含有水を排水前とほぼ同水量まで通水
し、この通水力で水回路に堆積した垢等の汚れ成分を洗
浄浄化し、また、前記残留塩素含有水の残留塩素により
水回路の各種細菌等の汚れ成分を殺菌浄化手段の相乗浄
化効果により、水回路をきれいに、清潔に保つことがで
きる。また水回路を常にきれいに、清潔に保つことによ
って、複数の人が続けて入浴したり、浴槽水を続けて使
用することができる。また、前記相乗浄化効果により、
浴槽水の併用浄化することも可能となる二重浄化効果を
呈することができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明は水回路の一部に設けら
れ、浴槽水を循環する循環ポンプと、浴槽水をろ過する
ろ過槽と、浴槽と水回路を接続するアダプタと、水回路
に残留塩素含有水も一定時間毎に給水する給水部と、給
水部から給水された残留塩素含有水または浴槽水の少な
くとも一つを加熱する加熱手段と、浴槽水を自然放置中
に一定時間毎に自動で設定温度まで加熱する自動加熱手
段、一定時間毎に自動で水回路を介し浴槽水を排水する
排水手段とを設けてなるものである。

【０００８】そして、自然放置中に一定時間毎に自動で
再加熱することにより、水回路通路中の各種細菌が再高
温殺菌浄化され、前記自動加熱により、より高温殺菌浄
化される。次に、自然放置中に一定時間毎に自動で水回
路通路中の浴槽水排水通路の汚れ成分である垢や各種細
菌を排水浄化する。そして一定時間毎に、自動で水回路
の一部に設けた給水部より、水回路から浴槽水に残留塩
素含有水を通水し、少なくとも排水手段により排水した
浴槽水を元の浴槽水量まで供給するとともに、この通水
力で水回路に堆積した垢等の汚れ成分を洗浄浄化し、さ
らに残留塩素含有水の残留塩素により、各種細菌等の汚
れ成分を殺菌浄化することによって、水回路を高温殺菌
浄化と洗浄浄化と残留塩素殺菌浄化の相乗浄化効果によ
り、水回路を常にきれいに、清潔に保つことができる。
また、水回路を常にきれいに、清潔に保つことによっ
て、複数の人が続けて入浴したり、浴槽水を続けて使用
することができる。そして前記相乗浄化効果により、浴
槽水の併用浄化することも可能となる二重浄化効果を呈
することができる。

【０００９】また、排水手段により浴槽水を排水した後
に給水部より水回路を介し浴槽に残留塩素含有水を給水
するものである。

【００１０】そしてまず浴槽水、排水通路の汚れ成分で
ある垢や各種細菌を排水浄化し、次に通水力で水回路に
堆積した垢等の汚れ成分を洗浄浄化し、さらに残留塩素
含有水の残留塩素により、各種細菌等の汚れ成分を殺菌
浄化することにより、水回路を、より洗浄浄化効果を大
きくすることができる。

【００１１】また、排水手段により浴槽水を排水した後
に自動加熱手段により浴槽水を設定温度まで加熱し、給
水部により水回路を介し、浴槽に残留塩素含有水を給水
するものである。

【００１２】そして、まず浴槽水の水量を少なくし、次
の浴槽水の設定温度（約３０〜４０℃と入浴温度より低
い設定温度）まで加熱するための加熱源のエネルギー消
費量を軽減し、そして設定温度に達した後に通水するこ
とにより、前記設定温度は特に各種細菌の増殖しやすい
環境温度であることから、浴槽水水温をより早く低くす
ることにより、各種細菌の増殖を軽減させることができ
る。また残留塩素含有水の残留塩素により、各種細菌等
の汚れ成分を殺菌浄化することができる相乗効果を有す
る。

【００１３】また、給水部から水回路への給水方向を切
り換える切換弁を設け、給水部から水回路に残留塩素含
有水を給水する際、切換弁を戻り側または往き側に切り
換えるものである。

【００１４】そして、戻り側又は往き側のみに残留塩素
含有水を給水するため、戻り側，往き側同時に給水した
場合に比べ、戻り側，往き側に流れる給水量は塩素洗浄
能力を向上させることができる。

【００１５】また、給水部から給水された残留塩素含有
水が水回路を経て循環アダプタに達した後に給水を廃止
し、残留塩素含有水を一定時間水回路に滞留してなるも
のである。

【００１６】そして、少なくとも浴槽水の水回路全容量
に残留塩素含有水を通水後、残留塩素含有水を一定時間
水回路に滞留することにより、より時間的な殺菌効果を
大きくして浄化することができる。

【００１７】また、残留塩素含有水を加熱する加熱手段
を設けたものである。また、加熱手段により加熱された
残留塩素含有水を水回路に給水した後に、加熱手段によ
り加熱されていない残留塩素含有水を水回路に給水する
浴槽装置である。

【００１８】そして残留塩素含有水の通水温として、温
水の後に冷水を通水することにより、冷水通水は、残留
塩素の分解を遅らせ残留塩素濃度を保持させて殺菌効果
をより大きくし、温水通水は、水回路の凹凸部への堆積
付着垢の付着力を小さくさせ、垢堆積を洗浄あるいは軽
減して、浄化能力を大きくすることができる。加熱手段
により加熱された残留塩素含有水の温度を５５℃以上と
してなる。

【００１９】そして、通水する残留塩素含有水の水温を
５５℃以上にすることにより、残留塩素濃度が低下して
も、高温水による各種細菌を高温で殺菌し、残留塩素殺
菌と高温殺菌の相乗効果により、殺菌時間を短時間にす
ることができる。給水部から給水される残留塩素含有水
として、水道水としたものである。

【００２０】そして、通水する残留塩素含有水として、
水道水とすることにより、一般家庭に供給されている給
水を使用することができるため、利便性と経済性に優れ
た浄化ができる。

【００２１】（実施例１）以下、本発明の実施例１にお
ける浴槽水の水回路の浄化手段について図面を用い説明
する。なお、従来と同一構成要素のものについては同一
番号を付し説明する。

【００２２】図１において、浴槽水１の浄化は浴槽水１
中の大きな垢粒子や髪の毛等の汚れ成分は制御部の信号
により循環ポンプ５を作動させると、水回路である浴槽
２に取りつけたアダプタ３を通り、前記アダプタ３の戻
り部に接続した戻り管４，循環ポンプ５，切換弁Ａ１
１，切換弁Ｂ１２の切り換えにより、浴槽水１を加熱す
る加熱手段である加熱源９通路またはバイパス通路１６
を通り、ろ過槽６の上部往き通路１５の切換弁Ｃ１３よ
り、下向流でろ過槽６に充填したろ過材７で大きな垢粒
子や髪の毛等の汚れ成分をろ過浄化する。そして、浄化
された浴槽水１は切換弁Ｄ１４を通り、浴槽２に取りつ
けたアダプタ３の往き部に接続した往き管８，アダプタ
３より浴槽２に戻り、制御部の信号による循環ポンプ５
の停止まで浴槽水１は連続循環浄化される。

【００２３】また浴槽水２の追いだきは、手動すなわち
入浴者の意思により制御部の信号によって循環ポンプ５
を作動させ、浴槽水２をガスの燃焼熱等からなる加熱源
９通路に循環させ、前記加熱源９の燃焼熱を吸収し熱交
換して高温加熱され、加熱源９の出口から浴槽１に取り
つけられたアダプタ３の出口まで高温水が流れ、浴槽水
２全体が設定温度になるまで加熱され、この時、高温水
が流れる水回路通路中の各種細菌が高温殺菌浄化され
る。

【００２４】また、自動すなわち予めマイクロコンピュ
ータに記憶させた制御部の信号により、自然放置中に一
定時間毎に循環ポンプ５を作動させ、浴槽水２を設定温
度に再加熱することにより、水回路通路中の各種細菌が
定期的に高温殺菌浄化され、前記手動加熱と自動加熱に
より、より高温殺菌浄化することができる。

【００２５】また、ろ過槽６に充填したろ過材７が一定
時間連続ろ過浄化されると、浴槽水１の汚れ成分（大き
な垢粒子や髪の毛等）により目詰りすると、マイクロコ
ンピュータに記憶させた制御部の信号により自動的に循
環ポンプ５を一旦停止させ、切換弁Ｂ１２の切り換えに
より、浴槽水１を加熱する加熱源９通路側またはバイパ
ス通路１６側のどちらかの通路を形成するとともに、切
換弁Ｃ１３と切換弁Ｄ１４を逆洗排水側に切り換える。
そして再度循環ポンプ５を作動させ浴槽水１を用い、切
換弁Ｂ１２、浴槽水１を加熱する加熱源９通路側または
バイパス通路１６のどちらか通路より、下部逆洗通路１
７、切換弁Ｄ１４を通り、上向流でろ過槽６に充填した
ろ過材７でろ過した汚れ成分を逆洗洗浄し、前記逆洗洗
浄した浴槽水１を切換弁Ｃ１３に接続した排水管１８よ
り一定時間または一定量排水される。

【００２６】そしてまた、浴槽２の浴槽水１が一定時間
排水されるとマイクロコンピュータに記憶させた制御部
の信号により自動的循環ポンプ５を停止させ、給水弁１
９を開弁することによって、残留塩素含有水を一定時間
または一定量通水させることにより、戻り管４、循環ポ
ンプ５の戻り水回路通路、切換弁Ｂ１２、バイパス通路
１６側または加熱源９側から上部往き管１５の切換弁Ｃ
１３，切換弁Ｄ１４，往き管９からなる往き水回路の単
水回路通水または戻り、往き水回路の繰り返し通水ある
いは同時通水を選択し、前記水回路の特に凹凸構成部に
堆積し各種細菌の栄養源となる垢の堆積を通水力によ
り、洗浄あるいは軽減して洗浄浄化させるとともに、各
種細菌を残留塩素により殺菌浄化させることができる。

【００２７】図２，図３では、前記に詳述した水回路の
基本的な浄化シーケンスのフローチャートとタイミング
チャートを各々示す。まず浄化シーケンスについて説明
すると、マイクロコンピュータを内蔵した制御部と有線
または無線で制御できるシーケンス１０１のリモコンの
運転ＳＷをＯＮすると、１０２の各種切換弁を循環回路
側（戻り管４から往き管８に循環する）に切り換え、各
種切換弁が切り換わると１０３の循環ポンプ５がＯＮす
る。１０３の循環ポンプ５がＯＮすると１０４，１１
２，１１７の各種タイマＡ，Ｂ，Ｃが各々カウントを始
め、まず１０４のタイマＡが設定時間に達するまで循環
浄化し、設定時間に達すると１０５の循環ポンプ５がＯ
ＦＦし、１０６の各種切換弁を排水回路側（下部逆洗通
路１７からろ過槽６を通り排水管１８に排水する）に切
り換え、各種切換弁が切り換わると１０７の循環ポンプ
５がＯＮし、１０８の排水タイマがカウントを始め、前
記１０８の排水タイマが設定時間に達するまで排水浄化
すなわちろ過槽６のろ過材７にろ過浄化した各種汚れ成
分を浴槽水２を用い上向流で逆洗洗浄するとともに浴槽
水２を排水させる。設定時間に達すると１０９の循環ポ
ンプ５がＯＦＦし排水を停止させ、１１０で各種切換弁
を循環回路側に切り換え、１１１で循環ポンプ５をＯＮ
させ、再び循環浄化モードにして浴槽水２を循環浄化す
る。そして再び１０４のタイマＡがカウントを始め、前
記操作を繰り返す。

【００２８】また前記シーケンス１０４から１１１の操
作中に、１１２のタイマＢも同時にカウントを始め、前
記タイマＢは１０４のタイマＡよりも設定時間を短く、
かつ前記１０４のタイマＡ中に操作できるようにタイマ
時間を設定する。１１２のタイマＢが設定時間に達する
と、１１３のタイマＡがカウントを始め（１０４のタイ
マＡと同じ設定時間）、設定時間に達するまで前記と同
様循環浄化し、設定時間に達すると１１４の加熱源９が
ＯＮして、予め浴槽水２全体が設定した１１５の設定温
度まで前記１１４の加熱源９が継続ＯＮし、設定温度に
達すると１１６で加熱源９をＯＦＦして浴槽水２の加熱
を停止する。この時、加熱源９の出口からアダプタの出
口からなる往き通路に高温水が流れ各種細菌が高温殺菌
浄化される。そして再び１１３のタイマＡがカウントを
始め、前記操作を繰り返す。

【００２９】また前記シーケンス１０４から１１１と１
１２から１１６の操作中に、１１７のタイマＣも同時に
カウントを始め、前記タイマＣは１０４のタイマＡより
も設定時間を短く、１１２のタイマＢより長く、かつ前
記１０４のタイマＡ、１１３のタイマＡ中に操作できる
ようにタイマ時間を設定する。１１７のタイマＣが設定
時間に達すると、１１８のタイマＡがカウントを始め
（１０４と１１３のタイマＡと同じ設定時間）、設定時
間に達するまで前記と同様循環浄化し、設定時間に達す
ると１１９の循環ポンプ５がＯＦＦして、予め残留塩素
含有水を給水する１２０の給水弁１９がＯＮし、１２１
の通水タイマがカウントを始め、前記１２１の通水タイ
マが設定時間に達するまで通水浄化すなわち水回路に堆
積した垢等の汚れ成分を通水力で洗浄浄化するととも
に、残留塩素含有水の残留塩素により、各種細菌等の汚
れ成分を殺菌浄化する。１２１の通水タイマが設定時間
に達すると１２２の循環ポンプ５がＯＮし、そして再び
１１８のタイマＡがカウントを始め、前記操作を繰り返
す。

【００３０】そして前記各操作中に１２３の手動により
追いだきＳＷをＯＮすると、循環ポンプ５がＯＮしてい
る１０４，１１２，１１７の各種タイマＡ，Ｂ，Ｃおよ
び１１３，１１８の各種タイマＡの設定時間中は操作可
能で、１２４の加熱源９がＯＮして、予め浴槽水２全体
が設定した１２５の設定温度まで前記１２４の加熱源９
が継続ＯＮし、設定温度に達すると１２６で加熱源９を
ＯＦＦして浴槽水２の加熱を停止する。この時、加熱源
９の出口からアダプタ３の出口からなる往き通路に高温
水が流れ各種細菌が高温殺菌浄化される。そして前記１
２６の加熱源９がＯＦＦすると同時に１２７の追いだき
ＳＷがＯＦＦする。

【００３１】上記実施例では詳述していないが、１２３
の手動により追いだきＳＷをＯＮしてから１２７の追い
だきＳＷがＯＦＦする間中も前記各種タイマは各々タイ
マカウントしている。また１２３の手動により追いだき
ＳＷをＯＮすると、前記手動すなわち入浴者の意思によ
り浴槽水２を設定温度にしたいことから、自動浄化シー
ケンスより優先操作にすることも可能である。

【００３２】さらに手動と自動での浴槽水２の設定温度
範囲は異なる。手動での浴槽水２の設定温度範囲は、一
般的に入浴可能温度で約３７〜４８℃、自動での浴槽水
２の設定温度範囲は、入浴終了後の自然放置中の自動で
あり、入浴意思のない時間帯であることから、手動での
浴槽水２の設定温度範囲より低い設定温度でよく、約３
０〜４０℃が望ましい。なぜなら少なくとも水回路の加
熱源９の出口からアダプタ３の出口までの往き通路を高
温殺菌浄化が目的であるから余り設定温度を高温する必
要はなく、設定温度を高温すると安全性に問題が生じ
る。また加熱源９の種類により設定温度を高温すると、
たとえば電気ヒータ（１ＫＷ＝８６０ｋｃａｌ／時）に
よる直接加熱源の場合、熱効率を約９０％、循環流量６
ｌ／分、設定温度４５℃沸き上げする時の往き通路の加
熱水水温は； ８６０ｋｃａｌ／時×０．９／６ｌ／分／６０分＝２．
２ｄｅｇ 往き通路の加熱水水温は、４５℃＋２．２ｄｅｇ＝４
７．２℃ となり、高温殺菌浄化効果は期待できない。一方、一般
的な浴槽水加熱用のガス燃焼（１２０００ｋｃａｌ／
時）による間接加熱（熱交換器使用）の場合、熱効率を
約７５％、循環流量６ｌ／分、設定温度４５℃沸き上げ
する時の往き通路の加熱水水温は； １２０００ｋｃａｌ／時×０．７５／６ｌ／分／６０分
＝２５ｄｅｇ 往き通路の加熱水水温は、４５℃＋２５ｄｅｇ＝７０℃ となり、高温殺菌浄化効果は大である。他方、上記設定
温度３５、３０℃沸き上げする時の往き通路の加熱水水
温は； １２０００ｋｃａｌ／時×０．７５／６ｌ／分／６０分
＝２５ｄｅｇ 往き通路の加熱水水温は、３５℃＋２５ｄｅｇ＝６０℃ ３０℃＋２５ｄｅｇ＝５５℃ となり、高温殺菌浄化効果は十分期待できる。

【００３３】次に一定時間毎すなわち自動タイマについ
て説明する。一定時間毎とは、自動的に加熱，排水，通
水動作を実施するもので少なくとも１日（２４時間）に
一回以上が望ましく、４〜１８時間毎に前記動作を実施
することが好ましい。４時間以内の自動タイマでは、浄
化効果に対して有効ではあるが、加熱によるエネルギ消
費量が大きくなること、また排水量が多くなることによ
り、省エネルギ，省資源を考慮すると好ましくない。一
方、１８時間以上の自動タイマでは、前記入浴時間帯と
重なる可能性が大きく、入浴中に浴槽水が低下したり、
冷水（大気レベルの水温）通水の場合、冷たい水が流出
されるため、入浴感が悪くなること、さらに浄化効果が
やや劣るなどの欠点を考慮したものである。

【００３４】次に排水タイマ設定時間と通水タイマ設定
時間について説明する。排水タイマは、循環ポンプ５の
能力とろ過槽６のろ過材７の目詰まり状態により決定す
ることが必要であるが、タイマ時間を長くすると浴槽水
２の排水量が多くなり、水の省資源とはならないことか
ら、前記浴槽水２の排水量は浴槽水２量の約５〜１０％
程度が望ましい。すなわち浴槽水２量が１５０〜２００
ｌとすると、７．５〜２０ｌを排水する循環ポンプ５の
能力によりタイマ設定時間が決定される。一方、通水タ
イマ設定時間は、少なくとも通水量として水回路の全容
量を通水する量以上、すなわち通水圧と水回路の抵抗に
より決定することが必要であるが、タイマ時間を長くす
ると、浴槽水２への注水量が多くなり浴槽１より溢れて
しまうため、前記排水量とほぼ同程度の水回路の全容量
の通水量が最良で、通水する残留塩素含有水により、浴
槽水２を殺菌浄化することも考慮すると浴槽水２量の約
５〜２０％程度の通水タイマ設定時間が望ましい。また
本実施例では詳述していないが、排水タイマ設定時間、
通水タイマ設定時間と排水量と通水量を併用制御する方
法も可能で本発明の範囲内である。

【００３５】次に、水回路の一部に設けた給水部からの
通水方法について詳述する。浴槽水の水回路への通水と
して（１）往き循環水回路通水、（２）戻り循環水回路
通水、（３）往き，戻り循環水回路に繰り返し通水また
は（４）戻り，往き循環水回路に同時通水のいずれか単
独通水または複合通水あるいは単独と複合の組合せ通水
として、残留塩素含有水を通水することにより、全水回
路の各種細菌の栄養源となる垢の堆積を集中的に洗浄浄
化するとともに、各種細菌を残留塩素による集中殺菌浄
化がより確実に浄化させることができる。

【００３６】次に、残留塩素含有水について詳述する。
残留塩素含有水とは残留塩素として０．１ｐｐｍ以上を
含有した新鮮水で、塩素ガスを溶解させたもの、次亜鉛
素酸ナトリウムを溶解させたもので、濃度制御したもの
である。濃度制御として、残留塩素濃度は前記０．１ｐ
ｐｍ以上としたが、水回路の構成部品の材質として、銅
および銅合金，ＮＢＲおよびＥＰＤＭゴム，ＰＰおよび
ＰＯＭ樹脂等が一般的であり、これらの材質の耐久性を
考慮すると１０ｐｐｍ以下が望ましい。また、短時間で
殺菌浄化を効果的にし、かつ構成部品材質の耐久性を考
慮すると、好ましい残留塩素含有水、の残留塩素濃度
は、０．３〜５ｐｐｍである。

【００３７】図４は本発明と従来法の浄化効果を判定す
る水回路構成および浄化判定プレート構成を示す。
（ａ）は水回路の構成図で、浄化判定プレート部２０，
２１はアダプタ３に接続した戻り管４、往き管８を各々
設置している。また、（ｂ）は浄化判定プレート部２
０，２１の上面構成図、（ｃ）は浄化判定プレート部２
０，２１の断面構成図を示し、浄化判定プレート２２
（幅：１０ｍｍ、厚さ：１ｍｍの白色樹脂プレート）を
シール治具を介して戻り管４、往き管８の通水部に装着
している。

【００３８】表１は図１で詳述した水回路構成を用い、
本発明と従来法の浄化効果を示したものである。表中に
記載していない詳細な条件および評価として、（ア）入
浴条件：４人／日、入浴温度４２℃／４時間保温、
（イ）浄化条件：通水時の残留塩素含有水の残留塩素濃
度は、０．５〜１ｐｐｍ、そして（１）排水タイマ３０
秒（排水量：１０ｌ）、（２）通水タイマ：６０秒（通
水量：１０ｌ）、（３）自然放置時の加熱設定温度３５
℃、（４）タイマＡ：６時間、タイマＢ：５分、タイマ
Ｃ：４時間に設定、ィ評価：表２の評価指数（汚れ指数
５段階評価：色変化＝汚れ、垢堆積を目視評価）にて評
価した。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【表２】

【００４１】表１から明らかなように、残留塩素含有水
を通水させることにより、水回路に堆積しやすい汚れ成
分（垢）を軽減することができる。また、一般的に言わ
れている水垢（垢が栄養源となり各種細菌が異常増殖し
たもの）は、評価指数４レベルで発生しやすく、従来法
の戻り管の評価指数４では前記水垢が微少ではあるが発
生していたことからも、本発明の残留塩素含有水を通水
させることにより、各種細菌の増殖を押さえ、水回路を
清潔に保つことができる。

【００４２】（実施例２）本発明の実施例２の浴槽水の
水回路の浄化について、図５の排水，通水モードに基づ
いて説明する。

【００４３】図５において、制御部の信号によりシーケ
ンス１３１の循環ポンプ５がＯＮすると、１３２のタイ
マＡがカウントを始め、１３２のタイマＡが設定時間に
達するまで浴槽水２を循環浄化し、設定時間に達すると
１３３の循環ポンプ５がＯＦＦし、１３４の各種切換弁
を排水回路側（下部逆洗通路１７からろ過槽６を通り排
水管１８に排水する）に切り換え、各種切換弁が切り換
わると、１３５の循環ポンプ５がＯＮし、１３６の排水
タイマがカウントを始め、前記１３６の排水タイマが設
定時間に達するまで排水浄化、すなわちろ過槽６のろ過
材７にろ過浄化した各種汚れ成分を浴槽水２を用い上向
流で逆洗洗浄するとともに浴槽水２を排水させる。設定
時間に達すると、１３７の循環ポンプ５がＯＦＦし排水
を停止させ、１３８の各種切換弁を循環回路側（戻り管
４から往き管８に循環する）に切り換え、各種切換弁が
切り換わると、予め残留塩素含有水を給水する１３９の
給水弁１９がＯＮし、１４０の通水タイマがカウントを
始め、前記１４０の通水タイマが設定時間に達するまで
通水浄化、すなわち水回路に堆積した垢等の汚れ成分を
通水力で洗浄浄化するとともに、残留塩素含有水の残留
塩素により、各種細菌等の汚れ成分を殺菌浄化する。１
４０の通水タイマが設定時間に達すると、１３１の循環
ポンプ５がＯＮし、前記操作を繰り返す。この時の排水
タイマと通水タイマの詳細条件は、前記実施例１の記載
と同条件であることから、説明を省略する。

【００４４】（実施例３）本発明の実施例３の浴槽水の
水回路の浄化について、図６の排水，加熱，通水モード
に基づいて説明する。

【００４５】図６において、制御部の信号によりシーケ
ンス１４１の循環ポンプ５がＯＮから１４８の各種切換
弁を循環回路側（戻り管４から往き管８に循環する）に
切り換えるまでは、実施例２の図５の排水，通水モード
と同一モードのため、説明を省略する。１４８の各種切
換弁を循環回路側（戻り管４から往き管８に循環する）
に切り換え、１４９の循環ポンプ５がＯＮすると、１５
０の加熱源９がＯＮして、予め浴槽水２全体が設定した
１５１の設定温度まで前記１４９の加熱源９が継続ＯＮ
し、設定温度に達すると１５２で加熱源９がＯＦＦして
浴槽水２の加熱を停止する。この時、加熱源９の出口か
らアダプタ３の出口からなる往き通路に高温水が流れ各
種細菌が高温殺菌浄化される。１５１の加熱源９がＯＦ
Ｆすると、１５３の循環ポンプ５がＯＦＦし、予め残留
塩素含有水を給水する１５４の給水弁１９がＯＮし、１
５５の通水タイマがカウントを始め、前記１５５の通水
タイマが設定時間に達するまで通水浄化、すなわち水回
路に堆積した垢等の汚れ成分を通水力で洗浄浄化すると
ともに、残留塩素含有水の残留塩素により、各種細菌等
の汚れ成分を殺菌浄化する。１５５の通水タイマが設定
時間に達すると、１４１の循環ポンプ５がＯＮし、前記
操作を繰り返す。この時の排水タイマと通水タイマおよ
び加熱設定温度の詳細条件は、前記実施例１の記載と同
条件であることから、説明を省略する。

【００４６】このように上述した排水，加熱，通水のシ
ーケンス順位にすることにより、まず浴槽水２の水量を
少なくし、次の浴槽水２の設定温度（約３０〜４０℃と
入浴温度より低い設定温度）まで加熱するための加熱源
９のエネルギー消費量を軽減、すなわち省エネルギー化
ができる。そして設定温度に達した後に通水することに
より、前記設定温度は特に各種細菌の増殖しやすい環境
温度であることから、浴槽水２水温をより早く低くする
ことによって、各種細菌の増殖を軽減させることができ
る。

【００４７】（実施例４）本発明の実施例４の浴槽水の
水回路の浄化として、水回路から浴槽水に残留塩素含有
水を通水する手段について説明する。また、浴槽水２に
残留塩素含有水を通水する水回路は、（ａ）戻り管通路
とは、切換弁１２を加熱源９通路側とバイパス通路１６
に流れないように切り換え、給水弁１９をＯＮすると切
換弁１１，循環ポンプ５，戻り管４，アダプタ３の戻り
通路を通り、浴槽水２に供給する通路、（ｂ）往き管通
路とは、切換弁１１を前記（ａ）戻り管通路側に流れな
いように切り換え、給水弁１９をＯＮすると切換弁１２
により加熱源９通路側またはバイパス通路１６，上部往
き通路１５，切換弁１３，ろ過槽６，切換弁１４，往き
管８，アダプタ３の往き通路を通り、浴槽水２に供給す
る通路の２通路から構成され、そして浴槽水２に残留塩
素含有水を通水する手段は、（１）（ａ）戻り管通路、
（２）（ｂ）往き管通路に各々単独通水、（３）（ａ）
戻り管通路と（ｂ）往き管通路に繰り返し通水、（４）
（ａ）戻り管通路と（ｂ）往き管通路に同時通水の通水
手段に加え、（１）（ａ）戻り管通路と、（４）（ａ）
往き管通路に同時通水する等の複合組合せ通水手段であ
る。

【００４８】前記通水手段中、（ｂ）往き管通路の加熱
源９、加熱源９出口から上部往き通路１５，切換弁１
３，ろ過槽６，切換弁１４，往き管８，アダプタ３の往
き通路は手動および自動による加熱源９の加熱により、
高温水が流れることから一定時間毎に高温殺菌浄化され
る。この時、高温水が流れることにより、特に水回路の
各接続凹凸構成部に堆積しやすい垢等を高温水により付
着力を小さくして、通水力で洗浄または軽減し、洗浄浄
化できることから、高温殺菌浄化との相乗効果を有す
る。一方、（ｂ）往き管通路のバイパス通路１６には高
温水が流れないため、本実施例では水回路の往き循環回
路として、加熱源９通路側より通水抵抗が少ないバイパ
ス通路１６側にして循環ポンプ５の能力をより活用でき
るようにしていることから、残留塩素含有水を通水する
時は前記バイパス通路１６側に流すことにより、殺菌浄
化することができる。他方、（ａ）戻り管通路は前記水
回路の各接続の凹凸構成部に垢等が堆積しやすいことか
ら、垢等をバイパス通路１６側と同様に残留塩素含有水
を通水することにより、通水力で洗浄または軽減し、洗
浄浄化し、残留塩素含有水の残留塩素より、殺菌浄化す
る。このように残留塩素含有水の残留塩素による殺菌浄
化を、より有効する通水手段として、（３）（ａ）戻り
管通路と（ｂ）往き管通路に繰り返し通水または（４）
（ａ）戻り管通路と（ｂ）往き管通路に同時通水するこ
とが好ましい。前記に詳述したように、少なくとも高温
殺菌のできない水回路の（ａ）戻り管通路に残留塩素含
有水を通水することが好ましい。

【００４９】（実施例５）本発明の実施例５の浴槽水の
水回路の浄化について、図７の同時通水，滞留モードに
基づいて説明する。図７において、制御部の信号により
循環ポンプ５をＯＦＦし停止させ、予め残留塩素含有水
を給水する給水弁１９がＯＮし、通水タイマがカウント
を始め、前記実施例４で詳述した（４）の（ａ）戻り管
通路と（ｂ）往き管通路に設定時間に達するまで同時通
水し、設定時間に達すると給水弁１９をＯＦＦし通水を
停止させる。そして給水弁１９がＯＦＦすると、滞留タ
イマがカウントを始め、残留塩素含有水が通水された水
回路に、前記残留塩素含有水を設定時間に達するまで滞
留させる。この滞留設定時間により水回路の各種細菌を
残留塩素含有水に接触させ、より殺菌浄化効果を大き
く、かつ確実にすることができる。

【００５０】次に、滞留タイマの滞留設定時間は、残留
塩素含有水の残留塩素濃度によって決定される。各種細
菌により殺菌濃度と時間は異なるが、一般的には残留塩
素濃度が低濃度の場合、設定時間は長時間とし、また高
濃度の場合、設定時間は短時間の設定となっているが、
本発明者らが実施した殺菌評価の結果を図８に示す。図
８の殺菌評価条件は、（１）検水量：５００ｍｌ、
（２）水温：２０℃、（３）初期一般細菌数：５、００
０、０００コ／ｍｌ、（４）残留塩素濃度：０、０．
１、０．５、２ｐｐｍの各種条件で試験した。

【００５１】図８に示したように、水道水基準である一
般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための滞留時間は、
残留塩素含有水の低残留塩素濃度が０．１ｐｐｍで約１
５分、０．５ｐｐｍで約５分、２ｐｐｍで約２分で可能
となる。よって、好ましい滞留時間は、残留塩素濃度に
よって異なるが１５分以上である。

【００５２】（実施例６）本発明の実施例６の浴槽水の
水回路の浄化について、図９，図１０に基づいて説明す
る。

【００５３】図９において、制御部の信号により循環ポ
ンプ５をＯＦＦし停止させると、給湯用水回路の加熱源
１０がＯＮ、給水弁１９がＯＮし、予め設定された高設
定温度まで給水する残留塩素含有水を加熱するととも
に、通水タイマがカウントを始め、水回路、すなわち前
記実施例４で詳述した（４）の（ａ）戻り管通路と
（ｂ）往き管通路に設定時間に達するまで同時高温水通
水させる。設定時間に達すると、加熱源１０をＯＦＦ、
給水弁１９をＯＦＦし、そして給水弁１９がＯＦＦする
と、滞留タイマがカウントを始め、残留塩素含有水が通
水された水回路に、前記残留塩素含有水を設定時間に達
するまで滞留させる。この滞留設定時間と滞留温水によ
り水回路に堆積した垢の付着力を小さくするとともに、
各種細菌を残留塩素含有水に接触させ、より殺菌浄化効
果を大きくし、かつ確実にすることができる。また、加
熱通水が高温水であることから、各種細菌を高温殺菌と
残留塩素殺菌の相乗効果により、より確実に殺菌浄化す
ることができる。実施例では詳述していないが、繰り返
し通水として、特に高温水を通水した後に冷水（大気温
度レベル水温）を一定時間通水することにより、水回路
の構成部品の耐久性、火傷の防止等を考慮して、冷却さ
せるものである。

【００５４】次に高温殺菌とは、各種殺菌が高温に弱い
性質を利用して、殺菌するものである。各種細菌により
高温殺菌温度と時間は異なるが、一般的には比較的低温
度の場合、保持時間は長時間とし、高温度の場合、短時
間の保持時間でよいとなっているが、本発明者らが実施
した高温殺菌評価の結果を図１０に示す。図１０の高温
殺菌評価条件は、（１）検水量：１００ｍｌ、（２）
５、０００、０００コ／ｍｌをビーカに入れ、前記検水
に熱電対を浸せきしたものを電子レンジで加熱、ィ水
温：５０，５５，６０，６５，７０℃の条件で試験し
た。前記の加熱温度は、温度上昇の最高温度で、公差２
ｄｅｇ以内とし、保持時間内は恒温水槽で保持した。ま
た、保持時間とは、温度上昇の最高温度で、公差２ｄｅ
ｇ以内に達してからの時間である。

【００５５】図１０に示したように、水道水基準である
一般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための加熱温度
は、５５℃以上で５分以上が必要である。また、６０℃
では、６０℃に達したらほぼ１００％高温殺菌浄化が可
能である。

【００５６】（実施例７）本発明の実施例７の浴槽水の
水回路の浄化について説明する。

【００５７】制御部の信号により給水弁１９をＯＮし
て、残留塩素含有水として、一般家庭で使用している水
道水を設定時間または一定量、実施例３で詳述した
（２）の戻りと往き水回路に同時通水させることによっ
て、利便性と経済性に優れた浄化方法とすることができ
る。

【００５８】

【発明の効果】以上のように、本発明の浴槽水の水回路
の浄化方法は、アダプタ，戻り管，循環ポンプ，加熱
源，ろ過槽，往き管およびアダプタからなる水回路を用
い、前記加熱源による浴槽水を手動で設定温度に加熱す
る手段と自動で自然放置中に一定時間毎に設定温度まで
加熱する手段、自動で一定時間毎に一定時間または一定
量、浴槽水の排水と浴槽水に残留塩素含有水を通水する
手段を設けることにより、まず手動により加熱源の出口
から浴槽に取りつけられたアダプタの出口まで高温水が
流れ、水回路通路中の各種細菌を高温殺菌浄化し、また
自然放置中に自動により一定時間毎に再加熱し、再高温
殺菌浄化して、手動加熱と自動加熱により、より水回路
を常にきれいに、清潔にすることができる。また、自然
放置中に自動で一定時間毎に一定時間または一定量、水
回路の排水通路の汚れ成分である垢や各種細菌を排水浄
化し、さらにまた残留塩素含有水を通水することによ
り、各種細菌等の汚れ成分を洗浄浄化および残留塩素殺
菌浄化することにより、より水回路を常にきれいに、清
潔に保つことができる。そして水回路を常にきれいに、
清潔に保つことによって、複数の人が続けて入浴した
り、浴槽水を続けて使用することができる。

【００５９】また、自動で一定時間毎に一定時間または
一定量、排水後通水する手段により、排水通路の汚れ成
分を排水浄化し、次に残留塩素含有水の通水により、通
水力で汚れ成分を洗浄浄化、残留塩素殺菌浄化すること
により、より水回路をさらに常にきれいに、清潔に保つ
ことができる。

【００６０】また、自動で一定時間毎に一定時間または
一定量排水、次に一定時間毎に設定温度加熱、そして一
定時間毎に一定時間または一定量残留塩素含有水を通水
する順位手段により、加熱源のエネルギー消費量を軽減
し、浴槽水水温をより早く、低くし各種細菌の増殖を軽
減させることができる。

【００６１】また、往き管通水，戻り管通水，往き管と
戻り管繰り返し通水、往き管と戻り管同時通水のいずれ
かの単独通水または複合通水あるいは単独と複合の組合
せ通水手段により、水回路を集中的に浄化または確実に
浄化することができる。

【００６２】また、少なくとも浴槽水の水回路全容量に
残留塩素含有水を通水後一定時間、残留塩素含有水を滞
留させることにより、より水回路の殺菌浄化効果を大き
くして浄化することができる。

【００６３】また、冷水と温水を繰り返し通水すること
により、さらに水回路の接続部分の凹凸構成部に堆積し
やすい各種細菌の栄養源となる垢堆積を軽減し、各種細
菌の増殖を抑えることができる。また、高温加熱通水す
ることにより、高温殺菌と残留塩素含有水の相乗効果に
より、より確実に殺菌することができる。

【００６４】さらにまた、残留塩素含有水として、水道
水を通水することにより、利便性と経済性に優れた浄化
とすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１の浴槽装置の水回路の構成図

【図２】本発明の実施例１の浴槽装置の基本的な浄化シ
ーケンスを示すフローチャート

【図３】本発明の実施例１の浴槽装置の基本的な浄化シ
ーケンスを示すタイミングチャート

【図４】（ａ）本発明の実施例１と従来法の比較試験用
水回路の構成図 （ｂ）同比較試験用水回路の浄化プレート部の上面構成
図 （ｃ）同比較試験用水回路の浄化プレート部の断面構成
図

【図５】本発明の実施例２の浴槽装置の排水，通水モー
ドを示すフローチャート

【図６】本発明の実施例３の浴槽装置の排水，加熱，通
水モードを示すフローチャート

【図７】（ａ）本発明の実施例５の浴槽装置の水回路の
構成図 （ｂ）同回路の同時通水、停留モードを示すフローチャ
ート

【図８】（ａ）本発明の実施例５の浴槽装置の殺菌評価
効果を示す図 （ｂ）同殺菌評価効果を示す図

【図９】（ａ）本発明の実施例６の浴槽装置の水回路の
構成図 （ｂ）同水回路の高温滞留モードを示すフローチャート

【図１０】（ａ）本発明の実施例６の浴槽装置の高温殺
菌評価効果を示す図 （ｂ）同高温殺菌評価効果を示す図

【図１１】従来の浴槽水の浴槽装置水回路の構成図

【符号の説明】

１ 浴槽水 ３ アダプタ ４ 戻り管 ５ 循環ポンプ ６ ろ過槽 ７ ろ過材 ８ 往き管 ９，１０ 加熱源 １１ 切換弁Ａ １２ 切換弁Ｂ １３ 切換弁Ｃ １４ 切換弁Ｄ １５ 上部往き通路 １６ バイパス通路 １７ 下部逆洗通路 １８ 排水管 １９ 給水弁 ２０，２１ 浄化判定プレート部 ２２ 浄化判定プレート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０Ｂ ５５０ ５５０Ｈ ５６０ ５６０Ａ ５６０Ｚ 1/76 1/76 Ａ Ｆ２４Ｈ 1/00 ３０２ Ｆ２４Ｈ 1/00 ６０２Ａ (72)発明者 青木 哲郎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 岩本 龍志 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 水回路の一部に設けられ、浴槽水を循環
   する循環ポンプと、浴槽水をろ過するろ過槽と、浴槽と
   水回路を接続するアダプタと、水回路に残留塩素含有水
   を一定時間毎に給水する給水部と、給水部から給水され
   た残留塩素含有水または浴槽水の少なくとも一つを加熱
   する加熱手段と、浴槽水を自然放置中に一定時間毎に自
   動で設定温度まで加熱する自動加熱手段と、一定時間毎
   に自動で水回路を介し浴槽水を排水する排水手段とを設
   けてなる浴槽装置。
2. 【請求項２】 排水手段による浴槽水を排水した後に給
   水部より水回路を介し浴槽に残留塩素含有水を給水する
   請求項１記載の浴槽装置。
3. 【請求項３】 排水手段により浴槽水を排水した後に自
   動加熱手段により浴槽水を設定温度まで加熱し、給水部
   により水回路を介し、浴槽に残留塩素含有水を給水する
   請求項１記載の浴槽装置。
4. 【請求項４】 給水部から水回路への給水方法に切り換
   える切換弁を設け、給水部から水回路に残留塩素含有水
   を給水する際、切換弁を戻り側または往き側に切り換え
   る請求項１から３のいずれか１項記載の浴槽装置。
5. 【請求項５】 給水部から給水された残留塩素含有水が
   水回路を経て循環アダプタに達した後に、給水を廃止
   し、残留塩素含有水を一定時間水回路に滞留してなる請
   求項１から４のいずれか１項記載の浴槽装置。
6. 【請求項６】 残留塩素含有水を加熱する加熱手段を設
   けた請求項１から５のいずれか１項記載の浴槽装置。
7. 【請求項７】 加熱手段により加熱された残留塩素含有
   水を水回路に給水した後に、加熱手段により加熱されて
   いない残留塩素含有水を水回路に給水する請求項５記載
   の浴槽装置。
8. 【請求項８】 加熱手段により加熱された残留塩素含有
   水の温度を５５℃以上としてなる請求項６または７記載
   の浴槽装置。
9. 【請求項９】 給水部から給水される残留塩素含有水と
   して、水道水としてなる請求項１から８のいずれか１項
   記載の浴槽装置。