JP2000241114A - 表面形状測定装置 - Google Patents
表面形状測定装置Info
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- JP2000241114A JP2000241114A JP11047484A JP4748499A JP2000241114A JP 2000241114 A JP2000241114 A JP 2000241114A JP 11047484 A JP11047484 A JP 11047484A JP 4748499 A JP4748499 A JP 4748499A JP 2000241114 A JP2000241114 A JP 2000241114A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の焦点検出装置を用いて被検物体の表
面形状を測定するためには、集光された光スポットを静
止した被検物体表面全体にわたって走査させる必要があ
る。従来、被検物体上に集光された光スポット即ち計測
点スポットが1点のため、被検物体全体の計測に長時間
かかってしまうという問題があった。 【解決手段】本発明の表面形状測定装置は、被検物体上
の2点以上に同時に光を照射するための照射部と、被検
物体上の各照射点からの各反射光を同時に検出するため
の検出部とを具え、検出部に各反射光を入射させるため
の基板上に形成された各チャネル導波路を具える。
面形状を測定するためには、集光された光スポットを静
止した被検物体表面全体にわたって走査させる必要があ
る。従来、被検物体上に集光された光スポット即ち計測
点スポットが1点のため、被検物体全体の計測に長時間
かかってしまうという問題があった。 【解決手段】本発明の表面形状測定装置は、被検物体上
の2点以上に同時に光を照射するための照射部と、被検
物体上の各照射点からの各反射光を同時に検出するため
の検出部とを具え、検出部に各反射光を入射させるため
の基板上に形成された各チャネル導波路を具える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路を用いた
表面形状測定装置に関する。
表面形状測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光通信、光計測の分野で光導波路
が注目されている。その理由は光導波路を用いることに
よって光学系の小型、軽量化を図ることができ、また、
光軸の調整が不要になるという利点を有しているからで
ある。光導波路を利用した計測器の一つとして、特開平
6−331841号公報に焦点検出装置の技術が開示さ
れている。特開平6−331841号公報には、図3の
ように光導波路としてダブルモード導波路が用いられて
いる。
が注目されている。その理由は光導波路を用いることに
よって光学系の小型、軽量化を図ることができ、また、
光軸の調整が不要になるという利点を有しているからで
ある。光導波路を利用した計測器の一つとして、特開平
6−331841号公報に焦点検出装置の技術が開示さ
れている。特開平6−331841号公報には、図3の
ように光導波路としてダブルモード導波路が用いられて
いる。
【0003】ダブルモード導波路にレーザ光を入射させ
ると、入射レーザ光の振幅分布に対応して導波路内に0
次モードと1次モードが励振される。これら2つのモー
ドは導波路内で干渉し、全体としての光強度分布に非対
称性が生じる。ここで、導波路内の光強度分布の非対称
性をもたらすものとして2つの要素がある。ひとつは入
射レーザ光の強度分布に非対称性がある場合であり、も
うひとつは入射レーザ光の位相に非対称性がある場合で
ある。ダブルモード領域の長さを適当に選べば、いずれ
の場合の非対称性も良く検出できる(H.Ooki a
nd J.Iwasaki,Optics Commu
nications 85(1991)177)。
ると、入射レーザ光の振幅分布に対応して導波路内に0
次モードと1次モードが励振される。これら2つのモー
ドは導波路内で干渉し、全体としての光強度分布に非対
称性が生じる。ここで、導波路内の光強度分布の非対称
性をもたらすものとして2つの要素がある。ひとつは入
射レーザ光の強度分布に非対称性がある場合であり、も
うひとつは入射レーザ光の位相に非対称性がある場合で
ある。ダブルモード領域の長さを適当に選べば、いずれ
の場合の非対称性も良く検出できる(H.Ooki a
nd J.Iwasaki,Optics Commu
nications 85(1991)177)。
【0004】このダブルモード導波路におけるモード干
渉を利用して入射レーザ光の光軸方向の変位(焦点位置
ずれ)を検出する。レーザスポットの入射位置は、ダブ
ルモード導波路の中心からわずかにシフトした位置に来
るよう調整されている。レーザスポットが焦点位置にあ
るときには入射位置に於ける光の等位相面は傾きを持た
ないが(図4(b))、レーザスポットが焦点位置から
ずれている場合には、光の等位相面に傾きが生じ(図4
(a)、(b))、これによる位相分布の非対称性を検
出することによって焦点位置ずれを検出する。
渉を利用して入射レーザ光の光軸方向の変位(焦点位置
ずれ)を検出する。レーザスポットの入射位置は、ダブ
ルモード導波路の中心からわずかにシフトした位置に来
るよう調整されている。レーザスポットが焦点位置にあ
るときには入射位置に於ける光の等位相面は傾きを持た
ないが(図4(b))、レーザスポットが焦点位置から
ずれている場合には、光の等位相面に傾きが生じ(図4
(a)、(b))、これによる位相分布の非対称性を検
出することによって焦点位置ずれを検出する。
【0005】図3において、光源101から発せられた
光はコリメータレンズ102で平行光とされた後、ハー
フミラー103で反射して、対物レンズ104によって
被検物体105上の1点に集光照射される。被検物体1
05上で反射した光は再び対物レンズ104を通り、ハ
ーフミラー103を透過して、集光レンズ106によっ
て基板110上に形成されたダブルモード導波路111
の入射位置107に集光される。入射位置107はダブ
ルモード導波路111の中心から横方向にわずかにシフ
トした位置にある。
光はコリメータレンズ102で平行光とされた後、ハー
フミラー103で反射して、対物レンズ104によって
被検物体105上の1点に集光照射される。被検物体1
05上で反射した光は再び対物レンズ104を通り、ハ
ーフミラー103を透過して、集光レンズ106によっ
て基板110上に形成されたダブルモード導波路111
の入射位置107に集光される。入射位置107はダブ
ルモード導波路111の中心から横方向にわずかにシフ
トした位置にある。
【0006】ダブルモード導波路111は長さLの位置
で2つの導波路112、113に分岐する。導波路11
2、113からの出射光を光検出器114、115で検
出し、差動増幅器116で差動信号をとれば、図5に示
すようにその差動信号がフォーカスエラー(焦点位置ず
れ量)と一定の関係を持つので、予め、差動信号とフォ
ーカスエラーとの関係を他の方法で測って図5の関係を
得ておく。この図5を用い、測定された差動信号の大き
さからフォーカスエラー信号117が得られ、被検物体
105の焦点位置ずれ量を知ることができるのである。
で2つの導波路112、113に分岐する。導波路11
2、113からの出射光を光検出器114、115で検
出し、差動増幅器116で差動信号をとれば、図5に示
すようにその差動信号がフォーカスエラー(焦点位置ず
れ量)と一定の関係を持つので、予め、差動信号とフォ
ーカスエラーとの関係を他の方法で測って図5の関係を
得ておく。この図5を用い、測定された差動信号の大き
さからフォーカスエラー信号117が得られ、被検物体
105の焦点位置ずれ量を知ることができるのである。
【0007】図3の従来例ではダブルモード導波路の長
さLは、完全結合長(0次モードと1次モードの位相差
がπとなる長さ)をLc としたとき、物体の位相分布を
観察する条件である L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・) (1) とされている。
さLは、完全結合長(0次モードと1次モードの位相差
がπとなる長さ)をLc としたとき、物体の位相分布を
観察する条件である L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・) (1) とされている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】特開平6−33184
1号公報に記載されている図3の焦点検出装置を用いて
被検物体の表面形状を測定するためには、集光された光
スポットを静止した被検物体表面全体にわたって走査さ
せるか、あるいは被検物体を静止した光スポットに対し
て走査させる必要がある。この場合、被検物体上に集光
された光スポット即ち計測点スポットが1点のため、被
検物体全体の計測に長時間かかってしまうという問題が
あった。一例として6〜8インチのウェハの平面形状を
測るのに数分から数十分かかっていた。
1号公報に記載されている図3の焦点検出装置を用いて
被検物体の表面形状を測定するためには、集光された光
スポットを静止した被検物体表面全体にわたって走査さ
せるか、あるいは被検物体を静止した光スポットに対し
て走査させる必要がある。この場合、被検物体上に集光
された光スポット即ち計測点スポットが1点のため、被
検物体全体の計測に長時間かかってしまうという問題が
あった。一例として6〜8インチのウェハの平面形状を
測るのに数分から数十分かかっていた。
【0009】本発明は以上の問題を解決した、短時間で
表面形状を測定可能で、且つ安価な表面形状測定装置を
提供することにある。
表面形状を測定可能で、且つ安価な表面形状測定装置を
提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するた
め、本発明は第一に、「被検物体上の2点以上に同時に
光を照射するための照射部と、前記被検物体上の各照射
点からの各反射光を同時に検出するための検出部とを具
え、前記検出部が、前記検出のために前記各反射光を入
射させるための基板上に形成された各チャネル導波路を
具えることを特徴とする表面形状測定装置(請求項
1)」を提供する。
め、本発明は第一に、「被検物体上の2点以上に同時に
光を照射するための照射部と、前記被検物体上の各照射
点からの各反射光を同時に検出するための検出部とを具
え、前記検出部が、前記検出のために前記各反射光を入
射させるための基板上に形成された各チャネル導波路を
具えることを特徴とする表面形状測定装置(請求項
1)」を提供する。
【0011】本発明は、表面形状測定装置において、被
検物体に対して、光スポットをマルチスポット照射し、
検出側の導波路もアレイ状に複数配置する。このように
して、多点を同時に計測することによって計測時間の短
縮を図った発明である。第二に、「前記各チャネル導波
路は、ダブルモード導波路と、前記ダブルモード導波路
から分岐された2本の導波路とを具え、さらに前記検出
部は、前記各チャネル導波路毎に、前記2本の導波路を
伝搬する光を検出するための各検出素子を前記2本の導
波路の各端部に具えることを特徴とする請求項1記載の
表面形状測定装置(請求項2)」を提供する。
検物体に対して、光スポットをマルチスポット照射し、
検出側の導波路もアレイ状に複数配置する。このように
して、多点を同時に計測することによって計測時間の短
縮を図った発明である。第二に、「前記各チャネル導波
路は、ダブルモード導波路と、前記ダブルモード導波路
から分岐された2本の導波路とを具え、さらに前記検出
部は、前記各チャネル導波路毎に、前記2本の導波路を
伝搬する光を検出するための各検出素子を前記2本の導
波路の各端部に具えることを特徴とする請求項1記載の
表面形状測定装置(請求項2)」を提供する。
【0012】第三に、「前記反射光が、前記ダブルモー
ド導波路の中心からわずかにシフトした位置に集光され
るよう調整され、前記ダブルモード導波路内の光強度分
布の非対称性を検出することによって前記被検物体の表
面形状を測定することを特徴とする請求項2記載の表面
形状測定装置(請求項3)」を提供する。第四に、「前
記ダブルモード導波路の長さをLとし、前記ダブルモー
ド導波路における0次モードと1次モードとの間の完全
結合長をLc とするとき、 L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・
の正整数) を満たすことを特徴とする請求項2〜3何れか1項記載
の表面形状測定装置(請求項4)」を提供する。
ド導波路の中心からわずかにシフトした位置に集光され
るよう調整され、前記ダブルモード導波路内の光強度分
布の非対称性を検出することによって前記被検物体の表
面形状を測定することを特徴とする請求項2記載の表面
形状測定装置(請求項3)」を提供する。第四に、「前
記ダブルモード導波路の長さをLとし、前記ダブルモー
ド導波路における0次モードと1次モードとの間の完全
結合長をLc とするとき、 L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・
の正整数) を満たすことを特徴とする請求項2〜3何れか1項記載
の表面形状測定装置(請求項4)」を提供する。
【0013】第五に、「前記ダブルモード導波路の少な
くともコアー部分が、電気光学効果、または熱光学効果
を呈する材料から成り、更に、前記ダブルモード導波路
に電圧を印加するための電極を両側方に具え、前記ダブ
ルモード導波路の長さをLとし、前記両電極間に電圧を
印加しないときの前記ダブルモード導波路における0次
モードと1次モードとの間の完全結合長をLc 1とし、
適当な電圧を印加したときの完全結合長をLc 1とは異
なるLc とするとき、 L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・
の正整数) を満たすことを特徴とする請求項2〜3何れか1項記載
の表面形状測定装置。以上の部分には、検討終了後に請
求項を入れます(請求項5)」を提供する。
くともコアー部分が、電気光学効果、または熱光学効果
を呈する材料から成り、更に、前記ダブルモード導波路
に電圧を印加するための電極を両側方に具え、前記ダブ
ルモード導波路の長さをLとし、前記両電極間に電圧を
印加しないときの前記ダブルモード導波路における0次
モードと1次モードとの間の完全結合長をLc 1とし、
適当な電圧を印加したときの完全結合長をLc 1とは異
なるLc とするとき、 L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・
の正整数) を満たすことを特徴とする請求項2〜3何れか1項記載
の表面形状測定装置。以上の部分には、検討終了後に請
求項を入れます(請求項5)」を提供する。
【0014】
【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1に本発明の
実施の形態1による表面形状測定装置の概略構成図を示
す。図1に於いて、1は光源、2はコリメータレンズ、
3はハーフミラーアレイ、4は対物レンズアレイ、5は
被検物体、6は集光レンズアレイ、8はダブルモード導
波路アレイ、13、14は各々が導波路、10は導波路
が形成されている基板、100は光検出器アレイ、9は
複数の差動増幅器である。ハーフミラーアレイ3は、被
検物体5に照射する光スポットの数以上の、直線状に並
んだハーフミラー7から構成されている。ハーフミラー
7は、光学薄膜、等を具え、入射光を反射光と透過光と
に分離する。対物レンズアレイ4は、被検物体5に照射
する光スポットの数以上の、直線状に並んだ複数の対物
レンズから構成されている。集光レンズアレイ6は、被
検物体5に照射する光スポットの数以上の、直線状に並
んだ複数の集光レンズから構成されている。ダブルモー
ド導波路アレイ8は、被検物体5に照射する光スポット
の数以上の、直線状に並んだ複数の対のダブルモード導
波路12と導波路13、14から構成されている。光検
出器アレイ100は、被検物体5に照射する光スポット
の数以上の、直線状に並んだ複数の対の光検出器15、
16から構成されている。複数の差動増幅器9は、被検
物体5に照射する光スポットの数以上の、直線状に並ん
だ複数の差動増幅器17から構成されている。
実施の形態1による表面形状測定装置の概略構成図を示
す。図1に於いて、1は光源、2はコリメータレンズ、
3はハーフミラーアレイ、4は対物レンズアレイ、5は
被検物体、6は集光レンズアレイ、8はダブルモード導
波路アレイ、13、14は各々が導波路、10は導波路
が形成されている基板、100は光検出器アレイ、9は
複数の差動増幅器である。ハーフミラーアレイ3は、被
検物体5に照射する光スポットの数以上の、直線状に並
んだハーフミラー7から構成されている。ハーフミラー
7は、光学薄膜、等を具え、入射光を反射光と透過光と
に分離する。対物レンズアレイ4は、被検物体5に照射
する光スポットの数以上の、直線状に並んだ複数の対物
レンズから構成されている。集光レンズアレイ6は、被
検物体5に照射する光スポットの数以上の、直線状に並
んだ複数の集光レンズから構成されている。ダブルモー
ド導波路アレイ8は、被検物体5に照射する光スポット
の数以上の、直線状に並んだ複数の対のダブルモード導
波路12と導波路13、14から構成されている。光検
出器アレイ100は、被検物体5に照射する光スポット
の数以上の、直線状に並んだ複数の対の光検出器15、
16から構成されている。複数の差動増幅器9は、被検
物体5に照射する光スポットの数以上の、直線状に並ん
だ複数の差動増幅器17から構成されている。
【0015】光源1から発せられた光はコリメータレン
ズ2で平行光とされた後、ハーフミラーアレイ3に入射
する。ハーフミラーアレイ3に入射した光は、ハーフミ
ラー7によりその一部が反射して対物レンズアレイに向
かい、その残りが隣のハーフミラーに向けて透過する。
この繰返しによって光源1から発せられた光はハーフミ
ラーの数だけ分割され、各ハーフミラーによって分割さ
れた各光は対物レンズアレイ4の各対物レンズによって
被検物体5上の複数の点上に同時に集光される。被検物
体5上複数の各点で反射した各反射光は再び対物レンズ
アレイ4の各対物レンズを通り、ハーフミラーアレイ3
の各ハーフミラー7を透過して、集光レンズアレイ6の
各集光レンズによって、基板10上に形成されたダブル
モード導波路アレイ8の各ダブルモード導波路の各入射
端面23の各入射位置11に集光される。ここで、各入
射位置11は、各ダブルモード導波路の中心から横方向
にわずかにシフトした位置に来るよう各々調整されてい
る。
ズ2で平行光とされた後、ハーフミラーアレイ3に入射
する。ハーフミラーアレイ3に入射した光は、ハーフミ
ラー7によりその一部が反射して対物レンズアレイに向
かい、その残りが隣のハーフミラーに向けて透過する。
この繰返しによって光源1から発せられた光はハーフミ
ラーの数だけ分割され、各ハーフミラーによって分割さ
れた各光は対物レンズアレイ4の各対物レンズによって
被検物体5上の複数の点上に同時に集光される。被検物
体5上複数の各点で反射した各反射光は再び対物レンズ
アレイ4の各対物レンズを通り、ハーフミラーアレイ3
の各ハーフミラー7を透過して、集光レンズアレイ6の
各集光レンズによって、基板10上に形成されたダブル
モード導波路アレイ8の各ダブルモード導波路の各入射
端面23の各入射位置11に集光される。ここで、各入
射位置11は、各ダブルモード導波路の中心から横方向
にわずかにシフトした位置に来るよう各々調整されてい
る。
【0016】ここで僅かにシフトした位置の意味を図6
で説明する。図6は焦点位置ずれ量が零の場合に於ける
説明を示し、21は集光レンズアレイを構成する一つの
集光レンズから集光する光線、20は等位相面、Bはダ
ブルモード導波路12に入射すべく集光・結像された光
スポット像の中心位置を示し、この中心位置を入射位置
11と呼んでいる。この入射位置がBの場合、集光・結
像された光スポット像の入射端面23上に於ける22の
部分が、ダブルモード導波路12に入射する。入射位置
はダブルモード導波路12の中心位置Cでは波面に傾き
が生じないため好ましくなく、逆に入射位置がダブルモ
ード導波路12の中心位置からシフトし過ぎてAの位置
まで来ると集光・結像された光スポット像がダブルモー
ド導波路12の入射端面に全く掛からず、光が入射しな
くなるため好ましくない。入射位置は、AとCとを含ま
ないAとCの間で一般に最大感度を得る位置に決定され
る。
で説明する。図6は焦点位置ずれ量が零の場合に於ける
説明を示し、21は集光レンズアレイを構成する一つの
集光レンズから集光する光線、20は等位相面、Bはダ
ブルモード導波路12に入射すべく集光・結像された光
スポット像の中心位置を示し、この中心位置を入射位置
11と呼んでいる。この入射位置がBの場合、集光・結
像された光スポット像の入射端面23上に於ける22の
部分が、ダブルモード導波路12に入射する。入射位置
はダブルモード導波路12の中心位置Cでは波面に傾き
が生じないため好ましくなく、逆に入射位置がダブルモ
ード導波路12の中心位置からシフトし過ぎてAの位置
まで来ると集光・結像された光スポット像がダブルモー
ド導波路12の入射端面に全く掛からず、光が入射しな
くなるため好ましくない。入射位置は、AとCとを含ま
ないAとCの間で一般に最大感度を得る位置に決定され
る。
【0017】各ダブルモード導波路12の各入射端面2
3に入射した各入射光は、各ダブルモード導波路12を
モード干渉を起こしながら伝搬し、各入射端面23から
Lの長さだけ伝搬したところで各入射光は各導波路1
3、14に分岐する。一つのダブルモード導波路12か
ら分岐して各導波路13、14を伝搬したあと各導波路
13、14を出射する各出射光は、各導波路13、14
の端に各々設けられた各光検出器15、16で検出さ
れ、差動増幅器17で光検出器15の出力と光検出器1
6の出力の差、即ち差動信号18がとられる。この差動
信号18は各ダブルモード導波路12に対して同時に取
られる。
3に入射した各入射光は、各ダブルモード導波路12を
モード干渉を起こしながら伝搬し、各入射端面23から
Lの長さだけ伝搬したところで各入射光は各導波路1
3、14に分岐する。一つのダブルモード導波路12か
ら分岐して各導波路13、14を伝搬したあと各導波路
13、14を出射する各出射光は、各導波路13、14
の端に各々設けられた各光検出器15、16で検出さ
れ、差動増幅器17で光検出器15の出力と光検出器1
6の出力の差、即ち差動信号18がとられる。この差動
信号18は各ダブルモード導波路12に対して同時に取
られる。
【0018】各ダブルモード導波路12の長さLは、完
全結合長(ダブルモード導波路の伝搬モードの0次モー
ドと1次モードの位相差がπとなる長さ)をLc とする
と、物体の位相分布を観察する条件である L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・) (1) により与えられる。
全結合長(ダブルモード導波路の伝搬モードの0次モー
ドと1次モードの位相差がπとなる長さ)をLc とする
と、物体の位相分布を観察する条件である L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・) (1) により与えられる。
【0019】従来例で説明したように、図5の関係よ
り、差動信号18から被検物体5への照射光の集光点の
フォーカスエラー(焦点位置ずれ量)を知ることがで
き、焦点位置ずれ量は照射光の集光点の変位に対応す
る。従って被検物体を走査することによって被検物体の
表面形状を測定することができる。従来例のような光ス
ポットが1点の表面形状測定装置では被検物体5面全体
をただ1点の光スポットで走査しなければならないのに
対して、本実施の形態1の表面形状測定装置では同時に
多点の計測が行えるので、被検物体5面全体を計測する
ために、多点の光スポットで被検物体5面の各部分を分
担して走査すれば良い。従って、計測時間が大幅に短縮
できる。 [実施の形態2]本発明による実施の形態2の表面形状
測定装置を図2に示す。
り、差動信号18から被検物体5への照射光の集光点の
フォーカスエラー(焦点位置ずれ量)を知ることがで
き、焦点位置ずれ量は照射光の集光点の変位に対応す
る。従って被検物体を走査することによって被検物体の
表面形状を測定することができる。従来例のような光ス
ポットが1点の表面形状測定装置では被検物体5面全体
をただ1点の光スポットで走査しなければならないのに
対して、本実施の形態1の表面形状測定装置では同時に
多点の計測が行えるので、被検物体5面全体を計測する
ために、多点の光スポットで被検物体5面の各部分を分
担して走査すれば良い。従って、計測時間が大幅に短縮
できる。 [実施の形態2]本発明による実施の形態2の表面形状
測定装置を図2に示す。
【0020】図2で1は光源、21は分岐導波路、20
は分岐導波路21が形成された基板、30はコリメータ
レンズアレイ、31はハーフミラー、4は対物レンズア
レイ、5は被検物体、26は集光レンズアレイ、8はダ
ブルモード導波路アレイ、12はダブルモード導波路、
13、14は各々が導波路、10は導波路が形成されて
いる基板、100は光検出器アレイ、9は複数の差動増
幅器である。
は分岐導波路21が形成された基板、30はコリメータ
レンズアレイ、31はハーフミラー、4は対物レンズア
レイ、5は被検物体、26は集光レンズアレイ、8はダ
ブルモード導波路アレイ、12はダブルモード導波路、
13、14は各々が導波路、10は導波路が形成されて
いる基板、100は光検出器アレイ、9は複数の差動増
幅器である。
【0021】分岐導波路21は、被検物体5に照射する
光スポットの数以上の、複数の出射端を有し、これら複
数の出射端の像をコリメータレンズアレイ22とハーフ
ミラー23と対物レンズアレイ24とによって複数の光
スポットとして被検物体5上に結像する。ここで、分岐
導波路21は、シングルモード導波路であることが好ま
しい。ハーフミラー23は、光学薄膜、等を具え、入射
光を反射光と透過光(透過光は図示されない)とに分離
する。ダブルモード導波路アレイ8は、被検物体5に照
射する光スポットの数以上の、直線状に並んだ複数の対
のダブルモード導波路12と分岐導波路13、14から
構成されている。光検出器アレイ100は、被検物体5
に照射する光スポットの数以上の、直線状に並んだ複数
の対の光検出器15、16から構成されている。複数の
差動増幅器9は、被検物体5に照射する光スポットの数
以上の、直線状に並んだ複数の差動増幅器17から構成
されている。
光スポットの数以上の、複数の出射端を有し、これら複
数の出射端の像をコリメータレンズアレイ22とハーフ
ミラー23と対物レンズアレイ24とによって複数の光
スポットとして被検物体5上に結像する。ここで、分岐
導波路21は、シングルモード導波路であることが好ま
しい。ハーフミラー23は、光学薄膜、等を具え、入射
光を反射光と透過光(透過光は図示されない)とに分離
する。ダブルモード導波路アレイ8は、被検物体5に照
射する光スポットの数以上の、直線状に並んだ複数の対
のダブルモード導波路12と分岐導波路13、14から
構成されている。光検出器アレイ100は、被検物体5
に照射する光スポットの数以上の、直線状に並んだ複数
の対の光検出器15、16から構成されている。複数の
差動増幅器9は、被検物体5に照射する光スポットの数
以上の、直線状に並んだ複数の差動増幅器17から構成
されている。
【0022】光源1から発せられた光は基板20上に形
成された分岐導波路21に入射し、複数の導波路に分岐
された後に複数の導波路端面(出射端)から出射され
る。出射された光はコリメータレンズ22で平行光とな
った後、ハーフミラー23で反射され、対物レンズ24
によって被検物体5上に複数の光スポットとなって集光
される。被検物体5上の複数の点で反射した光は再び対
物レンズ4を通り、ハーフミラー23を透過して、集光
レンズ26によって、基板10上に形成されたダブルモ
ード導波路アレイ12の各入射端面23の各入射位置1
1にに集光される。即ち複数の点が各々の入射端面上に
結像する。ここで、各入射端面23に於ける入射位置1
1は、各ダブルモード導波路の中心から横方向にわずか
にシフトした位置に来るよう各々調整されている。横方
向にわずかにシフトした位置の意味は実施の形態1の場
合と全く同様である。各ダブルモード導波路12の各入
射位置11に入射した各入射光は、各ダブルモード導波
路12をモード干渉を起こしながら伝搬し、各入射端面
23からLの長さだけ伝搬したところで各入射光は各導
波路13、14に分岐する。一つのダブルモード導波路
12から分岐して各導波路13、14を伝搬したあと各
導波路13、14を出射する各出射光は、各導波路1
3、14の端に各々設けられた各光検出器15、16で
検出され、差動増幅器17で光検出器15の出力と光検
出器16の出力の差、即ち差動信号18がとられる。こ
の差動信号18は各ダブルモード導波路12に対して同
時に取られる。
成された分岐導波路21に入射し、複数の導波路に分岐
された後に複数の導波路端面(出射端)から出射され
る。出射された光はコリメータレンズ22で平行光とな
った後、ハーフミラー23で反射され、対物レンズ24
によって被検物体5上に複数の光スポットとなって集光
される。被検物体5上の複数の点で反射した光は再び対
物レンズ4を通り、ハーフミラー23を透過して、集光
レンズ26によって、基板10上に形成されたダブルモ
ード導波路アレイ12の各入射端面23の各入射位置1
1にに集光される。即ち複数の点が各々の入射端面上に
結像する。ここで、各入射端面23に於ける入射位置1
1は、各ダブルモード導波路の中心から横方向にわずか
にシフトした位置に来るよう各々調整されている。横方
向にわずかにシフトした位置の意味は実施の形態1の場
合と全く同様である。各ダブルモード導波路12の各入
射位置11に入射した各入射光は、各ダブルモード導波
路12をモード干渉を起こしながら伝搬し、各入射端面
23からLの長さだけ伝搬したところで各入射光は各導
波路13、14に分岐する。一つのダブルモード導波路
12から分岐して各導波路13、14を伝搬したあと各
導波路13、14を出射する各出射光は、各導波路1
3、14の端に各々設けられた各光検出器15、16で
検出され、差動増幅器17で光検出器15の出力と光検
出器16の出力の差、即ち差動信号18がとられる。こ
の差動信号18は各ダブルモード導波路12に対して同
時に取られる。
【0023】各ダブルモード導波路12の長さLは、実
施の形態1の場合と全く同様に完全結合長(ダブルモー
ド導波路の伝搬モードの0次モードと1次モードの位相
差がπとなる長さ)をLc とすると、物体の位相分布を
観察する条件である L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・) (1) により与えられる。
施の形態1の場合と全く同様に完全結合長(ダブルモー
ド導波路の伝搬モードの0次モードと1次モードの位相
差がπとなる長さ)をLc とすると、物体の位相分布を
観察する条件である L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・) (1) により与えられる。
【0024】実施の形態1で説明したように、図5の関
係より、差動信号18から被検物体5への照射光の集光
点のフォーカスエラー(焦点位置ずれ量)を知ることが
でき、焦点位置ずれ量は照射光の集光点の変位に対応す
る。従って被検物体を走査することによって被検物体の
表面形状を測定することができる。従来例のような光ス
ポットが1点の表面形状測定装置では被検物体5面全体
をただ1点の光スポットで走査しなければならないのに
対して、本実施の形態2の表面形状測定装置では同時に
多点の計測が行えるので、被検物体5面全体を計測する
ために、多点の光スポットで被検物体5面の各部分領域
を分担して走査すれば良い。従って、計測時間も大幅に
短縮できる。
係より、差動信号18から被検物体5への照射光の集光
点のフォーカスエラー(焦点位置ずれ量)を知ることが
でき、焦点位置ずれ量は照射光の集光点の変位に対応す
る。従って被検物体を走査することによって被検物体の
表面形状を測定することができる。従来例のような光ス
ポットが1点の表面形状測定装置では被検物体5面全体
をただ1点の光スポットで走査しなければならないのに
対して、本実施の形態2の表面形状測定装置では同時に
多点の計測が行えるので、被検物体5面全体を計測する
ために、多点の光スポットで被検物体5面の各部分領域
を分担して走査すれば良い。従って、計測時間も大幅に
短縮できる。
【0025】実施の形態1、実施の形態2では検出部と
してダブルモード導波路を用いた例を示したが、特開平
7−139908に開示されたような、導波路型干渉計
をアレイ状に複数配置した検出部を具えた表面形状測定
装置も本発明の範囲に含まれる。 [実施の形態3]図7は本実施の形態を説明する図であ
る。簡単のためにダブルモード導波路と二つの導波路の
対を一つのみ示したが、これらは実施の形態1、2に示
されたダブルモード導波路アレイの全てのダブルモード
導波路に適用され、全体の概略構成は、電極部分を除け
ば実施の形態1、2と同じである。
してダブルモード導波路を用いた例を示したが、特開平
7−139908に開示されたような、導波路型干渉計
をアレイ状に複数配置した検出部を具えた表面形状測定
装置も本発明の範囲に含まれる。 [実施の形態3]図7は本実施の形態を説明する図であ
る。簡単のためにダブルモード導波路と二つの導波路の
対を一つのみ示したが、これらは実施の形態1、2に示
されたダブルモード導波路アレイの全てのダブルモード
導波路に適用され、全体の概略構成は、電極部分を除け
ば実施の形態1、2と同じである。
【0026】図7で23は入射端面、11は光スポット
像の入射位置、12はダブルモード導波路で、少なくと
もコアーの部分が電気光学効果を有するニオブ酸リチウ
ムのような材料から形成されている。24、25は電
極、26、27は電極24、25間に電圧を与えるため
に電源に接続されている。13、14は分岐された二つ
の導波路、15、16は各光検出器である。
像の入射位置、12はダブルモード導波路で、少なくと
もコアーの部分が電気光学効果を有するニオブ酸リチウ
ムのような材料から形成されている。24、25は電
極、26、27は電極24、25間に電圧を与えるため
に電源に接続されている。13、14は分岐された二つ
の導波路、15、16は各光検出器である。
【0027】ここで、ダブルモード導波路の長さをLと
し、前記両電極間に電圧を印加しないときの前記ダブル
モード導波路における0次モードと1次モードとの間の
完全結合長がLc 1であり、 L≠Lc 1(2m+1)/2 (m=0,1,2,・・
・の正整数) となっている。ここで、適当な電圧を印加すると、導波
路は電気光学材料から形成されているので、電圧印加に
よって屈折率が変化する。その結果、今、完全結合長が
Lc 1とは異なるLc へ変化したとする。このようにし
て、 L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・
の正整数) の関係を満たすようにすることができるのである。
し、前記両電極間に電圧を印加しないときの前記ダブル
モード導波路における0次モードと1次モードとの間の
完全結合長がLc 1であり、 L≠Lc 1(2m+1)/2 (m=0,1,2,・・
・の正整数) となっている。ここで、適当な電圧を印加すると、導波
路は電気光学材料から形成されているので、電圧印加に
よって屈折率が変化する。その結果、今、完全結合長が
Lc 1とは異なるLc へ変化したとする。このようにし
て、 L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・
の正整数) の関係を満たすようにすることができるのである。
【0028】この実施の形態3は、ダブルモード導波路
の長さLと完全結合長Lc との関係式(1)を充たすよ
うに容易に調整できる表面形状測定装置を提供する。以
上、ダブルモード導波路のコアーの部分を電気光学効果
を有する材料で形成したが、コア─の部分を熱光学効果
を有する材料で形成しても良い。この材料としては、通
常の光学硝子が好ましいが、ゲルマニウムをド─プした
硝子、特にゲルマニウムをド─プしたSiO硝子がより
好ましい。熱光学効果を有する材料を用いた場合は、電
極24、25に換えてヒ─タを用いる。
の長さLと完全結合長Lc との関係式(1)を充たすよ
うに容易に調整できる表面形状測定装置を提供する。以
上、ダブルモード導波路のコアーの部分を電気光学効果
を有する材料で形成したが、コア─の部分を熱光学効果
を有する材料で形成しても良い。この材料としては、通
常の光学硝子が好ましいが、ゲルマニウムをド─プした
硝子、特にゲルマニウムをド─プしたSiO硝子がより
好ましい。熱光学効果を有する材料を用いた場合は、電
極24、25に換えてヒ─タを用いる。
【0029】以上、実施形態1、実施形態2、実施形態
3によって本発明を説明したが、本発明によれば、被検
物体の表面形状測定を従来の装置よりも高速で行うこと
ができる。更に、実施形態3によれば、ダブルモード導
波路の長さと完全結合長との関係を容易に調整できる。
3によって本発明を説明したが、本発明によれば、被検
物体の表面形状測定を従来の装置よりも高速で行うこと
ができる。更に、実施形態3によれば、ダブルモード導
波路の長さと完全結合長との関係を容易に調整できる。
【0030】
【発明の効果】被検物体上の複数の点を同時に測定でき
るので、表面形状測定を従来の装置よりも高速で行うこ
とができる。更に、実施形態3によれば、ダブルモード
導波路の長さと完全結合長との関係を容易に調整でき
る。
るので、表面形状測定を従来の装置よりも高速で行うこ
とができる。更に、実施形態3によれば、ダブルモード
導波路の長さと完全結合長との関係を容易に調整でき
る。
【図1】実施の形態1による表面形状測定装置の概略構
成図。
成図。
【図2】実施の形態2による表面形状測定装置の概略構
成図。
成図。
【図3】従来例による焦点検出および変位検出装置の概
略構成図。
略構成図。
【図4】従来例による焦点検出および変位検出装置の原
理説明図。
理説明図。
【図5】従来例による焦点検出および変位検出装置の差
動信号とフォーカスエラー信号との関係。
動信号とフォーカスエラー信号との関係。
【図6】ダブルモード導波路の中心から横方向にわずか
にシフトした入射位置の意味の説明図。
にシフトした入射位置の意味の説明図。
【図7】実施の形態3を説明する図。
【符号の説明】 1 光源 2 コリメータレンズ 3 ハーフミラーアレイ 4 対物レンズアレイ 5 被検物体 6 集光レンズアレイ 7 ハーフミラー 8 ダブルモード導波路アレイ 9 複数の差動増幅器 10 基板 11 入射位置 12 ダブルモード導波路 13 導波路 14 導波路 15 光検出器 16 光検出器 17 差動増幅器 18 差動信号 20 等位相面 21 光線 22 集光・結像された光スポット像のダブルモード導
波路に入射する部分 23 入射端面 24 電極 25 電極 26 電源に接続されている端子 27 電源に接続されている端子 30 コリメータレンズアレイ 31 ハーフミラー 100光検出器アレイ A ダブルモード導波路に光が入らない入射位置を示
す B 光スポット像の入射位置を示す C ダブルモード導波路の中心位置を示す
波路に入射する部分 23 入射端面 24 電極 25 電極 26 電源に接続されている端子 27 電源に接続されている端子 30 コリメータレンズアレイ 31 ハーフミラー 100光検出器アレイ A ダブルモード導波路に光が入らない入射位置を示
す B 光スポット像の入射位置を示す C ダブルモード導波路の中心位置を示す
Claims (5)
- 【請求項1】被検物体上の2点以上に同時に光を照射す
るための照射部と、前記被検物体上の各照射点からの各
反射光を同時に検出するための検出部とを具え、前記検
出部が、前記検出のために前記各反射光を入射させるた
めの基板上に形成された各チャネル導波路を具えること
を特徴とする表面形状測定装置。 - 【請求項2】前記各チャネル導波路は、ダブルモード導
波路と、前記ダブルモード導波路から分岐された2本の
導波路とを具え、さらに前記検出部は、前記各チャネル
導波路毎に、前記2本の導波路を伝搬する光を検出する
ための各検出素子を前記2本の導波路の各端部に具える
ことを特徴とする請求項1記載の表面形状測定装置。 - 【請求項3】前記反射光が、前記ダブルモード導波路の
中心からわずかにシフトした位置に集光されるよう調整
され、前記ダブルモード導波路内の光強度分布の非対称
性を検出することによって前記被検物体の表面形状を測
定することを特徴とする請求項2記載の表面形状測定装
置。 - 【請求項4】前記ダブルモード導波路の長さをLとし、
前記ダブルモード導波路における0次モードと1次モー
ドとの間の完全結合長をLc とするとき、 L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・
の正整数) を満たすことを特徴とする請求項2〜3何れか1項記載
の表面形状測定装置。 - 【請求項5】前記ダブルモード導波路の少なくともコア
ー部分が、電気光学効果、または熱光学効果を呈する材
料から成り、更に、前記ダブルモード導波路に電圧を印
加するための電極を両側方に具え、前記ダブルモード導
波路の長さをLとし、前記両電極間に電圧を印加しない
ときの前記ダブルモード導波路における0次モードと1
次モードとの間の完全結合長をLc 1とし、適当な電圧
を印加したときの完全結合長をLc 1とは異なるLc と
するとき、 L=Lc (2m+1)/2 (m=0,1,2,・・・
の正整数) を満たすことを特徴とする請求項2〜3何れか1項記載
の表面形状測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11047484A JP2000241114A (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 表面形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11047484A JP2000241114A (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 表面形状測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000241114A true JP2000241114A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12776412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11047484A Pending JP2000241114A (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 表面形状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000241114A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010060532A (ja) * | 2008-09-08 | 2010-03-18 | Raytex Corp | 表面検査装置 |
| JP2022097758A (ja) * | 2020-10-07 | 2022-06-30 | 株式会社日立ハイテク | 発光検出装置 |
-
1999
- 1999-02-25 JP JP11047484A patent/JP2000241114A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010060532A (ja) * | 2008-09-08 | 2010-03-18 | Raytex Corp | 表面検査装置 |
| JP2022097758A (ja) * | 2020-10-07 | 2022-06-30 | 株式会社日立ハイテク | 発光検出装置 |
| JP7329658B2 (ja) | 2020-10-07 | 2023-08-18 | 株式会社日立ハイテク | 発光検出装置 |
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