JPH1154324A - 真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成するための蒸着ソース - Google Patents
真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成するための蒸着ソースInfo
- Publication number
- JPH1154324A JPH1154324A JP22109397A JP22109397A JPH1154324A JP H1154324 A JPH1154324 A JP H1154324A JP 22109397 A JP22109397 A JP 22109397A JP 22109397 A JP22109397 A JP 22109397A JP H1154324 A JPH1154324 A JP H1154324A
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- iron
- gas
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/16—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing cobalt
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 飽和磁束密度の高いコバルト・鉄・ニッケル
合金の均一な薄膜を電子ビーム加熱式真空蒸着法により
安定に形成し、高密度記録に適した磁気ヘッドコアを歩
留りよく製造できるようにする。 【解決手段】 真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成す
るための蒸着ソースとして、本発明は、コバルト・鉄・
ニッケル合金からなり、含有ガス濃度が０．００５重量
％以下であるものを提供する。
合金の均一な薄膜を電子ビーム加熱式真空蒸着法により
安定に形成し、高密度記録に適した磁気ヘッドコアを歩
留りよく製造できるようにする。 【解決手段】 真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成す
るための蒸着ソースとして、本発明は、コバルト・鉄・
ニッケル合金からなり、含有ガス濃度が０．００５重量
％以下であるものを提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高密度記録に対応
した磁気ヘッドのコアを製造する技術分野に属し、特
に、真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成するための蒸
着ソースに関する。
した磁気ヘッドのコアを製造する技術分野に属し、特
に、真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成するための蒸
着ソースに関する。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスク装置やフロッピーディス
ク装置などのコンピュータ用の磁気記録装置の分野で
は、より小型の装置でより大容量の記憶を実現すべく、
さまざまな角度から高密度記録に向けての際限のない技
術開発が行われている。この種の磁気記録装置に用いら
れている従来の代表的な磁気ヘッドコアは、電子ビーム
加熱式真空蒸着法により適宜な基板にニッケル・鉄合金
などの二元系の軟磁性体薄膜を形成したものであった。
ク装置などのコンピュータ用の磁気記録装置の分野で
は、より小型の装置でより大容量の記憶を実現すべく、
さまざまな角度から高密度記録に向けての際限のない技
術開発が行われている。この種の磁気記録装置に用いら
れている従来の代表的な磁気ヘッドコアは、電子ビーム
加熱式真空蒸着法により適宜な基板にニッケル・鉄合金
などの二元系の軟磁性体薄膜を形成したものであった。
【０００３】より高密度記録を実現するための磁気ヘッ
ドコア材料としては、従来のニッケル・鉄合金は飽和磁
束密度（１００００ガウス以下）の面で不充分な材料と
なってきた。そのため、より飽和磁束密度の高いコバル
ト・鉄・ニッケル合金などの三元系の軟磁性体に研究の
目が向けられている。
ドコア材料としては、従来のニッケル・鉄合金は飽和磁
束密度（１００００ガウス以下）の面で不充分な材料と
なってきた。そのため、より飽和磁束密度の高いコバル
ト・鉄・ニッケル合金などの三元系の軟磁性体に研究の
目が向けられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らも、飽和磁
束密度の高いコバルト・鉄・ニッケル合金（１７０００
ガウス程度になる）に注目し、この材料で高密度記録に
対応する磁気ヘッドコアを製造すべく研究開発を続けて
きた。まずは、ニッケル・鉄合金をコバルト・鉄・ニッ
ケル合金に置換し、従来のやり方と同様な電子ビーム加
熱式真空蒸着法により磁気ヘッドコア用の軟磁性体薄膜
を適宜な基板に形成し、その成膜状態を分析するととも
に、磁気ヘッドとしての特性を詳しく測定した。
束密度の高いコバルト・鉄・ニッケル合金（１７０００
ガウス程度になる）に注目し、この材料で高密度記録に
対応する磁気ヘッドコアを製造すべく研究開発を続けて
きた。まずは、ニッケル・鉄合金をコバルト・鉄・ニッ
ケル合金に置換し、従来のやり方と同様な電子ビーム加
熱式真空蒸着法により磁気ヘッドコア用の軟磁性体薄膜
を適宜な基板に形成し、その成膜状態を分析するととも
に、磁気ヘッドとしての特性を詳しく測定した。
【０００５】その結果、従来のニッケル・鉄合金を蒸着
ソースとして薄膜を形成していた場合には、蒸着レート
が安定していて、均一な薄膜が形成できたが、蒸着ソー
スをコバルト・鉄・ニッケル合金に置換して行った場合
には、蒸着レートが変動し、均一な薄膜を形成できず、
そのため磁気ヘッドコアとして望ましい特性を実現でき
なかった。
ソースとして薄膜を形成していた場合には、蒸着レート
が安定していて、均一な薄膜が形成できたが、蒸着ソー
スをコバルト・鉄・ニッケル合金に置換して行った場合
には、蒸着レートが変動し、均一な薄膜を形成できず、
そのため磁気ヘッドコアとして望ましい特性を実現でき
なかった。
【０００６】本発明は、上記した背景に鑑みてなされた
もので、その目的とするところは、上記した問題を解決
し、飽和磁束密度の高いコバルト・鉄・ニッケル合金の
均一な薄膜を電子ビーム加熱式真空蒸着法により安定に
形成し、高密度記録に適した磁気ヘッドコアを歩留りよ
く製造できるようにすることにある。
もので、その目的とするところは、上記した問題を解決
し、飽和磁束密度の高いコバルト・鉄・ニッケル合金の
均一な薄膜を電子ビーム加熱式真空蒸着法により安定に
形成し、高密度記録に適した磁気ヘッドコアを歩留りよ
く製造できるようにすることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、コ
バルト・鉄・ニッケル合金を蒸着ソースとして電子ビー
ム加熱式真空蒸着法により薄膜を形成した場合に、なぜ
蒸着レートが変動してしまうのかをさまざまな観点から
分析した。その結果、蒸着レートの変動と蒸着ソースの
含有ガス濃度との関連性が強いことを究明した。
バルト・鉄・ニッケル合金を蒸着ソースとして電子ビー
ム加熱式真空蒸着法により薄膜を形成した場合に、なぜ
蒸着レートが変動してしまうのかをさまざまな観点から
分析した。その結果、蒸着レートの変動と蒸着ソースの
含有ガス濃度との関連性が強いことを究明した。
【０００８】コバルト・鉄・ニッケル合金の蒸着ソース
は、各金属素材を混合して真空中で溶解して合金化する
ことで製造する。その真空中での溶解プロセスで溶湯を
混合しながらガス抜き処理を行っている。このときの真
空度が良好でなかったり、ガス抜き処理が充分に行われ
ないと、でき上がった蒸着ソース（合金インゴット）の
含有ガス濃度が高くなる。なお、合金インゴットに含有
される主なガスは酸素や窒素である。
は、各金属素材を混合して真空中で溶解して合金化する
ことで製造する。その真空中での溶解プロセスで溶湯を
混合しながらガス抜き処理を行っている。このときの真
空度が良好でなかったり、ガス抜き処理が充分に行われ
ないと、でき上がった蒸着ソース（合金インゴット）の
含有ガス濃度が高くなる。なお、合金インゴットに含有
される主なガスは酸素や窒素である。
【０００９】そして、コバルト・鉄・ニッケル合金の蒸
着ソースにおける含有ガス濃度が０．００５重量％を超
えると蒸着レートの変動が顕著になることが分った。反
対に、コバルト・鉄・ニッケル合金の蒸着ソースにおけ
る含有ガス濃度が０．００５重量％以下に抑えられてい
ると、蒸着レートの変動は許容範囲内に収まり、充分に
均一な蒸着膜を安定に形成できることが分った。
着ソースにおける含有ガス濃度が０．００５重量％を超
えると蒸着レートの変動が顕著になることが分った。反
対に、コバルト・鉄・ニッケル合金の蒸着ソースにおけ
る含有ガス濃度が０．００５重量％以下に抑えられてい
ると、蒸着レートの変動は許容範囲内に収まり、充分に
均一な蒸着膜を安定に形成できることが分った。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の蒸着ソースを製造する方
法の一例について説明する。コバルト・鉄・ニッケルの
各合金材料を所定の重量比で混合したものを白金ルツボ
に入れ、これを真空炉に収容して加熱し、前記金属材料
を溶解して混合する。このときの炉内の真空度は４×１
０-6Ｔｏｒｒ以上に保つ。これにより、合金材料内で微
量にガスが発生しても、真空雰囲気下であるため、ソー
ス表面に溜まって皮膜を形成することなく、雰囲気内に
抜け出る。また真空にするだけで充分な効果（ガス抜
き）が得られないときには、溶湯のガス抜き処理とし
て、ＨＩＰ処理（合金材料に圧縮して内部のガスの追い
出し）を行う。こうすることで、でき上がった蒸着ソー
ス（コバルト・鉄・ニッケル合金のインゴット）の含有
ガス濃度を０．００５重量％以下にすることができる。
法の一例について説明する。コバルト・鉄・ニッケルの
各合金材料を所定の重量比で混合したものを白金ルツボ
に入れ、これを真空炉に収容して加熱し、前記金属材料
を溶解して混合する。このときの炉内の真空度は４×１
０-6Ｔｏｒｒ以上に保つ。これにより、合金材料内で微
量にガスが発生しても、真空雰囲気下であるため、ソー
ス表面に溜まって皮膜を形成することなく、雰囲気内に
抜け出る。また真空にするだけで充分な効果（ガス抜
き）が得られないときには、溶湯のガス抜き処理とし
て、ＨＩＰ処理（合金材料に圧縮して内部のガスの追い
出し）を行う。こうすることで、でき上がった蒸着ソー
ス（コバルト・鉄・ニッケル合金のインゴット）の含有
ガス濃度を０．００５重量％以下にすることができる。
【００１１】なお、含有ガス濃度を０．００５重量％以
下に抑えた蒸着ソースの蒸着レート変動がないことを確
認し、また、０．００５重量％以上（実験では０．０１
０重重量％）の蒸着ソースでは、変動レートが２０〜３
０％になった。
下に抑えた蒸着ソースの蒸着レート変動がないことを確
認し、また、０．００５重量％以上（実験では０．０１
０重重量％）の蒸着ソースでは、変動レートが２０〜３
０％になった。
【００１２】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、真空蒸着法
により軟磁性体薄膜を形成するための蒸着ソースとし
て、本発明は、コバルト・鉄・ニッケル合金からなり、
含有ガス濃度が０．００５重量％以下であるものを提供
する。本発明による蒸着ソースを用いることで、蒸着レ
ートの変動がない均一なコバルト・鉄・ニッケル合金薄
膜を安定に形成できる。そのため、高密度記録に適した
磁気ヘッドコアを歩留りよく製造できるようになる。
により軟磁性体薄膜を形成するための蒸着ソースとし
て、本発明は、コバルト・鉄・ニッケル合金からなり、
含有ガス濃度が０．００５重量％以下であるものを提供
する。本発明による蒸着ソースを用いることで、蒸着レ
ートの変動がない均一なコバルト・鉄・ニッケル合金薄
膜を安定に形成できる。そのため、高密度記録に適した
磁気ヘッドコアを歩留りよく製造できるようになる。
Claims (1)
- 【請求項１】 コバルト・鉄・ニッケル合金からなり、
含有ガス濃度が０．００５重量％以下であることを特徴
とする真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成するための
蒸着ソース。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22109397A JPH1154324A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成するための蒸着ソース |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22109397A JPH1154324A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成するための蒸着ソース |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1154324A true JPH1154324A (ja) | 1999-02-26 |
Family
ID=16761387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22109397A Pending JPH1154324A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 真空蒸着法により軟磁性体薄膜を形成するための蒸着ソース |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1154324A (ja) |
-
1997
- 1997-07-31 JP JP22109397A patent/JPH1154324A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20040726 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060814 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060829 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070109 |