JPH11194016A - 表面形状測定方法 - Google Patents
表面形状測定方法Info
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- JPH11194016A JPH11194016A JP10000242A JP24298A JPH11194016A JP H11194016 A JPH11194016 A JP H11194016A JP 10000242 A JP10000242 A JP 10000242A JP 24298 A JP24298 A JP 24298A JP H11194016 A JPH11194016 A JP H11194016A
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- mode waveguide
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ダブルモード光導波路を用いて被検物体の表面
形状を精度よく測定する測定方法を提供する。 【解決手段】集光光学系１０４により集光した光スポッ
トを被検物体１０５に照射し、その反射光を一方向につ
いてダブルモードであるダブルモード導波路１１１に伝
搬させ、伝搬してきた光の強度分布の非対称性を前記方
向について１１２、１１３、１１４、１１５、１１６に
より検出し、これにより、被検物体１０５の表面形状を
測定する。このとき、ダブルモード導波路１１１の前記
方向（幅方向）が、被検物体１０５の表面の段差を横切
る方向に対して直交するような位置関係で測定を行う。
形状を精度よく測定する測定方法を提供する。 【解決手段】集光光学系１０４により集光した光スポッ
トを被検物体１０５に照射し、その反射光を一方向につ
いてダブルモードであるダブルモード導波路１１１に伝
搬させ、伝搬してきた光の強度分布の非対称性を前記方
向について１１２、１１３、１１４、１１５、１１６に
より検出し、これにより、被検物体１０５の表面形状を
測定する。このとき、ダブルモード導波路１１１の前記
方向（幅方向）が、被検物体１０５の表面の段差を横切
る方向に対して直交するような位置関係で測定を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路を用いた
表面形状測定装置によって精度良く表面形状を測定する
方法に関する。
表面形状測定装置によって精度良く表面形状を測定する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、光通信や光計測の分野で光導波路
が注目されている。その理由は、光導波路を用いること
によって光学系の小型、軽量化を図ることができ、ま
た、光軸の調整が不要になるという利点を有しているか
らである。
が注目されている。その理由は、光導波路を用いること
によって光学系の小型、軽量化を図ることができ、ま
た、光軸の調整が不要になるという利点を有しているか
らである。
【０００３】光導波路を利用した計測器の一つとして、
特開平６−３３１８４１号公報に焦点検出装置が提案さ
れている。この焦点検出装置は、図２のようにダブルモ
ード導波路を用い、ダブルモード導波路におけるモード
干渉を利用して入射レーザ光の光軸方向の変位（焦点位
置ずれ）を検出する。このモード干渉とは、ダブルモー
ド導波路に０次モード光と１次モード光の両方が励振さ
れた場合に、両モードが導波路内で干渉することをい
う。このモード干渉が生じると、導波路内の光強度分布
に非対称性が生じる。モード干渉が生じるのは、入射レ
ーザ光の強度分布に非対称性がある場合と、入射レーザ
光の位相に非対称性がある場合である。導波路のダブル
モード領域の長さを適当に選ぶことにより、いずれの場
合の非対称性も、導波路内の強度分布の非対称性として
検出することができる（H.Ooki andJ.Iwasaki,Optics C
ommunications 85(1991)177)。なお、図２の焦点検出装
置の場合、ダブルモード導波路１１１のダブルモード領
域の長さＬは、ダブルモード導波路１１１に入射する光
の位相の対称性を検出する条件に設定されている。すな
わち、完全結合長（ダブルモード導波路１１１の０次モ
ードと１次モードの位相差がπとなる長さ）をＬｃとす
ると、Ｌは、 Ｌ＝Ｌｃ（ｍ＋１／２）（ｍ＝０，１，２・・・） を満たす長さに設定する。
特開平６−３３１８４１号公報に焦点検出装置が提案さ
れている。この焦点検出装置は、図２のようにダブルモ
ード導波路を用い、ダブルモード導波路におけるモード
干渉を利用して入射レーザ光の光軸方向の変位（焦点位
置ずれ）を検出する。このモード干渉とは、ダブルモー
ド導波路に０次モード光と１次モード光の両方が励振さ
れた場合に、両モードが導波路内で干渉することをい
う。このモード干渉が生じると、導波路内の光強度分布
に非対称性が生じる。モード干渉が生じるのは、入射レ
ーザ光の強度分布に非対称性がある場合と、入射レーザ
光の位相に非対称性がある場合である。導波路のダブル
モード領域の長さを適当に選ぶことにより、いずれの場
合の非対称性も、導波路内の強度分布の非対称性として
検出することができる（H.Ooki andJ.Iwasaki,Optics C
ommunications 85(1991)177)。なお、図２の焦点検出装
置の場合、ダブルモード導波路１１１のダブルモード領
域の長さＬは、ダブルモード導波路１１１に入射する光
の位相の対称性を検出する条件に設定されている。すな
わち、完全結合長（ダブルモード導波路１１１の０次モ
ードと１次モードの位相差がπとなる長さ）をＬｃとす
ると、Ｌは、 Ｌ＝Ｌｃ（ｍ＋１／２）（ｍ＝０，１，２・・・） を満たす長さに設定する。
【０００４】図２の焦点検出装置の構成と動作を具体的
に説明する。被検物体１０５には、光源１０１から出射
された光が、コリメータレンズ１０２、ハーフミラー１
０３、対物レンズ１０４によって、集光されて照射され
る。被検物体１０５による反射光は、対物レンズ１０
４、ハーフミラー１０３、集光レンズ１０６によって、
ダブルモード導波路１１１の入射端１０７に集光されて
入射する。このとき、入射端１０７におけるレーザスポ
ットの中心が、ダブルモード導波路１１１の中心からわ
ずかにずれるように、ダブルモード導波路１１１が配置
されている。ダブルモード導波路１１１は、基板１１０
上に形成されている。
に説明する。被検物体１０５には、光源１０１から出射
された光が、コリメータレンズ１０２、ハーフミラー１
０３、対物レンズ１０４によって、集光されて照射され
る。被検物体１０５による反射光は、対物レンズ１０
４、ハーフミラー１０３、集光レンズ１０６によって、
ダブルモード導波路１１１の入射端１０７に集光されて
入射する。このとき、入射端１０７におけるレーザスポ
ットの中心が、ダブルモード導波路１１１の中心からわ
ずかにずれるように、ダブルモード導波路１１１が配置
されている。ダブルモード導波路１１１は、基板１１０
上に形成されている。
【０００５】このような構成では、被検物体１０５の表
面の位置が、対物レンズ１０４の焦点位置にあるときに
は、入射端１０７における光スポットの光の等位相面４
０１は傾きを持たない（図４（ｂ））ため、ダブルモー
ド導波路１１１の逆側の端部における、導波路の幅方向
についての光強度分布は対称になる。一方、レーザスポ
ットが焦点位置からずれている場合には光の等位相面４
０１に傾きが生じ（図４（ａ）、（ｃ））、ダブルモー
ド導波路１１１の逆側の端部における、導波路の幅方向
についての光強度分布に非対称性をもたらす。よって、
２分岐の導波路１１２、１１３によって、ダブルモード
導波路１１１を伝搬する光を、導波路の幅方向に２分岐
してそれぞれに伝搬し、光検出器１１４、１１５で光強
度を検出し、その差を差動増幅器１１６で求めることに
より、ダブルモード導波路１１１内の光強度分布の非対
称性を検出することができる。この非対称性が入射端１
０７における光の等位相面４０１の非対称性に対応して
いる。よって、差動増幅器１１６の出力は、図５のよう
なフォーカスエラーを表す曲線となり、この曲線を予め
測定しておくことにより、差動増幅器１１６の出力か
ら、被検物体１０５の焦点位置ずれ量を定量的に測定す
ることができる。また、被検物体１０５を光スポットに
対して相対的に走査させながら、被検物体１０５の表面
の焦点位置ずれ量を測定することにより、被検物体１０
５の表面の段差の測定や、表面形状の測定等の変位計測
を行うことができる。
面の位置が、対物レンズ１０４の焦点位置にあるときに
は、入射端１０７における光スポットの光の等位相面４
０１は傾きを持たない（図４（ｂ））ため、ダブルモー
ド導波路１１１の逆側の端部における、導波路の幅方向
についての光強度分布は対称になる。一方、レーザスポ
ットが焦点位置からずれている場合には光の等位相面４
０１に傾きが生じ（図４（ａ）、（ｃ））、ダブルモー
ド導波路１１１の逆側の端部における、導波路の幅方向
についての光強度分布に非対称性をもたらす。よって、
２分岐の導波路１１２、１１３によって、ダブルモード
導波路１１１を伝搬する光を、導波路の幅方向に２分岐
してそれぞれに伝搬し、光検出器１１４、１１５で光強
度を検出し、その差を差動増幅器１１６で求めることに
より、ダブルモード導波路１１１内の光強度分布の非対
称性を検出することができる。この非対称性が入射端１
０７における光の等位相面４０１の非対称性に対応して
いる。よって、差動増幅器１１６の出力は、図５のよう
なフォーカスエラーを表す曲線となり、この曲線を予め
測定しておくことにより、差動増幅器１１６の出力か
ら、被検物体１０５の焦点位置ずれ量を定量的に測定す
ることができる。また、被検物体１０５を光スポットに
対して相対的に走査させながら、被検物体１０５の表面
の焦点位置ずれ量を測定することにより、被検物体１０
５の表面の段差の測定や、表面形状の測定等の変位計測
を行うことができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開平６−３３１８４１号公報に記載されている装置
で、被検物体の表面形状の測定を行おうとした場合、被
検物体の表面の変位には対応しない突出した大きな信号
が出力信号に加わることがあり、正確に段差等の測定を
行うことができないことがあった。
特開平６−３３１８４１号公報に記載されている装置
で、被検物体の表面形状の測定を行おうとした場合、被
検物体の表面の変位には対応しない突出した大きな信号
が出力信号に加わることがあり、正確に段差等の測定を
行うことができないことがあった。
【０００７】本発明は、このような課題を解決し、ダブ
ルモード光導波路を用いて被検物体の表面形状を精度よ
く測定する測定方法を提供することを目的とする。
ルモード光導波路を用いて被検物体の表面形状を精度よ
く測定する測定方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記のような課題を解決
するために、本発明は、以下のような表面形状測定方法
を提供する。
するために、本発明は、以下のような表面形状測定方法
を提供する。
【０００９】すなわち、集光光学系により集光した光ス
ポットを被検物体に照射し、その反射光を、ある方向に
ついてダブルモードであるダブルモード導波路に入射さ
せて伝搬させ、伝搬してきた光の強度分布の非対称性を
前記方向について検出し、これにより前記被検物体の表
面形状を測定する方法であって、前記ダブルモード導波
路の前記方向と、前記被検物体の表面の段差を横切る方
向とが直交するように、前記ダブルモード導波路を前記
被検物体に対して配置して測定を行うことを特徴とする
表面形状測定方法である。
ポットを被検物体に照射し、その反射光を、ある方向に
ついてダブルモードであるダブルモード導波路に入射さ
せて伝搬させ、伝搬してきた光の強度分布の非対称性を
前記方向について検出し、これにより前記被検物体の表
面形状を測定する方法であって、前記ダブルモード導波
路の前記方向と、前記被検物体の表面の段差を横切る方
向とが直交するように、前記ダブルモード導波路を前記
被検物体に対して配置して測定を行うことを特徴とする
表面形状測定方法である。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態の表面形状
測定方法について、図面を用いて説明する。
測定方法について、図面を用いて説明する。
【００１１】発明者らは、従来の図２のような装置によ
って表面形状を測定する場合に、差動増幅器１１６の出
力信号に、被検物体の表面の変位には対応しない突出し
た大きな信号が加わる原因を調査した。その結果、被検
物体の段差方向、被検物体上での光スポットの走査方
向、ならびに、ダブルモード導波路１１１の配置に関係
があることがわかった。例えば、被検物体１０５に図２
のような段差があるとき、段差形状を測定するために
は、被検物体１０５上の光スポットを段差方向（段を横
切る方向：図２中の矢印方向）に相対的に移動させる必
要がある。このとき、図２のように、段差方向が、ダブ
ルモード導波路１１１の幅方向と一致していると、段差
部分から十分離れた場所に光スポットが照射されている
ときには、図３のようにその場所についての焦点位置か
らのずれ量が得られるが、光スポットが段差にかかった
場合には、段差部分で突出した大きな信号が出力され、
段差形状が測定できなくなる。
って表面形状を測定する場合に、差動増幅器１１６の出
力信号に、被検物体の表面の変位には対応しない突出し
た大きな信号が加わる原因を調査した。その結果、被検
物体の段差方向、被検物体上での光スポットの走査方
向、ならびに、ダブルモード導波路１１１の配置に関係
があることがわかった。例えば、被検物体１０５に図２
のような段差があるとき、段差形状を測定するために
は、被検物体１０５上の光スポットを段差方向（段を横
切る方向：図２中の矢印方向）に相対的に移動させる必
要がある。このとき、図２のように、段差方向が、ダブ
ルモード導波路１１１の幅方向と一致していると、段差
部分から十分離れた場所に光スポットが照射されている
ときには、図３のようにその場所についての焦点位置か
らのずれ量が得られるが、光スポットが段差にかかった
場合には、段差部分で突出した大きな信号が出力され、
段差形状が測定できなくなる。
【００１２】段差部分で突出した大きな信号が出力され
るのは、次のような理由による。図２の装置で差動増幅
器１１６の出力は、すでに説明したようにダブルモード
導波路１１１の入射端１０７における光の等位相面４０
１の非対称性に対応している。被検物体１０５の表面が
平坦、すなわちダブルモード導波路１１１の入射端１０
７の端面に平行である場合には、等位相面４０１の非対
称性は、図４（ａ），（ｂ），（ｃ）のように、被検物
体１０５の焦点位置からのずれ量のみに対応している。
ところが、上述のように段差方向とダブルモード導波路
１１１の幅方向とが一致した状態で計測を行う場合、光
スポットが被検物体１０５の段差にかかると、光が段差
に反射されることによって、反射光の等位相面に、段差
形状に相当する非対称性が生じてしまう。このため、差
動増幅器１１６の出力には、被検物体１０５の焦点位置
からのずれによる出力の他に、被検物体１０５の段差に
相当する微分信号が加わる。この段差に相当する微分信
号は、焦点位置からのずれによる出力よりも大きな振幅
を有し、また尾を引いた形で出力されるため、被検物体
１０５の表面形状の正確な測定ができなくなる。
るのは、次のような理由による。図２の装置で差動増幅
器１１６の出力は、すでに説明したようにダブルモード
導波路１１１の入射端１０７における光の等位相面４０
１の非対称性に対応している。被検物体１０５の表面が
平坦、すなわちダブルモード導波路１１１の入射端１０
７の端面に平行である場合には、等位相面４０１の非対
称性は、図４（ａ），（ｂ），（ｃ）のように、被検物
体１０５の焦点位置からのずれ量のみに対応している。
ところが、上述のように段差方向とダブルモード導波路
１１１の幅方向とが一致した状態で計測を行う場合、光
スポットが被検物体１０５の段差にかかると、光が段差
に反射されることによって、反射光の等位相面に、段差
形状に相当する非対称性が生じてしまう。このため、差
動増幅器１１６の出力には、被検物体１０５の焦点位置
からのずれによる出力の他に、被検物体１０５の段差に
相当する微分信号が加わる。この段差に相当する微分信
号は、焦点位置からのずれによる出力よりも大きな振幅
を有し、また尾を引いた形で出力されるため、被検物体
１０５の表面形状の正確な測定ができなくなる。
【００１３】そこで、本発明では、以下のように段差形
状の測定を行う。
状の測定を行う。
【００１４】まず、被検物体１０５上の段差の方向を調
べ、図１のように、段差方向（段差を横切る方向：図１
のｘ方向）が、ダブルモード導波路１１１の幅方向（図
１のｙ方向）に対して直交するように位置関係にする。
この状態で光スポットが段差の方向（段を横切る方向）
に移動するように被検物体１０５を相対的に移動させ
る。装置の構成は、図２と同様であるので説明を省略す
るが、被検物体１０５を光スポットに対して移動させる
ための移動ステージ７は、被検物体１０５をダブルモー
ド導波路１１１の厚さ方向（ｘ方向）に移動可能なステ
ージを用いる。また、ダブルモード導波路１１１は、導
波路の幅方向についてはダブルモードで、導波路の厚さ
方向についてはシングルモードとなるように形成してお
く。
べ、図１のように、段差方向（段差を横切る方向：図１
のｘ方向）が、ダブルモード導波路１１１の幅方向（図
１のｙ方向）に対して直交するように位置関係にする。
この状態で光スポットが段差の方向（段を横切る方向）
に移動するように被検物体１０５を相対的に移動させ
る。装置の構成は、図２と同様であるので説明を省略す
るが、被検物体１０５を光スポットに対して移動させる
ための移動ステージ７は、被検物体１０５をダブルモー
ド導波路１１１の厚さ方向（ｘ方向）に移動可能なステ
ージを用いる。また、ダブルモード導波路１１１は、導
波路の幅方向についてはダブルモードで、導波路の厚さ
方向についてはシングルモードとなるように形成してお
く。
【００１５】このような位置関係で段差形状の計測を行
うと、光スポットが段差の部分にかかった場合に段差に
よって反射光の等位相面の非対称性が生じる方向は、ダ
ブルモード導波路１１１の厚さ方向であり、ダブルモー
ド導波路１１１の幅方向については生じない。ダブルモ
ード導波路１１１は、導波路の幅方向についてのみダブ
ルモードで、厚さ方向についてはシングルモードである
ため、導波路の厚さ方向の等位相面の非対称性によらな
い被検物体１０５の焦点位置からのずれによる等位相面
の非対称性に対応する出力のみが差動増幅器１１６から
出力される。よって、段差部分で図３のような突出した
微分信号が出力されないため、段差形状を正確に測定す
ることができる。また、この段差形状から段差の高さを
定量的に測定することができる。
うと、光スポットが段差の部分にかかった場合に段差に
よって反射光の等位相面の非対称性が生じる方向は、ダ
ブルモード導波路１１１の厚さ方向であり、ダブルモー
ド導波路１１１の幅方向については生じない。ダブルモ
ード導波路１１１は、導波路の幅方向についてのみダブ
ルモードで、厚さ方向についてはシングルモードである
ため、導波路の厚さ方向の等位相面の非対称性によらな
い被検物体１０５の焦点位置からのずれによる等位相面
の非対称性に対応する出力のみが差動増幅器１１６から
出力される。よって、段差部分で図３のような突出した
微分信号が出力されないため、段差形状を正確に測定す
ることができる。また、この段差形状から段差の高さを
定量的に測定することができる。
【００１６】この測定方法は、被検物体１０５の段差の
方向を調べ、この方向をダブルモード導波路１１１の幅
方向と直交させる必要があるため、被検物体１０５とし
ては一定の方向に段差が平行にならんでいるものが適し
ている。例えば、基板上に一定方向に微細な溝が刻まれ
たグレーティングや、基板上に一定方向に形成された複
数の光導波路等の表面形状の測定や検査を行うのに適し
ている。
方向を調べ、この方向をダブルモード導波路１１１の幅
方向と直交させる必要があるため、被検物体１０５とし
ては一定の方向に段差が平行にならんでいるものが適し
ている。例えば、基板上に一定方向に微細な溝が刻まれ
たグレーティングや、基板上に一定方向に形成された複
数の光導波路等の表面形状の測定や検査を行うのに適し
ている。
【００１７】なお、この測定方法で、被検物体１０５の
段差の方向がダブルモード導波路１１１の幅方向に対し
て直交するように配置を定める際には、正確に直交させ
ることが望ましい。というのは、直交状態からずれてい
ると、段差によって反射光の等位相面に生じる非対称性
の方向が、ダブルモード導波路１１１の幅方向の成分を
有することになるため、この非対称性が出力されてしま
うためである。
段差の方向がダブルモード導波路１１１の幅方向に対し
て直交するように配置を定める際には、正確に直交させ
ることが望ましい。というのは、直交状態からずれてい
ると、段差によって反射光の等位相面に生じる非対称性
の方向が、ダブルモード導波路１１１の幅方向の成分を
有することになるため、この非対称性が出力されてしま
うためである。
【００１８】本実施の形態では、図１および図２の構成
の装置を用いて表面形状を測定する場合について説明し
てきたが、本実施の形態の測定方法に用いることのでき
る装置は、この構成に限定されるものではない。本実施
の形態の測定方法に用いることのできる装置は、被検物
体に光スポットを照射し、その反射光をダブルモード導
波路の中心軸からわずかにずれた位置に入射させて、ダ
ブルモード導波路に伝搬させ、伝搬光の強度分布の非対
称性を検出することにより、ダブルモード導波路に入射
した光の位相の非対称性を検出する装置であればよく、
図１、図２以外の構成でもよい。
の装置を用いて表面形状を測定する場合について説明し
てきたが、本実施の形態の測定方法に用いることのでき
る装置は、この構成に限定されるものではない。本実施
の形態の測定方法に用いることのできる装置は、被検物
体に光スポットを照射し、その反射光をダブルモード導
波路の中心軸からわずかにずれた位置に入射させて、ダ
ブルモード導波路に伝搬させ、伝搬光の強度分布の非対
称性を検出することにより、ダブルモード導波路に入射
した光の位相の非対称性を検出する装置であればよく、
図１、図２以外の構成でもよい。
【００１９】
【発明の効果】上述のように、本発明によれば、ダブル
モード導波路を用いて被検物体の表面形状を精度よく測
定する測定方法を提供することができる。
モード導波路を用いて被検物体の表面形状を精度よく測
定する測定方法を提供することができる。
【図１】本発明の一実施の形態のダブルモード導波路を
用いて被検物体の表面形状を精度よく測定する測定方法
を説明するための説明図。
用いて被検物体の表面形状を精度よく測定する測定方法
を説明するための説明図。
【図２】従来のダブルモード導波路を用いた焦点検出装
置の構成を示すブロック図。
置の構成を示すブロック図。
【図３】従来の測定方法によって図２の装置で被検物体
の段差形状を測定した場合の出力を示すグラフ。
の段差形状を測定した場合の出力を示すグラフ。
【図４】図２の装置において、ダブルモード導波路１１
１の入射端付近における光の等位相面を、それぞれ被検
物体が焦点位置からずれている場合（（ａ）および
（ｃ））、被検物体が焦点位置にある場合（（ｂ））に
ついて示す説明図。
１の入射端付近における光の等位相面を、それぞれ被検
物体が焦点位置からずれている場合（（ａ）および
（ｃ））、被検物体が焦点位置にある場合（（ｂ））に
ついて示す説明図。
【図５】図２の装置において、被検物体の焦点位置から
のずれ量と出力との関係を表わすグラフ。
のずれ量と出力との関係を表わすグラフ。
７…移動ステージ、１０１…光源、１０２…コリメータ
レンズ、１０３…ハーフミラー、１０４…対物レンズ、
１０５…被検物体、１０６…集光レンズ、１０７…入射
端、１１０…基板、１１１…ダブルモード導波路、１１
２、１１３…導波路、１１４、１１５…光検出器、１１
６…差動増幅器。
レンズ、１０３…ハーフミラー、１０４…対物レンズ、
１０５…被検物体、１０６…集光レンズ、１０７…入射
端、１１０…基板、１１１…ダブルモード導波路、１１
２、１１３…導波路、１１４、１１５…光検出器、１１
６…差動増幅器。
Claims (4)
- 【請求項１】集光光学系により集光した光スポットを被
検物体に照射し、その反射光を、ある方向についてダブ
ルモードであるダブルモード導波路に入射させて伝搬さ
せ、伝搬してきた光の強度分布の非対称性を前記方向に
ついて検出し、これにより前記被検物体の表面形状を測
定する方法であって、 前記ダブルモード導波路の前記方向と、前記被検物体の
表面の段差を横切る方向とが直交するように、前記ダブ
ルモード導波路を前記被検物体に対して配置して測定を
行うことを特徴とする表面形状測定方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の表面形状測定方法におい
て、前記光スポットを前記被検物体上で、前記段差を横
切る方向に相対的に移動させながら測定を行うことを特
徴とする表面形状測定方法。 - 【請求項３】請求項１に記載の表面形状測定方法におい
て、前記反射光を前記ダブルモード導波路に入射させる
際に、前記反射光の光軸が、前記ダブルモード導波路の
前記方向についての中心からずれるように前記ダブルモ
ード導波路を配置することを特徴とする表面形状測定方
法。 - 【請求項４】請求項１に記載の表面形状測定方法におい
て、前記ダブルモード導波路の０次モードと１次モード
との完全結合長をＬｃとするとき、前記ダブルモード導
波路のダブルモードである領域の長さＬは、 Ｌ＝Ｌｃ（ｍ＋１／２）（ｍ＝０，１，２・・・） を満たすことを特徴とする表面形状測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10000242A JPH11194016A (ja) | 1998-01-05 | 1998-01-05 | 表面形状測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10000242A JPH11194016A (ja) | 1998-01-05 | 1998-01-05 | 表面形状測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11194016A true JPH11194016A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=11468501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10000242A Pending JPH11194016A (ja) | 1998-01-05 | 1998-01-05 | 表面形状測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11194016A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03128660U (ja) * | 1990-04-10 | 1991-12-25 | ||
| JPH05267235A (ja) * | 1992-03-18 | 1993-10-15 | Tokyo Electron Yamanashi Kk | ドライエッチング装置 |
| JPH08120469A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-14 | Ryoden Semiconductor Syst Eng Kk | ドライエッチング装置 |
-
1998
- 1998-01-05 JP JP10000242A patent/JPH11194016A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03128660U (ja) * | 1990-04-10 | 1991-12-25 | ||
| JPH05267235A (ja) * | 1992-03-18 | 1993-10-15 | Tokyo Electron Yamanashi Kk | ドライエッチング装置 |
| JPH08120469A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-14 | Ryoden Semiconductor Syst Eng Kk | ドライエッチング装置 |
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