JPH1124285A

JPH1124285A - レジスト用現像液

Info

Publication number: JPH1124285A
Application number: JP9172115A
Authority: JP
Inventors: Takehiro Yoshikawa; 雄裕吉川; Mitsutoshi Yoshida; 光利吉田
Original assignee: KURARIANTO JAPAN KK
Current assignee: KURARIANTO JAPAN KK
Priority date: 1997-06-27
Filing date: 1997-06-27
Publication date: 1999-01-29
Also published as: WO1999000707A1

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】現像均一性、残膜特性、パターン形状の良好な
レジストパターンを得ることができ、現像のプロセス依
存性が少ないレジスト用現像液を提供する。【解決手段】金属イオンを含まない有機塩基を主剤とす
るレジスト用現像液に、プロピレンオキサイドエチレン
オキサイドブロック共重合系界面活性剤を１０〜５００
ｐｐｍ添加したレジスト用現像液である。プロピレンオ
キサイドエチレンオキサイドブロック共重合系界面活性
剤としては、一般式（Ｉ）：ＨＯ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_k−
（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_m−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_nＨ或いは一般式
（II）：ＨＯ（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_p−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_q−
（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_rＨ（式中、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ，ｒは
それぞれ同じか異なる整数を表わす。）で示される共重
合体が良好に用いられる。また、この現像液は、ポジ型
レジストの現像に好ましく使用できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レジスト用現像
液、更に詳しくは、レジスト膜への濡れ性が良好で、泡
の発生がなく、現像液の少量使用による現像においても
現像均一性、残膜特性、パターン形状の良好なレジスト
パターンを得ることができ、かつレジストの性能に悪影
響を与えない、好ましくはポジ型フォトレジストの現像
に用いることができるレジスト用現像液に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体集積回路素子、集積回路製
造用マスク、液晶表示素子、カラーフィルター、プリン
ト配線板、印刷板などを製造する場合、基板に対する選
択的エッチング或いは拡散処理等のため、或いは画素の
形成等のため、フォトリソグラフィー技術が用いられて
いる。フォトリソグラフィー技術を用いてレジスト画像
を形成する方法としては、通常紫外線、Ｘ線、電子線な
どの活性光線に感応する放射線感応性組成物、いわゆる
フォトレジストを基板にスピンコート、ローラーコー
ト、浸漬法等周知あるいは公知の方法で塗布し、紫外
線、電子線、Ｘ線等の放射線により露光した後、アルカ
リ性現像液を用いて現像する方法がとられている。この
フォトレジストにはポジ型とネガ型があり、前者は露光
部が現像液に溶解するが、非露光部が溶解しないタイプ
であり、後者は逆のタイプである。近年電子工業が目覚
ましく発展し、これに伴い半導体素子の高集積度化が要
求されるようになり、レジストも高解像度のものが要求
され、レジストとして解像力の優れたポジ型レジストが
多用されるようになっている。ポジ型フォトレジストの
代表的なものとしては、アルカリ可溶性ノボラック樹脂
と感光剤であるナフトキノンジアジド化合物とからなる
キノンジアジドタイプのフォトレジスト、化学増幅型レ
ジストが挙げられる。一方、半導体素子などを製造する
場合には、現像液として金属イオンを含有するアルカリ
性水溶液を用いると製品特性に悪影響がでるため、金属
イオンを含まない塩基、例えば水酸化テトラメチルアン
モニウム（IBM 「Technical Disclosure Bulletin 」第
13巻、第７号、第2009頁、1970年）や水酸化２−ヒドロ
キシエチルトリメチルアンモニウム（コリン）（米国特
許第４２３９６６１号）などの有機塩基の水溶液が現像
液として用いられている。

【０００３】ところで、フォトレジストの現像法には、
浸漬現像法、スプレー現像法、パドル現像法、揺動現像
法、静止現像法等種々の方法が知られており、集積回路
の製造においては現像法としてパドル現像法が広く採用
されている。パドル現像法では現像液のレジスト膜に対
する濡れ性が重要であり、特に近年ウエハーが大口径化
し、大口径のウエハーで均質、かつ良質の微細レジスト
画像を得るためには、更に現像液の濡れ特性の重要性が
増している。また、良質の微細レジスト画像を得るため
には、レジスト膜と現像液との現像時間を厳しく制御す
ることも極めて重要である。なぜなら、短時間の現像で
は本来現像によって除去されるべき露光部が十分に除去
されず、膜残りが発生し、反対に長時間の現像ではレジ
ストと基板との接着性が低下し、未露光部の基板界面で
のアンダーカットが入り、歩留りが急速に低下するから
である。また現像液の濡れ性が悪いと、ウエハー全体に
おいて現像剤とレジスト膜との接触時間を同一にするこ
とことが難しく、このためウエハー全体の均一な現像が
難しいという問題もある。通常レジスト現像液にはアル
カリ水溶液が用いられているが、界面活性剤を用いない
場合現像液のレジストに対する濡れ性は良くなく、この
ため現像液の濡れ性を改善する目的で現像液中に界面活
性剤を添加することが提案され（例えば特開昭５８−５
７１２８号公報、特開昭６２−３２４５３号公報、特開
平１−２５７８４６号公報等）、実用化もされている。
しかし、現像液に界面活性剤を添加した場合泡が生じ易
く、この泡によりレジストと現像液との接触が阻害さ
れ、膜残りなど現像不良が発生することがある。この泡
の消泡のために消泡剤を現像液に添加することも行われ
ている（例えば、特開昭４９−９１１７７号、特開昭５
９−１８２４４４号）が、シリコン系消泡剤のように効
果の著しいものは、現像不良を起こし易い、或いは一時
的な消泡効果は認められるものの持続性がないという問
題がある。また、ポジ型フォトレジスト用現像液に界面
活性剤を加えた場合感度が高くなり、未露光部の減膜量
も多くなるという問題がある。また界面活性剤の添加に
より現像液の溶解力が向上し、未露光部の溶解速度が速
くなり、結果的にレジスト膜の露光部と未露光部との溶
解度差が落ち、溶解コントラストの低下が起こり、結果
として現像後のレジスト形状が矩形でなく台形となり、
画像品質が損なわれるという問題点もある。更に、添加
する界面活性剤の溶解性も重要な要件である。これは、
界面活性剤が未溶解のまま現像液中に存在すると、固体
状或いはゲル状物の未溶解物が、半導体回路作成時の汚
染（所謂コンタミ）源となったり、レジストパターンの
欠陥の原因となったりするからである。

【０００４】このように、レジスト用現像液には、
（１）露光部と未露光部との溶解コントラストが高く、
（２）レジスト表面に対する濡れ性が良く、（３）現像
域全体にわたる現像均一性に優れ、（４）泡が発生しに
くく、また発生したとしても速やかに消泡し、（５）現
像時の温度、時間、方法等のプロセス依存性が少なく、
（６）レジストの特性に悪影響を与えず、（７）現像液
添加成分の溶解性が良好であり、（８）少量の添加成分
の使用によって良好な特性を得ることができる等種々の
条件を満たすことが必要である。更に近年環境問題の意
識の高まりがあり、これに対処すべく廃液の絶対量を減
らす観点から、また経済的観点からも出来るだけ使用現
像液量を削減するという要求も強くなってきている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はこのよ
うな上記レジスト用現像液に要求される諸特性を満たす
現像液を提供すること、即ちレジスト膜への濡れ性、露
光部と非露光部の溶解選択性が良好で、泡の発生がな
く、現像液の少量使用による現像においても現像均一
性、残膜特性、パターン形状の良好なレジストパターン
を得ることができ、よって現像のプロセス依存性が少な
く、かつレジストの性能に悪影響を与えない、少ない使
用量で現像可能なレジスト用現像液を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
重ねた結果、金属イオンを含まない有機塩基を主剤とす
るレジスト用現像液に対し、プロピレンオキサイドエチ
レンオキサイドブロック共重合系界面活性剤を特定量添
加することにより、上記目的が達成できることを見出
し、本発明をなしたものである。

【０００７】すなわち、本発明の請求項１の発明は、金
属イオンを含まない有機塩基を主剤とするレジスト用現
像液に、プロピレンオキサイドエチレンオキサイドブロ
ック共重合系界面活性剤を１０〜５００ｐｐｍ添加する
ことを特徴とするレジスト用現像液である。

【０００８】また、本発明の請求項２の発明は、上記請
求項１のレジスト用現像液において、プロピレンオキサ
イドエチレンオキサイドブロック共重合系界面活性剤
が、下記一般式（Ｉ）で示されるプロピレンオキサイド
エチレンオキサイドブロック共重合体であることを特徴
とするレジスト用現像液である。

【０００９】一般式（Ｉ）ＨＯ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_k−（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_m−（Ｃ₂Ｈ₄
Ｏ）_nＨ（式中ｋ、ｍ、ｎはそれぞれ同じか異なる整数を表わ
す。）また、本発明の請求項３の発明は、上記請求項１のレジ
スト用現像液において、プロピレンオキサイドエチレン
オキサイドブロック共重合系界面活性剤が、下記一般式
（II）で示されるプロピレンオキサイドエチレンオキサ
イドブロック共重合体であることを特徴とするレジスト
用現像液である。

【００１０】一般式（II）ＨＯ（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_p−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_q−（Ｃ₃Ｈ₆
Ｏ）_rＨ（式中、ｐ、ｑ、ｒはそれぞれ同じか異なる整数を表わ
す。）また、本発明の請求項４の発明は、上記一般式（Ｉ）で
表わされるプロピレンオキサイドエチレンオキサイドブ
ロック共重合体中のポリプロピレンオキサイドの分子量
が９００〜３５００であり、かつポリエチレンオキサイ
ドの割合が１０〜３０重量％であることを特徴とする請
求項２記載のレジスト用現像液である。

【００１１】また、本発明の請求項５の発明は、レジス
ト用現像液が、ポジ型レジスト用現像液であることを特
徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のレジスト
用現像液である。

【００１２】以下本発明を更に詳細に説明する。

【００１３】本発明のレジスト用現像液においては、ア
ルカリ成分として金属イオンを含まない有機塩基が用い
られる。レジスト用現像液のアルカリ成分として金属イ
オンを含まない有機塩基を用いることは、従来から公知
であり、本発明においては、これら公知の金属イオンを
含まない有機塩基の何れをも用いることができる。本発
明において用いることができる金属イオンを含まない有
機塩基を例示すると、水酸化テトラメチルアンモニウム
（ＴＭＡＨ）、水酸化２−ヒドロキシエチルトリメチル
アンモニウム（コリン）などの低級アルキル第四級アン
モニウム塩基；モノメチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、
トリエチルアミンなどの直鎖または分岐状のアルキル基
あるいはアリール基置換の第一級、第二級または第三級
アミン；エタノールアミンのようなアルカノールアミ
ン；１，３−ジアミノプロパンのようなアルキレンジア
ミン；４，４’−ジアミノジフェニルアミンのようなア
リールアミン；ビス−（ジアルキルアミノ）イミンのよ
うなイミン類；ピロール、ピロリジン、ピロリドン、ピ
リジン、モルホリン、ピラジン、ピペリジン、オキサゾ
ール、チアゾールのような複素環式塩基などが挙げら
れ、これらの中で特に好ましいものは、水酸化テトラメ
チルアンモニウム及び水酸化２−ヒドロキシエチルトリ
メチルアンモニウムである。これら金属イオンを含まな
い有機塩基は、それぞれ単独で用いても、２種以上を組
み合わせて用いてもよい。またその濃度は、１重量％〜
１０重量％、好ましくは１．５重量％〜５．５重量％の
範囲で使用することができる。

【００１４】本発明のレジスト用現像液に用いられる界
面活性剤は、プロピレンオキサイドエチレンオキサイド
ブロック共重合系界面活性剤である。プロピレンオキサ
イドエチレンオキサイドブロック共重合系界面活性剤と
しては、代表的には、一般式：ＨＯ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_k−（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_m−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_nＨ（Ｉ）で示されるノーマルタイプのプロピレンオキサイドエチ
レンオキサイドブロック共重合体と、一般式：ＨＯ（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_p−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_q−（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_rＨ（II）で示されるリバースタイプのプロピレンオキサイドエチ
レンオキサイドブロック共重合体が挙げられ、本発明に
おいては、これらのいずれのものをも用いることができ
る。なお、ここでｋ〜ｒはそれぞれ同じか異なる整数を
表わす。また、本発明においては、本発明の目的を達成
することができれば、上記一般式で示されたもの以外の
プロピレンオキサイドエチレンオキサイドブロック共重
合体を用いてもよい。

【００１５】上記一般式（Ｉ）又は（II）で示されるプ
ロピレンオキサイドエチレンオキサイド共重合体は、ポ
リプロピレンオキサイドとポリエチレンオキサイドの各
重合度（分子量) により、界面活性剤の現像液への溶解
性、現像液の起泡性、レジスト表面の濡れ性等が影響を
受ける。これら特性の影響は、界面活性剤の添加量によ
っても異なるが、例えば添加量を１００ｐｐｍ程度とす
る場合、一般式（Ｉ）で示される共重合体においては、
一般的には共重合体中のポリプロピレンオキサイドの分
子量が９００〜３５００で、かつポリエチレンオキサイ
ドの割合が１０〜３０重量％であるものが好ましい結果
を与える。共重合体中のポリプロピレンオキサイドの分
子量が９００より少ないとレジストへの濡れ性が劣り、
また分子量が３５００を越えると現像液への溶解性が悪
くなる。また、共重合体中のポリエチレンオキサイドに
関しては、共重合体中１０重量％未満であると現像液へ
の溶解性、濡れ性などの問題が生じ、また３０重量％を
越えると現像液への溶解性は良好であるが消泡性に問題
が生じ、現像均一性、残膜特性、レジスト特性、レジス
トパターン形状、感度、最少現像液量のいずれかに問題
が発生し、好ましくない。また、一般式（II）で示され
るリバースタイプのものにおいては、ポリエチレンオキ
サイドが分子の中央部に位置するためと思われるが、ノ
ーマルタイプのものに比べ、分子内のポリエチレンオキ
サイドの含有割合が更に多くても、例えば添加量５０ｐ
ｐｍとした場合、５０重量％以上となった場合にも消泡
性が良好で、好ましい結果を得ることができる。なお、
リバースタイプのプロピレンオキサイドエチレンオキサ
イド共重合体は、耐薬品性がノーマルタイプのものに比
べ優れているという特徴も有している。何れにしても、
共重合体中のポリプロピレンオキサイドの分子量及びポ
リエチレンオキサイドの含有割合は、共重合体の添加量
により最適の結果が得られるように適宜選択すればよ
い。

【００１６】また、界面活性剤の添加量としては１０〜
５００ｐｐｍの添加量である場合上記諸特性を満たす現
像液を得ることができるが、一般的には１０〜２００ｐ
ｐｍが好ましい。

【００１７】更に、本発明の現像液には、従来からレジ
スト用現像液に用いられることが知られている、湿潤
剤、安定剤、溶解助剤、残膜あるいはスカム防止剤など
の添加剤を適宜使用することができる。これらの添加剤
としては、例えば、プロピレンオキサイドエチレンオキ
サイドブロック共重合系界面活性剤以外のノニオン、ア
ニオン、カチオン界面活性剤、一価アルコール、ポリヒ
ドロキシ化合物などが挙げられる。

【００１８】本発明の現像液は、従来より公知のポジ型
或いはネガ型フォトレジストのいずれにも適用すること
ができるが、ポジ型フォトレジストに対して特に好まし
く用いることができる。本発明の現像液が適用できるフ
ォトレジストの代表的なものを挙げると、ポジ型として
は、ノボラック樹脂のようなアルカリ可溶性樹脂とキノ
ンジアジド系感光剤を含む組成物、化学増幅型レジスト
などが、またネガ型としては、ポリケイ皮酸ビニル等の
感光性基を有する高分子化合物を含むもの、芳香族アジ
ド化合物を含有するもの、或いは環化ゴムとビスアジド
化合物からなるようなアジド化合物含有組成物、ジアゾ
樹脂を用いるもの、付加重合性不飽和化合物を含む光重
合性組成物、化学増幅型ネガレジスト等が挙げられる。

【００１９】また、本発明の現像液は、従来公知の現像
法のいずれの現像法においても使用することができる
が、特にパドル現像法、静止現像法等において使用する
場合においてより改善された特性が示されるため好まし
い。

【００２０】

【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を更に
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。なお、以下において、％はいずれも重
量％を表わす。

【００２１】実施例１〜１１水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）を、濃度
が２．３８％となるように純水に溶解し、この液に共重
合体中のポリプロピレンオキサイドの分子量とエチレン
オキサイドの含有割合が表１に記載のプロピレンオキサ
イドエチレンオキサイドブロック共重合体（ノーマルタ
イプ）を１００ｐｐｍ添加して、現像液を作成した。

【００２２】これら現像液の表面張力、起泡性、濁り、
レジスト相対感度、現像後のレジスト形状、露光マージ
ン、現像均一性について以下の条件で試験を行って、現
像液の評価を行い、表１に記載の結果を得た。

【００２３】（レジスト膜サンプルの作成）現像液の評
価のために用いたサンプルは、レジストとして、ナフト
キノンジアジド系感光剤とノボラック樹脂を基本構成に
したポジ型フォトレジストＡＺ−７８００（ヘキスト社
製）を用い、ＨＭＤＳ処理をした６インチシリコンウエ
ハー基板に、プレベーク後の膜厚が１．０７μｍとなる
ようにスピンコートし、９０℃で６０秒間ホットプレー
ト上でベークし、ＮＡ：０．５０のｉ線ステッパーを用
いて露光し、１１０℃で６０秒間ホットプレート上でポ
ストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）した。

【００２４】（現像条件及び現像後処理）現像は、上記
サンプルを、６０秒間２３℃においてパドル現像により
処理した後、純水によるリンス、スピン乾燥を行った。
なお、現像液の使用量は１５ｍＬとした。

【００２５】（表面張力）現像液サンプルの表面張力
は、表面張力測定装置（協和界面科学社製）を用いて、
標準条件にて測定した。

【００２６】（起泡性、消泡性）現像液を同一条件にて
振盪後静置し、起泡の状態及び消泡性を目視にて観察し
た。

【００２７】（濁り）現像液に界面活性剤を添加し、４
０℃における透明性を目視にて観察した。

【００２８】（レジスト相対感度）約１ｃｍ平方の露光
エリア（レチクルを介することなく露光）のレジストが
完全に溶解した時の露光エネルギーを感度（Ｅ_th）と
し、以下に示す実施例１の現像液の感度を１００とし、
相対比として表わした。

【００２９】（レジスト形状）スピン乾燥後のレジスト
の断面形状を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し
た。

【００３０】（露光マージン）レジストをレチクルを介
して露光し、ＰＥＢ、現像処理を行った後、０．５０μ
ｍのパターンをＳＥＭで観察し、寸法を測定する。０．
５０μｍの寸法が得られた時の露光量（Ｅ_op）をＥ_thで
割った数値により露光マージンを判断した。このとき数
値が１．５を越えたものを「良好」と判断した。

【００３１】（現像均一性）Ｅ_th−５％Ｅ_thの露光量で
ウエハー全面を露光したときの現像仕上がり（ウエハー
全体の現像ムラの状態）を目視にて観察した。

【００３２】比較例１〜７現像液として、界面活性剤を添加しない現像液（比較例
１）或いは表１の比較例２〜７に記載のプロピレンオキ
サイドエチレンオキサイドブロック共重合体（ノーマル
タイプ）を１００ｐｐｍ添加して得た現像液を用いるこ
とを除き、実施例１〜１１と同様の方法により試験を行
い、表１に記載される結果を得た。

【００３３】なお、以下の表中において、○は良好を、
△はやや劣るが使用可能を、×は不良を示す。また、以
下表中の「ＰＯ分子量」は、共重合体中のポリプロピレ
ンオキサイドの分子量、「ＥＯ含有率」は、共重合体の
エチレンオキサイドの含有割合である。

【００３４】

【表１】

【００３５】比較例１は界面活性剤を含有していないた
め表面張力の値も高く、レジスト面に対する濡れ性が悪
く、１５ｍＬの現像液使用量では６インチウエハー全面
に現像液が均一にいきわたらない、或いは均一にいきわ
たったとしても現像時間を厳密に制御できないなどの理
由で、現像均一性で劣る結果となった。

【００３６】また、表中「濁り」が「×」とされたもの
（比較例５、６）は、現像液中に濁りの原因となる未溶
解物があり、これが現像残渣、或いはパターン欠陥の原
因となるため試験をするまでもなく現像液として用いる
ことができないものである。

【００３７】このため、表中「濁り」が「×」とされた
ものについては、各特性についての試験は特に行わなか
った。

【００３８】更に、表中「起泡性、消泡性」が「×」と
なったもの（比較例２、３、４、７）については、レジ
スト表面と現像液との間に気泡が存在し、この気泡がす
ぐに消失しないため、その部分のレジストが現像されな
いか、或いは他の部分と現像時間が異なるため現像均一
性が不良となった。

【００３９】実施例１２〜１６現像液として、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭ
ＡＨ）を２．３８％含有する純水に、共重合体中のポリ
プロピレンオキサイドの分子量が１７５０で、かつポリ
エチレンオキサイドの含有割合が２０％であるプロピレ
ンオキサイドエチレンオキサイドブロック共重合体（ノ
ーマルタイプ）を、表２に記載の添加量で添加したもの
を用いることを除き、実施例１〜１１と同様の方法によ
り試験を行い、表２に記載される結果を得た。

【００４０】比較例８及び９界面活性剤の添加量が１０００ｐｐｍ（比較例８）、２
０００ｐｐｍ（比較例９）であることを除き実施例１２
〜１６と同じ現像液を用い、実施例１〜１１と同様の方
法により試験を行い、表２に記載される結果を得た。

【００４１】

【表２】

【００４２】表中「濁り」が「×」とされたもの（比較
例８、９）については、比較例５、６と同様の理由によ
り、各特性についての試験は特に行わなかった。

【００４３】実施例１７及び１８水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）を、濃度
が２．３８％となるように純水に溶解し、この液に表３
に記載のプロピレンオキサイドエチレンオキサイドブロ
ック共重合体（リバースタイプ）を５０ｐｐｍ添加し
て、実施例１７及び１８の現像液を作成した。この現像
液を用い実施例１〜１１と同様の方法により試験を行
い、表３に記載される結果を得た。

【００４４】

【表３】

【００４５】上記各実施例及び比較例から明らかなよう
に、本発明の現像液においては、少量の界面活性剤の添
加により、従来からレジスト用現像液に要求されていた
諸特性を満たす現像液を得ることができることが分か
る。また、界面活性剤無添加の現像液と比べ、本発明の
現像液の表面張力は著しく改良され、現像液のレジスト
膜に対する濡れ性が改善されたことにより、本発明の現
像液を用いた場合には、界面活性剤を含まない現像液を
用いる場合に比べ現像液の使用量は約１／３程度で済む
ことがわかった。

【００４６】

【発明の効果】上記したように、本発明のフォトレジス
ト用現像液は、泡の発生がなくまた泡が発生したとして
も速やかに消泡し、かつ界面活性剤の溶解性、現像均一
性、残膜特性、レジストパターン形状、感度を良好に保
ちつつ、現像液使用量の低減が可能となるという効果を
有する。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】金属イオンを含まない有機塩基を主剤とす
るレジスト用現像液に、プロピレンオキサイドエチレン
オキサイドブロック共重合系界面活性剤を１０〜５００
ｐｐｍ添加することを特徴とするレジスト用現像液。
【請求項２】上記プロピレンオキサイドエチレンオキサ
イドブロック共重合系界面活性剤が、下記一般式（Ｉ）
で表わされるプロピレンオキサイドエチレンオキサイド
ブロック共重合体であることを特徴とする請求項１記載
のレジスト用現像液。一般式（Ｉ）ＨＯ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_k−（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_m−（Ｃ₂Ｈ₄
Ｏ）_nＨ（式中、ｋ、ｍ、ｎはそれぞれ同じか異なる整数を表わ
す。）
【請求項３】上記プロピレンオキサイドエチレンオキサ
イドブロック共重合系界面活性剤が、下記一般式（II）
で表わされるプロピレンオキサイドエチレンオキサイド
ブロック共重合体であることを特徴とする請求項１記載
のレジスト用現像液。一般式（II）ＨＯ（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_p−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_q−（Ｃ₃Ｈ₆
Ｏ）_rＨ（式中、ｐ、ｑ、ｒはそれぞれ同じか異なる整数を表わ
す。）
【請求項４】上記一般式（Ｉ）で表わされるプロピレン
オキサイドエチレンオキサイドブロック共重合体中のポ
リプロピレンオキサイドの分子量が９００〜３５００で
あり、かつポリエチレンオキサイドの割合が１０〜３０
重量％であることを特徴とする請求項２記載のレジスト
用現像液。
【請求項５】レジスト用現像液が、ポジ型レジスト用現
像液であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１
項に記載のレジスト用現像液。