JPH10253152A

JPH10253152A - 浴槽装置

Info

Publication number: JPH10253152A
Application number: JP9062668A
Authority: JP
Inventors: Kazunori Sonedaka; 和則曽根高; Hirofumi Kawashima; 裕文河島; Kenichi Takagaki; 謙一高垣; Tetsuo Aoki; 哲郎青木; Hiroaki Yamauchi; 博明山内
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1997-03-17
Filing date: 1997-03-17
Publication date: 1998-09-25

Abstract

(57)【要約】【課題】浴槽水の循環用水回路に堆積する垢や各種細
菌を浄化すること。【解決手段】浴槽水の循環用水回路の浄化において、
浴槽水の循環用水回路、一次フィルタを無くした循環用
アダプタ３，戻り管５，循環ポンプ６，ろ過槽７および
往き管９に残留塩素含有水を通水することにより、循環
用水回路に堆積する垢や各種細菌を洗浄，殺菌浄化する
ものである。これによって、複数の人が続けて入浴した
り、浴槽水を続けて使用しても、循環用水回路を常にき
れいに、清潔に保つことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽の浴槽水を循
環する水回路を浄化・殺菌して清潔に保つことができる
浴槽装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、浴槽の浴槽水の水回路の浄化する
浴槽装置は図１０に示すようなものがあった。

【０００３】浴槽水１は浴槽２に取りつけた大きな垢や
髪の毛等を浄化する金網付きフィルタ４を設置した循環
用アダプタ３の戻り部に接続した戻り管５、循環ポンプ
６、ろ過材８を充填したろ過槽７を通り、循環用アダプ
タ３の往き部に接続した往き管９からなる水回路を循環
ポンプ６により循環し、浴槽水１の汚れ成分をろ過槽７
により浄化していた。

【０００４】また浴槽水１の水回路には、浴槽水１を加
熱する加熱槽である加熱手段Ａ１０を循環用ポンプ６と
ろ過槽７との間に設けている。

【０００５】さらに浴槽２へのお湯はりは、水回路の加
熱源である加熱手段Ｂ１１を介し、循環用水回路の一部
に接続され、戻り管５，往き管９を通り供給されてい
た。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
浴槽水の水回路の浄化する浴槽装置では、まず浴槽水の
汚れ成分である大きな垢や髪の毛等を循環用アダプタに
設置した一次フィルタにより簡易浄化することができる
が、前記一次フィルタに大きな垢や髪の毛が目詰まりす
ると、循環ポンプによる浴槽循環流量が著しく低下し、
浴槽の浴槽水の循環浄化効率が悪化する。このように目
詰まりした一次フィルタは、定期的に使用者が掃除しな
ければならないが、この一次フィルタは浴槽水中である
ことから目視確認することが困難でほとんど掃除されな
いのが現状である。また、お湯はり時、一次フィルタに
目詰まりした大きな垢や髪の毛が一度に浴槽内に再流出
して浴槽水の汚れを増大させる。そして、前記一次フィ
ルタを通過した比較的大きな垢粒子（おおよそ１０ミク
ロン以上）を水回路のろ過槽でろ過浄化できるが、複数
の人が続けて入浴したり、浴槽水を続けて使用すること
によって生じる微細粒子（約１ミクロン程度）の各種細
菌（一般細菌，大腸菌等）による汚れ成分をろ過槽では
ろ過浄化が不十分のため、水回路は汚れ、不清潔しなり
やすい。さらに重要なことは、水回路は循環ポンプ、ろ
過槽、往き管、戻り管及び循環用アダプタの接続部分
は、凹凸構成部で、水の流れが悪く（乱流大）、各種細
菌の栄養源となる垢が堆積しやすく、また各種細菌が増
殖しやすい環境となっている。特にろ過槽入口までは、
浴槽水の汚れ成分はそのまま循環するため、さらに不清
潔になりやすく、これらをきれいに、清潔にするために
は浴槽水を常時交換し、循環用アダプターの一次フィル
タを時々掃除するか、また浴槽の掃除するか、さらに洗
浄剤で通水洗浄するかして強制的に洗浄しなければなら
ないため、大変不経済で手間のかかる作業であるという
課題を有していた。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、本発明の浴槽水の循環用水回路の浄化方法
は、一次フィルタを無くした循環アダプタ，戻り管，循
環ポンプ，ろ過槽および往き管から構成された水回路
に、水回路の一部に接続された給水部より残留塩素含有
水を通水するとともに、必要に応じ前記残留塩素含有水
を滞留させるものである。

【０００８】上記発明によれば、浴槽水の汚れ成分であ
る大きな垢粒子や髪の毛等を循環ポンプを作動させ一次
フィルタを無くした循環用アダプタ，戻り管，循環ポン
プを通過させ、ろ過槽に充填したろ過材でろ過浄化する
ことにより、浴槽の浴槽水に再流出することがなくな
り、浴槽水の汚れ成分を最少限度に抑えることができ
る。またろ過槽でろ過浄化しにくい小さな各種細菌を残
留塩素含有水を通水することにより、殺菌浄化して循環
用水回路を常にきれいに、清潔に保つことができる。ま
た水回路を常にきれいに、清潔に保つことによって、複
数の人が続けて入浴したり、浴槽水を続けて使用するこ
とができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】水回路に一部に設けられ、浴槽水
を循環させる循環ポンプと、浴槽水をろ過するろ過槽
と、浴槽と水回路を接続する循環用アダプタと水回路に
給水する給水部を設け、浴槽水は前記ろ過槽のみによっ
て浄化され、給水部は、水回路に残留塩素含有水を通水
し、水回路を洗浄するものである。

【００１０】そして、前記循環用アダプタの戻り側に大
きな垢や髪の毛等を浄化する一次フィルタを無くした水
回路に残留塩素含有水を通水し、浴槽水の汚れ成分であ
る大きな垢粒子や髪の毛等を循環用アダプタ，戻り管，
循環ポンプを通過させ、ろ過槽に充填したろ過材でろ過
浄化し、また残留塩素含有水を一定時間給水することに
より、循環用水回路の凹凸構成部への垢堆積を通水力で
洗浄あるいは軽減しても、浴槽の浴槽水に再流出するこ
とがほとんどなくなり、浴槽水の汚れを最小限度に抑え
ることができる。そして各種細菌の増殖を抑えるととも
に、ろ過槽でろ過浄化しにくい小さな各種細菌を残留塩
素含有水により殺菌浄化することにより、水回路を常に
きれいに、清潔に保つことによって、複数の人が続けて
入浴したり、浴槽水を続けて使用することができる。

【００１１】また、水回路の給水方向を切り換える切換
弁を設け、給水部から水回路に残留塩素含有水を給水す
る際、切換弁を戻り側または往き側に切り換えるもので
ある。

【００１２】そして、戻り側又は往き側のみに残留塩素
含有水を給水するため、戻り側，往き側、同時に給水し
た場合に比べ、戻り側，往き側に流れる給水量は塩素洗
浄能力を向上させることができる。

【００１３】また、給水部から給水された残留塩素含有
水が水回路を経て循環アダプタに達した後に給水を廃止
し、残留塩素含有水を一定時間水回路に滞留してなるも
のである。

【００１４】そして、少なくとも浴槽水の水回路全容量
に残留塩素含有水を通水後、残留塩素含有水を一定時間
水回路に滞留することにより、より時間的な殺菌効果を
大きくして浄化することができる。

【００１５】また、残留塩素含有水を加熱する加熱手段
を設けたものである。また、残留塩素含有水加熱手段に
より加熱された温水を水回路に給水した後に、加熱手段
により加熱されていない残留塩素含有水を水回路に給水
するものである。

【００１６】そして、残留塩素含有水の通水温として、
温水の後に冷水を通水することにより、冷水通水は、残
留塩素の分解を遅らせ残留塩素濃度を保持させて殺菌効
果をより大きくし、温水通水は、水回路の凹凸部への堆
積付着垢の付着力を小さくさせ、垢堆積を洗浄あるいは
軽減して、浄化能力を大きくすることができる。

【００１７】また、加熱手段により加熱された残留塩素
含有水の温度を５５℃以上としてなる。

【００１８】そして、通水する残留塩素含有水の水温を
５５℃以上にすることにより、残留塩素濃度が低下して
も、高温水による各種細菌を高温で殺菌し、残留塩素殺
菌と高温殺菌の相乗効果により、殺菌時間を短時間にす
ることができる。

【００１９】また、給水部から給水される残留塩素含有
水として、水道水としたものである。

【００２０】そして、通水する残留塩素服有水として、
水道水とすることにより、一般家庭に供給されている給
水を使用することができるため利便性と経済性に優れた
浄化ができる。

【００２１】（実施例１）以下、本発明の実施例１にお
ける浴槽水の水回路を浄化する浴槽装置について図面を
用い説明する。なお、従来と同一構成要素のものについ
ては同一番号を付し説明する。

【００２２】図１において、浴槽水１中の大きな垢粒子
や髪の毛等の汚れ成分は制御部の信号により循環ポンプ
６を作動させると、水回路である浴槽２に取りつけた一
次ファイルの無い循環用アダプタ３を通り、循環用アダ
プタ３の戻り部に接続した戻り管５，循環ポンプ６，切
換弁Ａ１２，切換弁Ｂ１３の切換弁Ｃ１４より、下向流
でろ過槽７に充填したろ過材８で大きな垢粒子や髪の毛
等の汚れ成分をろ過浄化する。そして、浄化された浴槽
水１は切換弁Ｄ１５を通り、浴槽２に取りつけた循環用
アダプタ３の往き部に接続した往き管９，循環用アダプ
タ３より浴槽２に戻り、制御部の信号による循環ポンプ
６の停止まで浴槽水１は循環する。

【００２３】また、ろ過槽７に充填したろ過材８が浴槽
水１の汚れ成分（大きな垢粒子や髪の毛等）により目詰
りすると、制御部の信号により循環ポンプ６を一旦停止
させ、切換弁Ｂ１３の切り換えにより、浴槽水１を加熱
する加熱源１０通路側またはバイパス通路１７側のどち
らかの通路を形成するとともに、切換弁Ｃ１４と切換弁
Ｄ１５を逆洗排水側に切り換える。そして再度循環ポン
プ６を作動させ浴槽水１を用い、切換弁Ｂ１３、浴槽水
１を加熱する加熱源１０通路側またはバイパス通路１７
側のどちらかの通路より、バイパス通路１７，下部逆洗
通路１８，切換弁Ｄ１５を通り、上向流でろ過槽７に充
填したろ過材８でろ過した汚れ成分を逆洗洗浄し、前記
逆洗洗浄した浴槽水１を切換弁Ｃ１４に接続した排水管
１７より排水する。そしてまた、浴槽２の浴槽水１が一
定時間排水されると制御部の信号により循環ポンプ６を
停止させ、切換弁Ａを切り換えるによって、残留塩素含
有水を一定量通水させることにより、戻り管５，循環ポ
ンプ６，切換弁Ｂ１３，バイパス通路１７側または加熱
源１０側から上部往き管１６の切換弁Ｃ１４，切換弁Ｄ
１５からなる水回路と、水回路の特に凹凸構成部に堆積
し各種細菌の栄養源となる垢の堆積を通水力により、洗
浄あるいは軽減し浄化するとともに、各種細菌を残留塩
素により殺菌浄化させることができる。また図２の
（ａ）は断面勘合構成図、（ｂ）は前記（ａ）の正面構
成図を各々示し、浴槽に取りつけられた循環用アダプタ
３の構成図を示し、前記循環用アダプタ３は戻り管５，
往き管９を接続する接続ボディ３１と、接続ボディ３１
を浴槽２に固定接続する固定ネジ３２と、前記接続ボデ
ィ３１と浴槽２、浴槽２と固定ネジ３２の間に水シール
用パッキンＡ３３，パッキンＢ３４を各々設けている。
そして前記固定ネジ３２の往き（吐出）通路３５と戻り
（吸入）通路３６を分離独立構成とするケース３７に設
けた接続部３８を、接続ディ３１のＯリング３９付勘合
部４０に挿入する。そして固定ネジ３２の溝部４１にケ
ース３７に設けた突起部４２をバネ力を利用して勘合さ
せたものである。

【００２４】次に、水回路の一部に設けた給水部からの
通水方法について詳述する。浴槽水の水回路への通水と
して、（１）往き水回路通水、（２）戻り水回路通水、
（３）往き、戻り水回路に繰り返し通水または（４）戻
り、往き水回路に同時通水として残留塩素含有水を通水
することにより、全水回路の各種細菌栄養源となる垢の
堆積を洗浄浄化するとともに、各種細菌を残留塩素によ
り殺菌浄化させることができる。

【００２５】次に、残留塩素含有水について詳述する。
残留塩素含有水とは、残留塩素として０．１ｐｐｍ以上
を含有した新鮮水で、塩素ガスを溶解させたもの、次亜
塩素酸ナトリウムを溶解させたもので、濃度制御したも
のである。濃度制御として、残留塩素濃度は前記０．１
ｐｐｍ以上としたが、水回路の構成部品の材質として、
銅および銅合金、ＮＢＲおよびＥＰＤＭゴム、ＰＰおよ
びＰＯＭ樹脂等が一般的であり、これらの材質の耐久性
を考慮すると１０ｐｐｍ以下が望ましい。また、短時間
で殺菌浄化を効果的にし、かつ構成部品材質の耐久性を
考慮すると、好ましい残留塩素含有水の残留塩素濃度
は、０．３〜５ｐｐｍである。

【００２６】図３は本発明と従来法の浄化効果を判定す
る水回路構成および浄化判定プレート構成を示す。
（ａ）は水回路の構成図で、浄化判定プレート部２０，
２１は循環用アダプタ３に接続した戻り管５，往き管９
を各々設置している。また、（ｂ）は浄化判定プレート
部２０，２１の上面構成図、（ｃ）は浄化判定プレート
部２０，２１の断面構成図を示し浄化判定プレート２２
（幅：１０ｍｍ、厚さ：１ｍｍの白色樹脂プレート）を
シール治具を介して戻り管５，往き管９の通水部に装着
している。

【００２７】表１は、図３で詳述した水回路構成を用
い、本発明と従来法の浄化効果を示したものである。表
中に記載していない詳細な条件および評価として、入
浴条件：４人／日、４２℃／４時間保温、浄化条件：
通水時の残留塩素含有水の残留塩素濃度は、０．５〜１
ｐｐｍ、浴槽水温：４２℃／４時間保温以外は自然冷
却、循環条件：１１時間連続循環ポンプ作動後、ろ過
槽の逆洗浄流量２ｌ／分で１分、循環ポンプ停止５９分
の繰り返しおよび評価：表２の評価指数（汚れ指数５
段階評価：色変化＝垢堆積を目視評価）にて評価した。

【００２８】

【表１】

【００２９】

【表２】

【００３０】表１から明らかなように、残留塩素含有水
を通水させることにより、循環用水回路に堆積しやすい
汚れ成分（垢）を軽減することができる。また、一般的
に言われている水垢（垢が栄養源となり各種細菌が異常
増殖したもの）は、評価指数４レベルで発生しやすく、
従来法の戻り管の評価指数４では前記水垢が微少ではあ
るが発生していたことからも、本発明の残留塩素含有水
を通水させることにより、各種細菌の増殖を押さえ、水
回路を清潔に保つことができる。また、従来法の一次フ
ィルタを設けた循環用アダプタでは、循環流量は７日目
で８．５ｌ／分、１５日目で６ｌ／分、３０日目で２．
５ｌ／分と循環流量が大幅に低下した。一方、本発明の
（２），（４）の循環流量は３０日目で９．５ｌ／分と
循環流量はほとんど低下していない。

【００３１】（実施例２）本発明の実施例２の浴槽水の
水回路を浄化する浴槽装置について図４，図５に基づい
て説明する。

【００３２】図４において、制御部の信号により循環ポ
ンプ６を停止させ、切換弁Ａ１２を切換えることによっ
て残留塩素含有水を水回路に実施例１で詳述した往き管
９側と戻り管５側の水回路に同時通水させる。そして、
少なくとも全水回路容量分以上を通水後、切換弁Ａ１２
を切換え残留塩素含有水の通水を停止させ、一定時間す
なわち滞留設定時間だけ滞留させることにより、より殺
菌浄化効果を大きくすることができる。本実施例２の少
なくとも全水回路容量分以上の通水とは、水回路として
浴槽２に固定接続した循環用アダプタ３から循環ポンプ
６，ろ過槽７等からなる循環装置と距離、すなわち循環
装置の施工条件によって異なるが、前記循環装置の施工
条件である最大距離分を考慮した全水回路容量分を意味
している。

【００３３】次に、一定時間すなわち滞留設定時間は、
残留塩素含有水の残留塩素濃度によって決定される。各
種細菌により殺菌濃度と時間は異なるが、一般的には残
留塩素濃度が低濃度の場合、設定時間は長時間とし、ま
た高濃度の場合、設定時間は短時間の設定となっている
が、本発明者らが実施した殺菌評価を図５に示す。殺菌
評価条件は、検水量：５００ｍｌ、水温：２０℃、
初期一般細菌数：５、０００、０００コ／ｍｌ、残
留塩素濃度：０、０．１、０．５、２ｐｐｍの各種条件
で試験した。

【００３４】図５に示したように、水道水基準である一
般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための滞留時間は、
残留塩素含有水の低残留塩素濃度が０．１ｐｐｍで約１
５分、０．５ｐｐｍで約５分、２ｐｐｍで約２分で可能
となる。よって、好ましい滞留時間は、残留塩素濃度に
よって異なるが１５分以上である。

【００３５】（実施例３）本発明の実施例３の浴槽水の
水回路を浄化する浴槽装置について図６に基づいて説明
する。

【００３６】図６において、制御部の信号により切換弁
Ａ１２を切り換えると同時に、給湯用水回路の加熱源１
１で残留塩素含有水を全水回路容量分だけ、実施例１で
詳述した（４）の戻りと往き水回路に同時加熱通水させ
る。次に、設定通水量を通水後、制御部の信号により滞
留設定時間だけ滞留させ、特に水回路の凹凸に堆積した
堆積付着垢の付着力を小さくして剥離浄化効果を大きく
させる。そして、給湯用水回路の加熱源１１を停止し、
再度残留塩素含有の冷水（機械的に冷却したものでない
大気温度レベルの）通水後、必要に応じ再度制御にの信
号により滞留設定時間だけ滞留させることによって、さ
らにより殺菌浄化効果を大きくすることができる。ま
た、加熱通水が高温の場合、水回路も同時に高温となる
ことから、一定時間滞留した後、水回路の構成部品の耐
久性、火傷の防止等も考慮して、冷却させるものであ
る。

【００３７】（実施例４）本発明の実施例４の浴槽水の
水回路を浄化する浴槽装置について図７，図８に基づい
て説明する。

【００３８】図７において、制御部の信号により切換弁
Ａ１２を切り換えると同時に、給湯用水回路の加熱源１
１で残留塩素含有水を全水回路容量分だけ、実施例１で
詳述した（４）の戻りと往き水回路に同時高温加熱通水
させる。次に、設定通水量を通水後、制御部の信号によ
り滞留設定時間だけ滞留させることにより、各種細菌を
高温殺菌と残留塩素含有水の相乗効果により、より確実
に殺菌浄化することができる。

【００３９】次に、高温殺菌とは、各種殺菌が高温に弱
い性質を利用して、殺菌するものである。各種殺菌によ
り高温殺菌温度と時間は異なるが、一般的には比較的低
温度の場合、保持時間は長時間とし、高温度の場合、短
時間の保持でよいとなっているが、本発明者らが実施し
た高温殺菌評価の結果を図８に示す。図８の高温殺菌評
価条件は、検水量：１００ｍｌ、初期一般殺菌数：
５、０００、０００コ／ｍｌをビーカに入れ、前記検水
に熱電対を浸せきしたものを、電子レンジで加熱、水
温：５０，５５，６０，６５，７０℃の条件で試験し
た。前記の加熱温度は、温度上昇の最高温度で、公差２
ｄｅｇ以内とし、保持時間は恒温水槽で保持した。ま
た、保持時間とは、温度上昇の最高温度で、公差２ｄｅ
ｇ以内達してからの時間である。

【００４０】図７で示したように、水道水基準である一
般細菌数１００コ／ｍｌ以下にするための加熱温度は、
５５℃以上で５分以上が必要である。また６０℃では、
６０℃に達したらほぼ１００％高温殺菌浄化が可能であ
る。

【００４１】（実施例５）本発明の実施例５の浴槽水の
水回路を浄化する浴槽装置について図８に基づいて説明
する。

【００４２】図８において、制御部の信号により切換弁
Ａ６を切換えると同時に、残留塩素含有水として、一般
家庭で使用している水道水を設定通水量分だけ、実施例
３で詳述した（２）の戻りと往き水回路に同時通水させ
ることによって、利便性と経済性に優れた浄化方法とす
ることができる。

【００４３】

【発明の効果】以上のように、本発明の浴槽水の水回路
の浄化する浴槽装置は、一次フィルタを無くした循環用
アダプタ，戻り管，循環ポンプ，ろ過槽，往き管および
循環用アダプタからなる水回路を用い、前記循環ポンプ
により浴槽循環水の汚れ成分をろ過浄化するとともに、
残留塩素含有水を一定時間通水することにより、一次フ
ィルタの目詰まりによる循環流量の低下がないこと、ま
た目詰まりした汚れ成分が再流出がないことおよび水回
路の接続部分の凹凸構成部に堆積しやすい各種細菌の栄
養源となる垢堆積を通水力で洗浄または軽減し、各種細
菌を残留塩素より増殖を抑え殺菌浄化することにより、
水回路を常にきれいに、清潔に保ち、複数の人が続けて
したり、浴槽水を続けてしようすることができる。ま
た、少なくとも浴槽水の水回路全容量に残留塩素含有水
を通水後一定時間、残留塩素含有水を滞留させることに
より、より循環用水回路の殺菌浄化効果を大きくして浄
化することができる。また、冷水と温水を繰り返し通水
することにより、さらに水回路の接続部分の凹凸構成部
に堆積しやすい各種細菌の栄養源となる垢堆積を軽減
し、各種細菌の増殖を抑えることができる。また、高温
加熱通水することにより、高温殺菌と残留塩素含有水の
相乗効果により、より確実に殺菌することができる。さ
らにまた、残留塩素含有水として、水道水を通水するこ
とにより利便性と経済性に優れた浄化とすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１の循環用水回路の構成図

【図２】（ａ）本発明の実施例１に用いた循環用アダプ
タの断面勘合構成図（ｂ）本発明の実施例１に用いた循環用アダプタの正面
構成図

【図３】（ａ）本発明の実施例１と従来法の比較試験用
循環用水回路の構成図（ｂ）同比較試験用循環用水回路の浄化プレート部の上
面構成図（ｃ）同比較試験用循環用水回路の浄化プレート部の断
面構成図

【図４】（ａ）本発明の実施例２の循環用水回路の構成
図（ｂ）同循環用水回路の浄化モードを示すフローチャー
ト

【図５】（ａ）本発明の実施例２の殺菌評価効果を示す
図（ｂ）同殺菌評価効果を示す図

【図６】（ａ）本発明の実施例３の循環用水回路の構成
図（ｂ）同循環用水回路の浄化モードを示すフローチャー
ト

【図７】（ａ）本発明の実施例４の循環用水回路の構成
図（ｂ）同循環用水回路の浄化モードを示すフローチャー
ト

【図８】（ａ）本発明の実施例４の高温殺菌評価効果を
示す図（ｂ）同高温殺菌評価効果を示す図

【図９】本発明の実施例５の循環用水回路の構成図

【図１０】従来の浴槽水の循環用水回路の構成図

【符号の説明】

１浴槽水３循環用アダプタ５戻り管６循環ポンプ７ろ過槽８ろ過材９往き管１０加熱源（加熱手段Ａ）１１加熱源（加熱手段Ｂ）１２切換弁Ａ１３切換弁Ｂ１４切換弁Ｃ１５切換弁Ｄ１６上部往き通路１７バイパス通路１８下部逆洗通路２０，２１浄化判定プレート部２２浄化判定プレート３１接続ボディ３２固定ネジ３５往き（吐出）通路３６戻り（吸入）通路３７ケース

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０２Ｆ 1/50 ５３１Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０Ｂ５４０５５０Ｈ５５０５６０Ｚ５６０Ｆ２４Ｈ 9/00 ＷＦ２４Ｈ 9/00 Ｂ０１Ｄ 35/02 Ｊ (72)発明者青木哲郎大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者山内博明大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水回路の一部に設けられ、浴槽水を循環
させる循環ポンプと、浴槽水をろ過するろ過槽と、浴槽
と水回路を接続する循環用アダプタと、水回路に給水す
る給水部を設け、浴槽水は前記ろ過槽のみによって浄化
され、給水部は、水回路に残留塩素含有水を通水し、水
回路を洗浄する浴槽装置。
【請求項２】水回路の給水方向を切り換える切換弁を
設け、給水部から水回路に残留塩素含有水を給水する
際、切換弁を戻り側または往き側に切り換える請求項１
記載の浴槽装置。
【請求項３】給水部から給水された残留塩素含有水が
水回路を経て循環アダプタに達した後に、給水を廃止
し、残留塩素含有水を一定時間水回路に滞留してなる請
求項１または２記載の浴槽装置。
【請求項４】残留塩素含有水を加熱する加熱手段を設
けた請求項１から３のいずれか１項記載の浴槽装置。
【請求項５】加熱手段により加熱された残留塩素含有
水を水回路に給水した後に、加熱手段により加熱されて
いない残留塩素含有水を水回路に給水する請求項４記載
の浴槽装置。
【請求項６】加熱手段により加熱された残留塩素含有
水の温度を５５℃以上としてなる請求項１から６のいず
れか１項記載の浴槽装置。