JPH1074339A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】波長６２０〜６９０ｎｍの赤色レーザーで記録
再生可能で、且つ、７７０〜８３０ｎｍのレーザーでも
記録再生可能とする。 【解決手段】記録再生に用いるレーザー光の波長をλ
１、λ２（λ１＞λ２）、記録層のグルーブ部とランド
部の色素膜厚をｄg1、ｄl1、基板のプリグルーブ部分の
深さをｄsub 、光干渉層のグルーブ部とランド部の色素
膜厚をｄg2、ｄl2、光干渉層の反射層側のプリグルーブ
部分の深さをｄint 、記録層の波長λ１、λ２での屈折
率をｎabs1、ｎabs2、干渉層の波長λ１、λ２での屈折
率をｎint1、ｎint2、基板のλ１とλ２での屈折率をｎ
sub としたとき、光学位相差( △T1)=2[ｎsub ・ｄsub
- ｎabs1( ｄg1- ｄl1)-ｎint1( ｄg2- ｄl2)]／λ１
が、−０．１≦△T1≦０．５、光学位相差( △T2)=2[ｎ
sub ・ｄsub- ｎabs2( ｄg1- ｄl1)-ｎint2( ｄg2- ｄl
2)]／λ２が、０．２≦△T2≦０．８、ｄg1+ ｄg2≦ｄl
1+ ｄl2+ ｄsub 及び ｄg1- ｄl1≦ｄsub とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体、特に
複数のレーザー波長に対して記録及び又は再生可能な光
記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】コンパクトディスク（以下、ＣＤと略
す）規格に対応した追記型光記録媒体としてＣＤ−Ｒ
（ＣＤ−Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）が提案・開発されてい
る［例えば、日経エレクトロニクス Ｎｏ．４６５，
Ｐ．１０７，１９８９年１月２３日号、OPTICAL DATA S
TORAGE DIGEST SERIES vol.1 P45, 1989等］。このＣＤ
−Ｒは〔図１〕に示すように透明樹脂基板１上に記録層
２、反射層３、保護層４がこの順で積層されており、該
記録層に高パワーのレーザー光を照射することにより、
記録層が物理的あるいは化学的変化を起こし、ピットの
形で情報を記録する。形成されたピット部位に低パワー
のレーザー光を照射し、反射率の変化を検出することに
よりピットの情報を再生することができる。このような
光記録媒体の記録・再生には一般に波長７７０〜８３０
ｎｍの近赤外半導体レーザーを用いており、レッドブッ
クやオレンジブック等のＣＤの規格に準拠しているた
め、ＣＤプレーヤーやＣＤ−ＲＯＭプレーヤーと互換性
を有するという特徴を有する。

【０００３】最近、７７０ｎｍよりも短波長の半導体レ
ーザーの開発が進み、波長６８０ｎｍ及び６３０ｎｍの
の赤色半導体レーザーが実用化されている［例えば、日
経エレクトロニクス、Ｎｏ．５９２、Ｐ．６５、１９９
３ 年１０月１１日号］。記録・再生用レーザーの短波
長化によりビームスポットを小さくすることで、高密度
な光記録媒体が可能になる。実際に半導体レーザーの短
波長化とデータ圧縮技術などにより動画を長時間記録で
きる大容量の光記録媒体及びプレーヤーが検討されてい
る［例えば、日経エレクトロニクス、Ｎｏ．５８９、
Ｐ．５５、１９９３年８月３０日号、Ｎｏ．５９４、
Ｐ．１６９、１９９３年１１月８日号］。また、６３０
ｎｍよりさらに短波長の４９０ｎｍの青／緑色半導体レ
ーザーも研究されているが、まだ実用化の段階まで至っ
ていない［例えば、ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓ Ｌ
ｅｔｔｅｒ，Ｐ．１２７２−１２７４，Ｖｏｌ．５９
（１９９１）や『日経エレクトロニクス』Ｎｏ．５５
２，Ｐ．９０，１９９２年４月２７日号］。

【０００４】しかしながら、このような赤色レーザーを
用いた高密度光記録媒体及びプレーヤーが検討されて
も、ソフトの継続性の観点からも、既に大量に普及して
いる従来のシステムとの互換性を無視することはできな
い。即ち、赤色レーザーで記録及び／又は再生が可能
で、且つ、従来の７８０ｎｍ近赤外半導体レーザーでの
記録及び／又は再生が可能であるという互換性のある光
記録媒体が必要となる。

【０００５】従来のＣＤやＣＤ−ＲＯＭ媒体は反射率に
関して波長依存性が少なく、高密度対応プレーヤーで容
易に再生が可能である。一方、従来のＣＤ−Ｒ媒体は記
録層に有機色素を用いているため、光学特性の波長依存
性が大きく、その結果ＣＤ−Ｒ媒体の反射率が波長によ
って大きく変化する。例えば、７８０ｎｍ付近の光に対
する反射率は６５％以上有するが、６２０〜６９０ｎｍ
から選ばれた赤色光に対しては記録層に用いている有機
色素の吸収が大きく屈折率が小さいため、反射率は１０
％程度と小さく、変調度も小さく、且つ記録波形に大き
な歪が観測される。反射率が１０％程度では信号の検出
が困難になり、検出できてもエラーレートやジッターが
大きくなり高密度対応再生プレーヤーで再生することは
難しい。また再生光安定性に劣り、同じトラックを数回
連続再生しても劣化が生じ、実用に耐えることが出来な
いという問題も生じた。

【０００６】二層色素膜を設けた光記録媒体の例とし
て、特開昭５８−１１２７９４号公報ではレーザービー
ムで変化を生じない高反射率の色素層と、光吸収能を有
する有機物質を順次積層した機能分離記録膜を提案して
いる。特開昭６０−２３９９４８号公報では、高反射率
のシアニン色素またはメロシアニン色素と、有機光吸収
層を積層した媒体を提案している。特開昭６３−１５３
１９２号公報では、異なる光学定数を有する色素記録層
を提案している。特開平１−１１０１９３号公報は、あ
るレーザー波長に対して透過率・吸収率の異なる二種の
有機色素の積層媒体が提案されている。特開平４−３３
０６４９号公報は、あるレーザー光に対しての吸収率ま
たは融点の異なる有機二層記録層の積層を提案してい
る。

【０００７】しかしながら、これらの提案はいずれもあ
る一つの波長のレーザー光に対する反射率、光劣化、高
感度記録、エラー発生率等に対する改良にとどまるもの
であり、複数のレーザー光に対して記録・再生の互換性
を有する光記録媒体ではない。

【０００８】また、特開昭６１−７４１４９号公報は吸
収波長の異なる有機色素を積層して、ピットの深さ方向
の差をつけることで記録容量を上げることを提案してい
るが、これも複数のレーザー光に対して記録・再生の互
換性を有する光記録媒体ではない。

【０００９】さらに、グルーブに沿ってレーザーを位置
づかせるトラッキングの安定性を考慮するとプッシュプ
ル信号が適当な大きさ（ＣＤ規格には記録後のプッシュ
プル値(P/Pa)が0.04〜0.09の規定がある。）を有し、グ
ルーブとランドとの反射率のコントラストが適当な値(
ＣＤ規格には未記録のラジアルコントラスト(RCb) が
０．０５より大きい、記録後のラジアルコントラスト(R
Ca) が０．２より大きい等の規定がある。）である必要
がある。しかしながら、従来の有機二層色素媒体におい
てここまで考慮されたものはない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、従来の
光記録媒体では記録層に用いている有機色素が、波長６
２０〜６９０ｎｍで吸収が大きく屈折率が小さいため反
射率が低く、波長６２０〜６９０ｎｍの赤色レーザーで
の再生が困難であることを見出した。しかして本発明の
目的は、ＣＤ規格を満足するプッシュプル値、ラジアル
コントラスト値及びその他の良好な記録再生信号を得る
ことができ、且つ波長６２０〜６９０ｎｍの範囲から選
択される赤色レーザーを用いて記録及び／又は再生可能
な光記録媒体を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を提案する
に至った。即ち、この問題は以下の発明によって解決さ
れる。

【００１２】 スパイラル状にプリグルーブが形成さ
れた基板上に、少なくとも記録層、光干渉層、反射層及
び保護層を有する光記録媒体において、該記録層と光干
渉層が有機色素を主成分とする層であり、波長λ１のレ
ーザー光を用いて記録及び／又は再生が可能であり、波
長λ１より短波長側の波長λ２のレーザー光を用いて記
録及び／又は再生が可能であり、該記録層のグルーブ部
の色素膜厚をｄｇ₁、ランド部の色素膜厚をｄｌ₁、基板
のプリグルーブ部分の深さをｄｓｕｂ 、該光干渉層の
グルーブ部の色素膜厚をｄｇ₂、ランド部の色素膜厚ｄ
ｌ₂、記録層の波長λ１での屈折率をｎａｂｓ₁、波長λ
２での屈折率をｎａｂｓ₂、干渉層の波長λ１での屈折
率をｎｉｎｔ₂、波長λ２での屈折率をｎｉｎｔ₂、基板
のλ１とλ２での屈折率をｎｓｕｂとしたとき、 光学位相差 （△Ｔ１）＝２［ｎｓｕｂ・ｄｓｕｂ−ｎａｂｓ₁（ｄ
ｇ₁−ｄｌ₁）−ｎｉｎｔ₁（ｄｇ₂−ｄｌ₂）］／λ１が −０．１≦△Ｔ１≦０．５ であり、光学位相差 （△Ｔ２）＝２［ｎｓｕｂ・ｄｓｕｂ−ｎａｂｓ₂（ｄ
ｇ₁−ｄｌ₁）−ｎｉｎｔ₂（ｄｇ₂−ｄｌ₂）］／λ２が ０．２≦△Ｔ２≦０．８ であり、且つｄｇ₁＋ｄｇ₂≦ｄｌ₁＋ｄｌ₂＋ｄｓｕｂ及
びｄｇ₁−ｄｌ₁≦ｄｓｕｂであることを特徴とする光記
録媒体、 該基板のプリグルーブ部分の深さｄｓｕｂが、２７
０ｎｍ≧ｄｓｕｂ≧１００ｎｍである記載の光記録媒
体、 レーザー光の波長λ１が７７０〜８３０ｎｍの範囲
から選択され、λ２が６２０〜６９０ｎｍの範囲から選
択される又は記載の光記録媒体、 記録層の屈折率が、波長λ１で１．９〜２．７、λ
２で１．０〜１．６、消衰係数が、λ１で０．０４〜
０．１６、λ２で０．１〜０．６、および光干渉層の屈
折率が、波長λ１で１．７〜２．２、λ２で１．８〜
２．７、消衰係数が、λ１で０．０４〜０．１０、λ２
で０．０４〜０．１５である〜のいずれかに記載の
光記録媒体、 波長λ１のレーザー光を用いて記録及び再生が可能
であり、波長λ１より短波長側の波長λ２のレーザー光
を用いて再生が可能である〜のいずれかに記載の光
記録媒体、 基板を通して測定した波長λ１レーザー光のプリグ
ルーブ部の反射率が６５％以上であり、且つ、λ２レー
ザー光のプリグルーブ部の反射率が１５％以上である
〜のいずれかに記載の光記録媒体である。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明に従えば、上記のようなプ
リグルーブを有する基板上に、適切な屈折率および消衰
係数を有する異なる有機色素を適当な膜形状で記録層と
干渉層に積層することより、波長６２０〜６９０ｎｍの
赤色レーザーで良好な記録及び／又は再生可能で、且
つ、７７０〜８３０ｎｍから選ばれたレーザーで良好な
記録及び／又は再生可能な光記録媒体が実現される。す
なわち、それぞれのレーザー波長において光の多重干渉
によるエンハンス効果があり、反射率が向上すること
で、変調度の大きい記録・再生が可能となる。各色素層
のグルーブ及びランド膜厚は各波長における各ｎ、ｋの
値及び各波長でのバランスを考慮し、設定することで各
波長で大きなエンハンス効果が得られ、プッシュプル及
びラジアルコントラストの値が適当な光記録媒体とな
る。

【００１４】ここで本発明でいう波長６２０〜６９０ｎ
ｍの赤色レーザーは６８０ｎｍ、６５０及び６３５ｎｍ
付近の発振波長の半導体レーザーであり、この三波長か
ら選択される一波長または複数波長において記録及び／
又は再生可能で、且つ７７０〜８３０ｎｍから選ばれた
レーザーで記録及び／又は再生可能であることが本発明
の特徴である。また、記録及び／又は再生可能とは、そ
の波長で記録及び再生が可能、記録のみ可能、及び他の
波長で記録したものの再生のみ可能の三つの場合を意味
するものである。

【００１５】本発明の具体的構成について以下に説明す
る。光記録媒体とは予め情報を記録されている再生専用
の光再生専用媒体及び情報を記録して再生することので
きる光記録媒体の両方を示すものである。但し、ここで
は適例として後者の情報を記録して再生のできる光記録
媒体、特に基板上に記録層、光干渉層、反射層及び保護
層をこの順で形成した光記録媒体に関して説明する。こ
の光記録媒体は〔図２〕に示すような５層構造を有して
いる。即ち、基板１’上に記録層２’、光干渉層３’が
形成されており、その上に密着して反射層４’が設けら
れており、さらにその上に保護層５’が反射層４’を覆
っている。ただし、記録層２’と光干渉層３’は積層順
序が逆転してもかまわない。

【００１６】基板の材質としては、基本的には記録光及
び再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカー
ボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチ
ル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂
等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。こ
れらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成
形される。本発明では、基板表面にプリグルーブが形成
されたものであり、通常ＣＤとして用いる場合は、厚さ
１．２ｍｍ程度、直径８０ないし１２０ｍｍ程度の円盤
状であり、中央に直径１５ｍｍ程度の穴が開いている。
プリグルーブの深さは１００〜３００ｎｍの深さのもの
が好適であるが、さらに望ましくは１３０〜２７０ｎｍ
である。

【００１７】本発明に用いる記録層に含有する有機色素
は、λmax が７００ｎｍ付近に存在し、７７０〜８３０
ｎｍでの屈折率が大きく、吸光度が小さいものが好まし
い。具体例として、ペンタメチンシアニン系色素、ヘプ
タメチンシアニン系色素、スクアリリウム系色素、アゾ
系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色
素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、
ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウ
ム系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色
素、インダンスレン系色素、インジゴ系色素、チオイン
ジゴ系色素、メロシアニン系色素、チアジン系色素、ア
クリジン系色素、オキサジン系色素、ジチオール金属錯
体系色素などから選択されるが、好ましくはフタロシア
ニン系色素、ナフタロシアニン系色素であり、複数の色
素を含有していてもよい。

【００１８】本発明において光干渉層に含有する有機色
素は、λmax が５００ｎｍ付近に存在し、６２０〜６９
０ｎｍでの屈折率が大きく、吸光度が小さいものであ
る。具体的には、シアニン系色素、スクアリリウム系色
素、アゾ系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン
系色素、ポルフィリン系色素、テトラピラポルフィラジ
ン系色素、インドフェノール系色素、ピリリウム系色
素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリ
フェニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダンス
レン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メ
ロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色
素、オキサジン系色素などがあるが、好ましくはアゾ系
色素、ポルフィリン系色素、シアニン系色素から選択さ
れるが、複数の色素を含有していてもよい。

【００１９】記録層２’、光干渉層３’を作製する際に
は、記録特性、光学特性等を改良するためさらに、メタ
ロセン等の有機金属錯体あるいはニトロセルロース、エ
チルセルロース、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウ
レタン樹脂等の樹脂やレベリング剤、消泡剤等の添加剤
を本発明の効果を損なわない程度に於いて併用すること
ができる。

【００２０】また、必要に応じて、消光剤や紫外線吸収
剤等の添加剤を混合あるいは置換基として導入すること
も可能である。例えば、以下の式（１）〜（７）［化
１］で示されるものが挙げられる。

【００２１】

【化１】 （但し、Ａ、Ａ’はベンゼン環あるいは置換ベンゼン環
を形成するか、またはナフタレン環あるいは置換ナフタ
レン環を形成する原子群であり、同種であっても異種で
あっても良い。これらの置換基としては単数である場合
も複数である場合もあるが、アルキル基、アルコキシ
基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ア
リル基、アルキルカルボキシル基、アルキルアルコキシ
ル基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、金属イオ
ンと結合したスルホネートアルキル基、ニトロ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、フェニル基、フェニルエチレ
ン基等がある。Ｒ₁ 〜Ｒ₂₃は置換または未置換のアルキ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、
ハロゲン原子、アリル基、アルキルカルボキシル基、ア
ルキルアルコキシル基、アラルキル基、アルキルカルボ
ニル基、金属イオンと結合したスルホネートアルキル
基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、フェニル
基、フェニルエチレン基等がある。Ｍは、Ｎｉ、Ｃｏ、
Ｍｎ、Ｃｕ、Ｐｄ及びＰｔなどの遷移金属を示してい
る。Ｍは電荷を持ち、カチオンと塩構造をとっても良
い。ａはイオン体の電価数を表し、０を含む正の整数で
ある。Ｚはカチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃであり、ａ＝０
のときは、ｂ・ｃ＝０でＺは存在せず、化合物は中性体
となる。） 記録層、光干渉層で使用する有機色素の含有量は、３０
％以上、好ましくは６０％以上である。

【００２２】光学定数は複素屈折率（ｎ＋ｋｉ）で表現
される。式中のｎ，ｋは、実数部ｎと虚数部ｋに相当す
る係数である。ここでは、ｎを屈折率、ｋを消衰係数と
する。

【００２３】一般に有機色素は、波長λに対し、屈折率
ｎと消衰係数ｋが大きく変化する特徴がある。この特徴
を利用して各レーザー波長において好ましい光学定数を
有する有機色素を用いて光干渉層を成膜する。これによ
り、各レーザー波長において、高い反射率を得ることが
できる。

【００２４】本発明においては、記録層に必要な光学定
数（屈折率ｎ、消衰係数ｋ）は前記レーザー光の波長λ
１において、ｎが１．８以上で、且つ、ｋが０．０４〜
０．２０である。λ２においては、ｎが１．０以上で、
且つ、ｋが０．０４〜０．６である。波長λ１で、ｎが
これより小さい値になるとＣＤ規格を満足する反射率と
信号変調度は得られず、波長λ２においても、ｎがこれ
より小さい値となると正確な信号読みとりに必要な反射
率が得られない。また、波長λ１において、ｋが０．２
０を越えると反射率が低下してＣＤ規格を満足すること
が困難であり、ｋが０．０２未満だと記録ができない。
また波長λ２において、ｋが０．６を越えると吸収が大
きくなりすぎ再生に必要な反射率が得られないだけでな
く、再生光により信号が変化しやすくなり実用に適さな
い。

【００２５】また、本発明においては光干渉層に必要な
光学定数は前記レーザー光の波長λ１において、ｎが
１．５以上で、且つ、ｋが０．０２〜０．１５である。
λ２においては、ｎが１．７以上、且つ、ｋが０．０４
〜０．２５である。波長λ１で、ｎがこれより小さい値
になるとＣＤ規格を満足する反射率と信号変調度は得ら
れず、波長λ２においても、ｎがこれより小さい値とな
ると正確な信号読みとりに必要な反射率が得られない。
また、波長λ１において、ｋが０．１５を越えると反射
率が低下してＣＤ規格を満足することが困難であり、ま
た波長λ２において、ｋが０．２５を越えると吸収が大
きくなりすぎ再生に必要な反射率が得られないだけでな
く、再生光により信号が変化しやすくなり実用に適さな
い。

【００２６】有機色素の特性を考慮した場合、記録層の
光学定数は、波長λ１において、ｎが１．９〜２．７
で、且つ、ｋが０．０４〜０．１６である。λ２におい
ては、ｎが１．０〜１．６で、且つ、ｋが０．１〜０．
６を満足する必要があり、光干渉層の光学定数は、波長
λ１において、ｎが１．７〜２．２で、且つ、ｋが０．
０４〜０．１０である。λ２においては、ｎが１．８〜
２．７で、且つ、ｋが０．０４〜０．１５を満足するこ
とが好ましい。

【００２７】なお、ここで用いている光干渉層は記録層
がレーザー光で分解、燃焼、変形する際に一部は化学変
化及び物理変化を生じることが観測されているが、各レ
ーザー波長で反射率を向上させることが主な役割であ
る。

【００２８】〔図２〕において、記録層のグルーブ部の
色素膜厚をｄｇ₁、ランド部の色素膜厚ｄｌ₁、基板のプ
リグルーブ部分の深さをｄsub 、該光干渉層のグルーブ
部の色素膜厚をｄｇ₂、ランド部の色素膜厚ｄｌ₂、光干
渉層の反射層側のプリグルーブ部分の深さをｄint 、記
録層の波長λ１での屈折率をｎabs₁、波長λ２での屈折
率をｎabs₂、干渉層の波長λ１での屈折率をｎint₁、波
長λ２での屈折率をｎint₂、基板のλ１とλ２での屈折
率をｎsub としたとき、ランド部の光学的距離(Xl)は、
ｎsub ・ｄsub + ｎabs₁・ｄl₁ +ｎint₁・ｄｌ₂、プリ
グルーブ部の光学的距離(Xp)は、ｎabs₁・ｄg₁ +ｎint₁
・ｄｇ₂であるから、基板側から波長λ１のレーザー光
を照射した際、反射層４’によりプリグルーブの部分と
ランド部分で反射されたレーザー光の光学的位相差( △
T1=2(Xl-Xp)/λ１) は、△T1=2[ ｎsub ・ｄsub - ｎab
s₁(ｄg₁-ｄl₁)-ｎint₁(ｄg₂-ｄl₂)]／λ１と表され、同
様にλ２の場合は光学位相差( △T2)=2[ｎsub・ｄsub -
ｎabs₂(ｄg₁-ｄl₂)-ｎint₂(ｄg₂-ｄl₂)]／λ２と表さ
れる。ただし、ｄg₁+ｄｇ₂≦ｄl₁+ｄl₂+ｄsub 及びｄg₁
-dl₁≦ｄsub を満足する必要がある。

【００２９】シミュレーションにより、高い反射率が得
られ易く、適当なプッシュプル信号、ラジアルコントラ
ストが得られるのは−０．１≦△T1≦０．５、０．２≦
△T2≦０．８の範囲となり、λ１とλ２の波長において
バランスの取れた色素層の膜厚とする。

【００３０】さらに、ｄsub を１００ｎｍ以上にする、
さらに好ましくは１３０ｎｍ以上にすることにより、良
好なプッシュプル、ラジアルコントラストが得られる。
なお、反射率および成形のやり易さを考慮すると、ｄsu
b は２７０ｎｍ以下がより望ましい。

【００３１】上記の化合物、有機色素等を用いて、スピ
ンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学
蒸着法、真空蒸着法等によって基板上のグルーブ上の厚
さが３０〜３００ｎｍ、好ましくは厚さ５０〜２００ｎ
ｍの記録層や光干渉層を形成させる。記録層のグルーブ
上の膜厚を３０ｎｍより薄くすると、熱拡散が大きいた
め記録出来ないか、または記録信号に歪が発生する上、
信号振幅が小さくなりＣＤ規格を満足しなくなる。ま
た、この膜厚が３００ｎｍより厚い場合は反射率が低下
し、再生信号特性が悪化する。一方、光干渉層のグルー
ブ膜厚を３０ｎｍより薄くすると、光エンハンス効果が
小さくなり反射率向上効果が得られない。

【００３２】特に塗布法においては色素を溶解あるいは
分散させた塗布溶媒を用いるが、この際溶媒は基板にダ
メージを与えないものを選ぶことが好ましい。例えば、
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ア
リルアルコール、メチルセロソルブ、テトラフルオロプ
ロパノール等のアルコール系溶媒；ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、ジメチルシクロヘキサン等の脂肪族又は脂環
式炭化水素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン等の
芳香族炭化水素系溶媒；四塩化炭素、クロロホルム等の
ハロゲン化炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等の
エーテル系溶媒；アセトン等のケトン系溶媒、酢酸エチ
ル等のエステル系溶媒、水などが１種あるいは複数混合
して用いられる。

【００３３】また、記録層に使用する有機色素と光干渉
層に使用する有機色素は各々異なる極性の溶媒に溶解
し、もう一方の溶媒には溶解せず、２層目の色素層を塗
布する際には一層目の層に障害を与えないようにするこ
とが好ましい。例えば、一方の色素層に使用する色素
は、極性の高い溶媒、例えば、アルコール系溶媒、水等
に溶解し、もう一方の色素層に使用する色素は、極性の
低い溶媒、例えば、脂肪族又は脂環式炭化水素系溶媒、
芳香族炭化水素系溶媒、四塩化炭素、エーテル系溶媒に
溶解して塗布する。なお、樹脂性基板への障害、あるい
は多層膜の影響を減少させるためためには、各色素層塗
布成膜のための溶媒は、脂肪族又は脂環式炭化水素系溶
媒およびこれらと他溶媒の混合溶媒と、アルコール系溶
媒およびこれらと他溶媒の混合溶媒であり、それぞれに
可溶な色素の組み合わせが特に望ましい。

【００３４】色素の塗布溶媒への溶解性の改良は、色素
分子内に適当な置換基を導入することで可能になる。例
えば、極性の低い溶媒に溶解しやすくするには、次のよ
うな置換基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アルキルアリル基、アルキルカルボニル基、アルコ
キシカルボニル基、アルキルアミノ基、アルキルイミノ
基、アルキルカルボキシアミド基、アルカノイルイミノ
基、アルカンスルファニル基、アルカンスルフェニル
基、アルカンスルフォンアミド基等の導入を行えばよ
い。一方、極性の高い溶媒に溶解しやすくするには、次
のような置換基、末端がアミノ基、カルボキシル基、カ
ルバモイル基、メルカプト基、メルカプトアミノ基、ス
ルファモイル基、スルホン酸基、スルホンアミノ基等の
導入を行えばよい。なお記録層又は光干渉層は、色素を
高分子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。

【００３５】また、基板にダメージを与えない溶媒を選
択できない場合はスパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着法
などが有効である。さらに、基板と記録層又は光干渉層
の間には、有機化合物又は無機化合物からなる下引き層
を設けてもよい。

【００３６】次に記録層の上に厚さ５０〜３００ｎｍ、
好ましくは７０〜１５０ｎｍの反射層を形成する。反射
層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いも
の、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｃｒ及びＰｄの金属を単独あるいは合
金にして用いることが可能である。このなかでもＡｕ、
Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層の材料として適してい
る。これ以外でも下記のものを含んでいてもよい。例え
ば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒ
ｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ
などの金属及び半金属を挙げることができる。

【００３７】また、Ａｕを主成分としているものは反射
率の高い反射層が容易に得られるため好適である。ここ
で主成分というのは含有率が５０％以上のものをいう。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に
積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも
可能である。

【００３８】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーテイング法、化学蒸着法、真
空蒸着法等が挙げられる。また、反射率を高めるためや
密着性をよくするために光干渉層又は記録層と反射層の
間に反射増幅層や接着層を設けることもできる。

【００３９】さらに、反射層の上の保護層の材料として
は反射層を外力から保護するものであれば特に限定しな
い。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
電子線硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げることがで
きる。又、無機物質としては、ＳｉＯ₂ 、ＳｉＮ₄ 、Ｍ
ｇＦ₂ 、ＳｎＯ₂ 等が挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、
乾燥することによって形成することができる。ＵＶ硬化
性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射し
て硬化させることによって形成することができる。ＵＶ
硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、
エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなど
のアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材
料は単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけ
でなく多層膜にして用いてもいっこうに差し支えない。

【００４０】保護層の形成の方法としては、記録層や光
干渉層と同様にスピンコート法やキャスト法などの塗布
法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、
このなかでもスピンコート法が好ましい。保護層の膜厚
は、一般には０．１〜１００μｍの範囲であるが、本発
明においては、３〜３０μｍであり、好ましくは５〜２
０μｍがより好ましい。保護層の上に更にレーベル等の
印刷を行うこともできる。また、反射層面に保護シート
または基板を貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内
側とし対向させ光記録媒体２枚を貼り合わせる等の手段
を用いてもよい。このようにして得られる本発明の媒体
は、６２０〜６９０ｎｍの範囲から選ばれた波長λ２の
レーザー光に対する基板側からの反射率が１５％以上、
好ましくは２０％以上あり、また、７７０ｎｍ〜８３０
ｎｍの範囲から選ばれた波長λ１のレーザー光に対する
基板側からの反射率が６５％以上有し、他の記録特性も
良好なＣＤ規格を満足するものである。

【００４１】本発明における赤色レーザーは、６２０〜
６９０ｎｍの波長のレーザーであればいずれでも良い。
例えば、可視領域の広範囲で波長選択のできる色素レー
ザーや波長６３３ｎｍのヘリウムネオンレーザー、最近
開発されている波長６８０、６５０、６３５ｎｍの高出
力半導体レーザーなどがあるが、装置に搭載することを
考えると半導体レーザーが好適である。また、近赤外レ
ーザーは、７７０〜８３０ｎｍの波長のレーザーであれ
ば何でも良いが、市販のＣＤプレーヤーやＣＤレコーダ
ーに用いられている半導体レーザーが適している。

【００４２】

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。 〔実施例１〕式（８）［化２］に示されるフタロシアニ
ン化合物０．１５ｇをジメチルシクロヘキサン１０ｍｌ
に溶解し、色素溶液１を調整する。基板は、ポリカーボ
ネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピッチ：１．
６μｍ）を有する直径１２０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍ、
プリグルーブの深さが２３０ｎｍの円盤状のものを用い
た。基板の屈折率（ｎsub ）は１．５８であった。

【００４３】この基板上に色素溶液１を回転数１６００
ｒｐｍでスピンコートし、７０℃２時間乾燥して、グル
ーブ膜厚１１０ｎｍ、ランド膜厚４０ｎｍ記録層を形成
した。この記録層の光学定数は、７８０ｎｍでｎが２．
３、ｋは０．０９であり、６８０ｎｍではｎが１．２、
ｋは０．５０であり、６５０ｎｍではｎが１．２、ｋは
０．４９であり、６３５ｎｍではｎが１．１、ｋは０．
３２である。

【００４４】さらに、式（９）［化３］に示されるアゾ
化合物０．１ｇを2,2,3,3-テトラフルオロ-1- プロパノ
ールとイソプロパノールの８：２体積比で混合した溶媒
１０ｍｌに溶解した色素溶液２を回転数１８００ｒｐｍ
でスピンコートし、７０℃３時間乾燥して、グルーブ膜
厚７０ｎｍ、ランド膜厚３０ｎｍの光干渉層を形成し
た。この光干渉層の光学定数は、７８０ｎｍでｎが１．
９、ｋは０．０４であり、６８０ｎｍではｎが２．１、
ｋは０．０４であり、６５０ｎｍではｎが２．２、ｋは
０．０５であり、６３５ｎｍではｎが２．４、ｋは０．
０９である。

【００４５】この色素層の上にバルザース社製スパッタ
装置（ＣＤＩ−９００）を用いてＡｕをスパッタし、厚
さ１００ｎｍの反射層を形成した。スパッタガスには、
アルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワ
ー２．５ｋＷ、スパッタガス圧１．０×１０^-2Ｔｏｒｒ
で行った。さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂ＳＤ−１
７（大日本インキ化学工業製）をスピンコートした後、
紫外線照射して厚さ６μｍの保護層を形成し、光記録媒
体を作製した。

【００４６】この光記録媒体を７８０ｎｍ半導体レーザ
ーヘッドを搭載したフィリップス製ライター（ＣＤＤ−
５２１）を用いて、線速度２．４ｍ／ｓ、レーザーパワ
ー８ｍＷでＥＦＭ信号を記録した。記録後、Ｐ／Ｐａ、
反射率、エラーレート及び変調度を測定した。いずれも
オレンジブック規格を満足した良好な値を示した。次に
この記録した媒体を７８０ｎｍ、６８０ｎｍ、６５０ｎ
ｍ及び６３５ｎｍ半導体レーザーヘッドを搭載したパル
ステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１００
０）を用いて信号を再生し、反射率（記録後のグルーブ
最大反射率）、エラーレート及び変調度を測定した。い
ずれも良好な値を示した。なお、ＲＣｂは７８０ｎｍ半
導体レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光デ
ィスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）を用いて測定し
た。

【００４７】次にこの媒体を６８０ｎｍ赤色半導体レー
ザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評
価装置（ＤＤＵ−１０００）及びＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦ
Ｍエンコーダーを用いて、線速度５．６ｍ／ｓ、レーザ
ーパワー１０ｍＷで記録した。記録後、６８０ｎｍ及び
６３５ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装
置を用いて信号を再生し、反射率、エラーレート及び変
調度を測定した結果、いずれも良好な値を示した。この
記録した媒体を、市販ＣＤプレーヤー（ＹＡＭＡＨＡ
ＣＤＸ−１０５０、レーザー波長７８６ｎｍ）を用い
て、前記６８０ｎｍのドライブ（ＤＤＵ−１０００）で
記録した信号の再生を行い、Ｐ／Ｐａ、反射率、エラー
レート及び変調度を測定した結果、いずれもオレンジブ
ック規格を満足した良好な値であった。

【００４８】このように、この媒体は複数のレーザー波
長で記録及び再生を良好に行うことが出来た。なお、エ
ラーレートはケンウッド社製ＣＤデコーダー（ＤＲ３５
５２）を用いて計測し、変調度は以下の式により求め
た。 変調度＝｛（信号の最大強度）−（信号の最小強度）｝
／（信号の最大強度） ＲＣｂは以下の式により求めた。 ＲＣｂ＝２（Ｉｌ−Ｉｇ）／（Ｉｌ＋Ｉｇ） Ｉｌ：未記録ランド反射電位 Ｉｇ：未記録グルーブ反射電位 Ｐ／Ｐａは以下のように求めた。

【００４９】｜ Ｉ1 −Ｉ2 ｜ ／Ｉtop の0.1 μm 半
径方向にずれた時の値 Ｉ1 −Ｉ2 ：２分割光検出器の差信号の値

【００５０】

【化２】

【００５１】

【化３】

【００５２】〔実施例２〕実施例１において、光干渉層
としてアゾ化合物（式(１０) ）［化４］０．１８ｇを
用いること以外は同様にして光記録媒体を作製した。光
干渉層のグルーブ膜厚は９０ｎｍ、ランド膜厚は４０ｎ
ｍであった。光干渉層の光学定数は、７８０ｎｍでｎが
１．８、ｋは０．０５であり、６８０ｎｍではｎが２．
０、ｋは０．０５であり、６５０ｎｍではｎが２．１、
ｋは０．０７であり、６３５ｎｍではｎが２．３、ｋは
０．０８であった。

【００５３】作製した媒体を実施例１と同様に７８０ｎ
ｍ半導体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライ
ターと６８０ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した
パルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０
００）及びＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用い
て記録した。記録後、実施例１と同様の測定を行った結
果、いずれも良好な記録特性を示した。

【００５４】

【化４】

【００５５】〔実施例３〕実施例１において、記録層に
フタロシアニン化合物（式(１１) ）［化５］０．１５
ｇをシクロオクタン１０ｍｌに溶解したものを塗布す
る、光干渉層にシアニン化合物（NK-737; 日本感光色素
研究所製）（式(１２) ）［化６］０．２ｇを2,2,3,3-
テトラフルオロ-1- プロパノールとイソプロパノールの
６：４体積比で混合した溶媒１０ｍｌに溶解したものを
塗布すること以外は同様にして光記録媒体を作製した。
記録層のグルーブ膜厚は１００ｎｍ、ランド膜厚は６０
ｎｍであった。光干渉層のグルーブ膜厚は１１０ｎｍ、
ランド膜厚は４０ｎｍであった。記録層の光学定数は、
７８０ｎｍでｎが２．２、ｋは０．０９であり、６８０
ｎｍではｎが１．３、ｋは０．４９であり、６５０ｎｍ
ではｎが１．２、ｋは０．５１であり、６３５ｎｍでは
ｎが１．２、ｋは０．３５であった。光干渉層の光学定
数は、７８０ｎｍでｎが１．９、ｋは０．０７であり、
６８０ｎｍではｎが２．１、ｋは０．０４であり、６５
０ｎｍではｎが２．２、ｋは０．０６であり、６３５ｎ
ｍではｎが２．４、ｋは０．０７であった。

【００５６】作製した媒体を実施例１と同様に７８０ｎ
ｍ半導体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライ
ターと６８０ｎｍ赤色レーザーヘッドを搭載したパルス
テック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）
及びＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用いて記録
した。記録後、実施例１と同様の測定を行った結果、い
ずれも良好な記録特性を示した。

【００５７】

【化５】

【００５８】

【化６】

【００５９】〔実施例４〕実施例１において、基板に、
ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピ
ッチ：１．６μｍ）を有する直径１２０ｍｍφ、厚さ
１．２ｍｍ、プリグルーブの深さが２７０ｎｍの円盤状
のものを用いた以外は同様にして光記録媒体を作製し
た。記録層のグルーブ膜厚は１３０ｎｍ、ランド膜厚は
３５ｎｍであった。光干渉層のグルーブ膜厚は８０ｎ
ｍ、ランド膜厚は３０ｎｍであった。

【００６０】作製した媒体を実施例１と同様に７８０ｎ
ｍ半導体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライ
ターと６８０ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した
パルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０
００）及びＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用い
て記録した。記録後、実施例１と同様の測定を行った結
果、いずれも良好な記録特性を示した。

【００６１】〔実施例５〕実施例１において、基板に、
ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピ
ッチ：１．６μｍ）を有する直径１２０ｍｍφ、厚さ
１．２ｍｍ、プリグルーブの深さが１３０ｎｍの円盤状
のものを用い、式（８）に示されるフタロシアニン化合
物０．２ｇをジメチルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解
し、式（９）に示されるアゾ化合物０．２ｇを2,2,3,3-
テトラフルオロ-1- プロパノールとイソプロパノールの
８：２体積比で混合した溶媒１０ｍｌに溶解する以外は
同様にして光記録媒体を作製した。記録層のグルーブ膜
厚は１００ｎｍ、ランド膜厚は６０ｎｍであった。光干
渉層のグルーブ膜厚は１００ｎｍ、ランド膜厚は７０ｎ
ｍであった。

【００６２】作製した媒体を実施例１と同様に７８０ｎ
ｍ半導体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライ
ターと６８０ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した
パルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０
００）及びＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用い
て記録した。記録後、実施例１と同様の測定を行った結
果、いずれも良好な記録特性を示した。

【００６３】〔実施例６〕実施例１において、式（８）
に示されるフタロシアニン化合物０．２ｇをジメチルシ
クロヘキサン１０ｍｌに溶解した溶液を回転数１２００
ｒｐｍでスピンコートし、式（９）に示されるアゾ化合
物０．２ｇを2,2,3,3-テトラフルオロ-1-プロパノール
とイソプロパノールの８：２体積比で混合した溶媒１０
ｍｌに溶解した溶液を回転数１２００ｒｐｍでスピンコ
ートする以外は同様にして光記録媒体を作製した。記録
層のグルーブ膜厚は１７０ｎｍ、ランド膜厚は８０ｎｍ
であった。光干渉層のグルーブ膜厚は１３０ｎｍ、ラン
ド膜厚は９０ｎｍであった。

【００６４】作製した媒体を実施例１と同様に７８０ｎ
ｍ半導体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライ
ターと６８０ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した
パルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０
００）及びＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用い
て記録した。記録後、実施例１と同様の測定を行った結
果、いずれも良好な記録特性を示した。

【００６５】〔実施例７〕実施例１において、記録層に
フタロシアニン化合物（式(１３) ）［化７］０．２０
ｇをエチルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解したものを塗
布する、光干渉層にポルフィリン化合物（式(１４) ）
［化８］０．２０ｇを2,2,3,3-テトラフルオロ-1- プロ
パノールと2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロパノールを
８：２体積比で混合した溶媒１０ｍｌに溶解したものを
塗布すること以外は同様にして光記録媒体を作製した。
記録層のグルーブ膜厚は１３０ｎｍ、ランド膜厚は５
０ｎｍであった。光干渉層のグルーブ膜厚は１５０ｎ
ｍ、ランド膜厚は７０ｎｍであった。記録層の光学定数
は、７８０ｎｍでｎが２．４、ｋは０．１４であり、６
８０ｎｍではｎが１．３、ｋは０．５１であり、６５０
ｎｍではｎが１．２、ｋは０．３９であり、６３５ｎｍ
ではｎが１．２、ｋは０．２８であった。光干渉層の光
学定数は、７８０ｎｍでｎが１．９、ｋは０．０５であ
り、６８０ｎｍではｎが２．０、ｋは０．０４であり、
６５０ｎｍではｎが２．０、ｋは０．１０であり、６３
５ｎｍではｎが２．０、ｋは０．１４であった。

【００６６】作製した媒体を実施例１と同様に７８０ｎ
ｍ半導体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライ
ターと６８０ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した
パルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０
００）及びＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用い
て記録した。記録後、実施例１と同様の測定を行った結
果、いずれも良好な記録特性を示した。

【００６７】

【化７】

【００６８】

【化８】

【００６９】〔比較例１〕実施例１において、基板に、
ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピ
ッチ：１．６μｍ）を有する直径１２０ｍｍφ、厚さ
１．２ｍｍ、プリグルーブの深さが２７０ｎｍの円盤状
のものを用い、式（８）に示されるフタロシアニン化合
物０．２ｇをエチルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解した
溶液を回転数１２００ｒｐｍでスピンコートし、式
（９）に示されるアゾ化合物０．２ｇを2,2,3,3-テトラ
フルオロ-1- プロパノールと2,2,3,3,3-ペンタフルオロ
プロパノールを７：３体積比で混合した溶媒１０溶媒１
０ｍｌに溶解した溶液を回転数１２００ｒｐｍでスピン
コートする以外は同様にして光記録媒体を作製した。記
録層のグルーブ膜厚は１４０ｎｍ、ランド膜厚は８０ｎ
ｍであった。光干渉層のグルーブ膜厚は１３０ｎｍ、ラ
ンド膜厚は１００ｎｍであった。

【００７０】作製した媒体を実施例１と同様に７８０ｎ
ｍ半導体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライ
ターと６８０ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した
パルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０
００）及びＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用い
て記録した。記録後、実施例１と同様の測定を行った結
果、７８０ｎｍでのＲＣｂ、Ｐ／Ｐａの値が小さく、６
８０、６５０及び６３５ｎｍでの再生信号波形が歪み変
調度が小さかった。

【００７１】〔比較例２〕実施例１において、基板に、
ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピ
ッチ：１．６μｍ）を有する直径１２０ｍｍφ、厚さ
１．２ｍｍ、プリグルーブの深さが１５０ｎｍの円盤状
のものを用い、式（８）に示されるフタロシアニン化合
物０．２０ｇをエチルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解し
た溶液を回転数１６００ｒｐｍでスピンコートし、式
（９）に示されるアゾ化合物０．１５ｇを2,2,3,3-テト
ラフルオロ-1- プロパノール溶媒１０ｍｌに溶解した溶
液を回転数１８００ｒｐｍでスピンコートする以外は同
様にして光記録媒体を作製した。記録層のグルーブ膜厚
は１２０ｎｍ、ランド膜厚は４０ｎｍであった。光干渉
層のグルーブ膜厚は３０ｎｍ、ランド膜厚は１００ｎｍ
であった。

【００７２】作製した媒体を実施例１と同様に７８０ｎ
ｍ半導体レーザーヘッドを搭載したフィリップス製ライ
ターと６８０ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した
パルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０
００）及びＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用い
て記録した。記録後、実施例１と同様の測定を行った結
果、７８０ｎｍでのＲＣｂ、Ｐ／Ｐａの値が小さく、６
８０、６５０及び６３５ｎｍでの再生信号波形が歪み変
調度が小さかった。

【００７３】以上の各媒体において、７８０ｎｍでのＲ
Ｃｂ、７８０ｎｍで記録した場合の、７８０、６８０、
６５０、６３５ｎｍでの再生時の反射率、エラーレー
ト、変調度、７８０ｎｍでのＰＰａ、及び△T1、△T2を
〔表１〕にまとめて示す。

【００７４】

【表１】

【００７５】

【発明の効果】 本発明によれば、プリグルー
ブを有する基板上に適切な屈折率および消衰係数を有す
る異なる有機色素を適当な膜形状で記録層と干渉層に積
層することより、波長６２０〜６９０ｎｍの赤色レーザ
ーで良好な記録及び／又は再生可能で、且つ、７７０〜
８３０ｎｍから選ばれたレーザーで良好な記録及び／又
は再生可能なＣＤ規格を満足する互換性のある光記録媒
体が実現される。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の光記録媒体の層構成を示す断面構造図

【図２】本発明の光記録媒体の層構成を示す断面構造図

【符号の説明】

１ 基板 ２ 記録層 ３ 反射層 ４ 保護層 １’ 基板 ２’ 記録層 ３’ 光干渉層 ４’ 反射層 ５’ 保護層 ６’ ランド ７’ プリグルーブ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳弘 淳 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 鈴木 祐子 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 笹川 知由 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スパイラル状にプリグルーブが形成され
   た基板上に、少なくとも記録層、光干渉層、反射層及び
   保護層を有する光記録媒体において、該記録層と光干渉
   層が有機色素を主成分とする層であり、波長λ１のレー
   ザー光を用いて記録及び／又は再生が可能であり、波長
   λ１より短波長側の波長λ２のレーザー光を用いて記録
   及び／又は再生が可能であり、該記録層のグルーブ部の
   色素膜厚をｄｇ₁、ランド部の色素膜厚をｄｌ₁、基板の
   プリグルーブ部分の深さをｄsub 、該光干渉層のグルー
   ブ部の色素膜厚をｄｇ₂、ランド部の色素膜厚ｄｌ₂、記
   録層の波長λ１での屈折率をｎabs₁、波長λ２での屈折
   率をｎabs₂、干渉層の波長λ１での屈折率をｎint₂、波
   長λ２での屈折率をｎint₂、基板のλ１とλ２での屈折
   率をｎsub としたとき、 光学位相差 ( △T1)=2[ｎsub ・ｄsub - ｎabs₁(ｄg₁- ｄl₁)-ｎint
   ₁(ｄg₂-ｄl₂)]／λ１が −０．１≦△T1≦０．５ であり、光学位相差 ( △T2)=2[ｎsub ・ｄsub - ｎabs₂(ｄg₁- ｄl₁)-ｎint
   ₂(ｄg₂-ｄl₂)]／λ２が ０．２≦△T2≦０．８ であり、且つｄg₁+ ｄｇ₂≦ｄl₁+ ｄl₂+ ｄsub 及びｄg
   ₁- dl₁≦ｄsub であることを特徴とする光記録媒体。
2. 【請求項２】 該基板のプリグルーブ部分の深さｄsub
   が、270nm ≧ｄsub≧ 100nmである請求項１記載の光記
   録媒体。
3. 【請求項３】 レーザー光の波長λ１が７７０〜８３０
   ｎｍの範囲から選択され、λ２が６２０〜６９０ｎｍの
   範囲から選択される請求項１又は２記載の光記録媒体。
4. 【請求項４】 記録層の屈折率が、波長λ１で１．９〜
   ２．７、λ２で１．０〜１．６、消衰係数が、λ１で
   ０．０４〜０．１６、λ２で０．１〜０．６、および光
   干渉層の屈折率が、波長λ１で１．７〜２．２、λ２で
   １．８〜２．７、消衰係数が、λ１で０．０４〜０．１
   ０、λ２で０．０４〜０．１５である請求項１〜３のい
   ずれかに記載の光記録媒体。
5. 【請求項５】 波長λ１のレーザー光を用いて記録及び
   再生が可能であり、波長λ１より短波長側の波長λ２の
   レーザー光を用いて再生が可能である請求項１〜４のい
   ずれかに記載の光記録媒体。
6. 【請求項６】 基板を通して測定した波長λ１レーザー
   光のプリグルーブ部の反射率が６５％以上であり、且
   つ、λ２レーザー光のプリグルーブ部の反射率が１５％
   以上である請求項１〜５のいずれかに記載の光記録媒
   体。