JPS58146021A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS58146021A JPS58146021A JP2740382A JP2740382A JPS58146021A JP S58146021 A JPS58146021 A JP S58146021A JP 2740382 A JP2740382 A JP 2740382A JP 2740382 A JP2740382 A JP 2740382A JP S58146021 A JPS58146021 A JP S58146021A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- magnetic head
- gap
- dry etching
- cut groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘッドの製造方法にかかわり、特に高精庸
ギャップ形成とボイドレスガラスボンディングを行う方
法に関するものである。
ギャップ形成とボイドレスガラスボンディングを行う方
法に関するものである。
フェライトは磁気特性、耐摩耗性、機械加工性が優れて
いるため、＄気ヘッド用コア材として広く用いられてい
る。特に会デオヘッドのような狭トラツクめヘッドでは
、第１図〜第３図に示すように、２本のフェライトコア
１および２をギャップ幅Ｇｊに等しい間隔をおいて対向
させ、その空隙は、ガラス筈の非磁性体層３で形成され
、耐摩耗性を向上さモるため、所要のトラック部４の両
側に耐摩耗性の良いガラスを奔填したガラス補強部５を
設けることが行われている。ところで、このガラスをガ
ラス補強部に流入させるには、高温で熱処理を行わなけ
ればならないが、テープ摺動面６のガラス中に気泡７が
残ると、記録信号の減磁やテープきずの発生の原因とな
り、磁気ヘッドにとっては致命的な欠陥となる。このた
め、ガラス粘度を１０”Ｐａ ＠ Ｓ。
いるため、＄気ヘッド用コア材として広く用いられてい
る。特に会デオヘッドのような狭トラツクめヘッドでは
、第１図〜第３図に示すように、２本のフェライトコア
１および２をギャップ幅Ｇｊに等しい間隔をおいて対向
させ、その空隙は、ガラス筈の非磁性体層３で形成され
、耐摩耗性を向上さモるため、所要のトラック部４の両
側に耐摩耗性の良いガラスを奔填したガラス補強部５を
設けることが行われている。ところで、このガラスをガ
ラス補強部に流入させるには、高温で熱処理を行わなけ
ればならないが、テープ摺動面６のガラス中に気泡７が
残ると、記録信号の減磁やテープきずの発生の原因とな
り、磁気ヘッドにとっては致命的な欠陥となる。このた
め、ガラス粘度を１０”Ｐａ ＠ Ｓ。
以下にしてガラス中に発生した気泡を取り除かなけれ＋
４ならないが、あまり高温にすると、ガラスとフェライ
トの拡散が過度に進行し、ボ３図に示すようにトラック
両端部のギャップ幅が拡大してしまうため、磁気的に有
効なトラック幅いわゆる実効トラックＩ＠〜が減少し、
ヘッド性能が低下する。
４ならないが、あまり高温にすると、ガラスとフェライ
トの拡散が過度に進行し、ボ３図に示すようにトラック
両端部のギャップ幅が拡大してしまうため、磁気的に有
効なトラック幅いわゆる実効トラックＩ＠〜が減少し、
ヘッド性能が低下する。
また、ガラスとフェライトの拡散を抑止できる低温で熱
処理するとガラス中に気泡が多数分生し、ガラス粘度が
高いため脱泡できず、歩留りが極度に低下する。
処理するとガラス中に気泡が多数分生し、ガラス粘度が
高いため脱泡できず、歩留りが極度に低下する。
これらの開−を改善するために行われている従来技術を
以下に説明する。第１の方法はガラス充填とギャップ形
成を別々に行うもので、第４図に示すように、トラック
部４を残すように切り欠き部１０を・一定間隔で設け、
この切り欠き部に気泡な脱泡できるいわゆる泡切れ温度
でガラス充填を行った後、平面研削、研摩等の加工を行
うことによりて、第５図に示す様に錆面のギャップ対向
面１４を設けた一方のコアブロック９と更に巻線用切溝
１１を設けた他方のコアブロック８のギャップ対向面１
５．１４の少なくとも一方あるいは両方に非磁性体層を
形成した後、両コアブロックを突き合せ、ガラスとフェ
ライトの拡散を十分抑止できる温度で熱処理を行（・、
両コアブロックを一体化して高精度のギャップ形成を行
う方法で、この方法によればガラス中に気泡は殆んど残
らない。し゛かしこの方法で＆家、（１）長時間を要す
る熱処理を２回行わなけれｔｔｔない。（２）コアブロ
ックの外形寸法が小さく１ｔ：め、ガラス充填後の平面
研削、研摩等の加工の作業−性が悪い上にギャップ対向
面の錆面仕上げが技術的に難しく、この工程での歩留り
が低い等の欠点があった。＠２の方法は、１８６図のよ
うなコアブロックを塩酸やリン酸等の水溶液を用いてコ
アブロック表面の加工変質層と気泡発生物質を除去した
後ガラス充填とギャップ形成を行う方法で、気泡発生は
殆んどない。しかしこの種のケミカルエツチングでは、
（１）ギャップ対向面１５，１４の面邪さが、鏡面研摩
面（約０．ｏ ｏ ５ｔａｎ ）に比べｃｌ、０５Ｒｎ
以上に増大し、ビデオヘッドのような狭小ギャップの磁
気ヘッドではヘッド性能が低下する。（２）トラック部
４０角の部分が丸くだれ、ガラスとフェライトの拡散を
十分抑止できる温度で熱処理を行りても、＠３図に示す
ようなギャップしか得られず、実効トラック幅りが減少
し、ヘッド性能が低下する等の欠点があった。
以下に説明する。第１の方法はガラス充填とギャップ形
成を別々に行うもので、第４図に示すように、トラック
部４を残すように切り欠き部１０を・一定間隔で設け、
この切り欠き部に気泡な脱泡できるいわゆる泡切れ温度
でガラス充填を行った後、平面研削、研摩等の加工を行
うことによりて、第５図に示す様に錆面のギャップ対向
面１４を設けた一方のコアブロック９と更に巻線用切溝
１１を設けた他方のコアブロック８のギャップ対向面１
５．１４の少なくとも一方あるいは両方に非磁性体層を
形成した後、両コアブロックを突き合せ、ガラスとフェ
ライトの拡散を十分抑止できる温度で熱処理を行（・、
両コアブロックを一体化して高精度のギャップ形成を行
う方法で、この方法によればガラス中に気泡は殆んど残
らない。し゛かしこの方法で＆家、（１）長時間を要す
る熱処理を２回行わなけれｔｔｔない。（２）コアブロ
ックの外形寸法が小さく１ｔ：め、ガラス充填後の平面
研削、研摩等の加工の作業−性が悪い上にギャップ対向
面の錆面仕上げが技術的に難しく、この工程での歩留り
が低い等の欠点があった。＠２の方法は、１８６図のよ
うなコアブロックを塩酸やリン酸等の水溶液を用いてコ
アブロック表面の加工変質層と気泡発生物質を除去した
後ガラス充填とギャップ形成を行う方法で、気泡発生は
殆んどない。しかしこの種のケミカルエツチングでは、
（１）ギャップ対向面１５，１４の面邪さが、鏡面研摩
面（約０．ｏ ｏ ５ｔａｎ ）に比べｃｌ、０５Ｒｎ
以上に増大し、ビデオヘッドのような狭小ギャップの磁
気ヘッドではヘッド性能が低下する。（２）トラック部
４０角の部分が丸くだれ、ガラスとフェライトの拡散を
十分抑止できる温度で熱処理を行りても、＠３図に示す
ようなギャップしか得られず、実効トラック幅りが減少
し、ヘッド性能が低下する等の欠点があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点ケなくし、充
填ガラス中に全く気泡を発生させずに高精度のギャップ
形成を可能とし、高＃節な磁気ヘッドを高歩留りで製造
する方法な提供するにある。
填ガラス中に全く気泡を発生させずに高精度のギャップ
形成を可能とし、高＃節な磁気ヘッドを高歩留りで製造
する方法な提供するにある。
この目的を達成するため、本発明は磁気ヘッドの製造工
程において、磁気ヘッドの構成部材の表面を反応性ガス
を用いた放電によるドライエツチングを行った後、ガラ
ス接着あるいはガラス充填を行うことを特徴とする磁気
ヘッドの製造方法を提供するもので、以下にその要点と
作用について詳述する。
程において、磁気ヘッドの構成部材の表面を反応性ガス
を用いた放電によるドライエツチングを行った後、ガラ
ス接着あるいはガラス充填を行うことを特徴とする磁気
ヘッドの製造方法を提供するもので、以下にその要点と
作用について詳述する。
磁気ヘッドの製造１稗における上記したギャップ精度の
低下と気泡発生の開−に対し、従来技術では解決できて
いないが、明らかに言えることは（１）ビデオヘッドの
生産性を考えると製造工程の簡略化が必要であり、ギャ
ップ形成とガラス充填を同時に行うことが望ましく、（
２１従って、高精度のギャップ形成を行うためには、ガ
ラスとフェライトの拡散を十分抑止できる低温で熱処理
な行うことが必要である。しかし従来技術では気泡発生
が問題となり、この間龜解決のために考案されたケミカ
ルエツチングで＆家、ギャップ対向面の面伸さの増大と
トラック部の角のだれのためにヘッド性能が低下する欠
点が生じた。
低下と気泡発生の開−に対し、従来技術では解決できて
いないが、明らかに言えることは（１）ビデオヘッドの
生産性を考えると製造工程の簡略化が必要であり、ギャ
ップ形成とガラス充填を同時に行うことが望ましく、（
２１従って、高精度のギャップ形成を行うためには、ガ
ラスとフェライトの拡散を十分抑止できる低温で熱処理
な行うことが必要である。しかし従来技術では気泡発生
が問題となり、この間龜解決のために考案されたケミカ
ルエツチングで＆家、ギャップ対向面の面伸さの増大と
トラック部の角のだれのためにヘッド性能が低下する欠
点が生じた。
本発明は上記した従来技術の欠点を完全になくすことの
できる反応性ガスを用いた放電によるドライエツチング
を行うのが特徴である。
できる反応性ガスを用いた放電によるドライエツチング
を行うのが特徴である。
熱処理温度の低温化で開−となる気泡発生の原因はガラ
スとフェライトのり応に起因することが分り、このこと
からガラスと反応し易いフェライトの加工変質層を除去
し、イ氏温で熱処理を行えば気泡発生を防止し得る。
スとフェライトのり応に起因することが分り、このこと
からガラスと反応し易いフェライトの加工変質層を除去
し、イ氏温で熱処理を行えば気泡発生を防止し得る。
しかし通常の無反応性ドライエツチングでは磁気、ヘッ
ド構成部材の均一なエツチングは不可能なため気泡発生
を防止することはできな−・。
ド構成部材の均一なエツチングは不可能なため気泡発生
を防止することはできな−・。
つまり、コアブロック８．９は第６図に示すように複雑
な形状になっており、これな第８図に示すようなドライ
エツチング装置を用−１て無反応性ドライエツチングを
行う場合、一般的にはフェライトに対してエツチング速
度の速いアルゴンガス（Ａｒ）を用い、アルゴンガス分
圧を１ｆｆ′８Ｔｏｒｒ＊寄とし、平行二極１７．１８
間に高周波電圧を印加すると、発生したアルゴンイオン
（Ａｒ十はカソード１８上に雪かれたコアブロックに垂
直に入射するため、ギャップ対向面１５．１４と切り欠
き部１０の底面はＡｒ＋イオンが入射するのでエツチン
グされるが、切り欠き部の壁面はＡｒ イオンが入射し
ないのでエツチングされない。この結果、切り欠き部椿
面のフェライトとガラスが反応して気泡が発生する。
な形状になっており、これな第８図に示すようなドライ
エツチング装置を用−１て無反応性ドライエツチングを
行う場合、一般的にはフェライトに対してエツチング速
度の速いアルゴンガス（Ａｒ）を用い、アルゴンガス分
圧を１ｆｆ′８Ｔｏｒｒ＊寄とし、平行二極１７．１８
間に高周波電圧を印加すると、発生したアルゴンイオン
（Ａｒ十はカソード１８上に雪かれたコアブロックに垂
直に入射するため、ギャップ対向面１５．１４と切り欠
き部１０の底面はＡｒ＋イオンが入射するのでエツチン
グされるが、切り欠き部の壁面はＡｒ イオンが入射し
ないのでエツチングされない。この結果、切り欠き部椿
面のフェライトとガラスが反応して気泡が発生する。
このようｃｌｌＭな形状をしたコアブロック表面の均一
なドライエツチングを行うためにはガス分圧を高めてイ
オンの楕突回数を増すことによってイオンのコアブロッ
クへの入射をランダムにすることが考えられる。しかし
ＡｒガスやＮ８ガス等の不活性ガスな用いた無反応性ド
ライエツチングでは、ガス分圧を高め、るとイオンの運
動エネルギーが極度に減少１−、フェライトのエツチン
グが不可能となる。
なドライエツチングを行うためにはガス分圧を高めてイ
オンの楕突回数を増すことによってイオンのコアブロッ
クへの入射をランダムにすることが考えられる。しかし
ＡｒガスやＮ８ガス等の不活性ガスな用いた無反応性ド
ライエツチングでは、ガス分圧を高め、るとイオンの運
動エネルギーが極度に減少１−、フェライトのエツチン
グが不可能となる。
そこで本発明では反応性ガスを用いたドライエツチング
を採用した、つまりフェライトに対する反応性ドライエ
ツチングは、ｃｊ、ｅ ＣＣｊ４ ＊ＢＣｊ８等の塩素
系ガスを用いるのが効果的であるが、例えばＣＣ）、は
グロー放電九より次の様に解離する。
を採用した、つまりフェライトに対する反応性ドライエ
ツチングは、ｃｊ、ｅ ＣＣｊ４ ＊ＢＣｊ８等の塩素
系ガスを用いるのが効果的であるが、例えばＣＣ）、は
グロー放電九より次の様に解離する。
ＣＣＪ４＋ ｅ ン＝＝±ＣＣＪ、÷ ＋ ＣＪ”
＋ ２ｅここで発生したＣＣｊ、＋イオンと塩素
ラジカル（Ｃ） ）は化学的に活性であり、フェライト
と容易に反応し、コアブロック表面の均一なエツチング
が可能とｔｒる。以上詳述したように、反応性ドライエ
ツチングを採用し、低温でガラスボンデ身ングを行うこ
とによって高精度のギャップ形成が実現し、しかも間執
となる気泡も全く発生しない。さらにケミカルエツチン
グと異なり、ギャップ対向面の面相さの増大やトラック
部の角のだれも発生しないため１．高性能の磁気ヘッド
を高歩留りで提供することができる。
＋ ２ｅここで発生したＣＣｊ、＋イオンと塩素
ラジカル（Ｃ） ）は化学的に活性であり、フェライト
と容易に反応し、コアブロック表面の均一なエツチング
が可能とｔｒる。以上詳述したように、反応性ドライエ
ツチングを採用し、低温でガラスボンデ身ングを行うこ
とによって高精度のギャップ形成が実現し、しかも間執
となる気泡も全く発生しない。さらにケミカルエツチン
グと異なり、ギャップ対向面の面相さの増大やトラック
部の角のだれも発生しないため１．高性能の磁気ヘッド
を高歩留りで提供することができる。
次に本発明による磁気ヘッドの卵遣方法つ実施例を述べ
る。コア材としてはＭｎＯ： ５０モルチ、ＺｎＯ：
２０ モｋ ｑＡ、”ｔＯｓ ａ ５０ ’Ｅ： ／Ｉ
／ ％から成るＭｎ −Ｚｎ単結晶フェライトを用い、
第６図に示すように、５Ｏｔｔｎ幅のトラック部４を残
すように切り欠き部１０４Ｉ−α４膓の一定間隔で設け
、一方のコアブロック８にはさらに巻線用切溝１１４！
！設け、他方のコアブロック９にはさらにガラス用切溝
１２を設け、両コアブロックを塩素系の反応性ドライエ
ツチングを行い、ギャップ対向面１３．１４に非磁性体
層３としてＳｉｎ、を高周波スパッタリングでＱ、２５
１ｊｒｎ蒸着した。次に＠７図に示すような治具１６を
用いて両コアブロックを対向させ、巻線用切溝およびガ
ラス甲切溝にそれぞれガラス棒１５をのせ、不活性ガス
および真空雰囲気の炉中で熱処理を行い、ガラス棒１５
４１１−溶融させて両コアブロックを一体化し、ギャッ
プ形成を行うと同時に切り欠き部にガラスを流入してガ
ラス補強部５４ｆ形成した。
る。コア材としてはＭｎＯ： ５０モルチ、ＺｎＯ：
２０ モｋ ｑＡ、”ｔＯｓ ａ ５０ ’Ｅ： ／Ｉ
／ ％から成るＭｎ −Ｚｎ単結晶フェライトを用い、
第６図に示すように、５Ｏｔｔｎ幅のトラック部４を残
すように切り欠き部１０４Ｉ−α４膓の一定間隔で設け
、一方のコアブロック８にはさらに巻線用切溝１１４！
！設け、他方のコアブロック９にはさらにガラス用切溝
１２を設け、両コアブロックを塩素系の反応性ドライエ
ツチングを行い、ギャップ対向面１３．１４に非磁性体
層３としてＳｉｎ、を高周波スパッタリングでＱ、２５
１ｊｒｎ蒸着した。次に＠７図に示すような治具１６を
用いて両コアブロックを対向させ、巻線用切溝およびガ
ラス甲切溝にそれぞれガラス棒１５をのせ、不活性ガス
および真空雰囲気の炉中で熱処理を行い、ガラス棒１５
４１１−溶融させて両コアブロックを一体化し、ギャッ
プ形成を行うと同時に切り欠き部にガラスを流入してガ
ラス補強部５４ｆ形成した。
この後切削、研摩等の機械加工を行い、第１図に示すよ
うな個々の磁気ヘッドを製造した。
うな個々の磁気ヘッドを製造した。
なお使用したガラスの組成、特性および作業温度を第１
表に示したが、耐摩耗性が良く、フェライトの接合に適
した（８０〜１１０ ） Ｘ １０フ／ ６Ｃの熱膨張
係数を有し、作業温間もガラスとフェライトの拡散の少
ない６９０°Ｃ以下のガラスである。
表に示したが、耐摩耗性が良く、フェライトの接合に適
した（８０〜１１０ ） Ｘ １０フ／ ６Ｃの熱膨張
係数を有し、作業温間もガラスとフェライトの拡散の少
ない６９０°Ｃ以下のガラスである。
次に上記した磁気ヘッドの製造工程における反応性ドラ
イエツチング忙ついて詳述する。
イエツチング忙ついて詳述する。
使用したドライエツチング装置は平行平板型で２ Ｘ
１０’ Ｔｏｒｒの到達真空度まで排気した真空チャン
バ内に塩素系の反応性ガス（Ｃｔｌ、 ＣＣｊ４゜ＢＣ
）、）を１０’ 〜１ （ｒ”Ｔｏｒｒの範囲まで導入
し、１Ｎ５６ＭＨｚの高周波電源をα３〜ｔ５ｆＣ９ｖ
印加し、コアプロ門り表面な（ＬＱ５〜２ａｍエツチン
グしｔｏこのエツチング条件下ではギャップ対向面の面
相さはＱ、００５ＩＩｒｎＦ！度であり、またトラック
部の角のだれは０．２／Ｉｒｎ 以下であった。またこ
の様なコアブロックを用いて製造した磁気ヘッドは気泡
発生が全くなく、高精度のギャップが得られた。
１０’ Ｔｏｒｒの到達真空度まで排気した真空チャン
バ内に塩素系の反応性ガス（Ｃｔｌ、 ＣＣｊ４゜ＢＣ
）、）を１０’ 〜１ （ｒ”Ｔｏｒｒの範囲まで導入
し、１Ｎ５６ＭＨｚの高周波電源をα３〜ｔ５ｆＣ９ｖ
印加し、コアプロ門り表面な（ＬＱ５〜２ａｍエツチン
グしｔｏこのエツチング条件下ではギャップ対向面の面
相さはＱ、００５ＩＩｒｎＦ！度であり、またトラック
部の角のだれは０．２／Ｉｒｎ 以下であった。またこ
の様なコアブロックを用いて製造した磁気ヘッドは気泡
発生が全くなく、高精度のギャップが得られた。
第１表
以上説明したように本発明による磁気ヘッドの製造方法
が従来技術の欠１点を完全に解決し声ものであることは
明白であるが、第２表に示す効果な得ることができた。
が従来技術の欠１点を完全に解決し声ものであることは
明白であるが、第２表に示す効果な得ることができた。
ｆａ２表
第１図はテープ摺動面にガラス補強部を有する磁気ヘッ
ドの斜視図、第２図および第′５（９）は磁気ヘッドの
ギャップ近傍の拡大図、第４図および第５図は従来技術
による磁気ヘッドのへ遣方法を示す斜視図、＠６図は本
発明の実施例で用いたコアブロックの斜視図、第７ｒＩ
４はコアフロックを治具に装着した状聾を示す情面図、
即８図はドライエツチング装置の模式図である。
ドの斜視図、第２図および第′５（９）は磁気ヘッドの
ギャップ近傍の拡大図、第４図および第５図は従来技術
による磁気ヘッドのへ遣方法を示す斜視図、＠６図は本
発明の実施例で用いたコアブロックの斜視図、第７ｒＩ
４はコアフロックを治具に装着した状聾を示す情面図、
即８図はドライエツチング装置の模式図である。
１、２−・・フェライトコア ３・・・非磁性体層４・
・・トラック部 ５・・・ガラス補強部６・・・テ
ープ摺動面 ７・・・気泡８、９ ・・・コアブロッ
ク １ｏ・・・切欠き部１１・・・巻線用切溝 １
２・・・ガラス用切溝１３、１４ 、、、ギャップ対向
面 １５・・・ガラス棒 １６・・・治具１７・・・
アノード １８・・・カンード−オ ２ｖｊ：Ｊ 才３図 体 ４ 圓 デ ？５図 才 ｄ ７ｒｆＪ 予 ８図 １０ ４
・・トラック部 ５・・・ガラス補強部６・・・テ
ープ摺動面 ７・・・気泡８、９ ・・・コアブロッ
ク １ｏ・・・切欠き部１１・・・巻線用切溝 １
２・・・ガラス用切溝１３、１４ 、、、ギャップ対向
面 １５・・・ガラス棒 １６・・・治具１７・・・
アノード １８・・・カンード−オ ２ｖｊ：Ｊ 才３図 体 ４ 圓 デ ？５図 才 ｄ ７ｒｆＪ 予 ８図 １０ ４
Claims (1)
- 磁気ヘッドを構成する部材の接着あるいは該部材の加工
部分の充填にガラスを使用する磁気ヘッドの與造工稗に
おいて、該部材の表面を反応性ガスを用いた放電による
ドライエツチングを行った後ガラス接着あるいはガラス
充填を行うことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2740382A JPS58146021A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2740382A JPS58146021A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58146021A true JPS58146021A (ja) | 1983-08-31 |
Family
ID=12220097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2740382A Pending JPS58146021A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58146021A (ja) |
-
1982
- 1982-02-24 JP JP2740382A patent/JPS58146021A/ja active Pending
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