JPS58129A - ガラスの洗浄方法 - Google Patents

ガラスの洗浄方法

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Publication number
JPS58129A
JPS58129A JP56098543A JP9854381A JPS58129A JP S58129 A JPS58129 A JP S58129A JP 56098543 A JP56098543 A JP 56098543A JP 9854381 A JP9854381 A JP 9854381A JP S58129 A JPS58129 A JP S58129A
Authority
JP
Japan
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glass
polyvinyl alcohol
cleaning
dust
glass surface
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Application number
JP56098543A
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English (en)
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JPS632105B2 (ja
Inventor
Satoshi Araihara
新井原　聡
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS58129A publication Critical patent/JPS58129A/ja
Publication of JPS632105B2 publication Critical patent/JPS632105B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P52/00—Grinding, lapping or polishing of wafers, substrates or parts of devices

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガラスの洗浄方法に係る。
従来洗浄し九ガラス等の表面を乾燥するのに。
大気中または窒素中で自然乾燥するとこれらの気体の中
に含まれる物質が乾燥途中の水に溶は込み、乾燥後、ガ
ラス真向に残るという問題点があった。
そこで、この改良法としてエアーガン、エアーナイフ等
で乾燥窒素を吹きつける方法があるが、この方法では急
速な気流によシ塵が多く付着したり、気流により巻き上
つ九本が４〜５趨の大きさの水滴となって付着してその
まま乾かず、粒子の無い清浄な表面が得られないという
問題点があった。
そこで本発明は、上記問題点を除去する目的で、洗浄後
の乾燥が自然乾燥よシ速く、それ故水滴に伴う塵の付着
の無い清浄な表面が得られる洗浄方法を提供する。
即ち本発明は、洗浄に先立ちガラスの表面にポリビニー
ルアルコール水溶液を塗布する工程、該ガラスを熱処理
する工程、該ガラスの表面を水を含む液体により摩擦洗
浄する工場、該ガラスの表面を乾燥する工程を有すると
とを特徴とするガラスの洗浄方法である。
以下本発明の一実施例を説明する。　　　　　　゛本実
施例ではガラスとして半導体素子製造に用いるマスク（
ガラス板表面に部分食刻されたクロム膜または３１ｍさ
れたハロゲン化銀とゼラテ／のエマルジ曹ン膜を形成し
たもの一中の１））を用い、洗浄にはマスク洗浄機（ス
ポンジで自動的に洗剤と共に摩擦し、純水でゆすぎ、エ
アナイフで乾燥するもの）からエアナイフの配管を外し
たものを用いて行なっている。マスクは直接半導体に接
触し、微少な汚れもフォ）　１７ノグラフイの際牛導体
に転写されるので特に汚れの無い清浄な表面が要求され
る。
たマスク洗浄機で洗浄する工程及び自然乾燥の工程より
なる　普通のぬれたガラスを自然乾燥すると４０分位か
かるが、本発明の前処理を行って洗浄したマスクの表面
は、エアナイフを当てなくても図（３）の様に水の膜２
が矢印３の様にして１０数秒で収−し乾燥してしまう。
この為、空気中の成分の溶は込みによるしみや、エアナ
イフの使用による水滴や瓢の付着などが見られない。淘
、熱処理は必ず必要で、これを行わないと洗浄後の乾燥
が早くならない。
第−表は５インチ四方のマスクをポリビニールアルコー
ルを塗布せずに自然乾燥し九場合、及びポリビニールア
ルコールを塗布せずにエアナイフを当て九場合、及び本
発明の方法によシ乾燥させた場合につき、表面の数ｓｍ
以上の塵や水滴を７オトマスク自動検査装置で計数し九
結果である。
本発明の洗浄方法によυ洗浄し九表向は、表面の粒子が
着しく少い事がわかる。
この様に速く乾燥するわけは、推測ではあるが、ガラス
の表面にポリビニールアルコールの薄い分子膜が存在し
ている為であると思われる。その際ポリビニールアルコ
ールが塵の粒子を覆っていても洗浄後に清浄な表面が得
られるのは、瓢の粒子の方が分子膜の厚さよ）も大きい
為、塵の粒子は洗浄時にとすシ取られるものと推測され
る。
本実施例に於てはフォトマスクについて述べたが、一般
のガラスにも応用可能である。
本発明の洗浄方法によれば、乾燥時間が短いだけでなく
、水滴や塵の付着の無い、少くとも数μｍ以上の塵に関
して清浄なガラスの表面が得られる。
【図面の簡単な説明】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 洗浄に先立ちガラスの表面にポリビニールアルコール水
    浴液を塗布する工程、該ガラスを熱処理する工場、該ガ
    ラスの表面を水を含む液体により摩擦洗浄する工程、該
    ガラスの表面を乾燥する工程を有することを特徴とする
    ガラスの洗浄方法。
JP56098543A 1981-06-25 1981-06-25 ガラスの洗浄方法 Granted JPS58129A (ja)

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JPS58129A true JPS58129A (ja) 1983-01-05
JPS632105B2 JPS632105B2 (ja) 1988-01-16

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6396818A (ja) * 1986-10-13 1988-04-27 住友電装株式会社 ハーネス組立用の端子挿入案内装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6396818A (ja) * 1986-10-13 1988-04-27 住友電装株式会社 ハーネス組立用の端子挿入案内装置

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JPS632105B2 (ja) 1988-01-16

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