JPH1031392A - 感光体基材の表面検査方法 - Google Patents
感光体基材の表面検査方法Info
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- JPH1031392A JPH1031392A JP18721896A JP18721896A JPH1031392A JP H1031392 A JPH1031392 A JP H1031392A JP 18721896 A JP18721896 A JP 18721896A JP 18721896 A JP18721896 A JP 18721896A JP H1031392 A JPH1031392 A JP H1031392A
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Cleaning In Electrography (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Discharging, Photosensitive Material Shape In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 感光体基材表面の微小な欠陥を精度よく検出
することが可能な表面検査方法を提供する。 【解決手段】 ドラム状の感光体基材の表面に、感光体
基材の中心軸に沿って斜め方向からレーザ光をスポット
照射し、感光体基材を回転させながらレーザ光を感光体
基材の軸方向に移動させることにより、感光体基材の表
面全体を走査して、該表面上の欠陥から発する散乱光
を、例えば光電変換素子により検出する。
することが可能な表面検査方法を提供する。 【解決手段】 ドラム状の感光体基材の表面に、感光体
基材の中心軸に沿って斜め方向からレーザ光をスポット
照射し、感光体基材を回転させながらレーザ光を感光体
基材の軸方向に移動させることにより、感光体基材の表
面全体を走査して、該表面上の欠陥から発する散乱光
を、例えば光電変換素子により検出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体用
のドラム状感光体基材の表面検査方法に関する。
のドラム状感光体基材の表面検査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真方式の複写機、プリンター等に
使用される感光体は、アルミニウム等の導電性基材上
に、感光層が被覆されている。その感光体の製造過程に
おいて、感光層を被覆する前の基材表面に、数μｍ以上
の大きさの突起、凹みおよび傷等の欠陥があると、感光
層に欠陥が生じ、白抜け黒点等の画像品質の低下を招く
ことになる。
使用される感光体は、アルミニウム等の導電性基材上
に、感光層が被覆されている。その感光体の製造過程に
おいて、感光層を被覆する前の基材表面に、数μｍ以上
の大きさの突起、凹みおよび傷等の欠陥があると、感光
層に欠陥が生じ、白抜け黒点等の画像品質の低下を招く
ことになる。
【０００３】従来、感光体の表面検査方法については、
感光体表面を照明し、その表面反射光をＣＣＤカメラに
より検出し、画像処理を行う方法が提案されている（特
開昭６１−７４０６号公報）。また、レーザ光をポリゴ
ンミラーにより感光体ドラムの軸方向に光走査し、欠陥
からの散乱光を検出する方式が提案されている（特開昭
６０−８６４０５号公報）。
感光体表面を照明し、その表面反射光をＣＣＤカメラに
より検出し、画像処理を行う方法が提案されている（特
開昭６１−７４０６号公報）。また、レーザ光をポリゴ
ンミラーにより感光体ドラムの軸方向に光走査し、欠陥
からの散乱光を検出する方式が提案されている（特開昭
６０−８６４０５号公報）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法は、いずれも感光層が被覆された後の感光体の表面
検査に適用されるものであって、それらの方法による検
出可能な欠陥の大きさは数１０μｍ以上であり、数μｍ
の大きさからの微小な欠陥の検出が必要な感光体基材表
面の検査には適用できないという問題があった。
方法は、いずれも感光層が被覆された後の感光体の表面
検査に適用されるものであって、それらの方法による検
出可能な欠陥の大きさは数１０μｍ以上であり、数μｍ
の大きさからの微小な欠陥の検出が必要な感光体基材表
面の検査には適用できないという問題があった。
【０００５】本発明は、上記従来の技術における問題点
を解消することを目的とするものであって、本発明の目
的は、感光体基材表面の微小な欠陥を精度よく検出する
ことが可能な表面検査方法を提供することにある。
を解消することを目的とするものであって、本発明の目
的は、感光体基材表面の微小な欠陥を精度よく検出する
ことが可能な表面検査方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的を達成
するため、本発明者は鋭意研究を重ねた結果、ドラム状
の感光体基材の表面に、ドラム中心軸に沿って斜め方向
からレーザ光をスポット照射し、表面からの散乱光を検
出することにより、微小な欠陥の確認が可能なことを知
見し、本発明を完成するに至った。
するため、本発明者は鋭意研究を重ねた結果、ドラム状
の感光体基材の表面に、ドラム中心軸に沿って斜め方向
からレーザ光をスポット照射し、表面からの散乱光を検
出することにより、微小な欠陥の確認が可能なことを知
見し、本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、本発明の感光体基材の表面検出
方法は、ドラム状の感光体基材の表面に、感光体基材の
中心軸に沿って斜め方向からレーザ光をスポット照射
し、感光体基材を回転させながらレーザ光を感光体基材
の軸方向に移動させることにより、感光体基材の表面全
体を走査して、該表面上の欠陥から発する散乱光を検出
することを特徴とする。
方法は、ドラム状の感光体基材の表面に、感光体基材の
中心軸に沿って斜め方向からレーザ光をスポット照射
し、感光体基材を回転させながらレーザ光を感光体基材
の軸方向に移動させることにより、感光体基材の表面全
体を走査して、該表面上の欠陥から発する散乱光を検出
することを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明において、スポット照射の
ためには、半導体レーザまたはＨｅ−Ｎｅレーザ等のガ
スレーザが好ましく使用され、スポット径は１００μｍ
以下のものが好ましく使用される。
ためには、半導体レーザまたはＨｅ−Ｎｅレーザ等のガ
スレーザが好ましく使用され、スポット径は１００μｍ
以下のものが好ましく使用される。
【０００９】感光体基材表面に、斜め方向からレーザ光
をスポット照射し、その表面を走査する際に、表面に欠
陥が存在すると、照射光は欠陥により散乱する。したが
って、その散乱光をレーザ光の正反射位置から外れた位
置に設置した光電変換手段により検出すれば、基材表面
に存在する欠陥を検出することができる。微小な欠陥を
精度よく検出するためには、レーザ光の入射角度が走査
により変化しないことが重要である。そのためには、ド
ラム状の感光体基材の表面に斜め方向からレーザ光を照
射し、感光体基材を回転しながらその軸方向に移動し
て、基材表面全体を走査すればよい。
をスポット照射し、その表面を走査する際に、表面に欠
陥が存在すると、照射光は欠陥により散乱する。したが
って、その散乱光をレーザ光の正反射位置から外れた位
置に設置した光電変換手段により検出すれば、基材表面
に存在する欠陥を検出することができる。微小な欠陥を
精度よく検出するためには、レーザ光の入射角度が走査
により変化しないことが重要である。そのためには、ド
ラム状の感光体基材の表面に斜め方向からレーザ光を照
射し、感光体基材を回転しながらその軸方向に移動し
て、基材表面全体を走査すればよい。
【００１０】また、欠陥の大きさは、光電変換手段によ
り検出される光電変換信号と相関関係があるので、あら
かじめ設定した信号レベルと比較し、より大きな信号の
みを検出するようにすれば目的とする大きさ以上の欠陥
を検出することができる。
り検出される光電変換信号と相関関係があるので、あら
かじめ設定した信号レベルと比較し、より大きな信号の
みを検出するようにすれば目的とする大きさ以上の欠陥
を検出することができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面によって詳細に
説明する。図１は、本発明を実施するための装置の一例
である。図中、１はドラム状の感光体基材（以下、「ド
ラム基材」と略記する。）であって、モータ２により回
転する。３はレーザ光をドラム表面にスポット照射する
ためのレーザ光源であって、この図の実施例において
は、先端に集光レンズを設けた市販の半導体レーザコリ
メータが使用される。４は散乱光を検出するための光電
変換素子であり、この図の実施例においては、フォトマ
ルが使用される。レーザ光源３および光電変換素子４は
移動ステージ５によりドラム基材の中心軸方向に移動で
きるように構成されている。また、６はデータ処理部で
ある。
説明する。図１は、本発明を実施するための装置の一例
である。図中、１はドラム状の感光体基材（以下、「ド
ラム基材」と略記する。）であって、モータ２により回
転する。３はレーザ光をドラム表面にスポット照射する
ためのレーザ光源であって、この図の実施例において
は、先端に集光レンズを設けた市販の半導体レーザコリ
メータが使用される。４は散乱光を検出するための光電
変換素子であり、この図の実施例においては、フォトマ
ルが使用される。レーザ光源３および光電変換素子４は
移動ステージ５によりドラム基材の中心軸方向に移動で
きるように構成されている。また、６はデータ処理部で
ある。
【００１２】図２は図１におけるレーザ光源３と光電変
換素子４の位置関係を示した説明図である。レーザ光源
３は、ドラム基材の中心軸に対する角度（α）が小さい
ほど、より小さな欠陥の検出が可能となるため、αが０
°から６０°まで、特に、０°から３０°までになるよ
うに設けるのが好ましい。また、光電変換素子４は、ド
ラムの中心軸に対する角度（β）が、レーザ光の正反射
光の光路から外れた位置に設置されるが、特にレーザ光
の正反射光の光路から９０°までの範囲、すなわちα＜
β≦９０°になるように設けるのが好ましい。
換素子４の位置関係を示した説明図である。レーザ光源
３は、ドラム基材の中心軸に対する角度（α）が小さい
ほど、より小さな欠陥の検出が可能となるため、αが０
°から６０°まで、特に、０°から３０°までになるよ
うに設けるのが好ましい。また、光電変換素子４は、ド
ラムの中心軸に対する角度（β）が、レーザ光の正反射
光の光路から外れた位置に設置されるが、特にレーザ光
の正反射光の光路から９０°までの範囲、すなわちα＜
β≦９０°になるように設けるのが好ましい。
【００１３】また、ドラム基材上のレーザ光のスポット
径は、半導体レーザコリメータの先端の集光レンズによ
り調整されるが、スポット径が小さいほど、より小さな
欠陥の検出が可能となるため、スポット径は１００μｍ
以下、特に５０μｍ以下であることが好ましい。
径は、半導体レーザコリメータの先端の集光レンズによ
り調整されるが、スポット径が小さいほど、より小さな
欠陥の検出が可能となるため、スポット径は１００μｍ
以下、特に５０μｍ以下であることが好ましい。
【００１４】上記構成を有する表面検査装置によってド
ラム基材の検査を行う場合は、ドラム基材１を回転モー
タ２により一定周速で回転させながら、レーザ光源３お
よび光電変換素子４を移動ステージ５により一定速度で
ドラム基材の軸方向に移動させる。ドラム基材１が１回
転する間に移動ステージ５が移動する距離は、レーザ光
のスポット径より小さくなるように、好ましくはスポッ
ト径の半分の大きさ以下になるようにして、基材表面の
全ての位置を均一に走査する。この間に光電変換素子４
からの電気信号をデータ処理部５により記録する。ドラ
ム基材上に欠陥がある場合は、欠陥からの散乱光により
光電変換素子４の電気信号が増加するため、この信号変
化により欠陥を検出することが可能となる。
ラム基材の検査を行う場合は、ドラム基材１を回転モー
タ２により一定周速で回転させながら、レーザ光源３お
よび光電変換素子４を移動ステージ５により一定速度で
ドラム基材の軸方向に移動させる。ドラム基材１が１回
転する間に移動ステージ５が移動する距離は、レーザ光
のスポット径より小さくなるように、好ましくはスポッ
ト径の半分の大きさ以下になるようにして、基材表面の
全ての位置を均一に走査する。この間に光電変換素子４
からの電気信号をデータ処理部５により記録する。ドラ
ム基材上に欠陥がある場合は、欠陥からの散乱光により
光電変換素子４の電気信号が増加するため、この信号変
化により欠陥を検出することが可能となる。
【００１５】また、図３は、欠陥の大きさと、欠陥から
の散乱光による光電変換素子の電気信号の大きさ（散乱
光強度）との関係を示すグラフである。なお、図３のグ
ラフは、レーザ光および光電変換素子の設置角度をそれ
ぞれα＝２０°およびβ＝７５°に設定し、さらにドラ
ム基材上のレーザ光のスポット径が３０μｍである条件
の下で作成したものである。
の散乱光による光電変換素子の電気信号の大きさ（散乱
光強度）との関係を示すグラフである。なお、図３のグ
ラフは、レーザ光および光電変換素子の設置角度をそれ
ぞれα＝２０°およびβ＝７５°に設定し、さらにドラ
ム基材上のレーザ光のスポット径が３０μｍである条件
の下で作成したものである。
【００１６】図３から分かるように、光電変換素子の電
気信号の大きさは、欠陥の大きさと相関関係がある。ま
た、検出可能な欠陥の大きさは、信号のＳ／Ｎ比からみ
て、２μｍ以上であった。したがって、本発明によれ
ば、あらかじめ設定した信号レベルと比較し、欠陥の大
きさを特定することができる。したがって、検出レベル
を特定の大きさに設定して、許容できない大きさ（例え
ば５μｍ以上）の信号変化を検出するようにすれば、許
容できない大きさの欠陥の数を正確に測定することが可
能である。
気信号の大きさは、欠陥の大きさと相関関係がある。ま
た、検出可能な欠陥の大きさは、信号のＳ／Ｎ比からみ
て、２μｍ以上であった。したがって、本発明によれ
ば、あらかじめ設定した信号レベルと比較し、欠陥の大
きさを特定することができる。したがって、検出レベル
を特定の大きさに設定して、許容できない大きさ（例え
ば５μｍ以上）の信号変化を検出するようにすれば、許
容できない大きさの欠陥の数を正確に測定することが可
能である。
【００１７】なお、本発明は、ドラム状の感光体基材を
測定対象とするものであるが、感光体基材以外にも、ド
ラム状のものであれば、如何なるものに対しても適用可
能である。
測定対象とするものであるが、感光体基材以外にも、ド
ラム状のものであれば、如何なるものに対しても適用可
能である。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、上記の構成を有するから、ド
ラム状の基材の表面に存在する数μｍ程度の微小な欠陥
が精度よく検出できる。また、あらかじめ信号レベルを
設定しておけば、所定の大きさの欠陥のみを正確に検出
することも可能である。
ラム状の基材の表面に存在する数μｍ程度の微小な欠陥
が精度よく検出できる。また、あらかじめ信号レベルを
設定しておけば、所定の大きさの欠陥のみを正確に検出
することも可能である。
【図１】 本発明を実施するための装置の概略の構成を
示す図である。
示す図である。
【図２】 図１中のレーザ光源と光電変換素子の位置関
係を説明する図である。
係を説明する図である。
【図３】 欠陥の大きさと、散乱光強度との関係を示す
グラフである。
グラフである。
１…ドラム状の感光体基材（ドラム基材）、２…回転モ
ータ、３…レーザ光源、４…光電変換素子、５…移動ス
テージ、６…データ処理部。
ータ、３…レーザ光源、４…光電変換素子、５…移動ス
テージ、６…データ処理部。
Claims (2)
- 【請求項１】 ドラム状の感光体基材の表面に、感光体
基材の中心軸に沿って斜め方向からレーザ光をスポット
照射し、感光体基材を回転させながらレーザ光を感光体
基材の軸方向に移動させることにより、感光体基材の表
面全体を走査して、該表面上の欠陥から発する散乱光を
検出することを特徴とするドラム状の感光体基材の表面
検査方法。 - 【請求項２】 検出された散乱光量を予め設定したレベ
ルと比較して、欠陥の大きさを特定することを特徴とす
る請求項１記載の感光体基材の表面検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18721896A JPH1031392A (ja) | 1996-07-17 | 1996-07-17 | 感光体基材の表面検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18721896A JPH1031392A (ja) | 1996-07-17 | 1996-07-17 | 感光体基材の表面検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1031392A true JPH1031392A (ja) | 1998-02-03 |
Family
ID=16202146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18721896A Pending JPH1031392A (ja) | 1996-07-17 | 1996-07-17 | 感光体基材の表面検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1031392A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007155974A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Ricoh Co Ltd | 感光体の微小領域電位の測定方法及び感光体の微小領域電位の測定装置 |
| CN118706847A (zh) * | 2024-08-27 | 2024-09-27 | 厦门软件职业技术学院 | 一种基于视觉检测的工件外观检测方法、检测设备 |
-
1996
- 1996-07-17 JP JP18721896A patent/JPH1031392A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007155974A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Ricoh Co Ltd | 感光体の微小領域電位の測定方法及び感光体の微小領域電位の測定装置 |
| CN118706847A (zh) * | 2024-08-27 | 2024-09-27 | 厦门软件职业技术学院 | 一种基于视觉检测的工件外观检测方法、检测设备 |
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