JPH1114157A

JPH1114157A - 浴槽装置

Info

Publication number: JPH1114157A
Application number: JP9166973A
Authority: JP
Inventors: Kazunori Sonedaka; 和則曽根高; Hirofumi Kawashima; 裕文河島; Kenichi Takagaki; 謙一高垣; Tetsuo Aoki; 哲郎青木; Hiroaki Yamauchi; 博明山内
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1997-06-24
Filing date: 1997-06-24
Publication date: 1999-01-22

Abstract

(57)【要約】【課題】浴槽水や浴槽水の水回路に増殖する各種細菌
を殺菌または制菌浄化すること。【解決手段】浴槽水１を浄化する浴槽装置において、
水回路の一部に設けた難溶性銀塩１９で殺菌浄化する手
段と、加熱源７により自動加熱し高温殺菌する手段と、
ろ過槽１０のろ過材９にろ過浄化された汚れ成分を自動
逆洗洗浄排水しろ過材９を再生する手段と、給水部６か
ら循環用アダプタ３を介し自動給水し、浴槽水１を希釈
交換する手段との併用効果によって、浴槽水１や浴槽水
１の水回路を浄化し、複数の人が続けて入浴したり、浴
槽水１を続けて使用しても、循環用水回路を常にきれい
に、清潔に保つことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽の浴槽水を循
環浄化と殺菌浄化して清潔に保つことができる浴槽装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、浴槽の浴槽水の循環浄化は図１２
に示すような浴槽装置になっていた。

【０００３】浴槽水１は浴槽２に取りつけた循環用アダ
プタ３の戻り部に接続した戻り管４、循環ポンプ５、切
換弁Ａ６、加熱源７、切換弁Ｂ８、ろ過材９を充填した
ろ過槽１０、切換弁Ｃ１１を通り、循環用アダプタ３の
往き部に接続した往き管１２からなる水回路を循環ポン
プ５により循環し、浴槽水１の汚れ成分をろ過槽１０に
充填されたろ過材９によりろ過浄化する。ろ過槽１０の
ろ過材９が浴槽水１の汚れ成分（比較的大きな垢粒子
等）により目詰りすると、切換弁Ｂ８、切換弁Ｃ１１を
逆洗通路側に切り換え、浴槽水１を用い循環ポンプ５に
よりろ過材９を逆洗洗浄排水し、排水管１３より排水し
ていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
浴槽装置では、単に浴槽水の汚れ成分である比較的大き
な垢粒子（おおよそ１０ミクロン以上）を水回路に設け
たろ過槽でろ過浄化していたが、複数の人が続けて入浴
したり、浴槽水を続けて使用すると、入浴者自身に付着
している各種細菌が浴槽水に混入することによって生じ
る微細粒子（約１ミクロン程度）の各種細菌（一般細
菌，大腸菌等）による汚れ成分をろ過槽のろ過材では、
不十分なろ過浄化能力となるため、前記比較的大きな垢
粒子（おおよそ１０ミクロン以上）のろ過浄化により、
ある一定の濁度にすることは可能であり、その濁度は
１．５〜３°レベルが限度である。

【０００５】また前記水回路も汚れ、不清潔になりやす
く、特に循環ポンプ，加熱源，ろ過槽，各種切換弁，往
き管，戻り管および循環用アダプタの接続部分は、凹凸
構成部で、水の流れが悪く（乱流大）、各種細菌の栄養
源となる垢が堆積しやすく、各種細菌が増殖しやすい環
境となっている。このように浴槽水は各種細菌が増殖し
た状態で、浴槽水は循環されるため、一般的に翌日には
一般細菌数は各種入浴条件によってことなるが、１０⁵
〜１０⁶／ｍｌレベルとなり、濁度は上昇する。そして
垢や一般細菌等が濁度，臭い，ヌメリに加え、浴槽の喫
水線の汚れ等に悪影響を与え、不清潔感になりやすい。
これらをきれいに、清潔にするためには浴槽水を常時交
換し、浴槽の掃除するか、洗浄剤を投入して循環洗浄す
るかして強制的に洗浄しなければならないため、大変不
経済で手間のかかる作業であるという課題を有してい
た。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、浴槽装置として、水回路の一部に設けた難
溶性銀塩による浴槽水の殺菌浄化する手段と、加熱源に
より浴槽水を自動加熱し高温殺菌浄化する手段と、浴槽
水をろ過槽のろ過材にろ過浄化された汚れ成分を自動逆
洗洗浄排水しろ過材を再生する手段と、水回路の一部に
設けた給水部から循環用アダプタを介し浴槽に自動給水
し、浴槽水を希釈交換する手段との併用手段によって、
浴槽水はもちろんのこと循環アダプタ，戻り管，循環ポ
ンプ，各種切換弁，ろ過槽および往き管から構成された
水回路も同時に浄化するものである。

【０００７】上記発明によれば、浴槽水，水回路の各種
細菌を難溶性銀塩への接触および微量溶出した銀イオン
による殺菌あるいは制菌効果と、浴槽水の垢等の汚れ成
分をろ過槽のろ過材でろ過浄化し、ろ過浄化した汚れ成
分を一定時間毎にろ過材を浴槽水あるいは給水により逆
洗洗浄排水して浄化能力の再生効果と、そして新鮮水を
給水の通水力で洗浄または軽減効果により各種細菌の増
殖を抑えるとともに、浴槽水に新鮮水を一定時間毎に自
動給水することにより、浴槽水，水回路の汚れ成分をろ
過槽でろ過浄化しやすくし、そして浴槽に新鮮水を給水
することによって、浴槽水の濁りを希釈し視覚的に濁り
を軽減する。また浴槽水を加熱源により、一定時間毎に
自動することにより、水回路の往き通路中の各種細菌を
高温加熱殺菌浄化する。このように銀イオン殺菌手段，
逆洗洗浄排水手段，給水手段，加熱手段による併用効果
により、浴槽水や水回路を常にきれいに、清潔に保つこ
とができる。また浴槽水や水回路を常にきれいに、清潔
に保つことによって、複数の人が続けて入浴したり、浴
槽水を続けて使用することができる。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明は、水回路の一部に設けら
れ浴槽水を循環する循環ポンプと、浴槽水を加熱する加
熱源と、浴槽水をろ過するろ過槽と、浴槽と水回路を接
続する循環用アダプタと、前記水回路の一部に水回路と
浴槽水を殺菌する難溶性銀塩と、浴槽に給水する給水部
を設け、前記浴槽に一定時間毎に自動給水する手段と、
給水または浴槽水を用いろ過槽を一定時間毎に自動逆洗
洗浄排水する手段と、加熱源を用い浴槽水を一定時間毎
に自動加熱する手段を備えることにより、難溶性銀塩へ
の接触および微量溶出した銀イオンによる各種殺菌の殺
菌あるいは制菌効果に加え、浴槽水の垢等の汚れ成分を
ろ過槽のろ過材でろ過浄化し、前記ろ過浄化した汚れ成
分を一定時間毎に自動逆洗洗浄排水して浄化能力の再生
効果と、そして浴槽に一定時間毎に自動給水することに
よって、前記水回路の凹凸構成部の垢等の堆積物を給水
の通水力で洗浄または軽減効果により各種細菌の増殖を
抑えるとともに、浴槽水，水回路の汚れ成分をろ過槽で
ろ過浄化しやすくし、浴槽水への給水により濁りを希釈
し視覚的に濁りの軽減効果と、浴槽水を一定時間毎に自
動加熱することにより、水回路の往き通路に高温水によ
る高温殺菌し、これらの併用効果によって、浴槽水ある
いは水回路を常にきれいに、清潔に保つことができる。

【０００９】また、難溶性銀塩として、粒状塩化銀，塩
化銀プレート，塩化銀担持布，塩化銀担持不織布とする
ことにより、前記粒状塩化銀，塩化銀プレートは水回
路、特にろ過槽と往き管の間の一部に樹脂性保持具を充
填装着して、長時間，長寿命用に浴槽装置保証期間は交
換しないタイプに、一方必要に応じ前記粒状塩化銀，塩
化銀プレートに加え、塩化銀担持布，塩化銀担持不織布
を樹脂性保持具に装着し、浴槽壁に設置することによ
り、短時間，一定寿命用と一定期間で交換するタイプと
の併用使用することにより、前記粒状塩化銀，塩化銀プ
レートと塩化銀担持布，塩化銀担持不織布の併用効果に
より、より接触面積を大きくし接触殺菌あるいは銀イオ
ンを溶出させやすくし、より殺菌効果を大きくすること
ができる。

【００１０】また、浴槽水を用い自動逆洗洗浄排水した
後、自動加熱する手段により浴槽水を設定温度まで加熱
し、給水部により水回路を介して浴槽に自動給水するこ
とにより、ろ過槽のろ過材にろ過浄化した垢等の汚れ成
分を逆洗洗浄排水してろ過能力を再生効果に加え、浴槽
水量を少なくする。そして浴槽水量が少なくなった浴槽
水を設定温度になるまで加熱し、ろ過槽，往き管および
循環用アダプタからなる往き通路内と浴槽水の一部の各
種細菌を高温加熱殺菌するとともに、浴槽水を加熱する
熱エネルギを少なく、すなわち省エネルギ化ができる。
そしてまた給水部により水回路を介して浴槽に給水する
ことにより、濁りの希釈率を大きくして視覚的な濁りを
軽減するとともに、前記高温加熱殺菌とする浴槽水の沸
き上げ設定温度約３０〜４０℃および入浴可能な低温度
約３５〜４０℃は一般的に言われている各種細菌の増殖
大温度域から早く低温度にすることにより、各種細菌の
増殖を抑えることによって浴槽水の濁り，悪臭，ヌメリ
さらに喫水線の汚れ等を軽減することができる。

【００１１】また、水回路の一部に設けた給水部からの
給水として、残留塩素含有水を給水するとともに、前記
給水された残留塩素含有水が水回路を経て循環用アダプ
タに達する給水することにより、残留塩素含有水を水回
路全体に給水して、前記水回路で増殖する各種細菌をよ
り効果的に殺菌し、そして浴槽水の一部にも残留塩素含
有水が供給されることから浴槽水中の各種細菌も同時に
殺菌または制菌浄化することができる。

【００１２】また、給水部から給水された残留塩素含有
水が水回路を経て循環用アダプタに達した後、給水を停
止し、残留塩素含有水を一定時間水回路に滞留させるこ
とにより、前記水回路で増殖する各種細菌をより確実に
殺菌し、そして浴槽水が拡散希釈率が少なく、前記浴槽
水の一部の各種細菌もより確実に効果的に殺菌浄化する
ことができる。

【００１３】また、残留塩素含有水を加熱する手段を設
けることにより、加熱と残留塩素の併用殺菌によって各
種細菌をさらにより確実に効果的に殺菌浄化できる。

【００１４】また、加熱する手段により加熱された残留
塩素含有水を水回路に給水した後、加熱する手段により
加熱されていない残留塩素含有水を水回路に給水するこ
とにより、前記加熱された残留塩素含有水で水回路の凹
凸構成部に堆積付着した垢等の付着力を小さくして剥離
しやすくするとともに加熱と残留塩素の併用殺菌し、そ
して加熱していない残留塩素含有水を給水して、水回路
の構成部品を冷却して耐久性を向上させるとともに、残
留塩素の熱分解を遅らせ残留塩素濃度を保持させて殺菌
効果をより大きくし、各種殺菌をダブル殺菌することが
できる。

【００１５】また、加熱する手段により加熱された給水
または残留塩素含有水の温度を５５℃以上にすることに
より、残留塩素濃度が低下しても、高温加熱水による各
種細菌を高温で殺菌し、残留塩素殺菌と高温加熱殺菌の
相乗効果により、殺菌時間を短時間にすることができ
る。

【００１６】さらにまた、給水部から給水される残留塩
素含有水として、水道水とすることにより、一般家庭に
供給されている給水を使用することができるため、利便
性と経済性に優れた浄化ができる。

【００１７】（実施例１）以下、本発明の実施例１にお
ける浴槽装置の浄化手段について図面を用い説明する。
なお、従来と同一構成要素のものについては同一番号を
付し説明する。

【００１８】図１において、浴槽水１は制御部の信号に
より循環ポンプ５を作動させると、水回路の一部である
浴槽２に取りつけた循環用アダプタ３の戻り部に接続し
た戻り管４、循環ポンプ５、切換弁Ａ６、切換弁Ｄ１
４、浴槽水１を加熱する加熱源７を通り、ろ過槽１０の
上部往き通路１５の切換弁Ｂ８より下向流でろ過槽１０
に充填したろ過材９で比較的大きな垢粒子汚れ成分を浄
化する。そして、浄化された浴槽水１は切換弁Ｃ１１を
通り、図２の（ａ）に示した難溶性銀塩として四角筒形
状からなる塩化銀プレート１８を装着した樹脂製保持具
１９を設けている。前記樹脂製保持具１９は、浄化され
た浴槽水１を循環することにより、浴槽水１中の垢，髪
の毛等の汚れ成分が浄化されているため、塩化銀プレー
ト１８表面に前記汚れ成分が付着することがなく、常に
銀イオンを定量的に溶出することができるものである。
そして前記銀イオンを含む浴槽水１は浴槽２に取りつけ
た循環用アダプタ３の往き部に接続した往き管１２、循
環用アダプタ３より浴槽２に戻り制御部の信号による循
環ポンプ５の停止まで浴槽水１は循環する。また浴槽２
の浴槽壁に図２の（ｂ）に示したように波形形状した塩
化銀担持不織布２０を樹脂製保持ケース２１を必要に応
じ取り付け、前記塩化銀プレートと併用設置により、こ
の時循環する浴槽水１中の各種細菌を銀イオンにより殺
菌または制菌浄化効果する。ろ過槽１０に充填したろ過
材９が浴槽水１の汚れ成分（比較的大きな垢粒子等）に
より目詰りすると、制御部の信号により循環ポンプ５を
一旦停止させ、切換弁Ｄ１４をバイパス通路１６側およ
び切換弁Ｂ８と切換弁Ｃ１１を逆洗洗浄排水側に切り換
える。そして再度循環ポンプ５を作動させ浴槽水１を用
い、切換弁Ｄ１４、バイパス通路１６、下部逆洗通路１
７、切換弁Ｃ１１を通り、上向流でろ過槽１０に充填し
たろ過材９を逆洗洗浄し、前記逆洗洗浄した浴槽水１を
切換弁Ｂ８に接続した排水管１３より排水する。そし
て、浴槽２の浴槽水１が一定時間排水されると制御部の
信号により循環ポンプ５を停止させ、切換弁Ａ６を戻り
循環用水回路側に切り換え、前記切換弁Ａ６より、新鮮
な給水を一定量通水させることにより、戻り循環用水回
路の各種細菌の栄養源となる垢の堆積を洗浄浄化すると
ともに、浴槽水１に給水することにより、濁りを希釈し
視覚的に濁りの軽減効果を有することができる。

【００１９】次に、難溶性銀塩について詳述する。難溶
性銀塩とは銀イオンの溶解量がｐｐｍ〜ｐｐｂと極微量
溶解するもので、塩化銀，臭化銀，よう化銀等が一般的
な化学物質である。本発明では殺菌または制菌効果を考
慮するとともに、特に塩化銀を用いることにより、容易
に入手，合成しやすく、比較的安価で経済性に優れ、か
つ安全性が高く、加工性に優れたものである。まず塩化
銀単体として任意形状に加工した粒状塩化銀，塩化銀プ
レート（圧延加工品）を用いることにより、浴槽水の循
環流量が大でも変形や破損さらに粉末化することがない
こと、さらに必然的に単体重量が重く長時間長寿命化タ
イプで機器の使用期間に合わせ設置することができると
もに、浴槽壁に設置することができる。一方、短時間短
寿命化タイプとして各種布や各種不織布を担体とし、前
記担体の表面に塩化銀を微量付着担持（微量付着担持方
法は本発明らが既に特許取得しているが、硝酸銀水溶液
に不織布を浸せきさせ、一定量付着させるためローリン
グ後不織布を乾燥する。そして塩化ナトリウム水溶液に
前記乾燥した不織布を浸せきすることにより、硝酸基を
塩化基に置換し塩化銀を微量点在担持したもの）させた
もので、布や不織布の特性を利用し容易に任意形状に加
工できることから、前記塩化銀単体と比較し安価で一定
期間毎に交換できるように浴槽壁等に保持ケースに装着
して設置することができる。前記塩化銀単体，塩化銀担
持においても銀イオンの溶解量に差はなく、各種細菌の
殺菌効果は優れている。

【００２０】次に、ろ過槽のろ過材を逆洗洗浄排水する
手段について詳述する。前記逆洗洗浄排水用の水は浴槽
水あるいは循環用水回路の一部に設けた給水部からの給
水を用いる。まず浴槽水を用いる場合は、循環ポンプを
作動するため、安定逆洗水量がほぼ一定で逆洗時間の設
定が容易であり、ろ過材に堆積した垢等の汚れ成分を確
実に逆洗洗浄して、ろ過材の浄化能力を再生することが
できる。一方、給水を用いる場合は、給水の水圧により
逆洗水量がやや不安定となるが、浴槽水と比較し、給水
は新鮮水で汚れ成分は少なく、図１のろ過槽に詳述して
いないが、ろ過材を保持するろ床やろ過材に汚れ成分が
付着することがなく、清潔に逆洗洗浄して、ろ過材の浄
化能力を再生することができる。次に一定時間毎に逆洗
洗浄排水として、１〜６回／日すなわち４時間毎から２
４時間毎の間に実施することが望ましい。４時間毎以内
では浴槽水を用いる場合、一般的な入浴時間帯である午
後７時から１１時の４時間内に逆洗洗浄排水のため浴槽
水が少なくなること、さらに浴槽水が少なくなることか
ら給水または給湯が必要となり、省資源化，省エネルギ
化ができなくなる。一方、２４時間毎以上になると浴槽
水の汚れ成分が目詰まり大きくなり、循環流量が低下
し、循環浄化効果が悪化する。前記欠点を考慮すると２
〜４回／日すなわち６時間毎から１２時間毎の間に実施
することが好ましい。次に、逆洗洗浄排水時間または量
も重要で、逆洗洗浄排水量によってことなるが、一般的
に言われている逆洗率２０〜３０％の流量の場合、逆洗
洗浄排水の一定時間毎が短時間では、一定時間として
０．５〜２分、一定量として１０〜４０ｌで再生か可能
である。また一定時間毎が長時間では、１〜４分、一定
量として２０〜８０ｌとやや多くすることにより再生が
可能である。

【００２１】次に給水部からの給水する手段について詳
述する。前記給水は逆洗洗浄排水と同様１〜６回／日す
なわち４時間毎から２４時間毎の間に実施することが望
ましい。特に浴槽水を利用した逆洗洗浄排水では、浴槽
水の低下分を給水、すなわち逆洗洗浄排水分、１０〜８
０ｌを給水することが望ましい。この時循環用水回路の
凹凸に堆積した汚れ成分を強制的に剥離あるいは軽減
し、前記循環用水回路も洗浄浄化して清潔に保つことが
可能、さらにこのように逆洗洗浄排水後給水することに
より、前述した浴槽水の濁りを希釈し視覚的に濁りの軽
減効果が可能となる相乗作用を有する。

【００２２】図３は本発明と従来法の浄化効果として、
浴槽水の濁度と一般細菌数の推移を示し、本発明として
循環用水回路部に塩化銀プレートを設置したもので、表
１に詳細条件を示す。図からも明らかなように、本発明
では一週間浴槽水を交換しない場合でも、濁度は最大
１．０°（従来法４．６°）、０．３°〜０．８°（従
来法１．２°〜４．１°）の範囲とほぼ視覚的に新鮮水
レベルと同じ濁度を維持することができる。また一般細
菌数は最大４．５×１０⁵／ｍｌ（従来法９．１×１０
⁶／ｍｌ）、１０³〜１０⁵／ｍｌと（従来法１０⁵〜
１０⁶／ｍｌ）と約２オーダ殺菌浄化することができ
る。また図示していないが、浴槽水の臭い、浴槽壁のヌ
メリ、浴槽壁の喫水線の汚れに対しても著しい効果を有
する。

【００２３】

【表１】

【００２４】図４は本発明と従来法の浄化効果を判定す
る循環用水回路構成および浄化判定プレート構成を示
す。（ａ）は循環用水回路の構成図で、浄化判定プレー
ト２２，２３は循環用アダプタ３に接続した戻り管４，
往き管１２を各々設置している。また、（ｂ）は浄化判
定プレート２２，２３の上面構成図、（ｃ）は浄化判定
プレート２２，２３の断面構成図を示し、浄化判定プレ
ート２４（幅：１０ｍｍ、厚さ：１ｍｍの白色樹脂プレ
ート）をシール治具を介して戻り管４、往き管１２の通
水部に装着している。表２は、図３で詳述した循環用水
回路構成を用い、本発明と従来法の浄化効果を示したも
のである。表中に記載していない詳細な条件は表１と同
条件とし、評価は表３の評価指数（汚れ指数５段階評
価：色変化＝汚れ、垢堆積を目視評価）にて評価した。

【００２５】

【表２】

【００２６】

【表３】

【００２７】表２から明らかなように、給水させること
により、循環用水回路に堆積しやすい汚れ成分（垢）を
軽減することができる。また、一般的に言われている水
垢（垢が栄養源となり各種細菌が異常増殖したもの）
は、評価指数４レベルで発生しやすく、従来法の戻り管
の評価指数４では前記水垢が微少ではあるが発生してい
たことからも、給水させることにより、循環用水回路を
清潔に保つことができる。

【００２８】（実施例２）本発明の実施例２の浴槽装置
について、図５の排水，加熱，給水モードに基づいて説
明する。

【００２９】図５のフローチャートについて説明する
と、制御部の信号により自動シーケンスＮｏ．１０１の
リモコンの運転ＳＷをＯＮすると、１０２の各種切換弁
をまず循環通路側（戻り管４から往き管１２に循環す
る）に切り換え、各種切換弁が切り換わると１０３の循
環ポンプ５がＯＮする。循環ポンプ５がＯＮすると排
水，加熱，給水モード用の１０４の設定タイマがカウン
トを始め、前記設定タイマが設定時間に達するまで浴槽
水１を循環浄化、すなわちろ過槽１０のろ過材９で浴槽
水１中の垢や髪の毛等の汚れ成分を浄化する。設定タイ
マが設定時間に達すると１０５の循環ポンプ５をＯＦＦ
させ、切換弁Ｃ１１、切換弁Ｄ１４、切換弁Ｂ８を切り
換え、１０７の循環ポンプ５がＯＮすると、１０８の排
水タイマがカウントを始め、排水タイマが設定時間に達
するまでろ過材９を逆洗洗浄し浴槽水１を排水する。す
なわち浴槽水１がバイパス通路１６、下部逆洗通路１
７、切換弁Ｃ１１を通り、上向流でろ過材９に堆積した
汚れ成分を逆洗洗浄（約１３０％の膨張率の流量・・・
約２０〜２５ｌ／分の流量）し、切換弁Ｂ８に接続した
排水管１３より排水する。次に前記浴槽水１が一定時間
排水されると１０９の循環ポンプ５をＯＦＦさせ、１１
０の切換弁Ｂ８、切換弁Ｃ１１を循環側に、切換弁Ｄ１
４を加熱源７側に切り換え、１１１の循環ポンプ５がＯ
Ｎすると１１２の加熱源７がＯＮし、浴槽水１を１１３
の設定温度に沸き上げ加熱する。浴槽水１が１１３の設
定温度に沸き上げ加熱されると１０５の循環ポンプ５を
ＯＦＦさせ、１１５の切換弁Ａ６を循環側に切り換え、
給水（新鮮水）を開始する。給水（新鮮水）を開始する
と１１６の通水タイマがカウントを始め、前記１１６の
通水タイマにより一定量給水するまで通水浄化、すなわ
ち水回路に堆積した垢等の汚れ成分を通水力で洗浄浄化
する。１１６の通水タイマにより一定量給水されると１
１７の切換弁Ａ６を切り換え給水を停止した後、１１８
の切換弁Ｄ１４をバイパス通路側に切り換え、１１９の
循環ポンプ５がＯＮして再び浴槽水を循環浄化する。そ
してふたたび１０４のタイマに移行して、前記操作をく
り返す。この時の１０４のタイマは、前記シーケンスが
動作中もカウントをチェックしている。

【００３０】次に設定温度について説明する。本発明の
設定温度とは、浴槽水１の平均温度を意味し、入浴可能
な低温度である設定温度（約３５〜４０℃）よりやや低
い温度、すなわち約３０〜４０℃が好ましい。なぜなら
少なくとも水回路の加熱源７の出口から循環用アダプタ
３の出口までの往き通路を高温殺菌浄化が目的であるか
ら余り設定温度を高温する必要はなく、設定温度を高温
にすると、入浴の安全性や浴槽２の耐久性に問題が生じ
ることから好ましくない。また、加熱源７の種類による
浴槽水１の加熱設定温度３５℃として試算すると、例え
ば一般的な浴槽水１加熱源７としてガス燃焼（１２００
０ｋｃａｌ／時）による間接加熱（熱交換器使用）の熱
効率を７５％、循環流量６ｌ／分とした場合：１２０００ｋｃａｌ／時×０．７５／６ｌ／分／６０分
＝２５ｄｅｇ往き通路の加熱水水温は、浴槽水設定温度３５℃＋２５
ｄｅｇ＝６０℃となり、高温殺菌浄化効果は十分期待
（高温殺菌効果については、後で詳述する）できる。前
述したガス加熱源で説明したが、石油加熱源，電気加熱
源も同様の効果を有する。

【００３１】次に１０４のタイマの設定時間について説
明する。前記タイマの設定時間は排水手段，加熱手段，
給水手段を一定時間毎に自動で実施するもので、少なく
とも１日（２４時間）に１回以上が望ましく、４〜１８
時間毎すなわち１日に２〜４回程度前記動作を実施する
ことが好ましい。４時間以内の設定時間では、浄化効果
（逆洗洗浄，加熱殺菌，洗浄）に対し有効であるが、排
水量，加熱量，給水量が多くなり、省資源，省エネルギ
を考慮すると好ましくない。一方、１８時間以上の設定
時間では、入浴時間帯と重なる可能性が大きく、入浴中
に浴槽水１量が低下したり、給水により浴槽水１温度が
低下するなど入浴感が悪くなること、さらに浄化効果が
やや劣るなどの欠点を有し好ましくない。また前記入浴
時間帯と重なる可能性が大きいことから、入浴者の意思
により手動または自動で入浴温度に加熱する手段を検知
した場合は、前記加熱手段から一定時間以内は、実施例
の加熱手段等の浄化手段を待機する併用制御方法も可能
で詳述していないが本発明の実施範囲内である。

【００３２】（実施例３）本発明の実施例３の浴槽装置
について図６に基づいて説明する。

【００３３】図６において、前記実施例１との違いは、
水回路の一部に設けた給水部構成と給水部から給水し
て、残留塩素含有水としたもので、制御部の信号により
水回路の一部に給水弁２５をＯＮ・ＯＦＦさせ、残留塩
素含有水の残留塩素により水回路を強制的に殺菌浄化す
る。この時残留塩素含有水を水回路を経て循環用アダプ
タ３に達する給水とするように制御部の信号により給水
弁２５をＯＮ・ＯＦＦさせるものである。

【００３４】次に残留塩素含有水について詳述する。残
留塩素含有水とは、残留塩素として０．１ｐｐｍ以上を
含有した新鮮水で、塩素ガスを溶解させたもの、次亜塩
素酸ナトリウムを溶解させたもの、固形の次亜塩素酸カ
ルシウムやジクロイソシアヌル酸塩を溶解させたものを
別途濃度制御したものである。別途濃度制御する手段と
して、前記塩素ガス溶解水や次亜塩素酸ナトリウム水等
の高残留塩素濃度水を定量ポンプ等で給水に定量注水
し、濃度制御したものである。給水の残留塩素濃度は前
記０．１ｐｐｍ以上としたが、水回路の構成部品の材質
として、銅および銅合金、ＮＢＲおよびＥＰＤＭゴム、
ＰＰおよびＰＯＭ樹脂等が一般的であり、これらの材質
の耐久性を考慮すると１０ｐｐｍ以下が望ましい。ま
た、短時間で殺菌効果を効果的にし、かつ構成部品材質
の信頼性を考慮すると、好ましい残留塩素濃度は０．３
〜５ｐｐｍである。

【００３５】次に水回路から循環用アダプタに達する残
留塩素含有水の給水する手段について説明する。残留塩
素含有水を給水する水回路として、（ａ）戻り管４単給
水通路、（ｂ）往き管１２単給水通路、および（ａ）戻
り管４と（ｂ）往き管１２の複給水通路とがある。
（１）の（ａ）戻り管４単給水通路とは、切換弁Ｄ１４
を切り換えることによって加熱源７側とバイパス通路１
６側に流れないように閉止し、浴槽水の循環浄化用水回
路は切換弁Ａ６により循環浄化通路とした後、給水弁２
５をＯＮすると前記（ａ）戻り管４単給水通路に給水さ
れる。（２）の（ｂ）往き管１２の単給水通路とは、浴
槽水の循環浄化用水回路を切換弁Ａ６により、戻り管４
側に流れないように閉止し、前記切換弁Ｄ１４を切り換
えることによって使用目的に応じ加熱源７側またはバイ
パス通路１６側に給水される。（３）の（ａ）戻り管４
と（ｂ）往き管１２の複給水通路とは、前記浴槽水の循
環浄化用水回路側にすべて切換弁を切り換え、（ａ）戻
り管４と（ｂ）往き管１２に同時または繰り返し給水さ
せる。

【００３６】（実施例４）本発明の実施例４の浴槽装置
について、図７の同時給水、滞留モードに基づいて説明
する。

【００３７】図７において、制御部の信号により（以下
シーケンスＮｏ．は省略する）循環浄化モードである浴
槽水の循環浄化用水回路の状態ままで循環ポンプ５をＯ
ＦＦし停止させ、予め残留塩素含有水を給水する給水弁
２５をＯＮさせると同時に、給水タイマがカウントを始
め、前記実施例２で詳述した水回路の給水条件である
（３）の（ａ）戻り管４と（ｂ）往き管１２の全容量以
上に一定量同時給水し、前記一定量給水すると給水弁２
５をＯＦＦし給水を停止させる。そして給水弁２５がＯ
ＦＦすると、滞留タイマがカウントを始め、残留塩素含
有水が給水された水回路に、前記残留塩素含有水を設定
時間に達するまで滞留させる。この滞留設定時間により
水回路の各種細菌を残留塩素含有水に接触させ、より殺
菌浄化効果を大きく、かつ確実に殺菌することができ
る。

【００３８】次に、滞留タイマの滞留設定時間は、残留
塩素含有水の残留塩素濃度によって決定される。各種細
菌により殺菌濃度と時間は異なるが、一般的には残留塩
素濃度が低濃度の場合、設定時間は長時間とし、また高
濃度の場合、設定時間は短時間の設定となっているが、
本発明者らが実施した殺菌評価の結果を図８に示す。図
８の殺菌評価条件は、検水量：５００ｍｌ、水温：
２０℃、初期一般細菌数：５，０００，０００コ／ｍ
ｌ、残留塩素濃度：０、０．１、０．５２ｐｐｍの各
種条件で試験した。図８に示したように、水道水基準で
ある一般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための滞留時
間は、０．１ｐｐｍで約１５分、０．５ｐｐｍで約５
分、２ｐｐｍで約２分で殺菌可能となる。よって、好ま
しい滞留時間は、残留塩素濃度によって異なるが１５分
以上である。

【００３９】（実施例５）本発明の実施例５の浴槽装置
について図９，図１０に基づいて説明する。

【００４０】図９において、制御部の信号により（以下
シーケンスＮｏ．は省略する）循環浄化モードである浴
槽水の循環浄化用水回路の状態ままで循環ポンプ５をＯ
ＦＦし停止させると、給水弁２５がＯＮする。給水弁２
５がＯＮすると、給水給湯用水回路の加熱源２６がＯＮ
し、予め設定された高設定温度まで給水を加熱するとと
もに、給水タイマがカウントを始め、水回路、すなわち
前記実施例２で詳述した水回路の給水条件である（３）
の（ａ）戻り管４と（ｂ）往き管１２の全容量以上に一
定量同時給水させる。一定量同時加熱給水すると、給水
弁２５がＯＦＦし高温給水を停止すると同時に加熱源２
６がＯＦＦすると、滞留タイマがカウントを始め、高温
加熱水を水回路に設定時間に達するまで滞留させる。こ
の滞留設定温度と滞留高温水により、水回路に堆積した
垢等の付着力を小さくするとともに、各種細菌を高温加
熱水に接触させ高温殺菌する。さらに加熱給水として残
留塩素含有水を用いることにより、残留塩素殺菌と高温
加熱殺菌の相乗効果で、より殺菌浄化効果を大きく、か
つ確実に殺菌浄化することができる。また加熱給水が高
温加熱水であることから、残留塩素含有水の残留塩素濃
度が低下しても確実に高温殺菌することができる。実施
例では詳述していないが、繰り返し給水することによ
り、特に高温加熱水を給水した後に、非加熱給水（大気
温度レベルの水温）を一定時間給水することにより、水
回路の構成部品の耐久性や浴槽２に接続された戻り管
４、往き管１２による火傷の防止等を考慮して冷却させ
ることも、本発明の範囲内である。

【００４１】次に高温殺菌について詳述する。高温殺菌
とは、各種細菌が高温に弱い性質を利用して殺菌するも
ので、前記各種細菌により高温殺菌温度と高温保持時間
は異なるが、一般的には比較的低温度の場合、保持時間
は長時間とし、高温度の場合、短時間の保持時間でよい
となっているが、本発明者らが実施した高温殺菌評価の
結果を図１０に示す。図１０の高温殺菌評価条件は、
検水量：１００ｍｌ、一般細菌：５，０００，０００
コ／ｍｌをビーカに入れ、前記検水に熱電対を浸せきし
たものを電子レンジで加熱、加熱温度：５０，５５，
６０，６５，７０℃の条件で試験した。前記の加熱温度
は、温度上昇の最高温度で、公差２ｄｅｇ以内とし、保
持時間内は恒温水槽で保持した。また保持時間とは、温
度上昇の最高温度で、公差２ｄｅｇ以内に達してからの
時間である。図１０に示したように、水道水基準である
一般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための加熱温度
は、５５℃以上で５分以上が必要である。また６０℃で
は、６０℃に達したらほぼ１００％高温殺菌浄化が可能
である。

【００４２】（実施例６）本発明の実施例５の浴槽水の
循環用水回路の浄化について図１１に基づいて説明す
る。

【００４３】図１１において、制御部の信号により切換
弁Ａ６を切換えると同時に、残留塩素含有水として、一
般家庭で使用している水道水を設定通水量分だけ、実施
例３で詳述した（２）の戻りと往き循環用水回路に同時
通水させることによって、利便性と経済性に優れた浄化
方法とすることができる。

【００４４】

【発明の効果】以上のように、本発明の浴槽装置は、水
回路に浴槽水を循環する循環ポンプと、浴槽水を加熱す
る加熱源と、浴槽水をろ過するろ過槽と、浴槽と水回路
を接続する循環用アダプタと、水回路と浴槽水を殺菌す
る難溶性銀塩と、浴槽に給水する給水部を設け、一定時
間毎に自動給水，自動逆洗排水，自動加熱することによ
って、難溶性銀塩による浴槽水の殺菌あるいは制菌効果
に加え、給水により水回路の堆積物を洗浄し、各種細菌
の増殖を抑えることができる。また加熱により高温殺菌
と、ろ過槽の逆洗により浄化能力の再生の併用相乗効果
によって、浴槽水，水回路を常にきれいに、清潔に保つ
ことができる。

【００４５】また、難溶性銀塩として、塩化銀の単体や
布に担持したものを用いることにより、接触面積を大き
くし接触殺菌あるいは銀イオンを溶出させやすくする。
また塩化銀を用いることにより、容易に入手、合成しや
すく、比較的安価で経済性に優れ、かつ安全性が高く、
加工性に優れている。さらにろ過槽と往き管の間の一部
に樹脂製保持具に充填装着設置することにより、ろ過さ
れた浴槽水が循環されるため、塩化銀表面が汚れ成分に
より汚染されることが少なく、常に塩化銀表面がきれい
な状態で各種細菌を接触殺菌することができるととも
に、銀イオンの溶出を安定的に保つことができる。

【００４６】また、一定時間毎に逆洗洗浄排水，加熱，
給水の順位手段にすることにより、浴槽水量を少なくし
た後、加熱するため加熱エネルギが少なくてすむこと、
また給水による濁りの希釈率を大きくすることができ
る。

【００４７】また、残留塩素含有水を給水し、かつ水回
路全体に給水することにより、水回路で増殖する各種細
菌を残留塩素殺菌することができる。また浴槽水の一部
にも残留塩素含有水が給水されるため、部分的ではある
が、浴槽水の各種細菌も同時に殺菌または制菌浄化する
ことができる。

【００４８】また、残留塩素含有水を給水し、かつ水回
路全体に給水した後、一定時間滞留することにより、水
回路で増殖する各種細菌をより確実に殺菌することがで
きる。

【００４９】また、給水した残留塩素含有水を加熱する
ことにより、加熱殺菌と残留塩素殺菌の併用相乗効果を
より、さらにより確実に殺菌浄化できる。

【００５０】また、残留塩素含有水を加熱給水した後、
残留塩素含有水を非加熱給水することにより、水回路の
垢等の汚れ成分の付着力を小さくして剥離しやすくする
とともに、加熱と残留塩素の併用殺菌し、そして非加熱
の残留塩素含有水を給水することにより、水回路の構成
部品を冷却して耐久性を向上させるとともに、再度残留
塩素の分解を遅らせ残留塩素濃度を保持させて殺菌効果
をより大きくし、各種細菌をダブル殺菌することができ
る。

【００５１】また、残留塩素含有水の温度を５５℃以上
にすることにより、残留塩素濃度が低下しても、高温加
熱水による各種細菌を高温で殺菌し、残留塩素殺菌と高
温加熱殺菌の相乗効果により、殺菌時間を短時間にする
ことができる。

【００５２】さらにまた、残留塩素含有水として、水道
水とすることにより、利便性と経済性に優れた殺菌浄化
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１の浴槽装置の構成図

【図２】（ａ）本発明の実施例１の浴槽装置に使用した
塩化銀プレート形状と樹脂制保持具の構成図（ｂ）同実施例の浴槽装置に使用した塩化銀担持不織布
形状と樹脂制保持具の構成図

【図３】本発明の浴槽装置と従来法の浴槽装置の浄化の
比較図

【図４】（ａ）本発明の実施例１の浴槽装置と従来法の
浴槽装置の比較試験用水回路の構成図（ｂ）同比較試験用水回路の浄化プレート部の上面構成
図（ｃ）同比較試験用水回路の浄化プレート部の断面構成
図

【図５】本発明の実施例２の浴槽装置の排水，加熱，給
水モードを示すフローチャート

【図６】本発明の実施例３の浴槽装置の残留塩素含有水
を給水する浴槽装置の構成図

【図７】（ａ）本発明の実施例４の浴槽装置の構成図（ｂ）同浴槽装置の水回路の同時給水、滞留モードを示
すフローチャート

【図８】（ａ）本発明の実施例４の浴槽装置の殺菌評価
効果を示す図（ｂ）同殺菌評価効果を示す表図

【図９】（ａ）本発明の実施例５の浴槽装置の構成図（ｂ）同浴槽装置の高温滞留モードを示すフローチャー
ト

【図１０】（ａ）本発明の実施例５の浴槽装置の高温殺
菌評価効果を示す図（ｂ）同高温殺菌評価効果を示す図

【図１１】本発明の実施例６の水道水給水する浴槽装置
の構成図

【図１２】従来の浴槽装置の構成図

【符号の説明】

１浴槽水３循環用アダプタ４戻り管５循環６切換弁Ａ７加熱源８切換弁Ｂ９ろ過材１０ろ過槽１１切換弁Ｃ１２往き管１３排水管１４切換弁Ｄ１５上部逆洗通路１６バイパス通路１７下部往き通路１８塩化銀プレート２０塩化銀担持不織布２２，２３浄化判定プレート部２４浄化判定プレート２５給水弁２６加熱源

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０２Ｆ 1/50 ５１０Ｃ０２Ｆ 1/50 ５２０Ｌ５２０５３１Ｔ５３１５３１Ｍ５４０Ｆ５４０５４０Ｂ５５０Ｈ５５０５６０Ｚ５６０５６０Ａ 1/76 Ａ 1/76 Ｂ０１Ｄ 35/02 ＪＦ２４Ｈ 1/00 ３０２Ｆ２４Ｈ 1/00 ６０２Ｌ (72)発明者青木哲郎大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者山内博明大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水回路の一部に設けられ浴槽水を循環する
循環ポンプと、浴槽水を加熱する加熱源と、浴槽水をろ
過するろ過槽と、浴槽と水回路を接続する循環用アダプ
タと、前記水回路の一部に水回路と浴槽水を殺菌する難
溶性銀塩と、浴槽に給水する給水部を設け、前記浴槽に
一定時間毎に自動給水する手段と、給水または浴槽水を
用いろ過槽を一定時間毎に自動逆洗洗浄排水する手段
と、浴槽水を一定時間毎に自動加熱する手段を備えてな
る浴槽装置。
【請求項２】難溶性銀塩として、粒状塩化銀，塩化銀プ
レート，塩化銀担持布，塩化銀不織布の少なくとも１つ
からなる請求項１記載の浴槽装置。
【請求項３】浴槽水を用い自動逆洗洗浄排水した後、自
動加熱する手段により浴槽水を設定温度まで加熱し、給
水部により水回路を介し浴槽に自動給水する請求項１記
載の浴槽装置。
【請求項４】水回路の一部に設けた給水部からの給水と
して、残留塩素含有水を給水するとともに、前記給水さ
れた残留塩素含有水が水回路を経て循環用アダプタに達
する給水としてなる請求項１または３記載の浴槽装置。
【請求項５】給水部から給水された残留塩素含有水が水
回路を経て循環用アダプタに達した後、給水を停止し、
残留塩素含有水を一定時間水回路に滞留してなる請求項
４記載の浴槽装置水。
【請求項６】残留塩素含有水を加熱する手段を設けた請
求項１または３から５のいずれか１項記載の浴槽装置。
【請求項７】加熱する手段により加熱された残留塩素含
有水を水回路に給水した後、加熱する手段により加熱さ
れていない残留塩素含有水を水回路に給水する請求項３
から６のいずれか１項記載の浴槽装置。
【請求項８】加熱する手段により加熱された給水または
残留塩素含有水の温度を５５℃以上としてなる請求項１
または３から７のいずれか１項記載の浴槽装置。
【請求項９】給水部から給水される残留塩素含有水とし
て、水道水としてなる請求項１または３から８のいずれ
か１項記載の浴槽装置。