JPS5815651U - 真空蒸着用被蒸着物加熱装置 - Google Patents

真空蒸着用被蒸着物加熱装置

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JPS5815651U
JPS5815651U JP10734381U JP10734381U JPS5815651U JP S5815651 U JPS5815651 U JP S5815651U JP 10734381 U JP10734381 U JP 10734381U JP 10734381 U JP10734381 U JP 10734381U JP S5815651 U JPS5815651 U JP S5815651U
Authority
JP
Japan
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heating device
vacuum evaporation
deposit heating
deposit
heating plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP10734381U
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English (en)
Inventor
成人 小島
藤村　格
大瀬戸　誠一
大嶋　孝一
忍 青木
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5815651U publication Critical patent/JPS5815651U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の真空蒸着装置について示す概略図である
。第２図および第３図は本考案の真空蒸着装置について
示す概略図である。第４図は被蒸着ドラムの固定方法に
ついて示す図である。 １．１５・・・・・・蒸着源、２，１２・・・・・・被
蒸着物、３、　１１．　１６・・・・・・加熱装置、１
３・・・・・・スリット、１４・・・・・・蒸着物質、
１７・・・・・・被蒸着物、１Ｂ・・曲中間リング、１
９・・・・・・マンドレル。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 被蒸着物が支持されるべき位置の周囲に加熱板を配設し
    、この加熱板の一部に蒸発源からの蒸気導入口を設けた
    ことを特徴とする真空蒸着用被蒸着物加熱装置。
JP10734381U 1981-07-20 1981-07-20 真空蒸着用被蒸着物加熱装置 Pending JPS5815651U (ja)

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JP10734381U JPS5815651U (ja) 1981-07-20 1981-07-20 真空蒸着用被蒸着物加熱装置

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JP10734381U JPS5815651U (ja) 1981-07-20 1981-07-20 真空蒸着用被蒸着物加熱装置

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JPS5815651U true JPS5815651U (ja) 1983-01-31

Family

ID=29901786

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10734381U Pending JPS5815651U (ja) 1981-07-20 1981-07-20 真空蒸着用被蒸着物加熱装置

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Country Link
JP (1) JPS5815651U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6286157A (ja) * 1985-10-14 1987-04-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜生成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6286157A (ja) * 1985-10-14 1987-04-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜生成方法

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