JPH11327118A - フォトレジスト用マスク作製用感熱転写媒体およびフォトレジスト用マスク作製方法 - Google Patents
フォトレジスト用マスク作製用感熱転写媒体およびフォトレジスト用マスク作製方法Info
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- JPH11327118A JPH11327118A JP10183299A JP18329998A JPH11327118A JP H11327118 A JPH11327118 A JP H11327118A JP 10183299 A JP10183299 A JP 10183299A JP 18329998 A JP18329998 A JP 18329998A JP H11327118 A JPH11327118 A JP H11327118A
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 感熱転写により、極めて高精細、高階調の
製版用ネガまたはポジを、一般のサーマルヘッド等を用
いて透明または半透明なシートに印字することにより作
製することができる感熱転写媒体を提供する。 【解決手段】 ベースフィルム上に製版時に用いられ
る紫外線の波長領域を含む３８０ｎｍ以下の波長領域内
での光線透過率が５％以下である機能を有する転写層か
らなる感熱転写媒体。
製版用ネガまたはポジを、一般のサーマルヘッド等を用
いて透明または半透明なシートに印字することにより作
製することができる感熱転写媒体を提供する。 【解決手段】 ベースフィルム上に製版時に用いられ
る紫外線の波長領域を含む３８０ｎｍ以下の波長領域内
での光線透過率が５％以下である機能を有する転写層か
らなる感熱転写媒体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感熱転写媒体に関
し、更に詳しくはサーマルヘッド等を用いて透明もしく
は半透明基材上に所望のパターンに印字することによ
り、高精細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製す
るための感熱転写媒体および該感熱転写媒体を使用して
のフォトレジスト用マスク作製方法に関する。
し、更に詳しくはサーマルヘッド等を用いて透明もしく
は半透明基材上に所望のパターンに印字することによ
り、高精細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製す
るための感熱転写媒体および該感熱転写媒体を使用して
のフォトレジスト用マスク作製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、印刷分野に於いては印刷用版下を
作製するためのネガフィルムやポジフィルム等のフォト
レジスト用マスクを作製する場合、銀塩フィルムをカメ
ラ等で撮影した後に、現像、定着、乾燥等の工程で行う
写真製版技術の利用が一般的であった。そのため写真製
版は作業工程が多く、高度な技術と高価な設備が必要で
あった。また、熱転写プリンターを利用して、剥離によ
りネガフィルムを作製する技術も既にはあるが、そのた
めにはネガシート、ポジシートとなる作製用の特殊シー
ト並びにサーマルヘッドを用いてネガフィルム、ポジフ
ィルムを作製するために要する剥離用感熱リボンが必要
であった。また剥離によりネガフィルムを作製する方式
ではポジフィルムを作製する際には、作製用特殊シート
の大部分を剥離用感熱リボンで剥離する必要があり、多
量の剥離用感熱リボンを必要とし、経済的にも問題であ
った。また技術的にもポジフィルムを精度よく作製する
際、完璧に剥離させる必要があり高度の技術が必要であ
った。フォトレジスト用マスク作製に関しては他に感熱
発色を利用したシート等もあるが、極めて高精細、高階
調のフォトレジスト用マスクを再現することには技術的
に問題があった。従来の黒色の感熱転写媒体がＯＨＰシ
ート等の印字に使用される場合もあるが、紫外線を利用
した製版用ネガシート、ポジシート等のフォトレジスト
用マスクを作製するのに充分な隠蔽性もなく、紫外線遮
断効果は有していなかった。
作製するためのネガフィルムやポジフィルム等のフォト
レジスト用マスクを作製する場合、銀塩フィルムをカメ
ラ等で撮影した後に、現像、定着、乾燥等の工程で行う
写真製版技術の利用が一般的であった。そのため写真製
版は作業工程が多く、高度な技術と高価な設備が必要で
あった。また、熱転写プリンターを利用して、剥離によ
りネガフィルムを作製する技術も既にはあるが、そのた
めにはネガシート、ポジシートとなる作製用の特殊シー
ト並びにサーマルヘッドを用いてネガフィルム、ポジフ
ィルムを作製するために要する剥離用感熱リボンが必要
であった。また剥離によりネガフィルムを作製する方式
ではポジフィルムを作製する際には、作製用特殊シート
の大部分を剥離用感熱リボンで剥離する必要があり、多
量の剥離用感熱リボンを必要とし、経済的にも問題であ
った。また技術的にもポジフィルムを精度よく作製する
際、完璧に剥離させる必要があり高度の技術が必要であ
った。フォトレジスト用マスク作製に関しては他に感熱
発色を利用したシート等もあるが、極めて高精細、高階
調のフォトレジスト用マスクを再現することには技術的
に問題があった。従来の黒色の感熱転写媒体がＯＨＰシ
ート等の印字に使用される場合もあるが、紫外線を利用
した製版用ネガシート、ポジシート等のフォトレジスト
用マスクを作製するのに充分な隠蔽性もなく、紫外線遮
断効果は有していなかった。
【０００３】更に、特願昭６２−３１８４２０におい
て、ベースフィルムの上に、少なくとも保護樹脂塗膜
層、金属蒸着層、接着剤層を順次形成し、該保護樹脂塗
膜層中に紫外線吸収剤を含有していることを特徴とする
紫外線遮断性感熱転写媒体に関する特許があるが、保護
樹脂塗膜層中に紫外線吸収剤を含有せしめることで高価
になる等の問題があった。
て、ベースフィルムの上に、少なくとも保護樹脂塗膜
層、金属蒸着層、接着剤層を順次形成し、該保護樹脂塗
膜層中に紫外線吸収剤を含有していることを特徴とする
紫外線遮断性感熱転写媒体に関する特許があるが、保護
樹脂塗膜層中に紫外線吸収剤を含有せしめることで高価
になる等の問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決するために、ベースフィルム上に製版時に用いら
れる紫外線の波長領域を含む３８０ｎｍ以下の波長領域
内での光線透過率が５％以下の機能を有する転写層を保
有する感熱転媒体を用いて、透明もしくは半透明基材に
サーマルヘッド等で所望のパターンを印字作製し、より
簡易的、経済的に、高精細、高階調パターンのフォトレ
ジスト用マスクを作製提供することを可能にした。
を解決するために、ベースフィルム上に製版時に用いら
れる紫外線の波長領域を含む３８０ｎｍ以下の波長領域
内での光線透過率が５％以下の機能を有する転写層を保
有する感熱転媒体を用いて、透明もしくは半透明基材に
サーマルヘッド等で所望のパターンを印字作製し、より
簡易的、経済的に、高精細、高階調パターンのフォトレ
ジスト用マスクを作製提供することを可能にした。
【０００５】
【課題を解決しようとする手段】すなわち本発明は、支
持体上に剥離容易な感熱転写層を設け、該転写層を透明
または半透明の基材上に転写してフォトレジスト用マス
クを作製するためのフォトレジスト用マスク作製用感熱
転写媒体であって、該感熱転写層の光線透過率が波長領
域３８０ｎｍ以下において、５％以下であることを特徴
とするフォトレジスト用マスク作製用感熱転写媒体であ
り、また感熱転写層が樹脂塗膜層、金属蒸着層、接着層
の少なくとも１種以上からなる前記のフォトレジスト用
マスク作製用感熱転写媒体であります。さらに透明もし
くは半透明の基材上に、前記のフォトレジスト用マスク
作製用感熱転写媒体の感熱転写層を、サーマルヘッド等
を用いて所望のパターンに印字することにより、高精
細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製することを
特徴とするフォトレジスト用マスク作製方法でありま
す。
持体上に剥離容易な感熱転写層を設け、該転写層を透明
または半透明の基材上に転写してフォトレジスト用マス
クを作製するためのフォトレジスト用マスク作製用感熱
転写媒体であって、該感熱転写層の光線透過率が波長領
域３８０ｎｍ以下において、５％以下であることを特徴
とするフォトレジスト用マスク作製用感熱転写媒体であ
り、また感熱転写層が樹脂塗膜層、金属蒸着層、接着層
の少なくとも１種以上からなる前記のフォトレジスト用
マスク作製用感熱転写媒体であります。さらに透明もし
くは半透明の基材上に、前記のフォトレジスト用マスク
作製用感熱転写媒体の感熱転写層を、サーマルヘッド等
を用いて所望のパターンに印字することにより、高精
細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製することを
特徴とするフォトレジスト用マスク作製方法でありま
す。
【０００６】本発明の感熱転写層は、前記の各種層を適
宜組み合わせて構成されてもよいものであるが、該感熱
転写層の光線透過率が波長領域３８０ｎｍ以下におい
て、５％以下であることが必須要件であり、該光線透過
率は好ましくは、１％以下のものである。該感熱転写層
の光線透過率が波長領域３８０ｎｍ以下において、５％
を超える場合は、高精細、高階調なフォトレジスト用マ
スクが得られ難い。
宜組み合わせて構成されてもよいものであるが、該感熱
転写層の光線透過率が波長領域３８０ｎｍ以下におい
て、５％以下であることが必須要件であり、該光線透過
率は好ましくは、１％以下のものである。該感熱転写層
の光線透過率が波長領域３８０ｎｍ以下において、５％
を超える場合は、高精細、高階調なフォトレジスト用マ
スクが得られ難い。
【０００７】本発明における支持体としては、任意のプ
ラスチックフィルムを使用することができ、例えば、ポ
リエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、アクリルニ
トリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレン
ナフタレート等であり、剥離性に劣る場合は離型層を設
けた前記の支持体フイルムが使用される。一般には耐熱
性が良く、機械的強度もあるポリエチレンテレフタレー
トが使用し易い。また、サーマルヘッドでの印字の際の
ホットスティッキング防止のため、ベースフィルムの背
面に耐熱性シリコン樹脂や、界面活性剤等からなる静電
気防止剤を塗布する場合が多い。
ラスチックフィルムを使用することができ、例えば、ポ
リエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、アクリルニ
トリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレン
ナフタレート等であり、剥離性に劣る場合は離型層を設
けた前記の支持体フイルムが使用される。一般には耐熱
性が良く、機械的強度もあるポリエチレンテレフタレー
トが使用し易い。また、サーマルヘッドでの印字の際の
ホットスティッキング防止のため、ベースフィルムの背
面に耐熱性シリコン樹脂や、界面活性剤等からなる静電
気防止剤を塗布する場合が多い。
【０００８】本発明における感熱転写層としては、樹脂
塗膜層、金属蒸着層、接着層の少なくとも１種以上から
なり、ベースフィルム上に必要に応じて積層される。樹
脂塗膜層としてはカーボンブラック等の隠蔽性のある顔
料及び添加剤を樹脂塗膜に対し０〜６０重量％の範囲で
配合することにより、本発明の機能を付与することがで
きる。また金属蒸着層としては、膜厚が１５〜８０ｎｍ
の範囲で形成することにより機能を付与することができ
る。接着剤層としては、カーボンブラック等の隠蔽性の
ある顔料及び添加剤を接着剤塗膜中０〜６０重量％の範
囲で配合することにより本発明の機能を付与することが
できる。接着層中には場合により、印字性が損なわれな
い程度に紫外線吸収剤を使用しても良い。
塗膜層、金属蒸着層、接着層の少なくとも１種以上から
なり、ベースフィルム上に必要に応じて積層される。樹
脂塗膜層としてはカーボンブラック等の隠蔽性のある顔
料及び添加剤を樹脂塗膜に対し０〜６０重量％の範囲で
配合することにより、本発明の機能を付与することがで
きる。また金属蒸着層としては、膜厚が１５〜８０ｎｍ
の範囲で形成することにより機能を付与することができ
る。接着剤層としては、カーボンブラック等の隠蔽性の
ある顔料及び添加剤を接着剤塗膜中０〜６０重量％の範
囲で配合することにより本発明の機能を付与することが
できる。接着層中には場合により、印字性が損なわれな
い程度に紫外線吸収剤を使用しても良い。
【０００９】これらの樹脂塗膜層、金属蒸着層、接着層
の少なくとも１種以上からなる本発明の感熱転写層はい
ずれにしろ、感熱転写層として光線透過率が波長領域３
８０ｎｍ以下において、５％以下であることを必須要件
とするものである。
の少なくとも１種以上からなる本発明の感熱転写層はい
ずれにしろ、感熱転写層として光線透過率が波長領域３
８０ｎｍ以下において、５％以下であることを必須要件
とするものである。
【００１０】以下、本発明を実施例を用いて説明する。
【実施例１】 ［転写層］ カルナバワックス ３０．０ （重量部） マイクロクリスタリンワックス ３０．０ ポリエステル樹脂 １０．０ カーボンブラック ２０．０ 石油樹脂 １０．０ 計 １００．０ ３．５μｍ厚の背面処理加工を施したポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片面上に、ホットメルトコーティ
ング方式により乾燥膜厚２μｍの上記転写層を設け、本
発明の感熱転写媒体を作製した。得られた感熱転写媒体
の感熱転写層の波長領域３８０ｎｍ以下における光線透
過率は、２％以下であった。この感熱転写媒体を使用し
て、サンドマット処理半透明ＰＥＴフィルム上にサーマ
ルヘッドを用いて所望のパターンを印字したところ、極
めて高精細、高階調なフォトレジスト用マスクが作製で
きた。
フタレートフィルムの片面上に、ホットメルトコーティ
ング方式により乾燥膜厚２μｍの上記転写層を設け、本
発明の感熱転写媒体を作製した。得られた感熱転写媒体
の感熱転写層の波長領域３８０ｎｍ以下における光線透
過率は、２％以下であった。この感熱転写媒体を使用し
て、サンドマット処理半透明ＰＥＴフィルム上にサーマ
ルヘッドを用いて所望のパターンを印字したところ、極
めて高精細、高階調なフォトレジスト用マスクが作製で
きた。
【００１１】
【実施例２】 ［樹脂層］ ポリエチレンワックス １０．０ （重量部） カーボンブラック ２０．０ アクリル樹脂 １５．０ ケトン樹脂 １０．０ メチルエチルケトン ４５．０ トルエン ５．０ 計 １００．０ ［接着層］ ポリエステル樹脂 ５．０ （重量部） カーボンブラック ５．０ メチルエチルケトン ９０．０ 計 １００．０ ３．５μｍ厚の背面処理加工を施したポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片面上に、グラビアコーティング
方式により乾燥膜厚１．０μｍの上記樹脂層を設け、そ
の樹脂層上に上記接着層を乾燥膜厚１．０μｍ形成し、
乾燥膜厚２．０μｍの転写層を有する本発明の感熱転写
媒体を作製した。 得られた感熱転写媒体の感熱転写層
の波長領域３８０ｎｍ以下における光線透過率は、２％
以下であった。この感熱転写媒体を使用して、透明ＰＥ
Ｔフィルム上にサーマルヘッドを用いて所望のパターン
を印字したところ、実施例１同様の極めて高精細、高階
調なフォトレジスト用マスクを作製することができた。
フタレートフィルムの片面上に、グラビアコーティング
方式により乾燥膜厚１．０μｍの上記樹脂層を設け、そ
の樹脂層上に上記接着層を乾燥膜厚１．０μｍ形成し、
乾燥膜厚２．０μｍの転写層を有する本発明の感熱転写
媒体を作製した。 得られた感熱転写媒体の感熱転写層
の波長領域３８０ｎｍ以下における光線透過率は、２％
以下であった。この感熱転写媒体を使用して、透明ＰＥ
Ｔフィルム上にサーマルヘッドを用いて所望のパターン
を印字したところ、実施例１同様の極めて高精細、高階
調なフォトレジスト用マスクを作製することができた。
【００１２】
【実施例３】 ［樹脂層］ ポリエチレンワックス １５．０ （重量部） カーボンブラック ５．０ アクリル樹脂 ２５．０ ケトン樹脂 １０．０ メチルエチルケトン ４０．０ トルエン ５．０ 計 １００．０ ［金属蒸着層］ アルミニウム蒸着層 ４０ｎｍ ［接着層］ ＰＰ樹脂 １０．０ （重量部） 体質顔料 １．０ メチルエチルケトン ８９．０ 計 １００．０ ４．５μｍ厚の背面処理加工を施したポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片面上に、グラビアコーティング
方式により乾燥膜厚１μｍの上記樹脂層を設け、その樹
脂層上に高周波誘導加熱方式によりアルミニウム金属蒸
着膜４０ｎｍを形成し、更にアルミニウム金属蒸着層上
に上記接着剤層を乾燥膜厚１．０μｍ形成した積層転写
層を有する、本発明の感熱転写媒体を作製した。 得ら
れた感熱転写媒体の感熱転写層の波長領域３８０ｎｍ以
下における光線透過率は、１％以下であった。この感熱
転写媒体を使用して、透明ＰＥＴフィルム上にサーマル
ヘッドを用いて所望のパターンを印字したところ、極め
て高精細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製する
ことができた。
フタレートフィルムの片面上に、グラビアコーティング
方式により乾燥膜厚１μｍの上記樹脂層を設け、その樹
脂層上に高周波誘導加熱方式によりアルミニウム金属蒸
着膜４０ｎｍを形成し、更にアルミニウム金属蒸着層上
に上記接着剤層を乾燥膜厚１．０μｍ形成した積層転写
層を有する、本発明の感熱転写媒体を作製した。 得ら
れた感熱転写媒体の感熱転写層の波長領域３８０ｎｍ以
下における光線透過率は、１％以下であった。この感熱
転写媒体を使用して、透明ＰＥＴフィルム上にサーマル
ヘッドを用いて所望のパターンを印字したところ、極め
て高精細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製する
ことができた。
【００１３】
【実施例４】 ［樹脂層］ ポリエチレンワックス １５．０ （重量部） アクリル樹脂 ２０．０ ケトン樹脂 １５．０ メチルエチルケトン ４５．０ トルエン ５．０ 計 １００．０ ［金属蒸着層］ アルミニウム蒸着層 ８０ｎｍ ［接着層］ ＰＰ樹脂 １０．０ （重量部） 体質顔料 １．０ メチルエチルケトン ８９．０ 計 １００．０ ３．５μｍ厚の背面処理加工を施したポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片面上に、グラビアコーティング
方式により乾燥膜厚１μｍの上記樹脂層を設け、その樹
脂層上に高周波誘導加熱方式によりアルミニウム金属蒸
着膜８０ｎｍを形成し、更にアルミニウム金属蒸着層上
に上記接着剤層を乾燥膜厚０．５μｍ形成した積層転写
層を有する、本発明の感熱転写媒体を作製した。 得ら
れた感熱転写媒体の感熱転写層の波長領域３８０ｎｍ以
下における光線透過率は、ほとんど０％であった。この
感熱転写媒体を使用して、透明ＰＥＴフィルム上にサー
マルヘッドを用いて所望のパターンを印字したところ、
極めて高精細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製
することができた。
フタレートフィルムの片面上に、グラビアコーティング
方式により乾燥膜厚１μｍの上記樹脂層を設け、その樹
脂層上に高周波誘導加熱方式によりアルミニウム金属蒸
着膜８０ｎｍを形成し、更にアルミニウム金属蒸着層上
に上記接着剤層を乾燥膜厚０．５μｍ形成した積層転写
層を有する、本発明の感熱転写媒体を作製した。 得ら
れた感熱転写媒体の感熱転写層の波長領域３８０ｎｍ以
下における光線透過率は、ほとんど０％であった。この
感熱転写媒体を使用して、透明ＰＥＴフィルム上にサー
マルヘッドを用いて所望のパターンを印字したところ、
極めて高精細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製
することができた。
【００１４】
【比較例１】 ［転写層］ カルナバワックス ４０．０ （重量部） マイクロクリスタリンワックス ４０．０ ポリエステル樹脂 １０．０ カーボンブラック ５．０ 石油樹脂 ５．０ 計 １００．０ ３．５μｍ厚の背面処理加工を施したポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片面上に、ホットメルトコーティ
ング方式により乾燥膜厚２μｍの上記転写層を設け、感
熱転写媒体を作製した。 得られた感熱転写媒体の感熱
転写層の波長領域３８０ｎｍ以下における光線透過率
は、５％を超えるものであった。この感熱転写媒体を使
用して、サンドマット処理半透明ＰＥＴフィルム上にサ
ーマルヘッドを用いて所望のパターンを印字したとこ
ろ、高精細、高階調なフォトレジスト用マスクは得られ
なかった。
フタレートフィルムの片面上に、ホットメルトコーティ
ング方式により乾燥膜厚２μｍの上記転写層を設け、感
熱転写媒体を作製した。 得られた感熱転写媒体の感熱
転写層の波長領域３８０ｎｍ以下における光線透過率
は、５％を超えるものであった。この感熱転写媒体を使
用して、サンドマット処理半透明ＰＥＴフィルム上にサ
ーマルヘッドを用いて所望のパターンを印字したとこ
ろ、高精細、高階調なフォトレジスト用マスクは得られ
なかった。
【００１５】
【比較例2】 ［樹脂層］ ポリエチレンワックス １５．０ （重量部） アクリル樹脂 ２０．０ ケトン樹脂 １５．０ メチルエチルケトン ４５．０ トルエン ５．０ 計 １００．０ ［金属蒸着層］ アルミニウム蒸着層 2０ｎｍ ［接着層］ ＰＰ樹脂 １０．０ （重量部） 体質顔料 １．０ メチルエチルケトン ８９．０ 計 １００．０ ３．５μｍ厚の背面処理加工を施したポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片面上に、グラビアコーティング
方式により乾燥膜厚１μｍの上記樹脂層を設け、その樹
脂層上に高周波誘導加熱方式によりアルミニウム金属蒸
着膜８０ｎｍを形成し、更にアルミニウム金属蒸着層上
に上記接着剤層を乾燥膜厚０．５μｍ形成した積層転写
層を有する、本発明の感熱転写媒体を作製した。 得ら
れた感熱転写媒体の感熱転写層の波長領域３８０ｎｍ以
下における光線透過率は、５％を超えるものであった。
この感熱転写媒体を使用して、透明ＰＥＴフィルム上に
サーマルヘッドを用いて所望のパターンを印字したとこ
ろ、高精細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製す
ることができなかった。
フタレートフィルムの片面上に、グラビアコーティング
方式により乾燥膜厚１μｍの上記樹脂層を設け、その樹
脂層上に高周波誘導加熱方式によりアルミニウム金属蒸
着膜８０ｎｍを形成し、更にアルミニウム金属蒸着層上
に上記接着剤層を乾燥膜厚０．５μｍ形成した積層転写
層を有する、本発明の感熱転写媒体を作製した。 得ら
れた感熱転写媒体の感熱転写層の波長領域３８０ｎｍ以
下における光線透過率は、５％を超えるものであった。
この感熱転写媒体を使用して、透明ＰＥＴフィルム上に
サーマルヘッドを用いて所望のパターンを印字したとこ
ろ、高精細、高階調なフォトレジスト用マスクを作製す
ることができなかった。
【００１６】
【発明の効果】本発明の感熱転写媒体は、３８０ｎｍ以
下の波長領域での光線透過率が５％以下である機能を有
する転写層からなる感熱転写媒体であり、そのためサー
マルヘッド等を用いて透明または半透明な製版用シート
に印字することにより、極めて高精細、高階調のフォト
レジスト用マスクを作製するのに効果的であった。
下の波長領域での光線透過率が５％以下である機能を有
する転写層からなる感熱転写媒体であり、そのためサー
マルヘッド等を用いて透明または半透明な製版用シート
に印字することにより、極めて高精細、高階調のフォト
レジスト用マスクを作製するのに効果的であった。
【００１７】
Claims (3)
- 【請求項１】支持体上に剥離容易な感熱転写層を設け、
該転写層を透明または半透明の基材上に転写してフォト
レジスト用マスクを作製するためのフォトレジスト用マ
スク作製用感熱転写媒体であって、該感熱転写層の光線
透過率が波長領域３８０ｎｍ以下において、５％以下で
あることを特徴とするフォトレジスト用マスク作製用感
熱転写媒体。 - 【請求項２】感熱転写層が樹脂塗膜層、金属蒸着層、接
着層の少なくとも１種以上からなる請求項１記載のフォ
トレジスト用マスク作製用感熱転写媒体。 - 【請求項３】透明もしくは半透明の基材上に、請求項１
記載のフォトレジスト用マスク作製用感熱転写媒体の感
熱転写層を、サーマルヘッド等を用いて所望のパターン
に印字することにより、高精細、高階調なフォトレジス
ト用マスクを作製することを特徴とするフォトレジスト
用マスク作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10183299A JPH11327118A (ja) | 1998-05-14 | 1998-05-14 | フォトレジスト用マスク作製用感熱転写媒体およびフォトレジスト用マスク作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10183299A JPH11327118A (ja) | 1998-05-14 | 1998-05-14 | フォトレジスト用マスク作製用感熱転写媒体およびフォトレジスト用マスク作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11327118A true JPH11327118A (ja) | 1999-11-26 |
Family
ID=16133249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10183299A Pending JPH11327118A (ja) | 1998-05-14 | 1998-05-14 | フォトレジスト用マスク作製用感熱転写媒体およびフォトレジスト用マスク作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11327118A (ja) |
-
1998
- 1998-05-14 JP JP10183299A patent/JPH11327118A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041004 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20041004 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20041026 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041109 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050517 |