JPH1120138A - インキ供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オフセット印刷において、印面に斑点や筋目
などの印刷障害の無い常に安定した高品質の色刷りを行
うことができるインキ供給装置を提供すること。 【解決手段】 インキつぼ４からインキを供給されるイ
ンキ元ローラ５と、このインキ元ローラ５に備えられ、
インキ元ローラ５に供給されるインキ供給量を制限する
ドクタブレード７と、上記インキ元ローラ５からインキ
を受け渡され、かつ、インキ元ローラ５に対して周速差
を有して回転駆動されるインキ受け渡しローラ８と、こ
のインキ受け渡しローラ８に受け渡されたインキを版胴
１へ向けて供給するローラとを有するオフセット印刷機
におけるインキ供給装置において、上記インキ受け渡し
ローラ８の表面におけるインキ被膜の凹凸を平滑化する
ためのインキならし手段１４（１５）を、上記インキ受
け渡しローラ８に併設したこと。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、オフセット印刷機
の版胴へインキを送り出すためのインキ供給装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】オフセット印刷機の版胴へインキを送り
出すためのインキ供給装置には、いろいろの方式がある
が、インキつぼとドクタブレードを用いた連続式のイン
キ供給装置が、従来より主として高速オフセット輪転機
の色刷りに、最近ではキーレス・オフセット輪転機に用
いられている。

【０００３】図５は、従来より高速オフセット輪転機に
適用されている連続式インキ供給装置の一例であって、
幅方向のインキ供給量を調整するインキキーを備えたも
のである。この装置では、インキつぼ１００の両側面１
０１の円弧部分１０１ａがインキ元ローラ１０２の外周
面にインキが洩れないように当接し、この両側面１０１
間にインキつぼ１００の傾斜した底面を形成するドクタ
ブレード１０３が設けられている。

【０００４】このドクタブレード１０３は、複数の相接
する分割ブレードで形成され、各分割ブレードの先端
は、インキ元ローラ１０２との隙間を個々に調整できる
ようになっており、インキ元ローラ１０２の回転により
インキつぼ１００より送り出されるインキ被膜の厚さを
部分的に調整できるようにしている。この装置のインキ
受け渡しローラ１０４は、表面が胴メッキされ、後述す
る版胴１０５とほぼ同じ周速で機械駆動されている。こ
のインキ受け渡しローラ１０４は、単独に低速で回転し
ているインキ元ローラ１０２に対し、微小な隙間Ｃを有
してインキ元ローラ１０２から、インキを連続的に受取
り、このインキ被膜をインキ受け渡しローラ１０４に加
圧接触して回転する次のゴムローラ１０６に転移させ、
インキを順次、版胴１０５へ向けて送り出す構造になっ
ている。

【０００５】また、図６は、新聞用オフセット輪転機に
近年登場してきたキーレス方式のインキ供給装置の一例
を示したもので、図５と同一部分は同符号を付して説明
する。この装置では、インキ供給ノズル１０７を介して
インキ元ローラ１０２にインキを噴射するもので、イン
キ供給ノズル１０７からインキ元ローラ１０２の表面に
噴射されたインキは、インキ供給ドクタと称するドクタ
ブレード１０８で厚めの一様な厚さの被膜に絞られる。
そして、このインキ被膜がインキ元ローラ１０２に対し
て加圧接触し、かつ周速差のあるインキ受け渡しローラ
１０９に転移される。インキ受け渡しローラ１０９は、
表面にゴム巻きを施し、インキの受理性を良くするため
の粗面加工を行ったものである。インキ元ローラ１０２
の表面に噴射されたインキは、インキ受け渡しローラ１
０９とのスリップにより、薄い均一なインキ被膜となっ
てインキ受け渡しローラ１０９に転移する。インキ受け
渡しローラ１０９上に転移した均一な被膜のインキは、
インキ受け渡しローラ１０９に加圧接触している次のゴ
ムローラ１０６に転移していく。

【０００６】なお、この装置では、履歴解消ドクタと称
するドクタブレード１１０を備え、表面に銅メッキを施
したドクタローラと称するインキ掻き落とし用のローラ
１１１が上記ゴムローラ１０６に加圧接触している。こ
の履歴解消用のドクタブレード１１０は、版胴１０５か
らローラ１１２→ローラ１１３→ローラ１１４→ゴムロ
ーラ１０６を通してドクタローラ１１１に戻ってくる湿
し水を含んだ残インキを掻き落とし、前記ゴムローラ１
０６からは、常に新鮮な被膜のインキを受け取って版胴
１０５へ供給する構造になっている。

【０００７】また、図７は、同じく新聞用オフセット輪
転機におけるキーレス方式のインキ供給装置の他の例を
示したもので、図５および図６と同一部分は同符号を付
して説明する。この装置では、インキ元ローラ１０２が
インキつぼ１１５内のインキに浸かって回転し、インキ
を送り出す。インキ受け渡しローラ１１６は、アニロッ
クスローラと同様の機能を果たし、インキの定量供給が
できるように、表面にセラミックを含んだ樹脂をコーテ
イングした特殊な表面処理を施し、インキ元ローラ１０
２に対して微小な間隙を有している。このインキ受け渡
しローラ１１６のインキ送り出し側には、ドクタブレー
ド１１７が当接されている。インキ元ローラ１０２から
インキ受け渡しローラ１１６の表面に転移されたインキ
は、このドクタブレード１１７によって余分のインキが
掻き落とされ、インキ受け渡しローラ１１６上の樹脂層
の表面と粒子の頭部との僅かな隙間に残ったインキが適
当な被膜を作り、これが次のゴムローラ１０６に転移
し、ローラ１１８、ローラ１１９を介して版胴１０５に
供給される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のオフセット印刷機におけるインキ供給装置には、次
のような課題が内在していた。図５および図７に示した
インキ元ローラ１０２とインキ受け渡しローラ１０４，
１１６との間に微小な間隙Ｃを有している構造のもので
は、インキ受け渡しローラ１０４，１１６に転移される
インキ被膜が厚めになり、かつインキ被膜に僅かに凹凸
を有し、これが順次、次のローラ１０６等に転移してい
くため、印面に斑点や筋目などの印刷障害が現れ、特に
色刷りの更なる品質向上が望めなかった。また、図６に
示したインキ受け渡しローラ１０９がインキ元ローラ１
０２に対して周速差をもって加圧接触している構造のも
のは、インキ受け渡しローラ１０９上に転移されるイン
キ被膜が、薄く、均一化される反面、大きな動力を要
し、発熱対策として冷却が必要であった。

【０００９】本発明は上記課題を解決し、オフセット印
刷において、印面に斑点や筋目などの印刷障害の無い常
に安定した高品質の色刷りを行うことができるインキ供
給装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため、インキつぼからインキを供給されるインキ元
ローラと、このインキ元ローラに備えられ、インキ元ロ
ーラに供給されるインキ供給量を制限するドクタブレー
ドと、上記インキ元ローラからインキを受け渡され、か
つ、インキ元ローラに対して周速差を有して回転駆動さ
れるインキ受け渡しローラと、このインキ受け渡しロー
ラに受け渡されたインキを版胴へ向けて供給するローラ
とを有するオフセット印刷機におけるインキ供給装置に
おいて、上記インキ受け渡しローラの表面におけるイン
キ被膜の凹凸を平滑化するためのインキならし手段を、
上記インキ受け渡しローラに併設したことにある。ま
た、本発明は、インキならし手段が、上記インキ受け渡
しローラの幅と略等しい幅を有し、かつインキ受け渡し
ローラに当接する回転自在なローラであることにある。
さらに、本発明は、インキならし手段が、上記インキ受
け渡しローラの幅と略等しい幅を有し、かつインキ受け
渡しローラに当接する板部材であることにある。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面を
参照しながら詳細に説明する。

【００１２】図１は、本発明の第１の実施の形態による
オフセット輪転機におけるキーレス方式のインキ供給装
置を示す配置図である。図１において、オフセット輪転
機の版胴１は、ブランケット胴２に版を転写して、ブラ
ンケット胴２と図示しない圧胴との接触回転により、相
互間に供給される紙面に印刷を行う。この版胴１には、
一対のインキ着けローラ３，３が接触して回転してお
り、これらインキ着けローラ３，３から版胴１の版面に
インキが供給される。これらインキ着けローラ２には、
以下のようなローラ群を介してインキが伝達されてい
る。

【００１３】上記版胴１に供給するインキは、インキつ
ぼ４に収容されており、このインキつぼ４内のインキが
インキ元ローラ５に供給される。このインキ元ローラ５
は、表面に銅メッキが施されており、図示しない単独可
変速モータによって回転駆動されている。このインキ元
ローラ５には、インキ供給ノズル６が隣接して設けられ
ており、このインキ供給ノズル６からインキ元ローラ５
の表面にインキつぼ４内のインキが噴射されるものであ
る。

【００１４】上記インキ元ローラ５には、ドクタブレー
ド７が近接して配設されており、このドクタブレード７
は、インキ元ローラ５の表面に噴射されたインキを制限
して一様な厚さのインキ被膜を形成するものである。こ
のドクタブレード７はインキ元ローラ５に対して一体で
の間隙調整が可能である。

【００１５】また、上記インキ元ローラ５からインキが
送られるインキ受け渡しローラ８は、インキ元ローラ５
と微小隙間Ｃを有して配設されており、このインキ受け
渡しローラ８は、版胴１とほぼ同じ周速で回転駆動され
ている。このインキ受け渡しローラ８には、インキの受
理性を良くするため、表面に、銅メッキして粗面加工が
施されている。なお、このインキ受け渡しローラ８は、
表面に銅メッキに限らず、ゴム巻で、連続した微細な溝
加工を施すことにより、インキの受理性を高めるととも
に、インキ元ローラ５に対する微小隙間Ｃを形成してい
るものであっても良い。

【００１６】このインキ受け渡しローラ８のインキは、
インキ受け渡しローラ８に加圧接触している次のゴムロ
ーラ９に受け渡され、このゴムローラ９のインキを、ロ
ーラ１０、ローラ１１を介して上記インキ着けローラ
３，３に供給する。このゴムローラ９には、ローラ１０
の他に、表面に銅メッキが施されたインキ掻き落とし用
のドクタローラ１２が接触しており、このドクタローラ
１２は、図示しない歯車で駆動されて、軸方向に往復動
しながら回転するものである。このドクタローラ１２に
は、ドクタブレード１３が当接しており、このドクタブ
レード１３は版胴１からドクタローラ１２上に戻ってく
る湿し水を含んだ残インキを掻き落とすものである。

【００１７】本発明のインキ供給装置は上記のように構
成されたキーレス・オフセット輪転機のインキ供給装置
に適用したもので、上記インキ受け渡しローラ８の幅方
向（軸方向）に、インキ受け渡しローラ８上におけるイ
ンキ被膜の凹凸を平滑化するためのインキならし手段を
取り付けたものである。このインキならし手段はインキ
受け渡しローラ８のインキ戻り側にローラ全幅に当接す
る回転自在な当てローラ（ローラ）１４である。この当
てローラ１４の表面は、金属に限らず樹脂などの被膜を
施したものであってもよい。さらに、この当てローラ１
４は、図１に二点鎖線にて示すように、インキ受け渡し
ローラ８のインキ送り出し側に当てローラ１４′を設け
たものでも良い。

【００１８】上記構成の作用を説明する。輪転機の運転
を開始し、インキ循環ポンプが起動すると、インキつぼ
４の新鮮なインキがインキ供給ノズル６からインキ元ロ
ーラ５の表面に噴射される。インキ元ローラ５に付着し
たインキは、インキ元ローラ５の回転により、ドクタブ
レード７で制限されて、一様な厚さのインキ被膜が形成
される。インキ元ローラ５から送られてくる被膜状のイ
ンキは、インキ元ローラ５とインキ受け渡しローラ８間
の微小隙間Ｃを通ってインキ元ローラ５より速い周速で
回転しているインキ受け渡しローラ８の表面に適当なイ
ンキ被膜となって受け渡される。したがって、版胴単位
での紙面濃度調整を要する場合には、インキ元ローラ５
の回転速度を調整するか、または、インキ元ローラ５に
対するドクタブレード７の間隙を変えることにより、容
易に調整することができる。

【００１９】そして、インキ受け渡しローラ８には、当
てローラ１４（または当てローラ１４′）が圧接されて
いるので、ならし効果によりインキの乗りムラが消され
て平滑化され、インキ受け渡しローラ８上には、凹凸の
無い均一なインキ被膜が形成される。この均一なインキ
被膜がインキ受け渡しローラ８からゴムローラ９に転移
し、順次、次のローラ１０、ローラ１１を経てインキ着
けローラ３，３を介して版胴１に供給される。このと
き、インキ受け渡しローラ８に、当てローラ１４（また
は当てローラ１４′）を設けていない場合には、インキ
受け渡しローラ８上に転移したインキ被膜に、インキ受
け渡しローラ８の戻り側表面に発生していた斑点状のイ
ンキの乗りムラに、インキ元ローラ５から受け渡される
ときに生じる糸引き現象が重なって凹凸が生じることに
なる。

【００２０】なお、この装置では、履歴解消用のドクタ
ブレード１３が、版胴１からドクタローラ１２に戻って
くる湿し水を含んだ残インキを掻き落とすので、前記ゴ
ムローラ９からは、常に新鮮な被膜のインキを受け取っ
て版胴１へ供給する。

【００２１】この実施の形態では、インキ受け渡しロー
ラ８から送り出されてくるインキ被膜は、インキならし
手段としての当てローラ１４（または当てローラ１
４′）によって平滑化され、凹凸のない均一なインキ被
膜が形成されており、この均一なインキ被膜を順次、次
のゴムローラ９等に転移していくため、印面に斑点や筋
目などの印刷障害の無い常に安定した高品質の色刷りを
行うことができる。インキ元ローラ５とインキ受け渡し
ローラ８間に微小隙間Ｃを持たせ、インキ受け渡しロー
ラ８に当てローラ１４（または当てローラ１４′）を当
接させることによって、安定した高品質の色刷りができ
るようにしているため、従来より大きな動力を必要とし
なくなり、しかも冷却対策も不要となる。インキならし
手段が回転自在な当てローラ１４（または当てローラ１
４′）形式であるため、直線精度が良く、インキ受け渡
しローラ８の表面に均一に当接するので、インキ受け渡
しローラ８上のインキ被膜の凹凸を平滑化する機能が大
である。

【００２２】図２は本発明の第２の実施の形態で、図１
と同一部分は同符号を付して、その説明を省略して示
す。この場合、インキ受け渡しローラ８の幅方向に設け
るインキならし手段として当て板（板部材）１５を設け
たものである。この当て板１５はインキ受け渡しローラ
８の幅と略等しい幅を有し、インキ受け渡しローラ８の
インキ戻り側に均一に当接するものである。この当て板
１５は、金属に限らず表面に樹脂などの被覆を施したも
のであっても良い。また、この当て板１５の取付位置
は、図２に二点鎖線にて当て板１５′を示す如くインキ
受け渡しローラ８のインキ送り出し側に設けたものとし
てもよい。この第２の実施の形態では、インキ受け渡し
ローラ８から送り出されてくるインキ被膜は、インキな
らし手段としての当て板１５（または当て板１５′）に
よって平滑化され、凹凸のない均一なインキ被膜が形成
されており、この均一なインキ被膜を順次、次のゴムロ
ーラ９等に転移していくため、印面に斑点や筋目などの
印刷障害の無い常に安定した高品質の色刷りを行うこと
ができる。インキ元ローラ５とインキ受け渡しローラ８
間に微小隙間Ｃを持たせ、インキ受け渡しローラ８に当
て板１５（または当て板１５′）を当接させることによ
って、安定した高品質の色刷りができるようにしている
ため、従来より大きな動力を必要としなくなり、しかも
冷却対策も不要となる。インキならし手段が当て板１５
（または当て板１５′）形式であるため、直線精度が良
く、インキ受け渡しローラ８の表面に均一に当接するの
で、インキ受け渡しローラ８上のインキ被膜の凹凸を平
滑化する機能が大である。なお、この当て板１５（また
は当て板１５′）は非回転式であるため、高速運転時に
もインキの飛散が無い利点がある。

【００２３】図３は、図５で説明した高速オフセット輪
転機に適用されている連続式インキ供給装置に本発明を
適用した第３の実施の形態を示す配置図である。この装
置では、インキ元ローラ１６には、インキつぼ１７の両
側面１８の端面に形成された円弧部分１８ａが外周面に
当接してインキが両側に洩れないように構成されてい
る。このインキつぼ１７の両側面１８間には、インキつ
ぼ１６の傾斜した底面を形成するドクタブレード１９が
設けられており、このドクタブレード１９の傾斜面に沿
ってインキ元ローラ１６にインキが供給される。

【００２４】このドクタブレード１９は、複数の相接す
る分割ブレードで形成されており、各分割ブレードの先
端は、インキ元ローラ１６との隙間を個々に調整できる
ように構成されている。ドクタブレード１９は、インキ
元ローラ１６の回転によりインキつぼ１７より送り出さ
れるインキ被膜の厚さを部分的に調整できるようにして
いる。この装置のインキ受け渡しローラ２０は、表面が
胴メッキされ、版胴２１とほぼ同じ周速で機械駆動され
ている。このインキ受け渡しローラ２０は、単独に低速
で回転しているインキ元ローラ１６に対し、微小な隙間
Ｃを有してインキ元ローラ１６から、インキを連続的に
受取り、このインキ被膜をインキ受け渡しローラ２０に
加圧接触して回転する次のゴムローラ２２に転移させ、
ローラ群２３を介してインキを順次、版胴２１へ向けて
送り出す構造になっている。

【００２５】そして、上記インキ受け渡しローラ２０の
幅方向に本発明のインキならし手段としての回転自在な
当てローラ２４をインキ戻り側に配設したものである。
この当てローラ２４の材質、その他については第１の実
施の形態で説明した構造と同様である。また、当てロー
ラ２４の設置位置は図３に二点鎖線で、当てローラ２
４′を示すようにインキ受け渡しローラ２０のインキ送
り出し側に設けても良い。この第３の実施の形態では、
インキ受け渡しローラ２０から送り出されてくるインキ
被膜は、インキならし手段としての当てローラ２４（ま
たは当てローラ２４′）によって平滑化され、凹凸のな
い均一なインキ被膜が形成されており、この均一なイン
キ被膜を順次、次のゴムローラ２２等に転移していくた
め、印面に斑点や筋目などの印刷障害の無い常に安定し
た高品質の色刷りを行うことができる。インキ元ローラ
１６とインキ受け渡しローラ２０間に微小隙間Ｃを持た
せ、インキ受け渡しローラ２０に当てローラ２４（また
は当てローラ２４′）を当接させることによって、安定
した高品質の色刷りができるようにしているため、従来
より大きな動力を必要としなくなり、しかも冷却対策も
不要となる。インキならし手段が回転自在な当てローラ
２４（または当てローラ２４′）形式であるため、直線
精度が良く、インキ受け渡しローラ２０の表面に均一に
当接するので、インキ受け渡しローラ２０上のインキ被
膜の凹凸を平滑化する機能が大である。

【００２６】図４は本発明の第４の実施の形態で、図３
と同一部分は同符号を付してその説明を省略して示す。
この場合、インキ受け渡しローラ２０の幅方向に本発明
のインキならし手段として当て板２５を配設したもので
ある。この当て板２５は、材質、その他については、第
２の実施の形態で説明した当て板１５と同様である。こ
の当て板２５の取付位置は、図４に二点鎖線にて当て板
２５′を示す如くインキ受け渡しローラ８のインキ送り
出し側に設けたものとしてもよい。この第４の実施の形
態では、インキ受け渡しローラ２０から送り出されてく
るインキ被膜は、インキならし手段としての当て板２５
（または当て板２５′）によって平滑化され、凹凸のな
い均一なインキ被膜が形成されており、この均一なイン
キ被膜を順次、次のゴムローラ２２等に転移していくた
め、印面に斑点や筋目などの印刷障害の無い常に安定し
た高品質の色刷りを行うことができる。インキ元ローラ
１６とインキ受け渡しローラ２０間に微小隙間Ｃを持た
せ、インキ受け渡しローラ２０に当て板２５（または当
て板２５′）を当接させることによって、安定した高品
質の色刷りができるようにしているため、従来より大き
な動力を必要としなくなり、しかも冷却対策も不要とな
る。インキならし手段が回転自在な当て板２５（または
当て板２５′）形式であるため、直線精度が良く、イン
キ受け渡しローラ２０の表面に均一に当接するので、糸
引きがないことから、インキ受け渡しローラ２０上のイ
ンキ被膜の凹凸を平滑化する機能が大である。

【００２７】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によるインキ
供給装置によれば次のような効果を奏することができ
る。請求項１において、インキつぼからインキを供給さ
れるインキ元ローラと、このインキ元ローラに備えら
れ、インキ元ローラに供給されるインキ供給量を制限す
るドクタブレードと、上記インキ元ローラからインキを
受け渡され、かつ、インキ元ローラに対して周速差を有
して回転駆動されるインキ受け渡しローラと、このイン
キ受け渡しローラに受け渡されたインキを版胴へ向けて
供給するローラとを有するオフセット印刷機におけるイ
ンキ供給装置において、上記インキ受け渡しローラの表
面におけるインキ被膜の凹凸を平滑化するためのインキ
ならし手段を、上記インキ受け渡しローラに併設したの
で、インキ受け渡しローラから送り出されてくるインキ
被膜は、インキならし手段によって平滑化され、凹凸の
ない均一なインキ被膜が形成され、この均一なインキ被
膜を順次、次のローラ等に転移していくことから、印面
に斑点や筋目などの印刷障害の無い常に安定した高品質
の色刷りを行うことができる。よって、従来より大きな
動力を必要としなくなり、しかも冷却対策も不要とな
る。請求項２において、インキならし手段が、上記イン
キ受け渡しローラの幅と略等しい幅を有し、かつインキ
受け渡しローラに当接する回転自在なローラであること
から、直線精度が良く、インキ受け渡しローラの表面に
均一に当接するので、インキ受け渡しローラ上のインキ
被膜の凹凸を平滑化する機能が大である。請求項３にお
いて、インキならし手段が、上記インキ受け渡しローラ
の幅と略等しい幅を有し、かつインキ受け渡しローラに
当接する板部材であることから、直線精度が良く、イン
キ受け渡しローラの表面に均一に当接するので、インキ
受け渡しローラ上のインキ被膜の凹凸を平滑化する機能
が大である。また、板部材は非回転式であるため、高速
運転時にもインキの飛散が無い利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のインキ供給装置の第１の実施の形態を
示す配置図である。

【図２】本発明のインキ供給装置の第２の実施の形態を
示す配置図である。

【図３】本発明のインキ供給装置の第３の実施の形態を
示す配置図である。

【図４】本発明のインキ供給装置の第４の実施の形態を
示す配置図である。

【図５】従来の高速オフセット輪転機に適用されている
連続式インキ供給装置を示す配置図である。

【図６】従来の新聞用オフセット輪転機に用いられるキ
ーレス方式のインキ供給装置を示す配置図である。

【図７】従来の新聞用オフセット輪転機に用いられるキ
ーレス方式のインキ供給装置を示す配置図である。

【符号の説明】 １，２１ オフセット輪転機の版胴 ２ ブランケット胴 ３ インキ着けローラ ４，１７ インキつぼ ５，１６ インキ元ローラ ６ インキ供給ノズル ７ ドクタブレード ８，２０ インキ受け渡しローラ ９，２２ ゴムローラ １２ ドクタローラ １３ ドクタブレード １４，１４′，２４，２４′ 当てローラ（インキなら
し手段） １５，１５′，２５，２５′ 当て板（インキならし手
段） １６ インキ元ローラ １７ インキつぼ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 インキつぼからインキを供給されるイン
   キ元ローラと、このインキ元ローラに備えられ、インキ
   元ローラに供給されるインキ供給量を制限するドクタブ
   レードと、上記インキ元ローラからインキを受け渡さ
   れ、かつ、インキ元ローラに対して周速差を有して回転
   駆動されるインキ受け渡しローラと、このインキ受け渡
   しローラに受け渡されたインキを版胴へ向けて供給する
   ローラとを有するオフセット印刷機におけるインキ供給
   装置において、上記インキ受け渡しローラの表面におけ
   るインキ被膜の凹凸を平滑化するためのインキならし手
   段を、上記インキ受け渡しローラに併設したことを特徴
   とするインキ供給装置。
2. 【請求項２】 上記インキならし手段が、上記インキ受
   け渡しローラの幅と略等しい幅を有し、かつインキ受け
   渡しローラに当接する回転自在なローラであることを特
   徴とする請求項１に記載のインキ供給装置。
3. 【請求項３】 上記インキならし手段が、上記インキ受
   け渡しローラの幅と略等しい幅を有し、かつインキ受け
   渡しローラに当接する板部材であることを特徴とする請
   求項１に記載のインキ供給装置。