JPS5820720A - YbGaZnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 - Google Patents

YbGaZnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法

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JPS5820720A
JPS5820720A JP11833181A JP11833181A JPS5820720A JP S5820720 A JPS5820720 A JP S5820720A JP 11833181 A JP11833181 A JP 11833181A JP 11833181 A JP11833181 A JP 11833181A JP S5820720 A JPS5820720 A JP S5820720A
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JP
Japan
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compound
zinc
gallium
ytterbium
ybgazno4
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JP11833181A
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JPS606895B2 (ja
Inventor
Noboru Kimizuka
昇 君塚
Eiji Takayama
英治 高山
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National Institute for Materials Science
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National Institute for Research in Inorganic Material
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  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規化合物であるYbGaZnO−で示され
る六方晶系の層状構造を有する化合物およびそのIll
性法関する。
、礪米、YFa、O,で示される六方晶系の層状構造を
育する化合−は、本出願人らによって合成され、その存
在が既に知られている。仁の化合物は、Y”Fe3+轡
1+O4−で示されるように、鉄の2浦イオンと3価イ
オンは、5配位の酸素イオンによって圃ま、れ―イツト
リウム(Y)は、affi位の酸素イオンをその周わり
に持っている化合物であり、磁性をもっている。・ 本発明は、前−記、Y″+Fe”十Fes+0と化合物
’ノy”の代わりに、Th1、Fes十諷代わりにZn
”+を、即今の代わりにGa”十を置きかえた新規な化
合物°頓よびその製造法を提供するにある。
本発明のYbGaZnO,で示される化合物は、この化
か神中、イッテルビウムはTh1イオン、ガリウムはG
a”、亜鉛はZd”+とじて存在しており、Yb”Ga
1Zn″+Oととして表わすことができる。この結晶は
、第1図に示すように六方晶1−状溝造を持っている。
過大の丸は酸素、甲丸はイッテルビウム、最小の黒丸は
ガリウムと亜鉛を示している。ガリウ“ムと亜鉛は、ラ
レダムに分布している。亜鉛の2洒イオンとガリウムの
31jiイオンは、5!i!位の酸素イオンによって囲
まれている。結晶学的には同一の位置を占めている。ま
たYbは6配位の酸素をその周わりに持っている。陰イ
オンである酸素は緻密構造をとっている。s、tおよび
Uは単位格を内に於ける位置を示す。
この結晶の面指数(hkl)、面間隔(d(A))〔面
は実測、面は計算値を・、示す。〕、X−線に対rる相
対反射強度、I  (96)は第1表のとおりである。
第  1   表 YbGaZn0i 空間群はRlmであり、その晶癖は板状晶であり、格子
定数は次のとお、りである。
ao = 3.4153±o、o o o s  (A
)−co z 25.093±o、o 07   (X
)この化合物は、半導体材料および触媒として有用なも
のである。
この化合物は、次の方法によって製造し得られる。
金属イッテルビウム(Th)あるいは酸化イッテルビウ
ム(Yb、O,)もしくは、加熱されることによって酸
化イッテルビウム(yb、α)に分解される化合物と金
属ガリウム、あるいは酸化ガリウム(GasOl)もし
くは、加熱されることにより酸化ガリウム(GalOa
 )に分解される化合物と亜鉛あるいは酸化亜鉛(Zn
O)もしくは加熱されることにより分解されて酸化亜鉛
(ZnO)を生ずる化合物とを、イッテルビウム、ガリ
ウム、亜鉛の割合が原子比で1対1対1になるように混
合して、1200℃以上の温度で、大気中、酸化性雰囲
気、あるいはガリウムおよび亜鉛が各々3価イオン状態
、2IiIiiイオン状態より還元されない程度の還元
雰囲気のもヒで加熱することによって製造することが出
来る。
本発明に用いる出発物質は、市販のものをそのまま使用
してもよいが、出発物質相互間の化学反応を速やかに進
行させるためには、粒径がちいさい程よく、特に10μ
慣以下であることが好ましい。
また半導体材料、触媒として用いる場合には不純情の混
入をきらうので、出発原料物質は純度が高いほど好まし
い。この原料をそのまま、あるいはアルコール類もしく
はアセトンと共に充分に混合する。
これらの混合調合は、イッテルビウム、ガリウム、亜鉛
の割合が原子比として1対1対1の割合である。この調
合をはずすと目的とする化合物を得ることは出来ない。
この混合物を大気中、あるいは酸化性雰囲気もしくはガ
リウムおよび亜鉛が3価イオン状態および21iIイオ
ン状態から還元され得ない程度の還元雰囲気のもとで、
1200℃以上の温度で加熱する。加熱時間は、1日も
しくはそれ以上である。加熱の際の昇温速度には制約は
ない。反応路T後は、0℃に急冷するかあるいは大気中
に急激にひきだせばよい。得られたThGaZnO。
化合物は、無色を示し、粉末x4!回折法によって結晶
構造を有rることがわかった。その結晶構造は、既に本
出頭人が得たYFe、O,と同型であることがわかった
。出発混合試料と反応生成物の試料重量を精密に秤量し
、得られた試料の化学量論数を決定した。
実施例 純度99.9!4以上のイッテルビウム酸化物(Thρ
魯)粉末、純度99.9%以上の酸化ガリウム(Ga、
O,)粉末、および試薬特級の酸化亜鉛(ZnO)粉末
を、モル比で1対1対2の割合に秤量し、浮鉢内でエチ
ルアルコールを加えて充分に混合し、平均粒径数PW&
の微粉末を得た。該混合物を白金ルツボ内にみたして、
1300℃に設定された箱型のシリコニット炉内に入れ
、2日間加熱し、その後試料を炉外にとりだし、室温ま
で急速に冷却した。得られた試料はYbGaZnO,で
あり、既に報告されているYF6mOnと結晶学的には
、同型でめることが粉本X線回折法によって確認された
。試料重量が加Mn1r後で#I密に°秤量され、得ら
れた試料の化学量論数が決定された。第1表に得られた
試料の結晶学的性質を示した。
【図面の簡単な説明】
図面は、本発明のYbGaZnO,結晶の図である。最
大の丸は酸素、甲丸はイッテルビウム、最小黒丸はガリ
ウムと亜鉛を示す。 特許出頭式 科学技術庁無機材質研究所長+’r” 書

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (I  YbGaZnO,で示される六方晶系の層状構
    造を有する化合物。 (2) 金属イッテルビウム(Th)あるい1さ酸化イ
    ッテルビウム(Th、O,)もしくは、加熱されること
    により酸化イッテルビウム(Th、0. )に分解され
    る化合物と、金属ガリウム(Ga)あるいは酸化ガリウ
    ム(Ga、O,)もしくは、加熱されるととKより酸化
    ガリウム(Ga−〇、)   ゛に分解される化合物と
    、亜鉛−(Zn)、あるいは酸化亜鉛(ZnO)もしく
    は、崩御されることにより分解されに酸化亜鉛(ZnO
    )を生ずる。 化合物とを、イッテルビウム、ガリウム、亜 。 鉛の割合が原子比で1対1対1になるように混合して、
    1200℃以上の温度で大気中、酸化性雰囲気あるいは
    ガリウムおよび亜鉛が各々3 rMイオ;ン状jll、
    2idliイオン状態より還元されない程度の還元雰囲
    気のもとで加熱することを特徴とするYbGaZnO,
    で水側れる六方晶系の層状構造を有する化合物の製造法
JP11833181A 1981-07-28 1981-07-28 YbGaZnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 Expired JPS606895B2 (ja)

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