JPS60111246A - 感光性平版印刷版の現像液 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はO−キノンジアジド化合物を感光性成分とする
感光性平版印刷版の改良された現像液に関するものであ
る。
感光性平版印刷版の改良された現像液に関するものであ
る。
O−キノンジアジド化合物は活性光線の照射によシジア
ゾ基が分解し、カルブキシ基を有する化合物となること
が知られている。従ってO−キノンジアジド化合物を含
む感光層は、画像無光後にアルカリ性現像液により処理
されると無光部分が除去され未露光部が画像となるので
、所詣ポジーポジ型感元性成分として特に近年感光性平
版印刷版の感光層あるいはエツチング用フォトレジスト
組成物として極めて重用さ゛れている。特に0−キノン
ジアジド化合物にアルカリ可溶性樹脂を混合した組成物
が経済性、実用性から有利に使用され、中でもノがラッ
ク型のフェノールホルムアルデヒド縮合樹脂、又はクレ
ゾールホルムアルデヒド縮合樹脂と混合されたものが一
般に用いられる。これらO−キノンジアジド感光層の現
像液としては第三燐酸ソーダ、苛性ソーダ、珪酸ソーダ
、珪酸カリウム、珪酸アンモニウム等の単独あるいは混
合された水溶液が用いられている。しかし苛性ソーダ、
第三燐酸ソーダ水溶液などはアルミニウムなどの金属へ
のエツチング作用が強く現像時間によって金属支持体を
使用した感光性平版印刷版の現像液としては不都合であ
る。また現像結果が極めて変動し易く甚だしい場合は、
現像時間の僅かの超過で画像が欠落してしまうことがあ
った。
ゾ基が分解し、カルブキシ基を有する化合物となること
が知られている。従ってO−キノンジアジド化合物を含
む感光層は、画像無光後にアルカリ性現像液により処理
されると無光部分が除去され未露光部が画像となるので
、所詣ポジーポジ型感元性成分として特に近年感光性平
版印刷版の感光層あるいはエツチング用フォトレジスト
組成物として極めて重用さ゛れている。特に0−キノン
ジアジド化合物にアルカリ可溶性樹脂を混合した組成物
が経済性、実用性から有利に使用され、中でもノがラッ
ク型のフェノールホルムアルデヒド縮合樹脂、又はクレ
ゾールホルムアルデヒド縮合樹脂と混合されたものが一
般に用いられる。これらO−キノンジアジド感光層の現
像液としては第三燐酸ソーダ、苛性ソーダ、珪酸ソーダ
、珪酸カリウム、珪酸アンモニウム等の単独あるいは混
合された水溶液が用いられている。しかし苛性ソーダ、
第三燐酸ソーダ水溶液などはアルミニウムなどの金属へ
のエツチング作用が強く現像時間によって金属支持体を
使用した感光性平版印刷版の現像液としては不都合であ
る。また現像結果が極めて変動し易く甚だしい場合は、
現像時間の僅かの超過で画像が欠落してしまうことがあ
った。
また反復使用による現像能力の低下が激しく一定容量に
おける感光性平版印刷版の処理可能な侠(処理能力)は
非常に少ない。そこで近年珪酸ソーダ水溶液又は珪酸カ
リウム水溶液が比較的有利に使用されている。それは金
属に対するエツチング作用が乏しいことと同時に珪酸ソ
ーダ又は珪酸カリウムの成分である酸化珪素(5lo2
)と[ヒナトリウム(Na20)又は酸化カリウム(K
2O)の含有比率(一般に3102/Na2O又は81
0./に20 のモル比で表わす)と濃度によっである
程度1iIt像性の調整が可能とされるためである。す
なわち5102 が多くなるに従い現像力が抑制され現
像安定性が筒まり、N5120又はに、0が多−くなる
と現像力が関まり現像安定性が低下する。ζこで云う現
像安定性とは、現像時間に対する画像の安定性のことで
Na 20又はに20のみが多くなると短時間で画像の
欠落が起り易くなる。
おける感光性平版印刷版の処理可能な侠(処理能力)は
非常に少ない。そこで近年珪酸ソーダ水溶液又は珪酸カ
リウム水溶液が比較的有利に使用されている。それは金
属に対するエツチング作用が乏しいことと同時に珪酸ソ
ーダ又は珪酸カリウムの成分である酸化珪素(5lo2
)と[ヒナトリウム(Na20)又は酸化カリウム(K
2O)の含有比率(一般に3102/Na2O又は81
0./に20 のモル比で表わす)と濃度によっである
程度1iIt像性の調整が可能とされるためである。す
なわち5102 が多くなるに従い現像力が抑制され現
像安定性が筒まり、N5120又はに、0が多−くなる
と現像力が関まり現像安定性が低下する。ζこで云う現
像安定性とは、現像時間に対する画像の安定性のことで
Na 20又はに20のみが多くなると短時間で画像の
欠落が起り易くなる。
一定容量での処理能力はN a 20又はに20含M食
の高い方が良い。従って5102/Na2O比又は5I
02/に20比を現像力、現像安定性の面で調整しなか
ら全漉度を高めていくことによっである程度の現像力、
安定性と共に処理能力を得ることができる。しかし乍ら
、いずれの点をも満たすには不充分で現像力を基準にお
けは安定性に欠け、安定性に基準をおけば現像力、処理
能力に欠ける傾向があった。
の高い方が良い。従って5102/Na2O比又は5I
02/に20比を現像力、現像安定性の面で調整しなか
ら全漉度を高めていくことによっである程度の現像力、
安定性と共に処理能力を得ることができる。しかし乍ら
、いずれの点をも満たすには不充分で現像力を基準にお
けは安定性に欠け、安定性に基準をおけば現像力、処理
能力に欠ける傾向があった。
また比較的高濃度とするために沈澱が生成し易く、使用
後の廃液処理に際し中和用の酸の使用量が多くなるなど
欠点があった。以上述べた苛性ソーダ、第三燐酸ソーダ
、珪酸ソーダ、珪酸カリウム等の現像液の問題点を要約
すれはアルカリ強度を高めれば現像力、処理能力に秀れ
るが現像安定性に欠け、現像安定性を得るためにはアル
カリ濃度を低くしなければならず、従って処理能力に欠
けることになる。従ってアルカリ強度の高い状態で現像
安定性を得ることができれば現像力、処理能力いずれに
4秀れた現像液を得ることができる。
後の廃液処理に際し中和用の酸の使用量が多くなるなど
欠点があった。以上述べた苛性ソーダ、第三燐酸ソーダ
、珪酸ソーダ、珪酸カリウム等の現像液の問題点を要約
すれはアルカリ強度を高めれば現像力、処理能力に秀れ
るが現像安定性に欠け、現像安定性を得るためにはアル
カリ濃度を低くしなければならず、従って処理能力に欠
けることになる。従ってアルカリ強度の高い状態で現像
安定性を得ることができれば現像力、処理能力いずれに
4秀れた現像液を得ることができる。
アルカリ強度の高い状態で現像安定性を得る方法として
覗、像源にアニオン界面活性剤又は両性界面活性剤を紛
加する方法が特開昭!; 0− !;/、324を号公
報に、また水浴性カチオニツクIリマーを松加する方法
が特υ1は!;−9!;94tl、号公報に、水溶性の
両性高分子電解質を添加する方法が特開昭St、−/l
I232g号公報に記載されている。
覗、像源にアニオン界面活性剤又は両性界面活性剤を紛
加する方法が特開昭!; 0− !;/、324を号公
報に、また水浴性カチオニツクIリマーを松加する方法
が特υ1は!;−9!;94tl、号公報に、水溶性の
両性高分子電解質を添加する方法が特開昭St、−/l
I232g号公報に記載されている。
しかしこれらの現像液はいずれも自動現像機を用いて現
像すると現像途中で発泡するという欠点を有していた。
像すると現像途中で発泡するという欠点を有していた。
まfc特−昭5s−2s ioo号公報には周期律表n
^、■^およびmsの還移元素のイオン性化合物k 1
6%加することが記載されている。
^、■^およびmsの還移元素のイオン性化合物k 1
6%加することが記載されている。
仁の場合陽極酸化したアルミニウム支持体の強アルカリ
によるエツチングを抑える効果はあるが、現像安定性は
十分でなかった。
によるエツチングを抑える効果はあるが、現像安定性は
十分でなかった。
従って、本発明の目的は現像力、現像安定性、処理能力
、発泡性等いずれに4優れた現像液を提供することにあ
る。 。
、発泡性等いずれに4優れた現像液を提供することにあ
る。 。
本発明者らはこれらの点を鋭意研究の結果、珪酸アルカ
リ水溶液中に後述の水溶性のポリオキシエチレン−ポリ
オキシゾロピレンブロック1台型化合物を含有させるこ
とによって、0−キノンジアジド感光層の改良された現
像液が得られることを見出した。
リ水溶液中に後述の水溶性のポリオキシエチレン−ポリ
オキシゾロピレンブロック1台型化合物を含有させるこ
とによって、0−キノンジアジド感光層の改良された現
像液が得られることを見出した。
本発明に用いられる珪酸アルカリとしては珪酸ナトリウ
ム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム等
があり、単独又は糾合せて用いることが出来る。珪酸ア
ルカリの510. / M2Oモル比(Mはアルカリ金
属をあられす。)は0.5〜3.0が好ましく、/、Q
〜2.0が特に好ましい。上記のモル比が3.0を越え
るにりitて現像性が低下する傾向がめる。tだ上記モ
ル比が0.5よシ小さくなるにつれてアルカリ強度が高
くなっていくので感光性平版印刷版の支持体として汎用
されているアルミニウム板等の金属をエツチングする弊
害が出てくるようになる。現像液中の珪酸アルカリの一
度祉/−IQ重量%が好ましく、/、5〜711%が特
に好ましい、IO重素置より高くなると沈澱や結晶が生
成しゃすくなシ、また廃液時の中和に除してグル化しや
すくなるので廃液処理がめんどうとなる。また、1重量
%より低くなると現像力、処理能力が低くなる。
ム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム等
があり、単独又は糾合せて用いることが出来る。珪酸ア
ルカリの510. / M2Oモル比(Mはアルカリ金
属をあられす。)は0.5〜3.0が好ましく、/、Q
〜2.0が特に好ましい。上記のモル比が3.0を越え
るにりitて現像性が低下する傾向がめる。tだ上記モ
ル比が0.5よシ小さくなるにつれてアルカリ強度が高
くなっていくので感光性平版印刷版の支持体として汎用
されているアルミニウム板等の金属をエツチングする弊
害が出てくるようになる。現像液中の珪酸アルカリの一
度祉/−IQ重量%が好ましく、/、5〜711%が特
に好ましい、IO重素置より高くなると沈澱や結晶が生
成しゃすくなシ、また廃液時の中和に除してグル化しや
すくなるので廃液処理がめんどうとなる。また、1重量
%より低くなると現像力、処理能力が低くなる。
本発明に用いられる最も%徴的な成分である水溶性のポ
リオキシエチレン・ポリオキシグロピレンブロック重合
型の界面活性剤は、次式の構造式によって表わされる。
リオキシエチレン・ポリオキシグロピレンブロック重合
型の界面活性剤は、次式の構造式によって表わされる。
HO(C,H44%C,H60殆HC,H40) 。H
式中a% 6% Cは/〜lθ、000の整数を示す。
式中a% 6% Cは/〜lθ、000の整数を示す。
本発明に好適な11合体の範囲としては総分子中のエチ
レンオキシドtio−go重片%、好マしくはqO〜A
OXj’M96でポリオキシエチレンの分子針としては
/、QθQ−弘、000、好ましくはコ、000〜3.
sooの範囲が特に伐れている。
レンオキシドtio−go重片%、好マしくはqO〜A
OXj’M96でポリオキシエチレンの分子針としては
/、QθQ−弘、000、好ましくはコ、000〜3.
sooの範囲が特に伐れている。
これらの水溶性ポリオキシエチレン・ポリオキシグロビ
レングロック重合型の界面活性剤の添加tは現像液に対
してo、oot−to重鵞%が適しており、より好まし
い添加量範囲は0.05〜7重景%重量る。
レングロック重合型の界面活性剤の添加tは現像液に対
してo、oot−to重鵞%が適しており、より好まし
い添加量範囲は0.05〜7重景%重量る。
本発明の珈併液が適用される0−キノンシアシト感光層
とは活性光照射によジアルカリ司溶性を増す、0−キノ
ンジアジド化合物を感光性成分として含有する感光性複
写層である。
とは活性光照射によジアルカリ司溶性を増す、0−キノ
ンジアジド化合物を感光性成分として含有する感光性複
写層である。
かかる感光材料については」・コーサー著[ライトーセ
ンシテイグシステムズJ (John wlley&
5ons、 tnc、 ) あるいはrg光性a+ u
pデータ集」(綜合化学研凭所m)などに詳細に記され
ている。
ンシテイグシステムズJ (John wlley&
5ons、 tnc、 ) あるいはrg光性a+ u
pデータ集」(綜合化学研凭所m)などに詳細に記され
ている。
特に芳香族ポリヒドロキシ化合物の0−キノンシアシト
スルホン酸エステルとアルカリ可溶性柄脂、例えばフェ
ノール樹脂、クレゾール樹脂、スチレン/無水マレイン
酸共重合体など、とを混合したものが一般に艮く使われ
、平版印刷用感光版(グレセンシタイズド版)、フォト
エツチング用レジストなどに用いられている。これらの
内でも本発明の現像液は0−キノンジアジド感光層を有
するポジ型感光性印刷版(以下、ポジ型ps版と称す。
スルホン酸エステルとアルカリ可溶性柄脂、例えばフェ
ノール樹脂、クレゾール樹脂、スチレン/無水マレイン
酸共重合体など、とを混合したものが一般に艮く使われ
、平版印刷用感光版(グレセンシタイズド版)、フォト
エツチング用レジストなどに用いられている。これらの
内でも本発明の現像液は0−キノンジアジド感光層を有
するポジ型感光性印刷版(以下、ポジ型ps版と称す。
)の現IP液として特にすぐれている。かかるポジ型P
S版は、基本的には支持体としてのアルミニウム板上に
、0−キノンジアジド化合物からなる感光層をポするも
のである。好適なアルミニウム板には、純アルミニウム
板およびアルミニウム合金板が含まれ、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸別されたグラスチックフィル
ムも含まれる。
S版は、基本的には支持体としてのアルミニウム板上に
、0−キノンジアジド化合物からなる感光層をポするも
のである。好適なアルミニウム板には、純アルミニウム
板およびアルミニウム合金板が含まれ、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸別されたグラスチックフィル
ムも含まれる。
アルミニウム板の表面は砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水浴液への浸漬
処理、わるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされて
いることが好ましい。また、砂目立てしたのちに米国特
許第コI 7/4t904 A号明#lll4M、に記
載されている如く、珪酸ナトリウム水浴液に浸漬処理さ
れたアルミニウム板、特公昭% 7−3 / 、25号
公報に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化
処理したのちに、アルカリ金り珪酸塩の水溶液に浸漬処
理したものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、
例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若し
くは、蓚酸、スルファミン酸等の有amまたりこれらの
塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わ
せた1i解液中でアルミニウム板をVM極として電流を
流すことによシ寮施される。
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水浴液への浸漬
処理、わるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされて
いることが好ましい。また、砂目立てしたのちに米国特
許第コI 7/4t904 A号明#lll4M、に記
載されている如く、珪酸ナトリウム水浴液に浸漬処理さ
れたアルミニウム板、特公昭% 7−3 / 、25号
公報に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化
処理したのちに、アルカリ金り珪酸塩の水溶液に浸漬処
理したものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、
例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若し
くは、蓚酸、スルファミン酸等の有amまたりこれらの
塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わ
せた1i解液中でアルミニウム板をVM極として電流を
流すことによシ寮施される。
また、米国特許IKJ 、b!;g 、462号明m1
に記載されているようなシリケート電着も有効である。
に記載されているようなシリケート電着も有効である。
更には米国特許第弘、Og7.3tIi号明細有、特公
昭弘6−27’1g 7号公報、特開昭52−3oso
J号公報に開示されているような電解グレインを施した
支持体を上記のように陽極酸化処理したものも有用であ
る。更に、米国特許第3、g、3’1.99g号明細書
に記されているような砂目立てしたのちに化学的にエツ
チングし、しかるのちに陽極酸化処理したアルミニウム
板も好オしい。これらの親水化処理は、支持体の表面を
親水性とするために施される以外に、その上に設けられ
る感光性組成物との有害な反応を防ぐため、更には感光
層との密着性を向上させる為などの種々の目的をもって
施されるものである。
昭弘6−27’1g 7号公報、特開昭52−3oso
J号公報に開示されているような電解グレインを施した
支持体を上記のように陽極酸化処理したものも有用であ
る。更に、米国特許第3、g、3’1.99g号明細書
に記されているような砂目立てしたのちに化学的にエツ
チングし、しかるのちに陽極酸化処理したアルミニウム
板も好オしい。これらの親水化処理は、支持体の表面を
親水性とするために施される以外に、その上に設けられ
る感光性組成物との有害な反応を防ぐため、更には感光
層との密着性を向上させる為などの種々の目的をもって
施されるものである。
支持体の親水性表面の上に設けられる感光層は0−キノ
ンジアジド化合物からなる。特に好ましい0−キノンジ
アジド化合物は0−ナフトキノンジアジド化合物であ如
、例えは米国特許第3.θIlb、tto号、同第3,
0弘A、777号、同第3.011t、、t/2号、同
第3.0弘bmtis号、同第a、otirb、itg
号、同第3,0弘6.itq号、同第 3.0’lb、120号、同第3.0弘b m ’ 2
’号、同第3.oq、乙、122号、同第、3.0’l
b、/2.3号、同第3.obi、930号、同第3,
7021g09号、同第 3 e 10b 、963号、同第、? 、 /、、?
、t 、 709号、同第、? 、A’17.4t’l
J号の各明細1゛をはじめ、多数の刊行物に記されてお
シ、これらは好適に使用することができる。これらの内
でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物のO−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステルまたは0−ナフトキノンジ
アシドカルボン酸エステル、および芳香族アミン化合物
のO−ナフトキノンジアシドスルホン酸アミドまたは0
−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ましく、
特に米国特許第 、3.bJ!;、7θり号明細1.に記されているピロ
ガロール七アセトンとの縮合物に0−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸をエステル反応させたもの、米国特許第
弘、02g、ltt号明細誉に記されている末端にヒド
ロキシ基を有するポリエステルに0−ナフトキノンジア
シドスルホン酸、またはO−ナフトキノンジアジドカル
ボン酸ヲエステル反応させたもの、英国特許第1.グq
ti、、QlIJ号明細書に記されているよりなρ−ヒ
ドロキシスチレンのホモポリマーまたはこれと他の共重
合し得るモノマーとの共重合体に。−ナフトキノンジ7
Nドxx、ホン酸オたは。−ナフトキノンシアノドカル
ビン酸をエステル反応させたもの、米国特許第a 、
qsq 、りit号明#4II曹に記されているような
p−アミノスチレンと他の共重合しうるモノマーとの共
重合体に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸または0
−ナフトキノンジアジドカルボン酸をアミド故旧させた
ものは非常にすぐれている。
ンジアジド化合物からなる。特に好ましい0−キノンジ
アジド化合物は0−ナフトキノンジアジド化合物であ如
、例えは米国特許第3.θIlb、tto号、同第3,
0弘A、777号、同第3.011t、、t/2号、同
第3.0弘bmtis号、同第a、otirb、itg
号、同第3,0弘6.itq号、同第 3.0’lb、120号、同第3.0弘b m ’ 2
’号、同第3.oq、乙、122号、同第、3.0’l
b、/2.3号、同第3.obi、930号、同第3,
7021g09号、同第 3 e 10b 、963号、同第、? 、 /、、?
、t 、 709号、同第、? 、A’17.4t’l
J号の各明細1゛をはじめ、多数の刊行物に記されてお
シ、これらは好適に使用することができる。これらの内
でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物のO−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステルまたは0−ナフトキノンジ
アシドカルボン酸エステル、および芳香族アミン化合物
のO−ナフトキノンジアシドスルホン酸アミドまたは0
−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ましく、
特に米国特許第 、3.bJ!;、7θり号明細1.に記されているピロ
ガロール七アセトンとの縮合物に0−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸をエステル反応させたもの、米国特許第
弘、02g、ltt号明細誉に記されている末端にヒド
ロキシ基を有するポリエステルに0−ナフトキノンジア
シドスルホン酸、またはO−ナフトキノンジアジドカル
ボン酸ヲエステル反応させたもの、英国特許第1.グq
ti、、QlIJ号明細書に記されているよりなρ−ヒ
ドロキシスチレンのホモポリマーまたはこれと他の共重
合し得るモノマーとの共重合体に。−ナフトキノンジ7
Nドxx、ホン酸オたは。−ナフトキノンシアノドカル
ビン酸をエステル反応させたもの、米国特許第a 、
qsq 、りit号明#4II曹に記されているような
p−アミノスチレンと他の共重合しうるモノマーとの共
重合体に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸または0
−ナフトキノンジアジドカルボン酸をアミド故旧させた
ものは非常にすぐれている。
これらの0−キノンジアジド化合物は、単独で使用する
ことができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し、この混
合物を感光層として設けた方が好着しい。好適がアルカ
リ可溶性#k]脂には、ノがラック型フェノール樹脂が
含まれ、具体的には、フェノールホルムアルデヒドmB
h、0−クレゾールホルムアルデヒド41MFj、m−
クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが含まれる。更に
/l!8+、開昭5O−723g06号公報に記されて
いる様に上記のようなフェノール樹脂と共に、t−ブチ
ルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜
gのアルキル基でfs!されたフェノールまたはクレゾ
ールとホルムアルデヒドとの組合物とを併用スルと、よ
り−J曽好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、郭九10中
に約Sθ〜約gS虚■1、より好ましくは60〜go重
負九、金層させられる。
ことができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し、この混
合物を感光層として設けた方が好着しい。好適がアルカ
リ可溶性#k]脂には、ノがラック型フェノール樹脂が
含まれ、具体的には、フェノールホルムアルデヒドmB
h、0−クレゾールホルムアルデヒド41MFj、m−
クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが含まれる。更に
/l!8+、開昭5O−723g06号公報に記されて
いる様に上記のようなフェノール樹脂と共に、t−ブチ
ルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜
gのアルキル基でfs!されたフェノールまたはクレゾ
ールとホルムアルデヒドとの組合物とを併用スルと、よ
り−J曽好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、郭九10中
に約Sθ〜約gS虚■1、より好ましくは60〜go重
負九、金層させられる。
O−キノンジアジド化合物からなる感光層には、必要に
応じて更に染料、可塑剤、グリントアウト性能を与える
成分などの添加剤を加えることができる。
応じて更に染料、可塑剤、グリントアウト性能を与える
成分などの添加剤を加えることができる。
染料は、PS版を露光および現像後に画像部が非画像部
(支持体表面)とコントラストを与えるようにする為に
用いられるものであシ、例えVic。
(支持体表面)とコントラストを与えるようにする為に
用いられるものであシ、例えVic。
1、.26./θS(オイルレッドRR)、C01゜−
27* −2bθ(オイルブルーレツト÷3θg)、C
01,弘コ、 !;9! (オイルブルー)、C01゜
32.0/S(メチレンブルー)、C,l。
27* −2bθ(オイルブルーレツト÷3θg)、C
01,弘コ、 !;9! (オイルブルー)、C01゜
32.0/S(メチレンブルー)、C,l。
9.2,5.5−、t(クリスタルバイオレット)など
のアルコール可溶性染料が好ましい。かかる竺料は、感
光性印刷版の露光および現像により%出された支持体の
親水性表面の色と、感光層の残存する部分とが明確なコ
ントラストを与えるに十分な知だけ飽加すれば良く、一
般的には感光性組成物全量に対して約7重賞%以下の範
囲で金石させるのが適当である。
のアルコール可溶性染料が好ましい。かかる竺料は、感
光性印刷版の露光および現像により%出された支持体の
親水性表面の色と、感光層の残存する部分とが明確なコ
ントラストを与えるに十分な知だけ飽加すれば良く、一
般的には感光性組成物全量に対して約7重賞%以下の範
囲で金石させるのが適当である。
可塑剤は支持体に設けられた感光層が所望のb」撓性を
有するようにするために有効で69、例えば、ジメチル
フタレート、ジエチルフタレート、ジグチルフタレート
、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オ
クチルカブリールフタレート、ジシクロへキシルフタレ
ート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレ
ート、ジイソデシルフタレート、ソアリールフタレート
などのフタル酸エステル類、ジメチルグリコールフタレ
ート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフ
タリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチル
グリコレート、トリエチレングリコールシカクリル酸エ
ステルなどのグリコールエステル類、トリクレジールホ
スフエート、トリフェニルホスペードなどの燐酸エステ
ル類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジイード
、ジメチルセパケート、ジブチルセパケート、ジオクチ
ルアゼレート、ジブチルマレエートなどの脂肪族二塩基
酸エステル類、ヂリグリシジルメククリレート、クエン
酸トリエグール、グリセリントリアセチルエステル、ラ
ウリン酸グラール等が有効である。
有するようにするために有効で69、例えば、ジメチル
フタレート、ジエチルフタレート、ジグチルフタレート
、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オ
クチルカブリールフタレート、ジシクロへキシルフタレ
ート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレ
ート、ジイソデシルフタレート、ソアリールフタレート
などのフタル酸エステル類、ジメチルグリコールフタレ
ート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフ
タリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチル
グリコレート、トリエチレングリコールシカクリル酸エ
ステルなどのグリコールエステル類、トリクレジールホ
スフエート、トリフェニルホスペードなどの燐酸エステ
ル類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジイード
、ジメチルセパケート、ジブチルセパケート、ジオクチ
ルアゼレート、ジブチルマレエートなどの脂肪族二塩基
酸エステル類、ヂリグリシジルメククリレート、クエン
酸トリエグール、グリセリントリアセチルエステル、ラ
ウリン酸グラール等が有効である。
可塑剤は、感光性組成物全量に対して約5沖お%以下含
有させられる。
有させられる。
グリントアウト材料は、28版の感光層を画f印臓光す
ることにより、直ちに可視画像が観察できるようにする
為のものである。例えば英国特許第i、otiti、<
ttJ号明細書に記されているよりなpH指示薬、米国
特許第3.9691//g@明細1に記されている様な
O−ナフトキノンソアゾトークースルホニルクロライド
と染料との糾合せ、特公昭’Ie−6’l 73号公報
に記されているフォトクロミック化合物などがある。更
に、特開昭52−ざ0022号公報に記されているよう
に感光層中に環状酸無水物を加えることによp感度を上
昇させることができる。
ることにより、直ちに可視画像が観察できるようにする
為のものである。例えば英国特許第i、otiti、<
ttJ号明細書に記されているよりなpH指示薬、米国
特許第3.9691//g@明細1に記されている様な
O−ナフトキノンソアゾトークースルホニルクロライド
と染料との糾合せ、特公昭’Ie−6’l 73号公報
に記されているフォトクロミック化合物などがある。更
に、特開昭52−ざ0022号公報に記されているよう
に感光層中に環状酸無水物を加えることによp感度を上
昇させることができる。
かかる0−ナフトキノンジアジドからなる感光性組成物
は適当な溶剤の溶液から支持体上に塗布される。過当な
る浴剤としてはエチレングリコールモノメチルエーテル
、エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸コーメ
トキシエチル7iト(7)グリニールエーテル類、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケ
トン類、エチレンジクロライド等の塩素化炭化水素類等
が含まれる。
は適当な溶剤の溶液から支持体上に塗布される。過当な
る浴剤としてはエチレングリコールモノメチルエーテル
、エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸コーメ
トキシエチル7iト(7)グリニールエーテル類、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケ
トン類、エチレンジクロライド等の塩素化炭化水素類等
が含まれる。
支持体上に設けられる0−キノンジアジド化合物からな
る感光層の塗布量は約0.S〜約7y−7m2 であシ
、よシ好ましくは/、j〜、3F/m2である。
る感光層の塗布量は約0.S〜約7y−7m2 であシ
、よシ好ましくは/、j〜、3F/m2である。
かくして得られるポジ型ps版は透明原図を通してカー
ボンアーク灯、水欽灯、メタルハライドラング、キセノ
ンラング、タングステンラングなどの活性光線の豊富な
光線によシ鮨光されると、その部分はアルカリ可溶性に
変る。従って、本発明の現像液で処理すると、感光層の
雑光部分は溶出され、支持体の親水性表面が紐出される
。
ボンアーク灯、水欽灯、メタルハライドラング、キセノ
ンラング、タングステンラングなどの活性光線の豊富な
光線によシ鮨光されると、その部分はアルカリ可溶性に
変る。従って、本発明の現像液で処理すると、感光層の
雑光部分は溶出され、支持体の親水性表面が紐出される
。
これらの感光相科に本発明の現像液を片いることによシ
第一に琲像安定性が高まシ埃像条件の管理が極めて容易
となる。第二に処理能力が高まシ少卵で多くの感光材料
を現像できる。第三に、使用供液の排出が少なくて済み
廃液処理が容易である等の利点をもたらす。
第一に琲像安定性が高まシ埃像条件の管理が極めて容易
となる。第二に処理能力が高まシ少卵で多くの感光材料
を現像できる。第三に、使用供液の排出が少なくて済み
廃液処理が容易である等の利点をもたらす。
以下実施例をもって本発明の詳細な説明する。
集流%、l / −3
釉公昭(1,3−2g弘03号公@実施例1に記載され
ているアセトンとピロガロールの縮合物により得られる
ポリヒドロキシフェニルのナフトキノン−7m2−ジア
ジド−5−スルホン酸ニスデルθ、ざ重を部とノビラッ
ク型メタパラ混合クレシルホルムアルデヒド樹脂2.2
重M部、)H?ラック型オクチルフェノールホルムアル
デヒド榴脂0.02M邦部、無水フタル酸θ、Ogル搦
部、コートリクロルメチル−5−(p−メトキシスチリ
ル)−/、J、’l−オキサジアゾール0.0弘重曾部
およびクリスタルバイオレットのパラトルエンスルホン
酸塩0.033重M部201量都のメチルセロソルブア
セテートとglv部のメチルエチルケトンに溶解して感
光* k Brt!l# した。厚さ0.3■のナイロ
ンブラシで砂目立されたアルミニウム版をアルカリでエ
ツチングした後、化け・水溶液中で更に電解エツチング
し、続いて硫酸水溶液中で111極酸化しく陽極酸化皮
膜12.7?/m2)、その後70℃の酢酸亜鉛水溶液
で処理し良く洗滌した後に乾燥し、その上に上記感光液
を回転塗布機によって塗布乾燥して約コ、OP/m2の
感光層を有する感光板を得た。この感光板に濃度差θ、
/Sのステップウェッジと網点ウェッジを通して本土写
真フィルム■製psライト(、l kWメタルハライド
ラング)を用いて露光した。−1現像源として3102
7 N820モル比約/、/の珪酸ソーダ2重量%水浴
液l!に表1の化合物を賂加した現像液を作製した。
ているアセトンとピロガロールの縮合物により得られる
ポリヒドロキシフェニルのナフトキノン−7m2−ジア
ジド−5−スルホン酸ニスデルθ、ざ重を部とノビラッ
ク型メタパラ混合クレシルホルムアルデヒド樹脂2.2
重M部、)H?ラック型オクチルフェノールホルムアル
デヒド榴脂0.02M邦部、無水フタル酸θ、Ogル搦
部、コートリクロルメチル−5−(p−メトキシスチリ
ル)−/、J、’l−オキサジアゾール0.0弘重曾部
およびクリスタルバイオレットのパラトルエンスルホン
酸塩0.033重M部201量都のメチルセロソルブア
セテートとglv部のメチルエチルケトンに溶解して感
光* k Brt!l# した。厚さ0.3■のナイロ
ンブラシで砂目立されたアルミニウム版をアルカリでエ
ツチングした後、化け・水溶液中で更に電解エツチング
し、続いて硫酸水溶液中で111極酸化しく陽極酸化皮
膜12.7?/m2)、その後70℃の酢酸亜鉛水溶液
で処理し良く洗滌した後に乾燥し、その上に上記感光液
を回転塗布機によって塗布乾燥して約コ、OP/m2の
感光層を有する感光板を得た。この感光板に濃度差θ、
/Sのステップウェッジと網点ウェッジを通して本土写
真フィルム■製psライト(、l kWメタルハライド
ラング)を用いて露光した。−1現像源として3102
7 N820モル比約/、/の珪酸ソーダ2重量%水浴
液l!に表1の化合物を賂加した現像液を作製した。
表 l
露光焼付された感光板をコ枚づつ、25℃に保たれたそ
れぞれの現像液に浸漬し、1枚は1分後、他の1枚は5
分後に取シ出し水洗した。表コには溶出したステップウ
ェッジの段数と網点ウェッジのハイライト部の網点再現
性の結果を示す。
れぞれの現像液に浸漬し、1枚は1分後、他の1枚は5
分後に取シ出し水洗した。表コには溶出したステップウ
ェッジの段数と網点ウェッジのハイライト部の網点再現
性の結果を示す。
表コよシ比較例Iの珪酸ナトリウム水溶液単独に比べて
実施例/−3の現像液は現像性が極めて安定であること
が判る。更に実施例1とコの現像液について現像処理能
力を調べたがいずれもlノ当り3.2 の感光板を現像
した後も充分現像力を維持していた。
実施例/−3の現像液は現像性が極めて安定であること
が判る。更に実施例1とコの現像液について現像処理能
力を調べたがいずれもlノ当り3.2 の感光板を現像
した後も充分現像力を維持していた。
実施?lI /、〜lθ
実施f+17の感光板を用いて覗像源として5102/
に20モル比1.2の珪酸カリウムの2.S重量%の水
溶液l!に表3の化合物を添加したものを用いて実施S
・11と同様な方法で現像した。その結果を表弘に示す
。
に20モル比1.2の珪酸カリウムの2.S重量%の水
溶液l!に表3の化合物を添加したものを用いて実施S
・11と同様な方法で現像した。その結果を表弘に示す
。
表3
表ダより比較例コの珪酸カリウム水溶液単独に比べて実
施例6〜lOの現像液は現体安定性が極めて安定である
ことが判る。更に実施−gの務像源について現像処理能
力を槙べたが、いずれもlJ@シ3− の感光板を現像
した後も充分な現像力を維持していた。又実施例6〜I
Oの各現gp液の処理後の廃液を水にl:lで希釈して
塩酸で中和したが、いずれもグルの発生は見られず@S
−に中和処理を施すことができた。
施例6〜lOの現像液は現体安定性が極めて安定である
ことが判る。更に実施−gの務像源について現像処理能
力を槙べたが、いずれもlJ@シ3− の感光板を現像
した後も充分な現像力を維持していた。又実施例6〜I
Oの各現gp液の処理後の廃液を水にl:lで希釈して
塩酸で中和したが、いずれもグルの発生は見られず@S
−に中和処理を施すことができた。
実施例11
実施例1において、そこで用いたナフトキノンジアジド
化合物の替シにビスフェノールAのす7トキノンーl、
2−ジアジド−3−スルホン酸エステルを用いた感光板
を用いて同様に現像処理したが、実施例1の場合と同様
の結果が得られた。
化合物の替シにビスフェノールAのす7トキノンーl、
2−ジアジド−3−スルホン酸エステルを用いた感光板
を用いて同様に現像処理したが、実施例1の場合と同様
の結果が得られた。
Claims (1)
- 珪酸アルカリ水溶液にポリオキシエチレンポリオキシグ
ロビレンブロック重合型の水溶性界面活性剤を0.00
1〜10重量%含有させたことを特徴とする。−キノン
ジアジド感光層を有する感光性平版印刷版の現像液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58218986A JPS60111246A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 感光性平版印刷版の現像液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58218986A JPS60111246A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 感光性平版印刷版の現像液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60111246A true JPS60111246A (ja) | 1985-06-17 |
| JPH0354339B2 JPH0354339B2 (ja) | 1991-08-19 |
Family
ID=16728474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58218986A Granted JPS60111246A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 感光性平版印刷版の現像液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60111246A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63158552A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
| JPH01257846A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型フオトレジスト用現像液 |
| JPH06202332A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-07-22 | Morton Thiokol Inc | ポジティブフォトレジストのレリーフ構造の製造方法と放射線記録用材料 |
| WO1999000707A1 (fr) * | 1997-06-27 | 1999-01-07 | Clariant International Ltd. | Revelateur pour agents de reserve |
| EP1260867A1 (en) * | 2001-05-22 | 2002-11-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developing solution composition and process for forming image using the composition |
| EP1314552A2 (en) | 1998-04-06 | 2003-05-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
-
1983
- 1983-11-21 JP JP58218986A patent/JPS60111246A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63158552A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
| JPH01257846A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型フオトレジスト用現像液 |
| US5030550A (en) * | 1988-04-07 | 1991-07-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developer for positive type photoresists |
| JPH06202332A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-07-22 | Morton Thiokol Inc | ポジティブフォトレジストのレリーフ構造の製造方法と放射線記録用材料 |
| WO1999000707A1 (fr) * | 1997-06-27 | 1999-01-07 | Clariant International Ltd. | Revelateur pour agents de reserve |
| EP1314552A2 (en) | 1998-04-06 | 2003-05-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
| EP1260867A1 (en) * | 2001-05-22 | 2002-11-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developing solution composition and process for forming image using the composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0354339B2 (ja) | 1991-08-19 |
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