JPS5820933B2 - ポリプレニル誘導体 - Google Patents
ポリプレニル誘導体Info
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なポリプレニル誘導体に関するものである
。
。
さらに詳しくは、一般式
(式中、R1およびR2は同一または異なって水素原子
、水酸基、炭素数1乃至8個を有するアルコキシ基、炭
素数2乃至18個を有する脂肪族アシルオキシ基、芳香
族アシルオキシ基あるいは脂肪族アシル部分が炭素数2
乃至3個を有する芳香脂肪族アシルオキシ基を示し、R
3は水素原子、炭素数1乃至8個を有するアルキル基、
炭素数2乃至18個を有する脂肪族アシル基、芳香族ア
シル基あるいは脂肪族アシル部分が炭素数2乃至3個を
有する芳香脂肪族アシル基を示し、nは1乃至4を示し
、nが2乃至4である場合にはR2はそれぞれ同一また
は異なった基を示す。
、水酸基、炭素数1乃至8個を有するアルコキシ基、炭
素数2乃至18個を有する脂肪族アシルオキシ基、芳香
族アシルオキシ基あるいは脂肪族アシル部分が炭素数2
乃至3個を有する芳香脂肪族アシルオキシ基を示し、R
3は水素原子、炭素数1乃至8個を有するアルキル基、
炭素数2乃至18個を有する脂肪族アシル基、芳香族ア
シル基あるいは脂肪族アシル部分が炭素数2乃至3個を
有する芳香脂肪族アシル基を示し、nは1乃至4を示し
、nが2乃至4である場合にはR2はそれぞれ同一また
は異なった基を示す。
但し、R1あるいはR2の少なくとも1個は水酸基、炭
素数1乃至8個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至1
8個を有する脂肪族アシルオキシ基、芳香族アシルオキ
シ基あるいは脂肪族アシル部分が炭素数2乃至3個を有
する芳香脂肪族アシルオキシ基を示す。
素数1乃至8個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至1
8個を有する脂肪族アシルオキシ基、芳香族アシルオキ
シ基あるいは脂肪族アシル部分が炭素数2乃至3個を有
する芳香脂肪族アシルオキシ基を示す。
)を有するポリプレニル誘導体に関するものである。
本発明によるポリプレニル誘導体(I)は消化性潰瘍治
療剤として有用な化合物である。
療剤として有用な化合物である。
前記一般式(I)において、R1およびR2は同一また
は異なって水素原子、水酸基、メトキシ、エトキシ、n
−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブ
トキシ、n−ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチ
ルオキシ、オクチルオキシのようなアルコキシ基、アセ
チルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イ
ソブチリルオキシ、バレリルオキシ、インバレリルオキ
シ、ヒバノイルオキシ、カプロイルオキシ;2−メチル
−n−バレリルオキシ、ヘプタノイルオキシ、オクタノ
イルオキシ、2−エチルヘキサノイルオキシ、ノナノイ
ルオキシ、デカノイルオキシ、ウンデカノイルオキシ、
n−ラウロイルオキシ、ミリストイルオキシ、ペンタデ
カノイルオキシ、パルミトイルオキシ、ステアロイルオ
キシのようなアルカノイルオキシ基並びにアクリロイル
オキシ、クロトノイルオキシ、3−ブテノイルオキシ、
メタアクリロイルオキシ、チグロイルオキシ、ソルボイ
ルオキシ、10−ウンデセノイルオキシ、オレオイルオ
キシのようなアルケノイルオキシ基等の脂肪族アシルオ
キシ基、芳香環にメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピルのような炭素数1乃至3個のアルキル基、メト
キシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシのよ
うな炭素数1乃至3個のアルコキシ基あるいは塩素、臭
素、弗素のようなハロゲン原子を置換分として有するか
有しないベンゾイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基
あるいはフェニルアセトキシ、フェニルプロピオニルオ
キシ、シンナモイルオキシのような芳香脂肪族アシルオ
キシ基を示す。
は異なって水素原子、水酸基、メトキシ、エトキシ、n
−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブ
トキシ、n−ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチ
ルオキシ、オクチルオキシのようなアルコキシ基、アセ
チルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イ
ソブチリルオキシ、バレリルオキシ、インバレリルオキ
シ、ヒバノイルオキシ、カプロイルオキシ;2−メチル
−n−バレリルオキシ、ヘプタノイルオキシ、オクタノ
イルオキシ、2−エチルヘキサノイルオキシ、ノナノイ
ルオキシ、デカノイルオキシ、ウンデカノイルオキシ、
n−ラウロイルオキシ、ミリストイルオキシ、ペンタデ
カノイルオキシ、パルミトイルオキシ、ステアロイルオ
キシのようなアルカノイルオキシ基並びにアクリロイル
オキシ、クロトノイルオキシ、3−ブテノイルオキシ、
メタアクリロイルオキシ、チグロイルオキシ、ソルボイ
ルオキシ、10−ウンデセノイルオキシ、オレオイルオ
キシのようなアルケノイルオキシ基等の脂肪族アシルオ
キシ基、芳香環にメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピルのような炭素数1乃至3個のアルキル基、メト
キシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシのよ
うな炭素数1乃至3個のアルコキシ基あるいは塩素、臭
素、弗素のようなハロゲン原子を置換分として有するか
有しないベンゾイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基
あるいはフェニルアセトキシ、フェニルプロピオニルオ
キシ、シンナモイルオキシのような芳香脂肪族アシルオ
キシ基を示す。
R3は水素原子、メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、n−ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチルのようなアルキル基、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレリ
ル、インバレリル、ヒバノイル、カフロイル、2−メチ
ル−n−バレリル、ヘプタノイル、オクタノイル、2−
エチルヘキサノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデ
カノイル、n−ラウロイル、ミリストイル、ペンタデカ
ノイル、バルミトイル、ステアロイルのようなアルカノ
イル基並びにアクリロイル、メタアクリロイル、クロト
ノイル、3−ブテノイル、メタアクリロイル、チグロイ
ル、ソルボイル、1〇−ウンデセノイル、オレオイルの
ようなアルケノイル基等の脂肪族アシル基、芳香環にメ
チル、エチ/L/、n−プロピル、イソプロピルのよう
な炭素数1乃至3個のアルキル基、メトキシ、エトキシ
、n−プロポキシ、インプロポキシ、のような炭素数1
乃至3個のアルコキシ基あるいは塩素、臭素、弗素のよ
うなハロゲン原子を置換分として有するか有しないベン
ゾイル基等の芳香族アシル基あるいはフェニルアセチル
、フェニルプロピオニル、シンナモイルのような芳香脂
肪族アシル基を示す。
プロピル、n−ブチル、イソブチル、n−ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチルのようなアルキル基、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレリ
ル、インバレリル、ヒバノイル、カフロイル、2−メチ
ル−n−バレリル、ヘプタノイル、オクタノイル、2−
エチルヘキサノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデ
カノイル、n−ラウロイル、ミリストイル、ペンタデカ
ノイル、バルミトイル、ステアロイルのようなアルカノ
イル基並びにアクリロイル、メタアクリロイル、クロト
ノイル、3−ブテノイル、メタアクリロイル、チグロイ
ル、ソルボイル、1〇−ウンデセノイル、オレオイルの
ようなアルケノイル基等の脂肪族アシル基、芳香環にメ
チル、エチ/L/、n−プロピル、イソプロピルのよう
な炭素数1乃至3個のアルキル基、メトキシ、エトキシ
、n−プロポキシ、インプロポキシ、のような炭素数1
乃至3個のアルコキシ基あるいは塩素、臭素、弗素のよ
うなハロゲン原子を置換分として有するか有しないベン
ゾイル基等の芳香族アシル基あるいはフェニルアセチル
、フェニルプロピオニル、シンナモイルのような芳香脂
肪族アシル基を示す。
前記一般求I)を有する好適な化合物としては、R1お
よびR2は同一または異なって水素原子、水酸基、炭素
数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至12
個を有する脂肪族アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基
あるいはシンナモイルオキシ基を示し、R3は水素原子
、炭素数1乃至4個を有するアルキル基、炭素数2乃至
12個を有する脂肪族アシル基、ベンゾイル基あるいは
シンナモイル基を示し、nは1乃至3を示し、nが2あ
るいは3である場合にはR2はそれぞれ同一または異な
った基を示す。
よびR2は同一または異なって水素原子、水酸基、炭素
数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至12
個を有する脂肪族アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基
あるいはシンナモイルオキシ基を示し、R3は水素原子
、炭素数1乃至4個を有するアルキル基、炭素数2乃至
12個を有する脂肪族アシル基、ベンゾイル基あるいは
シンナモイル基を示し、nは1乃至3を示し、nが2あ
るいは3である場合にはR2はそれぞれ同一または異な
った基を示す。
但し、R1およびR2の少なくとも1個は水酸基、炭素
数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至12
個を有する脂肪族アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基
あるいはシンナモイルオキシ基を示す。
数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至12
個を有する脂肪族アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基
あるいはシンナモイルオキシ基を示す。
前記一般式(I)を有するさらに好適な化合物としては
、R1は水素原子を示し、R2が水素原子、水酸基、炭
素数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至1
2個を有する脂肪族アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ
基あるいはシンナモイルオキシ基を示し、R3は水素原
子、炭素数1乃至4個を有するアルキル基、炭素数2乃
至12個を有する脂肪族アシル基、ベンゾイル基あるい
はシンナモイル基を示し、nは1乃至3を示す。
、R1は水素原子を示し、R2が水素原子、水酸基、炭
素数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至1
2個を有する脂肪族アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ
基あるいはシンナモイルオキシ基を示し、R3は水素原
子、炭素数1乃至4個を有するアルキル基、炭素数2乃
至12個を有する脂肪族アシル基、ベンゾイル基あるい
はシンナモイル基を示し、nは1乃至3を示す。
但し、nが1である場合は、R2は水素原子以外の上記
の置換基を示し、nが2あるいは3である場合は、R2
の少なくとも1個は水素原子以外の上記の置換基を示す
。
の置換基を示し、nが2あるいは3である場合は、R2
の少なくとも1個は水素原子以外の上記の置換基を示す
。
ここで、前記一般式(I)を有する最も好適な化合物と
しては、R1は水素原子を示し、構造式上7位の側鎖に
あるR2が水酸基、炭素数1乃至2個を有するアルコキ
シ基、炭素数2乃至12個を有する脂肪族アシルオキシ
基、ベンゾイルオキシ基あるいはシンナモイルオキシ基
を示し、R3が水素原子、炭素数1乃至2個を有するア
ルキル基、炭素数2乃至12個を有する脂肪族アシ卸基
、ベンゾイル基あるいはシンナモイル基を示し、nは1
乃至3を示す。
しては、R1は水素原子を示し、構造式上7位の側鎖に
あるR2が水酸基、炭素数1乃至2個を有するアルコキ
シ基、炭素数2乃至12個を有する脂肪族アシルオキシ
基、ベンゾイルオキシ基あるいはシンナモイルオキシ基
を示し、R3が水素原子、炭素数1乃至2個を有するア
ルキル基、炭素数2乃至12個を有する脂肪族アシ卸基
、ベンゾイル基あるいはシンナモイル基を示し、nは1
乃至3を示す。
本発明の方法によって得られる前記一般式(I)を有す
る化合物においては、二重結合の配置により種々の幾何
異性体が存在する。
る化合物においては、二重結合の配置により種々の幾何
異性体が存在する。
これらの配置の表わし方はザ ジャーナル オブ オー
ガニック 。
ガニック 。
ケミストリー(The Jonrnal of Or
ganicChemistry )、35巻、2849
頁(1970年)に記載されている国際純正応用化学連
合(IUPAC)提案C命名法によるE−Z表示に従っ
た。
ganicChemistry )、35巻、2849
頁(1970年)に記載されている国際純正応用化学連
合(IUPAC)提案C命名法によるE−Z表示に従っ
た。
前記一般式(I)においては、これらの異性。体および
これらの異性体の混合物がすべて単一の式で示されてい
るが、これにより本発明の記載の範囲は限定されるもの
ではない。
これらの異性体の混合物がすべて単一の式で示されてい
るが、これにより本発明の記載の範囲は限定されるもの
ではない。
従来、ゲラニル ファルネシル酢酸〔ゲファルネート(
Gefarnate ) )が抗潰瘍作用を有するこ1
とが報告されている(E−Adami他:Arch・i
nt aPharmacodyno、147)Al−2
1113(1964)〕が、胃潰瘍あるいは一二脂腸潰
瘍のような消化性潰瘍に付してさらに有効な医薬が要望
されてきている。
Gefarnate ) )が抗潰瘍作用を有するこ1
とが報告されている(E−Adami他:Arch・i
nt aPharmacodyno、147)Al−2
1113(1964)〕が、胃潰瘍あるいは一二脂腸潰
瘍のような消化性潰瘍に付してさらに有効な医薬が要望
されてきている。
本発明者等は多年にわたり薬理活性を有する植物成分の
単離による新規医薬の開発研究を行なって来たが、クロ
トン属植物であるタイ国産の生薬プラウーノイCP l
au −noi (Crotonsublyratue
Kurz、 Croton ColumnarisA
iry Shaw) )、プラウ−ルア(P 1au−
1uat(Croton Hutchinsonian
us Ho5seus ) 、lおよびブラウーヤイ(
P lau −yai (Croton1oblong
ifoli1]s Roxb、 ) )よりジテルペン
ジオール化合物である(E−Z、E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン−1−オールを単離し、本
化合物を全合成すると同時に種々の同族体およびその誘
導体を製造した結果、前記一般式(I)で表わされる新
規な化合物が、消化性潰瘍に有効でしかも低毒性である
ことを見い出して、本発明を完成した。
単離による新規医薬の開発研究を行なって来たが、クロ
トン属植物であるタイ国産の生薬プラウーノイCP l
au −noi (Crotonsublyratue
Kurz、 Croton ColumnarisA
iry Shaw) )、プラウ−ルア(P 1au−
1uat(Croton Hutchinsonian
us Ho5seus ) 、lおよびブラウーヤイ(
P lau −yai (Croton1oblong
ifoli1]s Roxb、 ) )よりジテルペン
ジオール化合物である(E−Z、E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン−1−オールを単離し、本
化合物を全合成すると同時に種々の同族体およびその誘
導体を製造した結果、前記一般式(I)で表わされる新
規な化合物が、消化性潰瘍に有効でしかも低毒性である
ことを見い出して、本発明を完成した。
ここに得られたポリプレニル誘導体の潰瘍抑制作用は以
下に示す薬理比較試験によって明らかにすることができ
る二 (1)抗しゼルピン潰瘍作用 試験方法 B lackmannら(J 、 C、B lackm
ann、D、S。
下に示す薬理比較試験によって明らかにすることができ
る二 (1)抗しゼルピン潰瘍作用 試験方法 B lackmannら(J 、 C、B lackm
ann、D、S。
Campion、 F、N、Fastier : Br
1tishJournal of Pharmacol
ogy andChemotherapy、 vol
、 14.112(1959))の方法に準じて実施し
た。
1tishJournal of Pharmacol
ogy andChemotherapy、 vol
、 14.112(1959))の方法に準じて実施し
た。
ddY系雄系中マウス重28〜332)に検体を腹腔内
投与し、次いで30分後にレゼルビン10 m97kg
を皮下投与した。
投与し、次いで30分後にレゼルビン10 m97kg
を皮下投与した。
レゼルビン投与18時間後に動物を殺し、胃を摘出し、
0.5%ホルマリン2mlを加えて胃をふくらまし固定
した。
0.5%ホルマリン2mlを加えて胃をふくらまし固定
した。
固定後、胃を大骨側に沿って切開し、実体顕微鏡下で潰
瘍面積※(1)を測定した。
瘍面積※(1)を測定した。
得られた検体投与群の潰瘍面積と対照群のそれとを比較
し、抑制率を算出した。
し、抑制率を算出した。
※(1) 潰瘍面積(−)一個々の潰瘍の長径×短径
の総和 試験結果 表1はマウスに腹腔内投与した時の抗しゼルビン潰瘍作
用を示す。
の総和 試験結果 表1はマウスに腹腔内投与した時の抗しゼルビン潰瘍作
用を示す。
(2)抗ストレス潰瘍作用
試験方法
高木および間部(K、 Takagi 、 S 、 0
kabe :The Japanese Journa
l of Pharmacologylvol 18.
9(1968)、lの方法に準じて実□施した。
kabe :The Japanese Journa
l of Pharmacologylvol 18.
9(1968)、lの方法に準じて実□施した。
トンリュー(Donryu )系中ラット(体重200
〜22(1)をストレス ケージ内に拘束し、水温23
±1℃の水槽に剣状突起の部位まで浸した。
〜22(1)をストレス ケージ内に拘束し、水温23
±1℃の水槽に剣状突起の部位まで浸した。
8時間の拘速、水浸後、動物を殺し、胃をホルマリンで
固定し、潰瘍係数用2)を測定した。
固定し、潰瘍係数用2)を測定した。
検体投与群の潰瘍係数を対照群のそれと比較し、抑制率
を算出した。
を算出した。
検体は実験前3日間と拘束、水浸の直前に計4回経口投
与した。
与した。
※(2)潰瘍係数(mm )一個々の線状潰瘍の長さの
相 試験結果 表2はラットに経口投与した時の抗ストレス潰瘍作用を
示す。
相 試験結果 表2はラットに経口投与した時の抗ストレス潰瘍作用を
示す。
(3)抗システアミン十二指腸潰瘍作用
試験方法
5elyeおよび5zabo CH,5elye、 S
。
。
5Zabo : Nature 、 vol 、 2
44.458(1973))の方法に準じて実施した。
44.458(1973))の方法に準じて実施した。
トンリュー(Donryu )系中ラット(体重200
〜220P)を1晩絶食し、システアミン(cyste
amine ) 300mg/kgを経口投与して十二
指腸潰瘍を惹起させた。
〜220P)を1晩絶食し、システアミン(cyste
amine ) 300mg/kgを経口投与して十二
指腸潰瘍を惹起させた。
検体はシステアミン投与前2日間と投与直前および投与
1日後に計4回経口投与した。
1日後に計4回経口投与した。
動物はシステアミン投与2日後に殺し、十二指腸潰瘍係
数※(3)を求めた。
数※(3)を求めた。
検体投与群の十二指腸潰瘍係数を対照群のそれと比較し
、抑制率を算出した。
、抑制率を算出した。
※(3)十二指腸係数:各動物について次のようなスコ
アをつげた。
アをつげた。
0:障害なし
1:点状出血
2:潰瘍面積(S)≦16m疏
3:潰瘍面積16〈S≦25−
4:潰瘍面積S>25yny?i
5:穿孔潰瘍
試験結果
表3はラットに経口投与した時の抗システアミン十二指
腸潰瘍作用を示す。
腸潰瘍作用を示す。
化合物Aの急性毒性
以上の試験より明らかな通り、前記一般式(I)を有す
る化合物は潰瘍治療剤として有用である。
る化合物は潰瘍治療剤として有用である。
その投与形態としては例えば皮下あるいは筋肉内注射等
による非経口投与または錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒
剤等による経口投与をあげることができる。
による非経口投与または錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒
剤等による経口投与をあげることができる。
その使用量は投与形態、症状、年令、体重等によって異
なるが、通常は成人に対して1日約10乃至1000〜
であり、1乃至4回に分けて投与することができる。
なるが、通常は成人に対して1日約10乃至1000〜
であり、1乃至4回に分けて投与することができる。
前記一般式(I)を有する化合物の代表例を以下に列記
するが、これによって本発明の化合物は限定されるもの
ではない。
するが、これによって本発明の化合物は限定されるもの
ではない。
(1) 7−ヒドロキシメチル−3・11−ジメチル
−2・6・10−ドデカトリエン−1−オールおよびそ
のジアセテート、ジベンゾエート(2)7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン−1−オールおよびそのジ
アセテート、シカプロエート、ジラウレート、ジパルミ
テート、ジクロトネート、ジベンゾエート、ビス−p−
メチルベンゾエート、ビス−p−メトキシベンゾエート
、ビス−p−クロロベンゾエート、ビスフェニルアセテ
ート、ジアセテ−ト (3)7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメ
チル−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1
−オール ジメチルエーテル(4)11−ヒドロキシメ
チル−3・7・15−トリメチル−2・6・10・14
−へキサデカテトラエン−1−オールおよびそのジアセ
テート、ジベンゾエート (5)7・15−ジヒドロキシメチル−3・11−ジメ
チル−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1
−オールおよびそのトリアセテート、トリベンゾエート (6)7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−
テトラメチル−2・6・10・14・18−7(コサペ
ンタエン−1−オールおよびそのジアセテート、ジベン
ゾエート (7)7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19・
23−ペンタメチル−2・6・10・14・18・22
−テトラコサへキサエン−1−オールおよびそのジアセ
テート、ジベンゾエート ここに例示した化合物においては二重結合の配置に基く
幾何異性体が存在するが、以下に例示するこれらの異性
体およびこれらの異性体の混合物として得ることができ
る。
−2・6・10−ドデカトリエン−1−オールおよびそ
のジアセテート、ジベンゾエート(2)7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン−1−オールおよびそのジ
アセテート、シカプロエート、ジラウレート、ジパルミ
テート、ジクロトネート、ジベンゾエート、ビス−p−
メチルベンゾエート、ビス−p−メトキシベンゾエート
、ビス−p−クロロベンゾエート、ビスフェニルアセテ
ート、ジアセテ−ト (3)7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメ
チル−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1
−オール ジメチルエーテル(4)11−ヒドロキシメ
チル−3・7・15−トリメチル−2・6・10・14
−へキサデカテトラエン−1−オールおよびそのジアセ
テート、ジベンゾエート (5)7・15−ジヒドロキシメチル−3・11−ジメ
チル−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1
−オールおよびそのトリアセテート、トリベンゾエート (6)7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−
テトラメチル−2・6・10・14・18−7(コサペ
ンタエン−1−オールおよびそのジアセテート、ジベン
ゾエート (7)7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19・
23−ペンタメチル−2・6・10・14・18・22
−テトラコサへキサエン−1−オールおよびそのジアセ
テート、ジベンゾエート ここに例示した化合物においては二重結合の配置に基く
幾何異性体が存在するが、以下に例示するこれらの異性
体およびこれらの異性体の混合物として得ることができ
る。
化合物(1):(E−Z)および(E−E)配置異性体
化合物(2)、(3)および(41: (E −Z−E
)、(E・E−E)、(Z −E−E)、(Z−Z−E
)、(2−2−2)、(Z−E−Z)、(E−Z・2)
および(E−E−Z)配置異性体 化合物(5)および(6): (E−Z−E−E)、(
Z・E−E−E)、(Z−Z−E−E)、(E −Z−
Z−E)、(E−E−Z−E)、(Z−Z −Z・E)
、(Z−E −Z −E)お1び(E−E−E・E)配
置異性体 化合物(7): (E−E−E−E−E)、(E−Z・
E−E−E)、(E−E−Z−E−E)、(Z−E−E
−E−E)、(Z−Z−E−E−E)、(Z−E−Z−
E−E)、(Z−Z−Z−E・E)および(E−Z−Z
−E−E)配置異性体本発明によれば、前記一般式(I
)を有する化合物は以下の方法によって得ることができ
る。
)、(E・E−E)、(Z −E−E)、(Z−Z−E
)、(2−2−2)、(Z−E−Z)、(E−Z・2)
および(E−E−Z)配置異性体 化合物(5)および(6): (E−Z−E−E)、(
Z・E−E−E)、(Z−Z−E−E)、(E −Z−
Z−E)、(E−E−Z−E)、(Z−Z −Z・E)
、(Z−E −Z −E)お1び(E−E−E・E)配
置異性体 化合物(7): (E−E−E−E−E)、(E−Z・
E−E−E)、(E−E−Z−E−E)、(Z−E−E
−E−E)、(Z−Z−E−E−E)、(Z−E−Z−
E−E)、(Z−Z−Z−E・E)および(E−Z−Z
−E−E)配置異性体本発明によれば、前記一般式(I
)を有する化合物は以下の方法によって得ることができ
る。
方法1
前記一般式(I)を有する化合物のうちで、(E・Z−
E’)−7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリ
メチル−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−
1−オールで表わされる構造式を有する化合物は、クロ
トン属植物を溶剤で抽出し、得られる抽出液より目的化
合物を分離することによって得ることができる。
E’)−7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリ
メチル−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−
1−オールで表わされる構造式を有する化合物は、クロ
トン属植物を溶剤で抽出し、得られる抽出液より目的化
合物を分離することによって得ることができる。
こ又で抽出に用いられる原種物としては、タイ国産のク
ロトン(Croton )原種物、例えばプラウーノイ
(Plau −noi (Croton 5nblyr
atusKurzおよびCroton Columna
ris Airy shaw。
ロトン(Croton )原種物、例えばプラウーノイ
(Plau −noi (Croton 5nblyr
atusKurzおよびCroton Columna
ris Airy shaw。
別名Croton joufra Roxb、 ) )
、プラウ−ルア(P lau −1uat (Crot
on HutchinsonianusHo5seus
) )プラウーヤイ(P lau −yai(Cro
ton Oblongifolius Roxb、 )
)などがあげられ、好適にはプラウーノイ(Plau
−noi )が用いられる。
、プラウ−ルア(P lau −1uat (Crot
on HutchinsonianusHo5seus
) )プラウーヤイ(P lau −yai(Cro
ton Oblongifolius Roxb、 )
)などがあげられ、好適にはプラウーノイ(Plau
−noi )が用いられる。
・ 本発明の方法において、抽出に使用される溶剤とし
ては通常の植物成分の抽出に使用される溶剤が特に限定
なく使用できるが、例えば水、メタノール、エタノール
のようなアルコール類、エチルエーテル、イソプロピル
エーテルのようなエーテル類、メチレンクロリド、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、酢酸メチル、
酢酸エチルのような酢酸エステル類、アセトン、メチル
エチルケトンのような低級アルキルケトン類およびベン
ゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類が好適なもの
としてあげられる。
ては通常の植物成分の抽出に使用される溶剤が特に限定
なく使用できるが、例えば水、メタノール、エタノール
のようなアルコール類、エチルエーテル、イソプロピル
エーテルのようなエーテル類、メチレンクロリド、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、酢酸メチル、
酢酸エチルのような酢酸エステル類、アセトン、メチル
エチルケトンのような低級アルキルケトン類およびベン
ゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類が好適なもの
としてあげられる。
この抽出液より前記構造式を有する化合物を採取するに
は、通常の中性成分を採取する方法によって行なわれる
が、これにカラムクロマトグラフィーを併用するか、誘
導体として結晶化することによって単離するのが好適で
ある。
は、通常の中性成分を採取する方法によって行なわれる
が、これにカラムクロマトグラフィーを併用するか、誘
導体として結晶化することによって単離するのが好適で
ある。
即ち、例えば前記抽出成分より脂質を除去するために抽
出液または濃縮成分をn−ヘキサンのような炭化水素類
で洗い、さらにベンゼンまたはエーテルのような水不混
和性溶剤に溶かした後、重炭酸ナトリウム水、重炭酸カ
リウム水のような重炭酸アルカリ水、炭酸ナトリウム水
、炭酸カリウム水のような炭酸アルカリ水または水・酸
化ナトリウム水、水酸化カリウム水のような水酸化アル
カリ水で洗浄して酸性部分を除き、しかる後、得られた
有機溶剤層をシリカゲル、アルミナ、珪酸などの充填剤
を使用し、展開溶剤としてエチルエーテル、ベンゼン、
クロロホルム、酢酸エチル、アセトンなど有機溶剤の1
種または2種以上の混合溶剤あるいは上記の溶剤とn−
ペンタン、n−ヘキサンのような石油系溶剤との混合溶
剤を使用してカラムクロマトグラフィーを行ない、流出
液より溶剤を留去すると前記構造を有する目的化合物を
得ることができる。
出液または濃縮成分をn−ヘキサンのような炭化水素類
で洗い、さらにベンゼンまたはエーテルのような水不混
和性溶剤に溶かした後、重炭酸ナトリウム水、重炭酸カ
リウム水のような重炭酸アルカリ水、炭酸ナトリウム水
、炭酸カリウム水のような炭酸アルカリ水または水・酸
化ナトリウム水、水酸化カリウム水のような水酸化アル
カリ水で洗浄して酸性部分を除き、しかる後、得られた
有機溶剤層をシリカゲル、アルミナ、珪酸などの充填剤
を使用し、展開溶剤としてエチルエーテル、ベンゼン、
クロロホルム、酢酸エチル、アセトンなど有機溶剤の1
種または2種以上の混合溶剤あるいは上記の溶剤とn−
ペンタン、n−ヘキサンのような石油系溶剤との混合溶
剤を使用してカラムクロマトグラフィーを行ない、流出
液より溶剤を留去すると前記構造を有する目的化合物を
得ることができる。
このようにして得られた目的化合物は必要ならば常法、
例えば誘導体生成法または減圧蒸留法などによってさら
に精製することができる。
例えば誘導体生成法または減圧蒸留法などによってさら
に精製することができる。
結晶性誘導体として目的化合物を単離精製する方法は植
物抽出物より得られた中性成分を通常のアルコール化合
物に使用される結晶性誘導体合成試薬、例えば3・5−
ジニトロベンゾイルクロリド、フェニルイソシアナート
、無水フタル酸などと処理することによって結晶性誘導
体として単離精製した後、これを加水分解することによ
って行なうことができる。
物抽出物より得られた中性成分を通常のアルコール化合
物に使用される結晶性誘導体合成試薬、例えば3・5−
ジニトロベンゾイルクロリド、フェニルイソシアナート
、無水フタル酸などと処理することによって結晶性誘導
体として単離精製した後、これを加水分解することによ
って行なうことができる。
方法2
前記一般式(I)において、6位の配置がZであって、
7位にヒドロキシメチル基を有する化合物、即ち一般式 (式中、R4およびR5は同一または異なって水素原子
、水酸基あるいは炭素数1乃至8個を有するアルコキシ
基を示し、R6は水素原子あるいは炭:2素数1乃至8
個を有するアルキル基を示し、nは1乃至4を示す。
7位にヒドロキシメチル基を有する化合物、即ち一般式 (式中、R4およびR5は同一または異なって水素原子
、水酸基あるいは炭素数1乃至8個を有するアルコキシ
基を示し、R6は水素原子あるいは炭:2素数1乃至8
個を有するアルキル基を示し、nは1乃至4を示す。
)を有する化合物は一般式(式中、R7およびR8は同
一または異なって水素原子、保護された水酸基あるいは
炭素数1乃至8個を有するアルコキシ基を示し、R10
はフェニル、n−ブチルなどの炭化水素残基を示し、X
は臭素、沃素などのハロゲン原子を示し、nは1乃至4
を示す。
一または異なって水素原子、保護された水酸基あるいは
炭素数1乃至8個を有するアルコキシ基を示し、R10
はフェニル、n−ブチルなどの炭化水素残基を示し、X
は臭素、沃素などのハロゲン原子を示し、nは1乃至4
を示す。
)を有する化合物と一般式(式中、R9は水酸基の保護
基あるいは炭素数1乃至8個を有するアルキル基を示す
。
基あるいは炭素数1乃至8個を有するアルキル基を示す
。
)を有する化合物およびパラホルムアルデヒドを塩基の
存在下で反応させて得られる一般式 (式中、R7、R8およびR9は前述したものと同意義
を示す。
存在下で反応させて得られる一般式 (式中、R7、R8およびR9は前述したものと同意義
を示す。
)を有する化合物より水酸基の保護基を除去することに
よって得ることができる。
よって得ることができる。
こ匁で水酸基の保護基は、後に保護基を水素原子に置換
する際に化合物の他の部分に影響を与えないものであれ
ば特に限定はないが、そのような保護基としては例えば
2−テトラヒドロフラニル、2−テトラヒドロピラニル
、2−テトラヒドロチェニル、2−テトラヒドロチオピ
ラニルおよび4−メドキシテトラヒドロピラン−4−イ
ルのようなアルコキシ基を置換分として有することもあ
る環内に酸素あるいは硫黄原子を有する5あるいは6員
環基;メトキシメチル、エトキシメチル、n−プロポキ
シメチル、インプロポキシメチル、n−ブトキシメチル
、インブトキシメチル、■−エトキシエチル、1−エト
キシプロピルおよび1−メトキシ−1−メチルエチルの
ようなアルコキシ低級アルキル基;トリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリーn−プロピルシリル、トリイ
ソプロピルシリル、トリーn−ブチルシリルおよびトリ
イソブチルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基が
あげられ、特に2−テトラヒドロピラニル、メトキシメ
チル、■−エトキシエチル、1−メトキシ−1−メチル
エチルおよびトリメチルシリル基などが好適である。
する際に化合物の他の部分に影響を与えないものであれ
ば特に限定はないが、そのような保護基としては例えば
2−テトラヒドロフラニル、2−テトラヒドロピラニル
、2−テトラヒドロチェニル、2−テトラヒドロチオピ
ラニルおよび4−メドキシテトラヒドロピラン−4−イ
ルのようなアルコキシ基を置換分として有することもあ
る環内に酸素あるいは硫黄原子を有する5あるいは6員
環基;メトキシメチル、エトキシメチル、n−プロポキ
シメチル、インプロポキシメチル、n−ブトキシメチル
、インブトキシメチル、■−エトキシエチル、1−エト
キシプロピルおよび1−メトキシ−1−メチルエチルの
ようなアルコキシ低級アルキル基;トリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリーn−プロピルシリル、トリイ
ソプロピルシリル、トリーn−ブチルシリルおよびトリ
イソブチルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基が
あげられ、特に2−テトラヒドロピラニル、メトキシメ
チル、■−エトキシエチル、1−メトキシ−1−メチル
エチルおよびトリメチルシリル基などが好適である。
しかしながらこれらの保護基に限定されるものではない
。
。
本製法において、前記一般式叫を有する化合物、一般式
■を有する化合物およびパラホルムアルデヒドを反応さ
せて前記一般式■を有する化合物を製造する反応は塩基
を用いて溶剤の存在下で実施される。
■を有する化合物およびパラホルムアルデヒドを反応さ
せて前記一般式■を有する化合物を製造する反応は塩基
を用いて溶剤の存在下で実施される。
使用される塩基は通常のウイチツヒ(Wi ttig
)反応に用いられる塩基であれば特に限定はないが、好
適にはn−ブチルリチウム、5ec−ブチルリチウムお
よびtert−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム
化合物が用いられる。
)反応に用いられる塩基であれば特に限定はないが、好
適にはn−ブチルリチウム、5ec−ブチルリチウムお
よびtert−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム
化合物が用いられる。
使用される溶剤は本反応に関与しなげれば特に限定はな
いが、好適にはエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、1・2−ジメトキシエタンノヨウナエーテ
ル類、n−ペンタン、n−ヘキサンのような脂肪族炭化
水素類などが用いられる。
いが、好適にはエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、1・2−ジメトキシエタンノヨウナエーテ
ル類、n−ペンタン、n−ヘキサンのような脂肪族炭化
水素類などが用いられる。
反応温度は比較的低温が望ましく好適には一80℃乃至
室温以下で、しかも窒素、ヘリウムあるいはアルゴンな
どの不活性ガス気流下において行なわれる。
室温以下で、しかも窒素、ヘリウムあるいはアルゴンな
どの不活性ガス気流下において行なわれる。
本反応を実施するに当って、最も好適にはアルゴンなど
の不活性ガス気流下、テトラヒドロフランなどの有機溶
剤中前記一般式(II)を有する化合物に一5℃乃至0
℃においてn−ブチルリチウムなどの塩基を加え、次い
で一78℃付近において前記一般式間を有する化合物を
加え、さらに−50℃付近において5ec−ブチルリチ
ウムあるいはtert−ブチルリチウムを加えて後、−
10°C乃至室温以下でパラホルムアルデヒドを加えて
反応させる方法によって行なわれる。
の不活性ガス気流下、テトラヒドロフランなどの有機溶
剤中前記一般式(II)を有する化合物に一5℃乃至0
℃においてn−ブチルリチウムなどの塩基を加え、次い
で一78℃付近において前記一般式間を有する化合物を
加え、さらに−50℃付近において5ec−ブチルリチ
ウムあるいはtert−ブチルリチウムを加えて後、−
10°C乃至室温以下でパラホルムアルデヒドを加えて
反応させる方法によって行なわれる。
反応時間は主として使用する塩基の種類および反応温度
によって異なるが、通常2乃至6時間である。
によって異なるが、通常2乃至6時間である。
反応終了後、前記一般式■を有する目的化合物は常法に
従って反応混合物より採取される。
従って反応混合物より採取される。
例えば反応終了後、反応混合物に氷水を加え、n−ヘキ
サンのような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶
剤層を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去する
ことによって得ることができる。
サンのような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶
剤層を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去する
ことによって得ることができる。
このようにして得られた目的化合物は必要ならば常法、
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
次いで、前記一般式■を有する化合物の水酸基の保護基
を除去して前記−股肉…を有する化合物を製造する反応
は保護基の種類によって異なる。
を除去して前記−股肉…を有する化合物を製造する反応
は保護基の種類によって異なる。
水酸基の保護基が例えば2−テトラヒドロピラニルのよ
うな異項環基、メトキシメチルのようなアルコキシアル
キル基の場合にはミ反応は化合物(V)を酸と接触させ
ることによって容易に行なうことができる。
うな異項環基、メトキシメチルのようなアルコキシアル
キル基の場合にはミ反応は化合物(V)を酸と接触させ
ることによって容易に行なうことができる。
使用される酸としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸、p−
)ルエンスルホン酸のような有機酸あるいは塩酸、硫酸
などの鉱酸が好適である。
)ルエンスルホン酸のような有機酸あるいは塩酸、硫酸
などの鉱酸が好適である。
反応は溶剤の存在下あるいは不存在下で行なわれるが、
反応を円滑に進行させるためには溶剤を使用する方が好
ましい。
反応を円滑に進行させるためには溶剤を使用する方が好
ましい。
使用する溶剤としては水、メタノール、エタノールのよ
うなアルコール類、あるいはこれらのアルコール類と水
との混合溶剤が好適である。
うなアルコール類、あるいはこれらのアルコール類と水
との混合溶剤が好適である。
反応温度には特に限定はないが、好適には室温付近で行
なわれる。
なわれる。
水酸基の保護基が例えばトリメチルシリルのようなトリ
アルキルシリル基の場合には、反応は化合物■を水ある
いは酸若しくは塩基を含有する水と接触させることによ
って容易に行なうことができる。
アルキルシリル基の場合には、反応は化合物■を水ある
いは酸若しくは塩基を含有する水と接触させることによ
って容易に行なうことができる。
水に含有させる酸あるいは塩基としてはギ酸、酢酸、プ
ロピ)オン酸のような有機酸、塩酸、硫酸のような鉱酸
などの酸あるいは水酸化カリウム、水酸化カルシウムの
ようなアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸カリウム、炭酸カルシウムのようなアルカリ金
属あるいはアルカリ土類金属の炭酸塩などの塩基が特に
限定なく使用される。
ロピ)オン酸のような有機酸、塩酸、硫酸のような鉱酸
などの酸あるいは水酸化カリウム、水酸化カルシウムの
ようなアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸カリウム、炭酸カルシウムのようなアルカリ金
属あるいはアルカリ土類金属の炭酸塩などの塩基が特に
限定なく使用される。
反応温度には特に限定はないが、通常、室温付近におい
て好適に行なわれる。
て好適に行なわれる。
以上の保護基の除去反応の反応時間は保護基の種類によ
って異なる。
って異なる。
反応終了後、前記一般式−を有する目的化合物は常法に
従って反応混合物より採取される。
従って反応混合物より採取される。
例えば反応終了後、反応混合物を中和して後、エーテル
のような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶剤層
を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去すること
によって得ることができる。
のような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶剤層
を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去すること
によって得ることができる。
このようにして得られた目的化合物は必要ならば常法、
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
方法3
前記一般ff1)において、6位の配置がZおよびEの
幾何異性体の混合物である化合物、 即ち、一般式 (式中、R4、R5、R6およびnは前述したものと同
意義を示し、R11は水素原子、水酸基あるいは炭素数
1乃至8個を有するアルキル基を示す。
幾何異性体の混合物である化合物、 即ち、一般式 (式中、R4、R5、R6およびnは前述したものと同
意義を示し、R11は水素原子、水酸基あるいは炭素数
1乃至8個を有するアルキル基を示す。
)を有する化合物は一般式
(式中、R12およびR13は同一または異なって水素
原子、保護された水酸基あるいは炭素数1乃至8個を有
するアルコキシ基を示し、Aはメチル基、保護されたヒ
ドロキシメチル基、保護されたホル脣ミル基あるいは炭
素数1乃至8個を有するアルコキシメチル基を示し、n
は前述したものと同意義を示す。
原子、保護された水酸基あるいは炭素数1乃至8個を有
するアルコキシ基を示し、Aはメチル基、保護されたヒ
ドロキシメチル基、保護されたホル脣ミル基あるいは炭
素数1乃至8個を有するアルコキシメチル基を示し、n
は前述したものと同意義を示す。
)を有する化合物と一般式(式中、R10およびXは前
述したものと同意義を示し、R14は水酸基の保護基あ
るいは炭素数1乃至8個を有するアルキル基を示す。
述したものと同意義を示し、R14は水酸基の保護基あ
るいは炭素数1乃至8個を有するアルキル基を示す。
)を有する化合物を塩基の存在下で反応させて得られる
一般式(式中、R12、R13、R14、Aおよびnは
前述したものと同意義を示す。
一般式(式中、R12、R13、R14、Aおよびnは
前述したものと同意義を示す。
)を有する化合物より水酸基の保護基の除去および/あ
るいはホルミル基の保護基の除去後に還元することによ
って得ることができる。
るいはホルミル基の保護基の除去後に還元することによ
って得ることができる。
こ\で水酸基の保護基は方法1において前述したものの
ほかに、例えばアセチル、グロピオニル、ブチリル、イ
ンブチリルおよびベンゾイルのような脂肪族および芳香
族アシル基があげられ、特に2−テトラヒドロピラニル
、メトキシメチル、トリメチルシリル、アセチルおよび
ベンゾイル基などが好適である。
ほかに、例えばアセチル、グロピオニル、ブチリル、イ
ンブチリルおよびベンゾイルのような脂肪族および芳香
族アシル基があげられ、特に2−テトラヒドロピラニル
、メトキシメチル、トリメチルシリル、アセチルおよび
ベンゾイル基などが好適である。
またホルミル基の保護基は通常のアセタール結合を形成
するものであれば特に限定はないが、例えばジメトキシ
メチル、ジェトキシメチルおよびエチレンジオキシメチ
ル基などを形成するものが好適である。
するものであれば特に限定はないが、例えばジメトキシ
メチル、ジェトキシメチルおよびエチレンジオキシメチ
ル基などを形成するものが好適である。
本製法において、前記一般式(ロ)を有する化合物と前
記一般N噂を有する化合物を縮合させて前記一般式■を
有する化合物を製造する反応は塩基を用いて溶剤の存在
下で実施される。
記一般N噂を有する化合物を縮合させて前記一般式■を
有する化合物を製造する反応は塩基を用いて溶剤の存在
下で実施される。
使用される塩基としては通常のウイチツヒ(Wi tt
ig )反応に用いられる塩基であれば特に限定はな
いが、好適にはn−ブチルリチウム、5ec−ブチルリ
チウム、tert−ブチルリチウムなどのアルキルリチ
ウム化合物、リチウムジエチルアミド、リチウムジイソ
プロピルアミドなどのリチウムジアルキルアミド化合物
、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属化合物、
ナトリウムアミド、カリウムアミドなどのアルカリ金属
アミド化合物、カリウム−tert−ブトキシドなどの
アルカリ金属アルコラード化合物が用いられる。
ig )反応に用いられる塩基であれば特に限定はな
いが、好適にはn−ブチルリチウム、5ec−ブチルリ
チウム、tert−ブチルリチウムなどのアルキルリチ
ウム化合物、リチウムジエチルアミド、リチウムジイソ
プロピルアミドなどのリチウムジアルキルアミド化合物
、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属化合物、
ナトリウムアミド、カリウムアミドなどのアルカリ金属
アミド化合物、カリウム−tert−ブトキシドなどの
アルカリ金属アルコラード化合物が用いられる。
使用される溶剤は本反応に関与しなげれば特に限定はな
いが、好適にはエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、1・2−ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類、n−ペンタン、n−ヘキサンのような脂肪族炭化
水素類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよう
なジアルキル脂肪酸アミド類およびジメチルスルホキシ
ドなどが用いられる。
いが、好適にはエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、1・2−ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類、n−ペンタン、n−ヘキサンのような脂肪族炭化
水素類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよう
なジアルキル脂肪酸アミド類およびジメチルスルホキシ
ドなどが用いられる。
反応温度には特に限定はないが、副反応を避けるために
、比較的低温が望ましく好適には一20℃乃至室温以下
で、しかも窒素、ヘリウムあるいはアルゴンなどの不活
性ガス気流下において行なわれる。
、比較的低温が望ましく好適には一20℃乃至室温以下
で、しかも窒素、ヘリウムあるいはアルゴンなどの不活
性ガス気流下において行なわれる。
本反応を実施するに当って、最も好適にはアルゴンなど
の不活性ガス気流下、テトラヒドロフランなどの有機溶
剤中前記一般式鴇な有する化合物に一20℃乃至0℃に
おいてn−ブチルリチウムあるいは水素化ナトリウムな
どの塩基を加えて後、室温以下で前記一般式(ロ)を有
する化合物を加えて反応させることによって行なわれる
。
の不活性ガス気流下、テトラヒドロフランなどの有機溶
剤中前記一般式鴇な有する化合物に一20℃乃至0℃に
おいてn−ブチルリチウムあるいは水素化ナトリウムな
どの塩基を加えて後、室温以下で前記一般式(ロ)を有
する化合物を加えて反応させることによって行なわれる
。
反応時間は主として使用する塩基の種類および反応温度
によって異なるが、通常2乃至8時間である。
によって異なるが、通常2乃至8時間である。
反応終了後、前記一般式■を有する目的化合物は常法に
従って反応混合物より採取される。
従って反応混合物より採取される。
例えば反応終了後、反応混合物に氷水を加え、n−ヘキ
サンのような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶
剤層を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去する
ことによって得ることができる。
サンのような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶
剤層を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去する
ことによって得ることができる。
このようにして得られた目的化合物は必要ならば常法、
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
次いで前記一般Wを有する化合物の水酸基の保護基を除
去する反応は保護基の種類によって異なる。
去する反応は保護基の種類によって異なる。
水酸基の保護基が例えばアセチル、ベンゾイルのような
アシル基の場合には反応は通常のエステル基を塩基ある
いは酸の存在で加水分解あるいは加アルコール分解する
方法で行なうことができるが、好適には化合物■を塩基
と接触させることによって容易に行なうことができる。
アシル基の場合には反応は通常のエステル基を塩基ある
いは酸の存在で加水分解あるいは加アルコール分解する
方法で行なうことができるが、好適には化合物■を塩基
と接触させることによって容易に行なうことができる。
使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化バリウムのようなアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸カルシウムのようなアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の炭酸塩が好適である。
ウム、水酸化バリウムのようなアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸カルシウムのようなアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の炭酸塩が好適である。
反応は水、メタノール、エタノール、n−グロパノール
のようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類などの有機溶剤あるいはこれらの
有機溶剤と水との混合溶剤の存在下で好適に行なわれる
。
のようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類などの有機溶剤あるいはこれらの
有機溶剤と水との混合溶剤の存在下で好適に行なわれる
。
反応温度に特に限定はないが、室温付近において好適に
行なわれる。
行なわれる。
その他の水酸基の保護基を除去する反応の反応条件およ
び反応後処理方法は前述の方法2における化合物Nより
化合物(III)を製造する場合と同様である。
び反応後処理方法は前述の方法2における化合物Nより
化合物(III)を製造する場合と同様である。
前記一般”AfJX)ti有する化合物のうちで置換基
Aが保護されたホルミル基を表わす化合物よりホルミル
基の保護基を除去する反応は通常のアセタール結合を加
水分解する方法で行なうことができる力、1、好適には
化合物■を酸と接触させることによって容易に行なうこ
とができる。
Aが保護されたホルミル基を表わす化合物よりホルミル
基の保護基を除去する反応は通常のアセタール結合を加
水分解する方法で行なうことができる力、1、好適には
化合物■を酸と接触させることによって容易に行なうこ
とができる。
使用される酸としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸のよう
な有機酸あるいは塩酸、硫酸のような鉱酸が好適である
。
な有機酸あるいは塩酸、硫酸のような鉱酸が好適である
。
反応は水あるいは含水有機溶剤の存在下で行なわれるが
、使用される含水有機溶剤としては含水メタノール、含
水エタノールのような含水アルコール類、含水テトラヒ
ドロフラン、含水ジオキサンのような含水エーテル類な
どが好適である。
、使用される含水有機溶剤としては含水メタノール、含
水エタノールのような含水アルコール類、含水テトラヒ
ドロフラン、含水ジオキサンのような含水エーテル類な
どが好適である。
反応温度には特に限定はないが、室温付近において好適
に行なわれる。
に行なわれる。
反応終了後、ホルミル基の保護基を除去した化合物は常
法に従って反応混合物より採取される。
法に従って反応混合物より採取される。
例えば反応終了後、反応混合物にn〜へキサンのような
有機溶剤を加えて抽出を行ない、得られた有機溶剤層を
洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することに
よって得ることができる。
有機溶剤を加えて抽出を行ない、得られた有機溶剤層を
洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することに
よって得ることができる。
このようにして得られたホルミル基を有する化シ合物を
還元する反応は溶剤の存在下で還元剤と接触させること
によって実施される。
還元する反応は溶剤の存在下で還元剤と接触させること
によって実施される。
使用される還元剤としては化合物の他の部分に影響を与
えずにホルミル基のみをヒドロキシメチル基に還元スる
ものであれば特に限定はないが、好適には水素化ホウ素
ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ
素カリウムのような水素化アルカリ金属複塩化合物、ア
ルミニウムートリーイソプロポキシドなどが用いられる
。
えずにホルミル基のみをヒドロキシメチル基に還元スる
ものであれば特に限定はないが、好適には水素化ホウ素
ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ
素カリウムのような水素化アルカリ金属複塩化合物、ア
ルミニウムートリーイソプロポキシドなどが用いられる
。
使用される溶剤としては本反応に関与しなければ特に限
定はな℃・が、好適には水素化アルカリ金属複塩を用い
た場合にはメタノール、エタノールのようなアルコール
類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類のうちから選択することができ、アルミニ
ウムートリーイソプロポキシドを用いた場合にはインプ
ロパツールがあげることができる。
定はな℃・が、好適には水素化アルカリ金属複塩を用い
た場合にはメタノール、エタノールのようなアルコール
類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類のうちから選択することができ、アルミニ
ウムートリーイソプロポキシドを用いた場合にはインプ
ロパツールがあげることができる。
反応温度には特に限定はないが、0℃乃至室温付近にお
いて好適に行なわれる。
いて好適に行なわれる。
反応終了後、還元反応の目的化合物は常法に従って反応
混合物から採取される。
混合物から採取される。
例えば反応終了後、反応混合物を中和して後、n−ヘキ
サンのような有機溶剤を用いて抽出し、得られた抽出液
を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去すること
によって得ることができる。
サンのような有機溶剤を用いて抽出し、得られた抽出液
を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去すること
によって得ることができる。
このようにして得られた還元反応の目的化合物において
、なお水酸基の保護基を有する場合には前述した方法に
よってこれを除去する反応に付して、前記一般閘を有す
る目的化合物を得ることができる。
、なお水酸基の保護基を有する場合には前述した方法に
よってこれを除去する反応に付して、前記一般閘を有す
る目的化合物を得ることができる。
以上の方法によって得られた前記−股間を有する目的化
合物は必要ならば常法、例えばカラムクロマトグラフィ
ーあるいは薄層クロマトグラフィーなどによってさらに
精製することができる。
合物は必要ならば常法、例えばカラムクロマトグラフィ
ーあるいは薄層クロマトグラフィーなどによってさらに
精製することができる。
方法4
前記一般式け)にお℃・て、6位の配置がZおよびEの
幾何異性体の混合物であって、7位にヒドロキシメチル
基を有する化合物、即ち一般式(式中、R4、R5、R
6およびnは前述したものと同意義を示す。
幾何異性体の混合物であって、7位にヒドロキシメチル
基を有する化合物、即ち一般式(式中、R4、R5、R
6およびnは前述したものと同意義を示す。
)を有する化合物は一般式(式中、R12、H,13お
よびXは前述したものと同意義を示す。
よびXは前述したものと同意義を示す。
)を有する化合物と一般式0式%(2)
(式中、B 15およびR16は同一または異なって炭
素数1乃至4個を有するアルキル基を示す。
素数1乃至4個を有するアルキル基を示す。
)を有する化合物および一般式
(式中、R14は前述したものと同意義を示す。
)を有する化合物を塩基の存在下で反応させて得られる
一般式 (式中、R12、R13、R14、R15およびnは前
述したものと同意義を示す。
一般式 (式中、R12、R13、R14、R15およびnは前
述したものと同意義を示す。
)を有する化合物を還元および水酸基の保護基の除去反
応に付することによって得ることができる。
応に付することによって得ることができる。
本製法において、前記一般式韓片有する化合物、前記一
般式(ロ)を有する化合物および前記一般式(XIO)
を有する化合物を縮合させて前記一般式(xrv)を有
する化合物を製造する反応は塩基を用いて溶剤の存在下
で実施される。
般式(ロ)を有する化合物および前記一般式(XIO)
を有する化合物を縮合させて前記一般式(xrv)を有
する化合物を製造する反応は塩基を用いて溶剤の存在下
で実施される。
使用される塩基としてはmodified Witti
g反応CW、S。
g反応CW、S。
Wadsworth 、 W、 D、 Emmons
: J、 Am、 Chem。
: J、 Am、 Chem。
Soc、 vol、 83.1733(1961))に
用いられる塩基であれば特に限定はないが、好適にはn
−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウムなどのア
ルキルリチウム化合物、水素化ナトリウム、水素化カル
シウムなどの水素化アルカリ金属あるいはアルカリ土類
金属化合物、ナトリウムアミド、カリウムアミドなどの
アルカリ金属アミド化合物、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウム−
tert−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコラード
化合物が用いられる。
用いられる塩基であれば特に限定はないが、好適にはn
−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウムなどのア
ルキルリチウム化合物、水素化ナトリウム、水素化カル
シウムなどの水素化アルカリ金属あるいはアルカリ土類
金属化合物、ナトリウムアミド、カリウムアミドなどの
アルカリ金属アミド化合物、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウム−
tert−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコラード
化合物が用いられる。
使用される溶剤は本反応に関与しなければ特に限定はな
いが、好適にはエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
1・2−ジメトキシエタン(7)ヨ5 ナエーテル類、
n−ペンタン、n−ヘキサンのような脂肪族炭化水素類
、メチレンクロリド、クロロホルム、エチレンジクロリ
ドのようなハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン
のような芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、
n−プロパツール、インプロパツール、tert−ブタ
ノールのような脂肪族アルコール類、ジメチルホルムナ
ミド、ジエチルアセトアミドのようなジアルキル脂肪酸
アミドおよびジメチルスルホキシドなどが前述の使用す
る塩基に合せて適当に選択して用いられる。
いが、好適にはエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
1・2−ジメトキシエタン(7)ヨ5 ナエーテル類、
n−ペンタン、n−ヘキサンのような脂肪族炭化水素類
、メチレンクロリド、クロロホルム、エチレンジクロリ
ドのようなハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン
のような芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、
n−プロパツール、インプロパツール、tert−ブタ
ノールのような脂肪族アルコール類、ジメチルホルムナ
ミド、ジエチルアセトアミドのようなジアルキル脂肪酸
アミドおよびジメチルスルホキシドなどが前述の使用す
る塩基に合せて適当に選択して用いられる。
反応温度には特に限定はないが、好適には0℃乃至70
℃付近で、しかも窒素、ヘリウムあるいはアルゴンなど
の不活性ガス気流下において行なわれる。
℃付近で、しかも窒素、ヘリウムあるいはアルゴンなど
の不活性ガス気流下において行なわれる。
本反応を実施するに当って、最も好適にはアルゴンなど
の不活性ガス気流下、■・2−ジメトキシエタンなどの
有機溶剤中前記一般曳層を有する化合物に0℃乃至室温
付近において水素化ナトリウムなどの塩基を加え、次い
で室温乃至50℃付近において前記一般Wを有する化合
物を加えて反応させ、さらに0℃付近においてふたたび
前記の塩基を加えて後、室温乃至50℃付近において前
記一般式(XIII)を有する化合物を加えて反応させ
る方法によって行なわれる。
の不活性ガス気流下、■・2−ジメトキシエタンなどの
有機溶剤中前記一般曳層を有する化合物に0℃乃至室温
付近において水素化ナトリウムなどの塩基を加え、次い
で室温乃至50℃付近において前記一般Wを有する化合
物を加えて反応させ、さらに0℃付近においてふたたび
前記の塩基を加えて後、室温乃至50℃付近において前
記一般式(XIII)を有する化合物を加えて反応させ
る方法によって行なわれる。
反応時間は主として使用する塩基の種類および反応温度
によって異なるが、通常2乃至5時間である。
によって異なるが、通常2乃至5時間である。
反応終了後、前記一般式(厩を有する目的化合物は常法
に従って反応混合物から採取される。
に従って反応混合物から採取される。
例えば反応終了後、反応混合物に氷水を加え、n−ヘキ
サンのような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶
剤層を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去する
ことによって得ることができる。
サンのような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶
剤層を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去する
ことによって得ることができる。
このようにして得られた目的化合物は必要ならば常法、
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
このようにして得られた前記一般式ω■を有する化合物
を還元する反応は溶剤の存在下で還元剤と接触させるこ
とによって実施される。
を還元する反応は溶剤の存在下で還元剤と接触させるこ
とによって実施される。
使用される還元剤としては化合物の他の部分に影響を与
えずにエステル基のみをヒドロキシメチル基に還元する
ものであれば特に限定はないが、好適には。
えずにエステル基のみをヒドロキシメチル基に還元する
ものであれば特に限定はないが、好適には。
水素化アルミニウム、水素化リチウムアルミニウムエト
キシド、水素化アルミニウムジイソブトキシド、水素化
ナトリウムアルミニウムビス(2−メトキシエトキシド
)のような水素化アルミニウム化合物が用いられる。
キシド、水素化アルミニウムジイソブトキシド、水素化
ナトリウムアルミニウムビス(2−メトキシエトキシド
)のような水素化アルミニウム化合物が用いられる。
使用される溶剤としては。好適にはエチルエーテル、テ
トラヒドロフランのショウなエーテル類、n−ペンタン
、n−ヘキサンのような脂肪族炭化水素類、ベンゼン、
トルエンのような芳香族炭化水素類などが用いられる。
トラヒドロフランのショウなエーテル類、n−ペンタン
、n−ヘキサンのような脂肪族炭化水素類、ベンゼン、
トルエンのような芳香族炭化水素類などが用いられる。
反応温度には特に限定はないが、−10℃乃至室温付近
において好適に行なわれる。
において好適に行なわれる。
また、前記一般式(厩を有する化合物より水酸基の保護
基を除去する反応は前述した方法によって実施されるが
、水酸基の保護基が例えばアセチル、ベンゾイルなどの
アシル基の時には前述の還元反応においてこれらの保護
基を同時に除去することができる。
基を除去する反応は前述した方法によって実施されるが
、水酸基の保護基が例えばアセチル、ベンゾイルなどの
アシル基の時には前述の還元反応においてこれらの保護
基を同時に除去することができる。
反応終了後、還元反応および水酸基の保護基の除去反応
によって得られた前記一般式(X)を有する目的化合物
は常法に従って反応混合物から採取される。
によって得られた前記一般式(X)を有する目的化合物
は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば反応終了後、反応混合物に酢酸エチルなどを加え
て過剰の還元剤を分解した後、析出した沈澱を戸別し有
機溶剤部分より溶剤を留去することによって得ることが
できる。
て過剰の還元剤を分解した後、析出した沈澱を戸別し有
機溶剤部分より溶剤を留去することによって得ることが
できる。
このようにして得られた目的化合物は必要ならば常法、
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
方法5
前記一般式(I)において、6位の配置がEであって、
7位にヒドロキシメチル基を有する化合物、即ち一般式 (式中、R4、R5、R6およびnは前述したものと同
意義を示す。
7位にヒドロキシメチル基を有する化合物、即ち一般式 (式中、R4、R5、R6およびnは前述したものと同
意義を示す。
)を有する化合物は一般式(式中、R12、R13、R
14およびnは前述したものと同意義を示す。
14およびnは前述したものと同意義を示す。
)を有する化合物を異性化反応に付して得られる一般式
(式中、R12、B l 3、B14およびnは前述し
たものと同意義を示す。
たものと同意義を示す。
)を有する化合物を水酸基の保護基の除去および還元反
応に付することによって得ることができる。
応に付することによって得ることができる。
本製法において、前記一般式(XV$ を有する化合物
を異性化させて前記一般式(X■を有する化合物を製造
する反応は触媒を用いて溶剤の存在下または不存在下で
実施される。
を異性化させて前記一般式(X■を有する化合物を製造
する反応は触媒を用いて溶剤の存在下または不存在下で
実施される。
使用される触媒としては二重結合の異性化反応に使用さ
れる触媒であれば特に限定はないが、好適には水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化
物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム−tert−ブトキシドのようなアルカリ金属ア
ルコラードなどの塩基;塩酸、硫酸、過塩素酸などの無
機酸;ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸な
どの有機酸;弗化ホウ素、塩化アルミニウムなどのルイ
ス酸;沃素;金属パラジウム;2・2′−アゾビスイソ
ブチロニトリル、過酸化ベンゾイルなどのラジカル反応
開始剤等が用いられる。
れる触媒であれば特に限定はないが、好適には水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化
物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム−tert−ブトキシドのようなアルカリ金属ア
ルコラードなどの塩基;塩酸、硫酸、過塩素酸などの無
機酸;ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸な
どの有機酸;弗化ホウ素、塩化アルミニウムなどのルイ
ス酸;沃素;金属パラジウム;2・2′−アゾビスイソ
ブチロニトリル、過酸化ベンゾイルなどのラジカル反応
開始剤等が用いられる。
溶剤を使用する場合に使用される溶剤は本反応に関与し
なければ特に限定はないが、好適には水、メタノール、
エタノール、n−プロパツールのようなアルコール類、
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭
化水素類等の有機溶剤およびこれらの有機溶剤と水との
混合溶剤が用いられる。
なければ特に限定はないが、好適には水、メタノール、
エタノール、n−プロパツールのようなアルコール類、
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭
化水素類等の有機溶剤およびこれらの有機溶剤と水との
混合溶剤が用いられる。
反応温度は特に限定はないが、通常室温乃至使用される
溶剤の還流温度付近が好適である。
溶剤の還流温度付近が好適である。
反応時間は主として使用する触媒の種類および反応温度
によって異なるが、通常2乃至12時間である。
によって異なるが、通常2乃至12時間である。
反応終了後、前記一般式(XVII)を有する目的化合
物は常法に従って反応混合物から採取される。
物は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば反応終了後、必要ならば反応混合物を中和し、溶
剤を留去して後、エーテルのような有機溶剤を用いて抽
出し、得られた有機溶剤層を洗浄し、乾燥した後、抽出
液より溶剤を留去することによって得ることができる。
剤を留去して後、エーテルのような有機溶剤を用いて抽
出し、得られた有機溶剤層を洗浄し、乾燥した後、抽出
液より溶剤を留去することによって得ることができる。
このようにして得られた前記一般式(X■を有する化合
物の水酸基の保護基を除去する反応および還元する反応
は前述した方法によって実施されるが、異性化反応ある
いは還元反応工程において水酸基の保護基を同時に除去
することができる。
物の水酸基の保護基を除去する反応および還元する反応
は前述した方法によって実施されるが、異性化反応ある
いは還元反応工程において水酸基の保護基を同時に除去
することができる。
以上の方法によって得られた前記一般式(XV)を有す
る目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムクロマト
グラフィーあるいは薄層クロマトグラフィーなどによっ
てさらに精製することができる。
る目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムクロマト
グラフィーあるいは薄層クロマトグラフィーなどによっ
てさらに精製することができる。
方法6
前記一般式(I)において、R1およびR2が前述した
ものと同意義を有するアシルオキシ基を示し、R3が前
述したものと同意義を有するアシル基を示す化合物は、
前述の方法1乃至5によって得られた目的化合物の有す
る水酸基をアシル化することによって得ることができる
。
ものと同意義を有するアシルオキシ基を示し、R3が前
述したものと同意義を有するアシル基を示す化合物は、
前述の方法1乃至5によって得られた目的化合物の有す
る水酸基をアシル化することによって得ることができる
。
本製法において、反応は水酸基を有する化合物を溶剤の
存在下あるいは不存在下でアシル化剤と接触させること
によって実施される。
存在下あるいは不存在下でアシル化剤と接触させること
によって実施される。
使用されるアシル化剤としては通常の水酸基のアシル化
反応に使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水カプロン
酸のような酸無水物、あるいはアセチルクロリド、アセ
チルプロミド、ブチリルクロリド、インブチリルクロリ
ド、オクタノイルクロリド、ラウロイルクロリド、バル
ミトイルクロリド、クロトノイルクロリド、ベンゾイル
クロリド、p−メトキシベンゾイルクロリド、フェニル
アセチルクロリド、シンナモイルクロリドのような酸ハ
ロゲン化物などが用いられる。
反応に使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水カプロン
酸のような酸無水物、あるいはアセチルクロリド、アセ
チルプロミド、ブチリルクロリド、インブチリルクロリ
ド、オクタノイルクロリド、ラウロイルクロリド、バル
ミトイルクロリド、クロトノイルクロリド、ベンゾイル
クロリド、p−メトキシベンゾイルクロリド、フェニル
アセチルクロリド、シンナモイルクロリドのような酸ハ
ロゲン化物などが用いられる。
さらに本反応は塩基の存在において好適に行なわれるが
、使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン
、ピロリン、ルチジンなどの有機塩基、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩などの無機塩基、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムのよ
うな有機酸アルカリ金属塩があげられる。
、使用される塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン
、ピロリン、ルチジンなどの有機塩基、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩などの無機塩基、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムのよ
うな有機酸アルカリ金属塩があげられる。
溶剤を使用する時に使用される溶剤としては本反応に関
与しなげれば特に限定はないが、好適には水、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類、メチレンクロリド、クロロホルムのようなノ・
ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエンのような芳香
族炭化水素類、ピリジン、ピコリンのような異頃環塩基
類などが用いられる。
与しなげれば特に限定はないが、好適には水、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類、メチレンクロリド、クロロホルムのようなノ・
ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエンのような芳香
族炭化水素類、ピリジン、ピコリンのような異頃環塩基
類などが用いられる。
反応温度には特に限定はないが、好適には0℃乃至室温
付近において行なわれる。
付近において行なわれる。
反応時間は主として使用するアシル化剤の種類および反
応温度によって異なるが、通常2乃至10時間である。
応温度によって異なるが、通常2乃至10時間である。
反応終了後、アシル化反応の目的化合物は常法に従って
反応混合物から採取される。
反応混合物から採取される。
例えば反応終了後、反応混合物に氷水を加え、エーテル
のような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶剤層
を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去すること
によって得ることができる。
のような有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶剤層
を洗浄し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去すること
によって得ることができる。
このようにして得られた目的化合物は必要ならば常法、
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
方法7
前記一般式(I)において、R1およびR2が前述した
ものと同意義を有するアルコキシ基を示し、R3が前述
したものと同意義を有するアルキル基を示す化合物は、
前述の方法1乃至5によって得られた目的化合物の有す
る水酸基をアルキル化することによって得ることができ
る。
ものと同意義を有するアルコキシ基を示し、R3が前述
したものと同意義を有するアルキル基を示す化合物は、
前述の方法1乃至5によって得られた目的化合物の有す
る水酸基をアルキル化することによって得ることができ
る。
本製法において、反応は水酸基を有する化合物を溶剤の
存在下あるいは不存在、下でアルキル化剤と接触させる
ことによって実施される。
存在下あるいは不存在、下でアルキル化剤と接触させる
ことによって実施される。
使用されるアルキル化剤としては通常の水酸基のアルキ
ル化反応に使用されるものであれば特に限定はないが、
好適にはアルキル−・ライド化合物並びに脱・・ロゲン
化水素剤が用いられる。
ル化反応に使用されるものであれば特に限定はないが、
好適にはアルキル−・ライド化合物並びに脱・・ロゲン
化水素剤が用いられる。
アルキル・・ライド化合物としては例えば塩化メチル、
臭化メチル、沃化メチル、沃化エチル、沃化n−プロピ
ル、沃。
臭化メチル、沃化メチル、沃化エチル、沃化n−プロピ
ル、沃。
化イソプロピル、沃化n−ブチル、沃化イソブチル、沃
化ヘキシル、沃化オクチルなどがあげられ、脱ハロゲン
化水素剤としては酸化銀、酸化カルシウム、酸化バリウ
ムのような金属酸化物、水素化ナトリウム、水素化カル
シウムのような金属水素化物、ナトリウムアミド、カリ
ウムアミドのような金属アミド化合物などがあげられる
。
化ヘキシル、沃化オクチルなどがあげられ、脱ハロゲン
化水素剤としては酸化銀、酸化カルシウム、酸化バリウ
ムのような金属酸化物、水素化ナトリウム、水素化カル
シウムのような金属水素化物、ナトリウムアミド、カリ
ウムアミドのような金属アミド化合物などがあげられる
。
溶剤を使用する時に使用される溶剤としては本反応に関
与しなければ特に限定はないが、好適にはテトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、ト
ルエンのような芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなジアルキル脂肪酸ア
ミド類およびジメチルスルホキシドなどが用いられる。
与しなければ特に限定はないが、好適にはテトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、ト
ルエンのような芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなジアルキル脂肪酸ア
ミド類およびジメチルスルホキシドなどが用いられる。
反応温度には特に限定はないが、好適には室温付近にお
いて行なわれる。
いて行なわれる。
反応時間は主として使用するアルキル化剤の種類などに
よって異なるが、通常5乃至20時間である。
よって異なるが、通常5乃至20時間である。
反応終了後、アルキル化反応の目的化合物は常法に従っ
て反応混合物から採取される。
て反応混合物から採取される。
例えば反応終了後、反応混合物より過剰の・・ロゲン化
アルキルを留去し、水を加えて後、n−ヘキサンのよう
な有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶剤層を洗浄
し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによっ
て得ることができる。
アルキルを留去し、水を加えて後、n−ヘキサンのよう
な有機溶剤を用いて抽出し、得られた有機溶剤層を洗浄
し、乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによっ
て得ることができる。
このようにして得られた目的化合物は必要ならば常法、
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
例えばカラムクロマトグラフィーあるいは薄層クロマト
グラフィーなどによってさらに精製することができる。
前述した方法3において、原料化合物として使用される
前記一般式(4)を有する化合物はゲラニルアセトンを
除いて新規化合物であり、例えば以下に述べる方法によ
って製造することができる。
前記一般式(4)を有する化合物はゲラニルアセトンを
除いて新規化合物であり、例えば以下に述べる方法によ
って製造することができる。
(1) 一般式(至)において、Aが保護されたヒド
ロキシメチル基としてアルコキシメチル基あるいは保護
されたホルミル基を示す化合物は一般式(式中、R12
、R13およびXは前述したものと同意義を示す。
ロキシメチル基としてアルコキシメチル基あるいは保護
されたホルミル基を示す化合物は一般式(式中、R12
、R13およびXは前述したものと同意義を示す。
)を有する化合物を一般式%式%()
(式中、Aは炭素数1乃至8個を有するアルコキシメチ
ル基あるいはジメトキシメチル、ジェトキシメチル、エ
チレンジオキシメチルのような保護されたホルミル基を
示し、R17は炭素数1乃至4個を有するアルキル基を
示す。
ル基あるいはジメトキシメチル、ジェトキシメチル、エ
チレンジオキシメチルのような保護されたホルミル基を
示し、R17は炭素数1乃至4個を有するアルキル基を
示す。
)を有する化合物と塩基の存在下で反応させて、得られ
る化合物を加水分解し、脱炭酸反応に付することによっ
て得ることができる。
る化合物を加水分解し、脱炭酸反応に付することによっ
て得ることができる。
はじめに本反応は溶剤の存在下で塩基を使用して実施さ
れるが、使用される塩基としては通常の活性メチレン基
のアルキル化反応に使用される塩基であれば特に限定は
ないが、好適にはナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウム−tert−ブトキシドなどのアル
カリ金属アルコラード化合物、水素化ナトリウム、水素
化カルシウムな戸の水素化アルカリ金属若しくはアルカ
リ土類金属化合物、n−ブチルリチウム、5ee−ブチ
ルリチウム、te rt−ブチルリチウムなどのアルキ
ルリチウム化合物が用いられる。
れるが、使用される塩基としては通常の活性メチレン基
のアルキル化反応に使用される塩基であれば特に限定は
ないが、好適にはナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウム−tert−ブトキシドなどのアル
カリ金属アルコラード化合物、水素化ナトリウム、水素
化カルシウムな戸の水素化アルカリ金属若しくはアルカ
リ土類金属化合物、n−ブチルリチウム、5ee−ブチ
ルリチウム、te rt−ブチルリチウムなどのアルキ
ルリチウム化合物が用いられる。
ついで、このようにして得られた化合物を加水分解、脱
炭酸する反応は通常のβ−ケトエステル化合物のケトン
分解反応(ketonichydrolysis )
の条件で実施されるが、好適には水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物を使用して
含水メタノール、含水エタノールなどの含水アルコール
中において加熱還流することによって行なわれる。
炭酸する反応は通常のβ−ケトエステル化合物のケトン
分解反応(ketonichydrolysis )
の条件で実施されるが、好適には水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物を使用して
含水メタノール、含水エタノールなどの含水アルコール
中において加熱還流することによって行なわれる。
(2)一般式(ロ)において、Aが保護されたヒドロキ
シメチル基としてアシロキシメチル基を示す化合物は以
下の工程によって製造することができる。
シメチル基としてアシロキシメチル基を示す化合物は以
下の工程によって製造することができる。
上式において、B 12、R13、nおよびXは前述し
たものと同意義を示し、Aは保護されたヒドロキシメチ
ル基としてアセチルオキシメチルプロピオニルオキシメ
チルのようなアシルオキシメチル基を示す。
たものと同意義を示し、Aは保護されたヒドロキシメチ
ル基としてアセチルオキシメチルプロピオニルオキシメ
チルのようなアシルオキシメチル基を示す。
第一工程は一般式(Wを有するカルボン酸ハライド誘導
体を製造する反応であり、一般式(XX)を有するカル
ボン酸誘導体を溶剤の存在下あるいは不存在下でハロゲ
ン化剤と反応させることによって得ることができる。
体を製造する反応であり、一般式(XX)を有するカル
ボン酸誘導体を溶剤の存在下あるいは不存在下でハロゲ
ン化剤と反応させることによって得ることができる。
ハロゲン化剤としては通常の酸ハライド製造に使用され
るものが特に限定なく用いられるが、好適にはチオニル
クロリド、チオニルプロミド、三塩化リン、三臭化リン
、修酸ジクロリドなどのハロゲン化剤があげられる。
るものが特に限定なく用いられるが、好適にはチオニル
クロリド、チオニルプロミド、三塩化リン、三臭化リン
、修酸ジクロリドなどのハロゲン化剤があげられる。
第二工程は一般式(XX[Dを有するジアゾケトン化合
物を製造する反応であり、一般式(XX[)を有する酸
・・ライド化合物を溶剤の存在下でジアゾメタンと反応
させることによって得ることができる。
物を製造する反応であり、一般式(XX[)を有する酸
・・ライド化合物を溶剤の存在下でジアゾメタンと反応
させることによって得ることができる。
第三工程はAとしてアシルオキシメチル基を表わす一般
式(xxm) を有する化合物を製造する反応であり
、一般式(XX[)を有するジアゾケトン化合物を酢酸
、プロピオン酸などのカルボン酸誘導体と加熱して反応
させることによって得ることができる。
式(xxm) を有する化合物を製造する反応であり
、一般式(XX[)を有するジアゾケトン化合物を酢酸
、プロピオン酸などのカルボン酸誘導体と加熱して反応
させることによって得ることができる。
次に実施例および参考例をあげて本発明をさらに具体的
に説明する。
に説明する。
実施例 1
(E−Z−E)−7−ヒドロキシメチル−3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール (1)植物より抽出する方法 粉砕したタイ国産生薬プラウーノイ(Plau−noi
) 28kgをメタノ−#201で3回加熱還流下に
抽出する。
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール (1)植物より抽出する方法 粉砕したタイ国産生薬プラウーノイ(Plau−noi
) 28kgをメタノ−#201で3回加熱還流下に
抽出する。
抽出液を合してメタノールを留去すると、エキス672
グが得られる。
グが得られる。
得られたエキスを90%メタノール51に溶解し、n−
へキサンで洗い、メタノールを留去する。
へキサンで洗い、メタノールを留去する。
残留物を水31に懸濁しエーテルで抽出し、エーテル抽
出液を5%炭酸ナトリウム水で洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。
出液を5%炭酸ナトリウム水で洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。
抽出液より溶剤を留去すると、油状物質117グが得ら
れる。
れる。
得られた油状物質をシリカゲル1.5kgを使用したカ
ラムに吸着させ、最初に10%酢酸エチル含有ベンゼン
で溶出した後、30%酢酸エチル含有ベンゼンで溶出す
る。
ラムに吸着させ、最初に10%酢酸エチル含有ベンゼン
で溶出した後、30%酢酸エチル含有ベンゼンで溶出す
る。
30%酢酸エチル含有ベンゼンにより溶出した分画を集
め、溶剤を留去し、油状の目的化合物17f?を得る。
め、溶剤を留去し、油状の目的化合物17f?を得る。
(2)合成による方法
(目−5・9−ジメチル−4・8−デカジエン−i−イ
ルトリフェニルホスホニウム ヨーシト(R,M、 C
oates 、 W、H,Robinson : J。
ルトリフェニルホスホニウム ヨーシト(R,M、 C
oates 、 W、H,Robinson : J。
Am、Chem、Soc、 93.1785 (197
1))9.0グを無水テトラヒドロフラン60m1に懸
濁し、アルゴン気流中−5〜0℃で当量のn−ブチルリ
チウム−ヘキサン溶液を滴下する。
1))9.0グを無水テトラヒドロフラン60m1に懸
濁し、アルゴン気流中−5〜0℃で当量のn−ブチルリ
チウム−ヘキサン溶液を滴下する。
室温で30分間攪拌した後、反応液を一78℃に冷却し
、(目−4−メチル−6−(2’−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)−4−ヘキセナール33グの無水テトラヒド
ロフラン(20rrLl)溶液を滴下する。
、(目−4−メチル−6−(2’−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)−4−ヘキセナール33グの無水テトラヒド
ロフラン(20rrLl)溶液を滴下する。
30分間攪拌した後、反応液を一50℃にし、5ee−
ブチルリチウム−ペンタン溶液を当量加える。
ブチルリチウム−ペンタン溶液を当量加える。
徐々に温度を一10℃まで上昇させ、乾燥したパラホル
ムアルデヒド1.51を一度に加え、室温で2時間攪拌
する。
ムアルデヒド1.51を一度に加え、室温で2時間攪拌
する。
反応終了後、反応混合物に氷水を加えn−ヘキサンで抽
出する。
出する。
n−ヘキサン抽出液より溶剤を留去し、得られた油状物
質7.2りをシリカゲル20グを用いるカラムクロマト
グラフィーで精製し、得られた油状物質58?をパラ−
トルエンスルホン酸1100rnのメタノール(50m
l)溶液に溶解し、一夜放置する。
質7.2りをシリカゲル20グを用いるカラムクロマト
グラフィーで精製し、得られた油状物質58?をパラ−
トルエンスルホン酸1100rnのメタノール(50m
l)溶液に溶解し、一夜放置する。
この溶液に炭酸水素ナトリウム水を加え、エーテルで抽
出する。
出する。
エーテル抽出液を留去して得られた生成物をさらにシリ
カゲル30グを用いるカラムクロマトグラフィーで精製
し、油状の目的化合物1.81を得る。
カゲル30グを用いるカラムクロマトグラフィーで精製
し、油状の目的化合物1.81を得る。
核磁気共鳴スペクトル δl)pm(CC14):1.
58(6H1−重線)、1.66(6H1−重線)、1
.9〜2.3(12H1多重線)、3.94 (2H,
−重線)、3.97(2H,二重線)、5.0〜5.3
(4H1多重線)赤外線吸収スペクトル シcrrL−
1(液膜):3300.1665.1440.1380
.1000゜ 実施例 2・ (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15〜トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン=1−オール (1)(匂−4−メチル−6−(2’−テトラヒドロピ
ラニルオキシ)−4−ヘキセン−1−イルトリフェニル
ホスホニウム ヨーシト(Rl Tschesche 、 J、 Reden 、 An
n 、 1974.853)58.61?を無水テトラ
ヒドロフラン300m1に懸濁し、窒素気流下−20℃
で1当量のn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液を滴下す
る。
58(6H1−重線)、1.66(6H1−重線)、1
.9〜2.3(12H1多重線)、3.94 (2H,
−重線)、3.97(2H,二重線)、5.0〜5.3
(4H1多重線)赤外線吸収スペクトル シcrrL−
1(液膜):3300.1665.1440.1380
.1000゜ 実施例 2・ (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15〜トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン=1−オール (1)(匂−4−メチル−6−(2’−テトラヒドロピ
ラニルオキシ)−4−ヘキセン−1−イルトリフェニル
ホスホニウム ヨーシト(Rl Tschesche 、 J、 Reden 、 An
n 、 1974.853)58.61?を無水テトラ
ヒドロフラン300m1に懸濁し、窒素気流下−20℃
で1当量のn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液を滴下す
る。
−20℃で1時間攪拌した後、参考例1で得られた(曇
−1・l−ジメトキシ−6・10−ジメチル−5・9−
ウンテ゛カシエンー2−オン25.1’の無水テトラヒ
ドロフラン(5o ml)溶液を加え、室温で3時間攪
拌する。
−1・l−ジメトキシ−6・10−ジメチル−5・9−
ウンテ゛カシエンー2−オン25.1’の無水テトラヒ
ドロフラン(5o ml)溶液を加え、室温で3時間攪
拌する。
反応終了後、反応混合物に氷水を加えn−ヘキサンで抽
出する。
出する。
抽出液より溶剤留去後、得られた油状物を50%酢酸3
00m1に懸濁し、室温で2時間攪拌する。
00m1に懸濁し、室温で2時間攪拌する。
反応生成物をn−へキサンで抽出し、得られた抽出液よ
り溶剤を留去すると、油状の7−ホルミル−3・11・
15−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテ
トラエン−1−オール テトラヒドロピラニルエーテル
28.01を得る。
り溶剤を留去すると、油状の7−ホルミル−3・11・
15−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテ
トラエン−1−オール テトラヒドロピラニルエーテル
28.01を得る。
この化合物をエタノール200m1に溶解し水冷下、水
素化ホウ素ナトリウム1.51を加え2時間攪拌する。
素化ホウ素ナトリウム1.51を加え2時間攪拌する。
反応終了後、反応混合物を希酢酸で処理し、水を加えて
n−ヘキサンで抽出する。
n−ヘキサンで抽出する。
抽出液より溶剤を留去し、残留物をメタノール200m
1に溶解しパラ−トルエンスルホン酸2001n9を加
えて室温で一夜放置後、炭酸水素ナトリウム水を加えて
中和する。
1に溶解しパラ−トルエンスルホン酸2001n9を加
えて室温で一夜放置後、炭酸水素ナトリウム水を加えて
中和する。
反応液よりメタノールを留去した後、エーテルで抽出す
る。
る。
得られた油状物質をシリカゲルを用いるカラムクロマト
グラフィーで精製し、目的の7−ヒドロキシメチル−3
・11・15−トリメチル−2・6・10・14−へキ
サデカテトラエン−1−、t−ルノ(E −Z −E
)オよび(E −E ・E)異性体の混合物1821を
得る。
グラフィーで精製し、目的の7−ヒドロキシメチル−3
・11・15−トリメチル−2・6・10・14−へキ
サデカテトラエン−1−、t−ルノ(E −Z −E
)オよび(E −E ・E)異性体の混合物1821を
得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CC14):1.5
8(6H1−重線)、1.66(6H1−重線)、1.
9〜2.3 (12H,多重線)、3.94(2H,す
重線)、3.97(2Hに重線)、5.0〜5.3(4
H1多重線)赤外線吸収スペクトル シcIrL−1(
液膜):3300.1665.1440.1380.1
000.840 (2) (E)−4−メチル−6−アセトキシ−4−ヘ
キセン−1−イルトリフェニルホスホニウム ヨーシト
54グを無水テトラヒドロフラン30m1に懸濁し、窒
素気流下−20℃で2当量のn−ブチルリチウム−ヘキ
サン溶液を滴下する。
8(6H1−重線)、1.66(6H1−重線)、1.
9〜2.3 (12H,多重線)、3.94(2H,す
重線)、3.97(2Hに重線)、5.0〜5.3(4
H1多重線)赤外線吸収スペクトル シcIrL−1(
液膜):3300.1665.1440.1380.1
000.840 (2) (E)−4−メチル−6−アセトキシ−4−ヘ
キセン−1−イルトリフェニルホスホニウム ヨーシト
54グを無水テトラヒドロフラン30m1に懸濁し、窒
素気流下−20℃で2当量のn−ブチルリチウム−ヘキ
サン溶液を滴下する。
−20℃で2時間攪拌した後、参考例2で合成したE−
6・10−ジメチル−2−オキソ−5・9−ウンデカジ
エン−1−オール アセテート2.5vの無水テトラヒ
ドロフラン(10ml)溶液を滴下し、さらに室温で3
時間攪拌する。
6・10−ジメチル−2−オキソ−5・9−ウンデカジ
エン−1−オール アセテート2.5vの無水テトラヒ
ドロフラン(10ml)溶液を滴下し、さらに室温で3
時間攪拌する。
反応終了後、反応混合物に氷水を加えエーテルで抽出す
る。
る。
エーテル抽出液より溶剤を留去し得られた油状物質を5
%水酸化カリウム−エタノール溶液25m1に水冷下溶
解し、2時間放置する。
%水酸化カリウム−エタノール溶液25m1に水冷下溶
解し、2時間放置する。
この溶液に水を加えてエーテルで抽出し、常法処理した
後、シリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーで精
製し、油状の目的化合物0.951を得る。
後、シリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーで精
製し、油状の目的化合物0.951を得る。
(3)50%水素化ナトリウム0.75′?をジメトキ
シエタン10m1に懸濁し、トリエチルホスホノアセテ
−)4.5Pを加えて30分間攪拌する。
シエタン10m1に懸濁し、トリエチルホスホノアセテ
−)4.5Pを加えて30分間攪拌する。
この反応液にホモゲラニル ヨーシト5.67を加えて
50℃で2時間反応させた後、0〜5℃に冷却して50
%水素化ナトリウム0.75?を加え、さらに室温で1
時間攪拌し、(3))−6−アセトキシ−4−メチル−
4−ヘプテナール3.41を加え50℃で1時間反応さ
せる。
50℃で2時間反応させた後、0〜5℃に冷却して50
%水素化ナトリウム0.75?を加え、さらに室温で1
時間攪拌し、(3))−6−アセトキシ−4−メチル−
4−ヘプテナール3.41を加え50℃で1時間反応さ
せる。
反応終了後、反応混合物に水を加えn−ヘキサンで抽出
し、抽出物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、7−ニトキシカルボニルー3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−ヘキサテ゛カテ
トラエンー1−オール アセテ−)4.7Pを得る。
し、抽出物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、7−ニトキシカルボニルー3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−ヘキサテ゛カテ
トラエンー1−オール アセテ−)4.7Pを得る。
得られたエステル化合物を水冷下においてエーテル7m
l中で水素化アルミニウムリチウム760m9とti化
化層ルミニウム8801n9り製した水素化アルミニウ
ムで還元する。
l中で水素化アルミニウムリチウム760m9とti化
化層ルミニウム8801n9り製した水素化アルミニウ
ムで還元する。
反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加え析出した沈
澱を戸別し、涙液より溶剤を留去し、目的の化合物3.
51を得る。
澱を戸別し、涙液より溶剤を留去し、目的の化合物3.
51を得る。
実施例 3
(E−Z−E)、(Z−Z−E)、(Z−E・E)およ
び(E −E 、E)−7−ヒドロキシメチル−3・1
1・15−トリメチル−2・6・10・14−へキサデ
カテトラエン−1−オール 4−メチル−6=(2’−テトラヒドロピラニルオキシ
)−4−ヘキセン−1−イルトリフェニルホスホニウム
プロミドの(Uおよび(7J)異性体の混合物(E:
Z=7:3)1o、lPを無水テトラヒドロフラン50
7711に懸濁させ、窒素気流中=20℃で1当量のn
−ブチルリチウム−ヘキサン溶液を滴下する。
び(E −E 、E)−7−ヒドロキシメチル−3・1
1・15−トリメチル−2・6・10・14−へキサデ
カテトラエン−1−オール 4−メチル−6=(2’−テトラヒドロピラニルオキシ
)−4−ヘキセン−1−イルトリフェニルホスホニウム
プロミドの(Uおよび(7J)異性体の混合物(E:
Z=7:3)1o、lPを無水テトラヒドロフラン50
7711に懸濁させ、窒素気流中=20℃で1当量のn
−ブチルリチウム−ヘキサン溶液を滴下する。
−20℃で1時間攪拌した後、(尺−1・1−ジメトキ
シ−6・10−ジメチル−5・9−ウンデカジエン−2
−オン50グの無水テトラヒドロフラン(15ml)溶
液を加え、室温で3時間攪拌する。
シ−6・10−ジメチル−5・9−ウンデカジエン−2
−オン50グの無水テトラヒドロフラン(15ml)溶
液を加え、室温で3時間攪拌する。
反応終了後、反応混合物を実施例2の(1)に従って処
理し、油状の目的化合物3.01を得る。
理し、油状の目的化合物3.01を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CDC13):15
8.1.64(12H)、19〜2.3 (12H)、
3.95.4,02.4.08(4H1多重線)、5.
9〜6.6(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νm’(液膜):3325.1
665.1440.1380.1000゜ 実施例 4 (E−Z−E)および(E −E −E)−7−?:
ドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−2・6
・10・14−ヘキサデ゛カテトラエンー■−オール
ジアセテート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル1.01を無水ピリジン5mlに溶解し、無水酢酸2
mlを加え室温で一夜放置する。
8.1.64(12H)、19〜2.3 (12H)、
3.95.4,02.4.08(4H1多重線)、5.
9〜6.6(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νm’(液膜):3325.1
665.1440.1380.1000゜ 実施例 4 (E−Z−E)および(E −E −E)−7−?:
ドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−2・6
・10・14−ヘキサデ゛カテトラエンー■−オール
ジアセテート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル1.01を無水ピリジン5mlに溶解し、無水酢酸2
mlを加え室温で一夜放置する。
反応終了後、反応混合物を氷水中に注ぎ、エーテルで抽
出する。
出する。
エーテル層を炭酸水素ナトリウム水、希塩酸、水で順次
洗浄し、抽出液よりエーテルを留去し、目的のジアセテ
ート化合物11グを得る。
洗浄し、抽出液よりエーテルを留去し、目的のジアセテ
ート化合物11グを得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CDCIa):1.
58(3H1−重線)、1.62(3H1−重線)、1
.70(6H,−重線)、2.07 (6H。
58(3H1−重線)、1.62(3H1−重線)、1
.70(6H,−重線)、2.07 (6H。
−重線)、18〜2.4(12H1多重線)、4.60
(2H,二重線)、4.67(2H1−重線)、4.
9〜5.6(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νcm ’ (液膜):17
40.1445.1370.1235.1025.96
0゜ 実施例 5 (E −Z −E )オヨび(E −E−E )−7−
ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル=2・
6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オール
ジベンゾエート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル10グを無水ピリジン5mlに溶解し、安息香酸クロ
リド1.0mlを加え室温で一夜放置する。
(2H,二重線)、4.67(2H1−重線)、4.
9〜5.6(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νcm ’ (液膜):17
40.1445.1370.1235.1025.96
0゜ 実施例 5 (E −Z −E )オヨび(E −E−E )−7−
ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル=2・
6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オール
ジベンゾエート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル10グを無水ピリジン5mlに溶解し、安息香酸クロ
リド1.0mlを加え室温で一夜放置する。
反応終了後、反応混合物を実施例4と同様に処理し、目
的のジベンゾニー)1.5Pを得る。
的のジベンゾニー)1.5Pを得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CC14) :1
.53 (6H,−重線)、1.60 (3H1−重線
)、1.80(3H1−重線)、1.8〜2.4(12
H1多重線)、4.69(2H1二重線)、4.76
(2H,−重線)、5.0〜5.4(4H,多重線)、
7.2〜7.4(6H,多重線)、8.0(4H1多重
a) 赤外線吸収スペクトル νcr/l’(液膜):172
0.1605.1590,1450.1380.131
5.1270.1175.1105.1070,103
0,940゜710.685゜ 実施例 6 (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15〜トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン−1−オール ジラウレー
ト 7−ヒドロキシメチル−3・11・15〜トリメチル−
2・6・10・14−ヘキサテ゛カテトラエンー1−オ
ール1.01を無水ピリジン5mlに溶解し、ラウリン
酸クロリド2rulを加え室温で一夜放置する。
.53 (6H,−重線)、1.60 (3H1−重線
)、1.80(3H1−重線)、1.8〜2.4(12
H1多重線)、4.69(2H1二重線)、4.76
(2H,−重線)、5.0〜5.4(4H,多重線)、
7.2〜7.4(6H,多重線)、8.0(4H1多重
a) 赤外線吸収スペクトル νcr/l’(液膜):172
0.1605.1590,1450.1380.131
5.1270.1175.1105.1070,103
0,940゜710.685゜ 実施例 6 (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15〜トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン−1−オール ジラウレー
ト 7−ヒドロキシメチル−3・11・15〜トリメチル−
2・6・10・14−ヘキサテ゛カテトラエンー1−オ
ール1.01を無水ピリジン5mlに溶解し、ラウリン
酸クロリド2rulを加え室温で一夜放置する。
反応終了後、実施例4と同様に処理し、目的のジラウレ
ート1.81を得る。
ート1.81を得る。
核磁気共鳴スペクトル δpprn (CCl4 )
:0.85(6H1多重線)、1.2 (4,OH,多
重線)、1.55(12H1−重線)、18〜2.4(
12H1多重線)、4.35(2H1二重線)、4.4
2(2H1−重線)、4.9〜54(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル ν9TrL” (液膜):17
38.1670.1460.1380.1160.11
10.960゜ 実施例 7 (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−4リメチルー2・6・■0・
14−へキサデカテトラエン−1−オール ジ−n−カ
プロエート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−117メチル
ー2・6・10・14−へキサテ力テトラエンー1−オ
ール300■を無水ピリジン5mlに溶解し、無水カプ
ロン酸0.5 mlを加え室温で一夜放置する。
:0.85(6H1多重線)、1.2 (4,OH,多
重線)、1.55(12H1−重線)、18〜2.4(
12H1多重線)、4.35(2H1二重線)、4.4
2(2H1−重線)、4.9〜54(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル ν9TrL” (液膜):17
38.1670.1460.1380.1160.11
10.960゜ 実施例 7 (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−4リメチルー2・6・■0・
14−へキサデカテトラエン−1−オール ジ−n−カ
プロエート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−117メチル
ー2・6・10・14−へキサテ力テトラエンー1−オ
ール300■を無水ピリジン5mlに溶解し、無水カプ
ロン酸0.5 mlを加え室温で一夜放置する。
反応終了後、反応混合物を氷水中に加えn−ヘキサンで
抽出する。
抽出する。
以下、実施例4と同様に処理し、目的のジ−n−カプロ
エート300〜を得る。
エート300〜を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CC14) :0
.86(6H1三重線)、1.3(8H1多重線)、1
.48(6H,−重線)、1.55 (3H,−重線)
、1.60(3H,−重線)、4.35 (2H。
.86(6H1三重線)、1.3(8H1多重線)、1
.48(6H,−重線)、1.55 (3H,−重線)
、1.60(3H,−重線)、4.35 (2H。
二重線)、4.40(2H,−重線)、4゜8〜5.3
(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νm”(液膜):1740.1
670.1450.1380.1310.1270.1
240.1170.1105.1090.980.84
0゜ 実施例 8 (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン−1−オール ジクロトネ
ート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15− ) IJメ
チル−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1
−オール3007n9をピリジン2mlに溶解し、無水
クロトン酸0.5 mlを加え室温で一夜放置する。
(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νm”(液膜):1740.1
670.1450.1380.1310.1270.1
240.1170.1105.1090.980.84
0゜ 実施例 8 (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−トリメチル−2・6・10・
14−へキサデカテトラエン−1−オール ジクロトネ
ート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15− ) IJメ
チル−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1
−オール3007n9をピリジン2mlに溶解し、無水
クロトン酸0.5 mlを加え室温で一夜放置する。
反応終了後、反応混合物を氷水中に加えn−ヘキサンで
抽出する。
抽出する。
以下、実施例4と同様に処理し、目的のジクロトネート
1001119を得る。
1001119を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CC14):1.5
9 (6H1−重線)、1.65(3H,−重線)、1
.71(3H1−重線)、1.89(6H1二重線)、
4.0(2H1−重線)、 4.53(2H1二重線)、5.0(4H1多重線)、
5.73 (2H,二重線)、6.85 (2H,多重
線) 赤外線吸収スペクトル νcrrt ’ (液膜)
:1720.1700.1660.1440゜1380
.1310.1295.1260.1180.1100
.1005.970.840.785.760゜ 実施例 9 (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−トリメチル−2・6・10・
14−ヘキサデカテトラエン−1−オール ジシンナメ
ート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル300〜をピリジン2m13に溶解し、桂皮酸クロリ
ド0.5 mlを加え室温で一夜放置する。
9 (6H1−重線)、1.65(3H,−重線)、1
.71(3H1−重線)、1.89(6H1二重線)、
4.0(2H1−重線)、 4.53(2H1二重線)、5.0(4H1多重線)、
5.73 (2H,二重線)、6.85 (2H,多重
線) 赤外線吸収スペクトル νcrrt ’ (液膜)
:1720.1700.1660.1440゜1380
.1310.1295.1260.1180.1100
.1005.970.840.785.760゜ 実施例 9 (E−Z−E)および(E−E−E)−7−ヒドロキシ
メチル−3・11・15−トリメチル−2・6・10・
14−ヘキサデカテトラエン−1−オール ジシンナメ
ート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル300〜をピリジン2m13に溶解し、桂皮酸クロリ
ド0.5 mlを加え室温で一夜放置する。
反応終了後、反応混合物を氷水中に加えn−ヘキサンで
抽出する。
抽出する。
以下、実施例4と同様に処理し、目的のジシンナメート
300〜を得る。
300〜を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CCl、i )
’1.49(6H,−重線)、1.55 (3H,−重
線)、1.67(3H,−重線)、4..55(2H。
’1.49(6H,−重線)、1.55 (3H,−重
線)、1.67(3H,−重線)、4..55(2H。
二重線)、4.6 (2H,−重線)、5.0(2H1
多重線)、5.3(2H1多重線)、 6.25(2H,二重線)、7.2 (10H,多重線
)、7.5(2H1二重線) 赤外線吸収スペクトル νcrIL’(液膜):171
0.1640.1580.1500.1450.138
0.1325.1305.1280.1250.120
0.1160.1100.1070.1000.980
.860.765.710.680゜ 実施例 10 (E−Z−E)−7−ヒドロキシメチル−3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール ジメチルエーテル7 一ヒドロキシメチルー メfルー2・6・10・14−へキサデカテトラエン−
1−オール1グをジメチルホルムアミド10mlに溶解
し、ヨウ化メチル2mlおよび酸化銀3グを加えて室温
で16時間激しく攪拌する。
多重線)、5.3(2H1多重線)、 6.25(2H,二重線)、7.2 (10H,多重線
)、7.5(2H1二重線) 赤外線吸収スペクトル νcrIL’(液膜):171
0.1640.1580.1500.1450.138
0.1325.1305.1280.1250.120
0.1160.1100.1070.1000.980
.860.765.710.680゜ 実施例 10 (E−Z−E)−7−ヒドロキシメチル−3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール ジメチルエーテル7 一ヒドロキシメチルー メfルー2・6・10・14−へキサデカテトラエン−
1−オール1グをジメチルホルムアミド10mlに溶解
し、ヨウ化メチル2mlおよび酸化銀3グを加えて室温
で16時間激しく攪拌する。
反応終了後、反応混合物より過剰のヨウ化メチルを留去
後、水を加えてn−へキサンで抽出する。
後、水を加えてn−へキサンで抽出する。
n−ヘキサン層を水洗、乾燥し溶剤を留去して残留する
油状物質をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、目的のジメチルエーテル9Q□m9を得る
。
油状物質をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、目的のジメチルエーテル9Q□m9を得る
。
核磁気共鳴スペクトル δppm ( CDC13 )
:1、56(6H1−重線)、1.6 4 ( 6H
,−重線)、1.8〜2.3(12H,多重線)、3、
26(6H,−重線)、3.8 5 ( 2H,−重線
)、3.86(2H,二重線)、4.8〜5、4(4H
,多重線) 赤外線吸収スペクトル ν(X’(液膜)=1680、
1455、1390,1100、960、920。
:1、56(6H1−重線)、1.6 4 ( 6H
,−重線)、1.8〜2.3(12H,多重線)、3、
26(6H,−重線)、3.8 5 ( 2H,−重線
)、3.86(2H,二重線)、4.8〜5、4(4H
,多重線) 赤外線吸収スペクトル ν(X’(液膜)=1680、
1455、1390,1100、960、920。
実施例 11
(E − E − E)−7−ヒドロキシメチル−3・
11・15−トリメチル−2・6・10・14−へキサ
デカテトラエン−1−オール 実M例2の(1)の項で得られた7−ホルミル−3・1
1・15−トリメチル−2・6・10・14−へキサデ
カテトラエン−1−オール テトラヒドロピラニルエー
テル10.1をメタノール100m1に溶解し、パラ−
トルエンスルホン酸100Tn9を加えて室温で一夜放
置する。
11・15−トリメチル−2・6・10・14−へキサ
デカテトラエン−1−オール 実M例2の(1)の項で得られた7−ホルミル−3・1
1・15−トリメチル−2・6・10・14−へキサデ
カテトラエン−1−オール テトラヒドロピラニルエー
テル10.1をメタノール100m1に溶解し、パラ−
トルエンスルホン酸100Tn9を加えて室温で一夜放
置する。
反応終了後、反応液に炭酸水素ナトリウム水を加えて中
和した後、メタノールを留去しエーテルで抽出する。
和した後、メタノールを留去しエーテルで抽出する。
エーテル層よりエーテルを留去して得られた(E−E・
E)−7−ホルミル−3・11・15−トリメチル−2
・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オール
をエタノール60m1に溶解し、水冷下で水素化ホウ素
ナトリウム5.51を加えて2時間攪拌する。
E)−7−ホルミル−3・11・15−トリメチル−2
・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オール
をエタノール60m1に溶解し、水冷下で水素化ホウ素
ナトリウム5.51を加えて2時間攪拌する。
反応終了後、反応混合物を希酢酸で処理し、水を加えて
エーテルで抽出する。
エーテルで抽出する。
エーテル層からエーテルを留去して得られた油状物質を
シリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーで精製し
、目的の(E−E−E)−7−ヒドロキシメチル−3・
11・15−トリメチル−2・6・10・14−へキサ
デカテトラエン−1−オール6.61を得る。
シリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーで精製し
、目的の(E−E−E)−7−ヒドロキシメチル−3・
11・15−トリメチル−2・6・10・14−へキサ
デカテトラエン−1−オール6.61を得る。
核磁気共鳴スペクトル δpp m (CDCl a
) =1.51(6H,−重線)、1.58(6H,−
重線)、1.8〜2.2(12H1多重線)、3.95
(2H1−重線)、4.05 (2H,二重線)、5
.0〜5.3(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νCIrL’(液膜):330
0.1670.1440.1380.1000.840 実施例 12 (E−E−E)−7−ヒドロキシメチル−3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール ジアセテート (E−E−E)−7−ヒドロキシメチル−3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール11を使用し、実施例4と同様な方
法によってアセチル化し、目的のジアセテー)1.1’
を得る。
) =1.51(6H,−重線)、1.58(6H,−
重線)、1.8〜2.2(12H1多重線)、3.95
(2H1−重線)、4.05 (2H,二重線)、5
.0〜5.3(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νCIrL’(液膜):330
0.1670.1440.1380.1000.840 実施例 12 (E−E−E)−7−ヒドロキシメチル−3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール ジアセテート (E−E−E)−7−ヒドロキシメチル−3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール11を使用し、実施例4と同様な方
法によってアセチル化し、目的のジアセテー)1.1’
を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CCI4):1.6
0(6H1−重線)、1.66 (3H,−重線)、1
.71 (3H,−重線)、1.97(3H。
0(6H1−重線)、1.66 (3H,−重線)、1
.71 (3H,−重線)、1.97(3H。
−重線)、2.00(3H1−重線)、1.9〜2.2
(12H,多重線)、4.45 (2H,−重線)、
4.50(2H,二重線)、4.9〜5.5(4H1多
重線) 赤外線吸収スペクトル νCIrL’(液膜):175
0.1680.1445.1385.1375.124
0.1030.960 実施例 13 (Z−E−E)−7−ヒドロキシメチル−3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール (z−4−メチル−6−アセトキシ−4−ヘキセン−1
−イルトリフェニルホスホニウム ヨーシト37.:l
’を無水テトラヒドロ7ラン250’ynlに懸濁させ
、窒素気流中−20℃で2当量のn−ブチルリチウム−
ヘキサン溶液を滴下する。
(12H,多重線)、4.45 (2H,−重線)、
4.50(2H,二重線)、4.9〜5.5(4H1多
重線) 赤外線吸収スペクトル νCIrL’(液膜):175
0.1680.1445.1385.1375.124
0.1030.960 実施例 13 (Z−E−E)−7−ヒドロキシメチル−3・11・1
5−トリメチル−2・6・10・14−へキサデカテト
ラエン−1−オール (z−4−メチル−6−アセトキシ−4−ヘキセン−1
−イルトリフェニルホスホニウム ヨーシト37.:l
’を無水テトラヒドロ7ラン250’ynlに懸濁させ
、窒素気流中−20℃で2当量のn−ブチルリチウム−
ヘキサン溶液を滴下する。
−20℃で1時間攪拌した後、(匂−1・1−ジェトキ
シ−6・10−ジメチル−5・9−ウンデカジエン−2
−オン19.1’の無水テトラヒドロフラン(50ml
)溶液を加え、室温で3時間攪拌する。
シ−6・10−ジメチル−5・9−ウンデカジエン−2
−オン19.1’の無水テトラヒドロフラン(50ml
)溶液を加え、室温で3時間攪拌する。
反応終了後、反応液に氷水を加えn−ヘキサンで抽出す
る。
る。
n−ヘキサン抽出液より溶剤を留去し、得られた油状物
質を精製することなく、5%アルコール性水酸化ナトリ
ウムで加水分解し、続いて50%酢酸で室温において2
時間処理する。
質を精製することなく、5%アルコール性水酸化ナトリ
ウムで加水分解し、続いて50%酢酸で室温において2
時間処理する。
得られた油状物質をn−ヘキサン100m1に溶解し、
塩化カルシウム100Pを加えて室温で激しく振盪する
。
塩化カルシウム100Pを加えて室温で激しく振盪する
。
得られた塩化カルシウム付加物を水で分解し、n−ヘキ
サンで抽出すると、(Z−E−E)−7−ホルミル−3
・11・15−トリメチル−2・6・10・14−へキ
サデカテトラエン−1−オールカ得られる。
サンで抽出すると、(Z−E−E)−7−ホルミル−3
・11・15−トリメチル−2・6・10・14−へキ
サデカテトラエン−1−オールカ得られる。
これをエタノール200m1に溶解し、水冷下で水素化
ホウ素ナトリウム11を加え2時間攪拌する。
ホウ素ナトリウム11を加え2時間攪拌する。
反応終了後、反応混合物を希酢酸で処理し、水を加えて
エーテルで抽出する。
エーテルで抽出する。
抽出物をアルミナ120グを用いるカラムクロマトグラ
フィーで精製し、目的の化合物5.81を得る。
フィーで精製し、目的の化合物5.81を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CDCl a )
:1.50(6H,−重線)、1.57(3H,−重
線)、1.61 (3H,−重線)、1.8〜2.2(
12H1多重線)、3.85(2H1−重線)、3.9
1 (2H,二重線)、5.0〜5.3(4H1多重線
) 赤外線吸収スペクトル シcr/′L−1(液膜):3
300.1665.1440.1380.1000.8
40 実施例 14 (E−Z−Z)お、J:び(E−E−Z)−7−ヒドロ
キシメチル−3・11・15−トリメチル−2・6・1
0・14−へキサデカテトラエン−1−オール (E)−4−メチル−6−アセトキシ−4−ヘキセン−
1−イルトリフェニルホスホニウム ヨーシト18グを
無水テトラヒドロフラン125m1に懸濁させ、窒素気
流中−20°Cで2当量のn−ブチルリチウム−n−ヘ
キサン溶液を滴下し、−20℃で1時間攪拌した後、参
考例3で得られた(Z)−1・1−ジェトキシ−6・1
0−ジメチル−5・9−ウンデカジエン−2−オン84
グの無水テトラヒドロフラン(25ml)溶液を加えて
室温で3時間攪拌する。
:1.50(6H,−重線)、1.57(3H,−重
線)、1.61 (3H,−重線)、1.8〜2.2(
12H1多重線)、3.85(2H1−重線)、3.9
1 (2H,二重線)、5.0〜5.3(4H1多重線
) 赤外線吸収スペクトル シcr/′L−1(液膜):3
300.1665.1440.1380.1000.8
40 実施例 14 (E−Z−Z)お、J:び(E−E−Z)−7−ヒドロ
キシメチル−3・11・15−トリメチル−2・6・1
0・14−へキサデカテトラエン−1−オール (E)−4−メチル−6−アセトキシ−4−ヘキセン−
1−イルトリフェニルホスホニウム ヨーシト18グを
無水テトラヒドロフラン125m1に懸濁させ、窒素気
流中−20°Cで2当量のn−ブチルリチウム−n−ヘ
キサン溶液を滴下し、−20℃で1時間攪拌した後、参
考例3で得られた(Z)−1・1−ジェトキシ−6・1
0−ジメチル−5・9−ウンデカジエン−2−オン84
グの無水テトラヒドロフラン(25ml)溶液を加えて
室温で3時間攪拌する。
反応終了後、反応液に氷水を加えn−ヘキサンで抽出す
る。
る。
得られた油状物質を実施例13と同様に、水酸化ナトリ
ウムおよび酢酸で処理し、さらに水素化ホウ素ナトリウ
ム150〜で還元し、(E−Z−Z)および(E−E−
ZCの混合物として目的の化合物3.Ovを得る。
ウムおよび酢酸で処理し、さらに水素化ホウ素ナトリウ
ム150〜で還元し、(E−Z−Z)および(E−E−
ZCの混合物として目的の化合物3.Ovを得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CDC1a ):1
.73(3H1−重線)、1.78 (9H,−重線)
、18〜2.4(12H1多重線)、4、.18 (2
H,−重線)、4.25 (2H,二重線)、5.2〜
5.5(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νcIn’(液膜):3350
.1670.1450.1385.1005.830 実施例 15 11−ヒドロキシメチル−3・7・15−Hメチル−2
・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オール (E−4−メチル−6−(2’−テトラヒドロピラニル
オキシ)−4−ヘキセン−1−イルトリフェニルホスホ
ニウム ヨーシト231グを無水テトラヒドロフラン1
20m1に懸濁し、実施例2の(1)の方法に従って、
1当量のn−ブチルリチウム次いで参考例4および5で
得られた6−アセドキシメチルー10−メチル−5・9
−ウンデカジエン−2−オン721を加えてWitti
g反応を行ない、反応生成物を5%アルコール性水酸化
ナトリウム70m1で加水分解し、次いでパラ−トルエ
ンスルホン酸1001n9を含むメタノール中で一夜室
温で処理した後、シリカゲル100グを用いるカラムク
ロマトグラフィーで精製し、目的の化合物3.71を得
る。
.73(3H1−重線)、1.78 (9H,−重線)
、18〜2.4(12H1多重線)、4、.18 (2
H,−重線)、4.25 (2H,二重線)、5.2〜
5.5(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル νcIn’(液膜):3350
.1670.1450.1385.1005.830 実施例 15 11−ヒドロキシメチル−3・7・15−Hメチル−2
・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オール (E−4−メチル−6−(2’−テトラヒドロピラニル
オキシ)−4−ヘキセン−1−イルトリフェニルホスホ
ニウム ヨーシト231グを無水テトラヒドロフラン1
20m1に懸濁し、実施例2の(1)の方法に従って、
1当量のn−ブチルリチウム次いで参考例4および5で
得られた6−アセドキシメチルー10−メチル−5・9
−ウンデカジエン−2−オン721を加えてWitti
g反応を行ない、反応生成物を5%アルコール性水酸化
ナトリウム70m1で加水分解し、次いでパラ−トルエ
ンスルホン酸1001n9を含むメタノール中で一夜室
温で処理した後、シリカゲル100グを用いるカラムク
ロマトグラフィーで精製し、目的の化合物3.71を得
る。
このものは(E−E−E)、(E−Z・Z)、(E−Z
−E)および(E−E−Z)の混合物である。
−E)および(E−E−Z)の混合物である。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CDCI 3):1
.60 (6H,−重線)、]、、70(6H1−重線
)、1.8〜2.4(12H1多重線)、4.13(2
H1−重線)、4−.13(2H1二重線)、5.0〜
5.4.(4H1多重線)赤外線吸収スペクトル νc
rrL’(液膜):3350.1670.1440.1
380.1010.840 実施例 16 (E−Z)および(E−E)−7−ヒドロキシメチル−
3・11−ジメチル−2・6・1〇−ドデカトリエン−
1−オール 50%水素化ナトリウム151を無水ジメトキシエタン
20m1に懸濁し、トリエチルホスホノアセテ−)8.
9Pを加えて室温で1時間攪拌した後、4−メfルー3
−ペンテニルプロミド6、5 P ヲ加え50℃で3時
間加温する。
.60 (6H,−重線)、]、、70(6H1−重線
)、1.8〜2.4(12H1多重線)、4.13(2
H1−重線)、4−.13(2H1二重線)、5.0〜
5.4.(4H1多重線)赤外線吸収スペクトル νc
rrL’(液膜):3350.1670.1440.1
380.1010.840 実施例 16 (E−Z)および(E−E)−7−ヒドロキシメチル−
3・11−ジメチル−2・6・1〇−ドデカトリエン−
1−オール 50%水素化ナトリウム151を無水ジメトキシエタン
20m1に懸濁し、トリエチルホスホノアセテ−)8.
9Pを加えて室温で1時間攪拌した後、4−メfルー3
−ペンテニルプロミド6、5 P ヲ加え50℃で3時
間加温する。
反応液を0〜5℃に冷却して50%水素化ナトリウム1
5グを加え、室温で1時間攪拌する。
5グを加え、室温で1時間攪拌する。
次いで(ト))−6−アセトキシ−4−メチル−4−ヘ
キセナール6.8りを加え室温で1時間反応させる。
キセナール6.8りを加え室温で1時間反応させる。
反応終了後、反応混合物に水を加え、n−ヘキサンで抽
出し、抽出物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラ
フィーで精製して、7−ニトキシカルボニルー3・11
−ジメチル−2・6・10−ドデカトリエン−1−オー
ル アセテ−) 2.2 Pを得る。
出し、抽出物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラ
フィーで精製して、7−ニトキシカルボニルー3・11
−ジメチル−2・6・10−ドデカトリエン−1−オー
ル アセテ−) 2.2 Pを得る。
このようにして得られたエステル化合物をエーテル中、
水冷下で水素化アルミニウムリチウム3301と塩化ア
ルミニウム440〜より製した水素化アルミニウムで還
元し、目的の化合物780mgを得る。
水冷下で水素化アルミニウムリチウム3301と塩化ア
ルミニウム440〜より製した水素化アルミニウムで還
元し、目的の化合物780mgを得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CDC13):1.
60 (3H,−重線)、1.68(6H1−重線)、
2.1(8H1多重線)、4.08 (2H。
60 (3H,−重線)、1.68(6H1−重線)、
2.1(8H1多重線)、4.08 (2H。
−重線)、4.10(2H,二重線)、5.2〜5.4
(3H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrrL−1(液膜):33
50.1670.1375.1240.1000.83
0 実施例 17 (E−Z−E−E)および(E−E−E−E)−7・1
5−ジヒドロキシメチル−3・11−ジメチル−2・6
・10・14−へキサデカテトラエン−1−オール 参考例6において得られた11・11−ジェトキシ−2
・6−シメチルー10−オキソ−2・6−ウンデカジエ
ン−1−オールを常法によってアセチル化して得られる
アセテート体9グを実施例2の(1)の方法に従い、無
水テトラヒドロフラン1001711中でn−ブチルリ
チウムで処理した(目−4−メチル−6−(2’−テト
ラヒドロピラニルオキシ)−4−ヘキセン−1−イルト
リフェニルホスホニウム ヨーシト16.3Pと反応し
て得た生成物をメタノール中炭酸ナトリウム1グを用い
て加水分解する。
(3H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrrL−1(液膜):33
50.1670.1375.1240.1000.83
0 実施例 17 (E−Z−E−E)および(E−E−E−E)−7・1
5−ジヒドロキシメチル−3・11−ジメチル−2・6
・10・14−へキサデカテトラエン−1−オール 参考例6において得られた11・11−ジェトキシ−2
・6−シメチルー10−オキソ−2・6−ウンデカジエ
ン−1−オールを常法によってアセチル化して得られる
アセテート体9グを実施例2の(1)の方法に従い、無
水テトラヒドロフラン1001711中でn−ブチルリ
チウムで処理した(目−4−メチル−6−(2’−テト
ラヒドロピラニルオキシ)−4−ヘキセン−1−イルト
リフェニルホスホニウム ヨーシト16.3Pと反応し
て得た生成物をメタノール中炭酸ナトリウム1グを用い
て加水分解する。
次いで50%酢酸8OTnl中、室温で3時間攪拌して
脱アセタール化する。
脱アセタール化する。
得られたアルデヒド体を水素化ホウ素ナトリウム200
〜を用いてエタノール501111中で還元し、次いで
メタノール中パラートルエンスルホン酸で常法通りテト
ラヒドロピラニル基を脱離する。
〜を用いてエタノール501111中で還元し、次いで
メタノール中パラートルエンスルホン酸で常法通りテト
ラヒドロピラニル基を脱離する。
得られた油状物質2.41をシリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーで精製し、目的の化合物1.01を
得る。
クロマトグラフィーで精製し、目的の化合物1.01を
得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CDCIs ):1
.65 (9H1−重線)、2.1 (12H1多重線
)、4.0〜4.2(6H,多重線)、51〜5.4(
4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrrL−1(液膜):33
50.1670.1440.1380.1230.10
60.1000.940゜実施例 18 7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラ
メチル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエ
ン−1−オール 実施例2の(1)に従い、(目−4−メチル−6−(2
′〜テトラヒドロピラニルオキシ)−4−ヘキセン−1
−イルトリフェニルホスホニウム ヨーシト5,81を
無水テトラヒドロフラン30m1中でn−ブチルリチウ
ムで処理し、参考例7で得られた1・1−ジメトキシ−
6・10・14−)リメチル−5・9・13−ペンタデ
カトリエン−2−オン3.21と反応させる。
.65 (9H1−重線)、2.1 (12H1多重線
)、4.0〜4.2(6H,多重線)、51〜5.4(
4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrrL−1(液膜):33
50.1670.1440.1380.1230.10
60.1000.940゜実施例 18 7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラ
メチル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエ
ン−1−オール 実施例2の(1)に従い、(目−4−メチル−6−(2
′〜テトラヒドロピラニルオキシ)−4−ヘキセン−1
−イルトリフェニルホスホニウム ヨーシト5,81を
無水テトラヒドロフラン30m1中でn−ブチルリチウ
ムで処理し、参考例7で得られた1・1−ジメトキシ−
6・10・14−)リメチル−5・9・13−ペンタデ
カトリエン−2−オン3.21と反応させる。
得られた油状物質を50%酢酸40r/llで処理し、
7−ホルミル−3・11・15・19−テトラメチル−
2・6・10・14・18−アイコサペンタエン−1−
オールテトラヒドロピラニルエーテル4.21を得る。
7−ホルミル−3・11・15・19−テトラメチル−
2・6・10・14・18−アイコサペンタエン−1−
オールテトラヒドロピラニルエーテル4.21を得る。
得られたアルデヒド体を実施例17と同様に水素化ホウ
素ナトリウム15011!gを用いて還元した後、メタ
ノール中パラートルエンスルホン酸で処理し、得られた
油状物質をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、目的の化合物16グを得る。
素ナトリウム15011!gを用いて還元した後、メタ
ノール中パラートルエンスルホン酸で処理し、得られた
油状物質をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、目的の化合物16グを得る。
このものは(E−E−E−E)、(E・Z−Z−E)、
(E−Z−E−E)および(E−E −Z −E)配置
の混合物である。
(E−Z−E−E)および(E−E −Z −E)配置
の混合物である。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CDCI a )
:1.50 (9H1−重線)、1.58 (6H,
−重線)、1.8〜2.7(16H1多重線)、3.9
8 (2H,−重線)、4.00(2H1二重線)、4
.9〜5.4(5H,多重線) 赤外線吸収スペクトル シcrrL−1(液膜):33
50.1670.1445.1380.1000.83
0 実施例 19 ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラメチ
ル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエン−
1−オール ジアセテート7−ヒドロキシメチル−3・
11・15・19−テトラメチル−2・6・10・14
・18−アイコサペンタエン−1−オール5001n9
ヲ無水ヒリジン5ml中無水酢酸0.5mlでアセチル
化し、実施例4の方法と同様に処理して、目的のジアセ
テ−) 3007Vを得る。
:1.50 (9H1−重線)、1.58 (6H,
−重線)、1.8〜2.7(16H1多重線)、3.9
8 (2H,−重線)、4.00(2H1二重線)、4
.9〜5.4(5H,多重線) 赤外線吸収スペクトル シcrrL−1(液膜):33
50.1670.1445.1380.1000.83
0 実施例 19 ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラメチ
ル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエン−
1−オール ジアセテート7−ヒドロキシメチル−3・
11・15・19−テトラメチル−2・6・10・14
・18−アイコサペンタエン−1−オール5001n9
ヲ無水ヒリジン5ml中無水酢酸0.5mlでアセチル
化し、実施例4の方法と同様に処理して、目的のジアセ
テ−) 3007Vを得る。
核磁気共鳴スペクトル δ叩m(CC14):150〜
1.61 (15H1−重線)、1.90(3H1−重
線)、1.92 (3H,−重線)、1.8〜2.4(
16H1多重線)、4.34 (2H,−重線)、4.
41 (2H,二重線)、4.8〜5.4(5H1多重
線) 赤外線吸収スペクトル シcm、−1(液膜):175
0.1690.1390.1385.1240.102
5.960,840 実施例 20 7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラ
メチル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエ
ン−1−オール ジベンゾエート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラ
メチル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエ
ンー1−オール230〜を無水ヒソ9フ5ml中、安息
香酸クロリド0.5 mlでベンゾイル化し、実施例5
の方法と同様に処理して、目的のジベンゾニー) 28
07ngを得る。
1.61 (15H1−重線)、1.90(3H1−重
線)、1.92 (3H,−重線)、1.8〜2.4(
16H1多重線)、4.34 (2H,−重線)、4.
41 (2H,二重線)、4.8〜5.4(5H1多重
線) 赤外線吸収スペクトル シcm、−1(液膜):175
0.1690.1390.1385.1240.102
5.960,840 実施例 20 7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラ
メチル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエ
ン−1−オール ジベンゾエート 7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラ
メチル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエ
ンー1−オール230〜を無水ヒソ9フ5ml中、安息
香酸クロリド0.5 mlでベンゾイル化し、実施例5
の方法と同様に処理して、目的のジベンゾニー) 28
07ngを得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CC14) :1
.55(9H,−重線)、]、、62 (3L−重線)
、1.75(3H1−重線)、1.9〜2.2 (16
H,多重線)、4.70 (2H,二重線)、4.77
(2H1−重線)、5.0〜5.4(5H1多重線)、
7.3(6H1,多重線)、7.90(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrfL−1(液膜):17
25.1680.1610.1590.1455.13
90.1320.1275.1180.1110.10
75.1030.950.940.840.710.6
90実施例 21 (E−Z−E −E−E)および(E−E−E・E−E
)−7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19・2
3−ペンタメチル−2・6・10・14・18・22−
テトラコサへキサエン−1−オール (8)−4−メチル−6−(2’−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)−4−ヘキセン−1−イルトリフェニルホス
ホニウム ヨーシトii、7′fIを無水テトラヒドロ
フラン50m1に懸濁し、実施例2の(1)の方法に従
って、1当量のn−ブチルリチウム、次いで参考例8で
得られた(E−E−E) −1・1−ジメトキシ−6・
10・14・18−テトラメチル−5・9・13・17
−ノナデカテトラエン−2−オン7.92の無水テトラ
ヒドロフラン(loml)溶液を加えてWittig反
応を行ない、得られた油状物を50%酢酸5ornlで
処理する。
.55(9H,−重線)、]、、62 (3L−重線)
、1.75(3H1−重線)、1.9〜2.2 (16
H,多重線)、4.70 (2H,二重線)、4.77
(2H1−重線)、5.0〜5.4(5H1多重線)、
7.3(6H1,多重線)、7.90(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrfL−1(液膜):17
25.1680.1610.1590.1455.13
90.1320.1275.1180.1110.10
75.1030.950.940.840.710.6
90実施例 21 (E−Z−E −E−E)および(E−E−E・E−E
)−7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19・2
3−ペンタメチル−2・6・10・14・18・22−
テトラコサへキサエン−1−オール (8)−4−メチル−6−(2’−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)−4−ヘキセン−1−イルトリフェニルホス
ホニウム ヨーシトii、7′fIを無水テトラヒドロ
フラン50m1に懸濁し、実施例2の(1)の方法に従
って、1当量のn−ブチルリチウム、次いで参考例8で
得られた(E−E−E) −1・1−ジメトキシ−6・
10・14・18−テトラメチル−5・9・13・17
−ノナデカテトラエン−2−オン7.92の無水テトラ
ヒドロフラン(loml)溶液を加えてWittig反
応を行ない、得られた油状物を50%酢酸5ornlで
処理する。
得られたホルミル体をエタノール(40I711)中水
素化ホウ素ナトリウム0.3Pで還元する。
素化ホウ素ナトリウム0.3Pで還元する。
生成物を次いでメタノール(5oml)中パラトルエン
スルホン酸50〜で処理し、シリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーで精製し、目的の7−ヒドロキシメ
チル−3・11・15・19・23−ペンタメチル−2
・6・10・14・18・22−テトラコサへキサエン
−1−オールの(E−Z・E−E−E)および(E−E
−E−E−E)異性体混合物5.21を得る。
スルホン酸50〜で処理し、シリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーで精製し、目的の7−ヒドロキシメ
チル−3・11・15・19・23−ペンタメチル−2
・6・10・14・18・22−テトラコサへキサエン
−1−オールの(E−Z・E−E−E)および(E−E
−E−E−E)異性体混合物5.21を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CC14) :1
.58 (12H,−重線)、1.66 (6H,−重
線)、1.8〜2.4(20H,多重線)、3.94
(2H,−重線)、3.98 (2Hに重線)、5.0
〜5.3(6H,多重線) 赤外線吸収スペクトル νぼ−1(液膜):3300.
1665.1440.138011000.840 参考例 1 (8)−1・1−ジメトキシ−6・10−ジメチル−5
・9−ウンデカジエン−2−オン 無水エタノール350m1に金属ナトリウム17.1’
を溶解し、室温攪拌下で4・4−ジメトキシアセト酢酸
メチルエステル160グを滴下し、1時間後この溶液に
1301のゲラニオールより製したゲラニルプロミドを
水冷下で滴下する。
.58 (12H,−重線)、1.66 (6H,−重
線)、1.8〜2.4(20H,多重線)、3.94
(2H,−重線)、3.98 (2Hに重線)、5.0
〜5.3(6H,多重線) 赤外線吸収スペクトル νぼ−1(液膜):3300.
1665.1440.138011000.840 参考例 1 (8)−1・1−ジメトキシ−6・10−ジメチル−5
・9−ウンデカジエン−2−オン 無水エタノール350m1に金属ナトリウム17.1’
を溶解し、室温攪拌下で4・4−ジメトキシアセト酢酸
メチルエステル160グを滴下し、1時間後この溶液に
1301のゲラニオールより製したゲラニルプロミドを
水冷下で滴下する。
室温で一夜放置した後、1時間加熱還流する。
この反応液に水酸化ナトリウム4・2りをエタノール1
、47および水1.18Aに溶かした溶液を加え、6時
間加熱還流する。
、47および水1.18Aに溶かした溶液を加え、6時
間加熱還流する。
反応終了後、反応混合物をヘキサンで抽出し、ヘキサン
抽出物を減圧蒸留して、沸点92〜95℃/ 0.05
mmHgを有する目的化合物134グを得る。
抽出物を減圧蒸留して、沸点92〜95℃/ 0.05
mmHgを有する目的化合物134グを得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CDCl a )
:1.58 (6H,−重線)、1.62 (3H,
−重線)、18〜2.7(8H1多重線)、 3.35(6H1−重線)、4.39 (IH,−重線
)、5.05(2H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シcr/L−1(液膜):17
35.1075.1000 参考例 2 (匂−6・10−ジメチル−2−オキソ−5・9−ウン
デカジエン−I−オール アセテートゲラニル酢酸19
.6Pにオキザリルクロリド32グを加え室温で一夜放
置後、過剰の試薬を留去し、得られた酸クロリドをエー
テル100m1に溶解し、0.2モルのジアゾメタンを
含むエーテル溶液に水冷下部下する。
:1.58 (6H,−重線)、1.62 (3H,
−重線)、18〜2.7(8H1多重線)、 3.35(6H1−重線)、4.39 (IH,−重線
)、5.05(2H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シcr/L−1(液膜):17
35.1075.1000 参考例 2 (匂−6・10−ジメチル−2−オキソ−5・9−ウン
デカジエン−I−オール アセテートゲラニル酢酸19
.6Pにオキザリルクロリド32グを加え室温で一夜放
置後、過剰の試薬を留去し、得られた酸クロリドをエー
テル100m1に溶解し、0.2モルのジアゾメタンを
含むエーテル溶液に水冷下部下する。
反応終了後、エーテルを留去して得られたジアゾケトン
化合物を酢酸100m1に溶かし、90℃で5時間加熱
する。
化合物を酢酸100m1に溶かし、90℃で5時間加熱
する。
反応終了後、反応混合物を水で希釈し、エーテルで抽出
し、エーテル層を炭酸水素ナトリウム水、次いで水で洗
い、乾燥後溶剤を留去し、得られた油状物質を減圧蒸留
し、沸点132℃10.02mm Hgを有する目的化
合物15.1を得る。
し、エーテル層を炭酸水素ナトリウム水、次いで水で洗
い、乾燥後溶剤を留去し、得られた油状物質を減圧蒸留
し、沸点132℃10.02mm Hgを有する目的化
合物15.1を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CDCl a )
:1.56(9H1−重線)、2.05 (3H1−
重線)、4.45 (2H,−重線)、4.8〜5.3
(2H1−重線) 赤外線吸収スペクトル シcfrL−1(液膜):17
55.1740.1375.1230、060 参考例 3 (Z)−1・1−ジェトキシ−6・10−ジメチル−5
・9−ウンデカジエン−2−オン 参考例1の方法に従い、4・4−ジェトキシアセト酢酸
エチルエステル41.5Pとネロール31グより製した
ネリールブロミドとの反応によって、沸点122℃/
0.02 vrtmHgを有する目的化合物201を得
る。
:1.56(9H1−重線)、2.05 (3H1−
重線)、4.45 (2H,−重線)、4.8〜5.3
(2H1−重線) 赤外線吸収スペクトル シcfrL−1(液膜):17
55.1740.1375.1230、060 参考例 3 (Z)−1・1−ジェトキシ−6・10−ジメチル−5
・9−ウンデカジエン−2−オン 参考例1の方法に従い、4・4−ジェトキシアセト酢酸
エチルエステル41.5Pとネロール31グより製した
ネリールブロミドとの反応によって、沸点122℃/
0.02 vrtmHgを有する目的化合物201を得
る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CDCl a )
:1.32(6H1三重線)、1.65(3H1−重
線)、1.74(6H1−重線)、1.8〜2.7(8
H1多重線)、3.71(4H1多重線)、4.61
(LH,−重線)、5.19 (2!(1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrIL−1(液膜):17
35.1075.1000 参考例 4 ■・1−ジェトキシ−6−メチル−5−ヘプテン−2−
オン 参考例1の方法に従い、4・4−ジェトキシアセト酢酸
エチルエステル7.31と3−メチル−2−ブテニルク
ロリド4.0y′をナトリウムエトキシドの存在下で反
応させた後、アルコール性水酸化ナトリウム中で脱炭酸
して、沸点102〜103℃/1wiHgを有する目的
化合物4.12を得る。
:1.32(6H1三重線)、1.65(3H1−重
線)、1.74(6H1−重線)、1.8〜2.7(8
H1多重線)、3.71(4H1多重線)、4.61
(LH,−重線)、5.19 (2!(1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrIL−1(液膜):17
35.1075.1000 参考例 4 ■・1−ジェトキシ−6−メチル−5−ヘプテン−2−
オン 参考例1の方法に従い、4・4−ジェトキシアセト酢酸
エチルエステル7.31と3−メチル−2−ブテニルク
ロリド4.0y′をナトリウムエトキシドの存在下で反
応させた後、アルコール性水酸化ナトリウム中で脱炭酸
して、沸点102〜103℃/1wiHgを有する目的
化合物4.12を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CC14) :1
.19 (3H,、三重線)、1.60 (3H1−重
線)、1.63(3H,−重線)、2゜42(4H1多
重線)、3.55(4H1多重線)、 4.31(IHl−重線)、5.02(IH1三重線) 赤外線吸収スペクトル νぼ−1(液膜):1730.
1445.1400.1380.1315.1150.
1100.1060.900.830.745 参考例 5 (E)および(Z)−6−アセドキシメチルー10−メ
チル−5・9−ウンデカジエン−2−オン4・4−エチ
レンジオキシペンタン−1−イルトリフェニルホスホニ
ウム プロミド38.5Pを無水テトラヒドロフラン1
60m1に懸濁させ、窒素気流中−20℃で1当量のn
−ブチルリチウム−ヘキサン溶液を加え1時間攪拌した
後、−60℃に冷却し1・1−ジェトキシ−6−メチル
−5−へブテン−2−オン14.5Pを加え室温で3時
間攪拌する。
.19 (3H,、三重線)、1.60 (3H1−重
線)、1.63(3H,−重線)、2゜42(4H1多
重線)、3.55(4H1多重線)、 4.31(IHl−重線)、5.02(IH1三重線) 赤外線吸収スペクトル νぼ−1(液膜):1730.
1445.1400.1380.1315.1150.
1100.1060.900.830.745 参考例 5 (E)および(Z)−6−アセドキシメチルー10−メ
チル−5・9−ウンデカジエン−2−オン4・4−エチ
レンジオキシペンタン−1−イルトリフェニルホスホニ
ウム プロミド38.5Pを無水テトラヒドロフラン1
60m1に懸濁させ、窒素気流中−20℃で1当量のn
−ブチルリチウム−ヘキサン溶液を加え1時間攪拌した
後、−60℃に冷却し1・1−ジェトキシ−6−メチル
−5−へブテン−2−オン14.5Pを加え室温で3時
間攪拌する。
反応終了後、反応混合物に氷水を加えヘキサンで抽出す
る。
る。
得られた油状物質を50%酢酸250m1中に懸濁し室
温で1時間攪拌する。
温で1時間攪拌する。
n−へキサン抽出によって得られた2・2−エチレンジ
オキシ−6−ホルミル−10−メチル−5・9−ウンデ
カジエンを精製することなく、エタノール100m1中
で水素化ホウ素ナトリウム500〜を用いて還元する。
オキシ−6−ホルミル−10−メチル−5・9−ウンデ
カジエンを精製することなく、エタノール100m1中
で水素化ホウ素ナトリウム500〜を用いて還元する。
生成物をシリカゲル1001を用いるカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、2・2−エチレンジオキシ−6−ヒ
ドロキシメチル−10−メチル−5・9−ウンデカジエ
ン7.31を得る。
ラフィーで精製し、2・2−エチレンジオキシ−6−ヒ
ドロキシメチル−10−メチル−5・9−ウンデカジエ
ン7.31を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CDCI 3):1
.19(3H,−重線)、1.47 (3H,−重線)
、1.58 (3H,−重線)、3.75(4H1−重
線)、3.91(2H1−重線)、5.0〜5.3(2
H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrrL−1(液膜):34
50.1680゜ ここに得られたアルコール体7.21を常法により無水
ピリジン−無水酢酸でアセチル化した後、メタノール7
01111に溶解し、パラ−トルエンスルホン酸701
1I9を加えて室温で二夜放置する。
.19(3H,−重線)、1.47 (3H,−重線)
、1.58 (3H,−重線)、3.75(4H1−重
線)、3.91(2H1−重線)、5.0〜5.3(2
H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrrL−1(液膜):34
50.1680゜ ここに得られたアルコール体7.21を常法により無水
ピリジン−無水酢酸でアセチル化した後、メタノール7
01111に溶解し、パラ−トルエンスルホン酸701
1I9を加えて室温で二夜放置する。
反応終了後、反応液に炭酸水素ナトリウム液を加えて中
和した後、n−ヘキサンで抽出し常法処理して、目的の
(旦および(4−6−アセドキシメチル−10−メチル
−5・9−ウンデカジエン−2−オン7.22を得る。
和した後、n−ヘキサンで抽出し常法処理して、目的の
(旦および(4−6−アセドキシメチル−10−メチル
−5・9−ウンデカジエン−2−オン7.22を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CDCI3):1.
50(3H1−重線)、1.58 (3H1−重線)、
1.91 (3H,−重線)、1.99(3H1−重線
)、4.32および4.47(EおよびZ)(2H1−
重線)、5.0〜5.3(2H1多重線)赤外線吸収ス
ペクトル シcrfL−1(液膜):1740.172
0.1440.1370.1230.1160.105
0.1025、960.830 参考例 6 (E−E)−11・11−ジェトキシ−2・6−シメチ
ルー10−オキソ−2・6−ウンデカジエン−1−オー
ル ド1−ジェトキシ−6・10−ジメチル−2−オキソ−
5・9−ウンデカジエン7.41を95%エタノール7
0m1に溶解し、二酸化セレン1.71を加えて15分
間加熱還流する。
50(3H1−重線)、1.58 (3H1−重線)、
1.91 (3H,−重線)、1.99(3H1−重線
)、4.32および4.47(EおよびZ)(2H1−
重線)、5.0〜5.3(2H1多重線)赤外線吸収ス
ペクトル シcrfL−1(液膜):1740.172
0.1440.1370.1230.1160.105
0.1025、960.830 参考例 6 (E−E)−11・11−ジェトキシ−2・6−シメチ
ルー10−オキソ−2・6−ウンデカジエン−1−オー
ル ド1−ジェトキシ−6・10−ジメチル−2−オキソ−
5・9−ウンデカジエン7.41を95%エタノール7
0m1に溶解し、二酸化セレン1.71を加えて15分
間加熱還流する。
反応終了後、反応混合物よりエタノールを留去し水を加
えてエーテルで抽出する。
えてエーテルで抽出する。
エーテル抽出液を炭酸水素ナトリウム水で洗い、乾燥後
溶剤を留去し、得られた油状物質をシリカゲルを用いる
カラムクロマトグラフィーで精製し、目的化合物3.0
1を得る。
溶剤を留去し、得られた油状物質をシリカゲルを用いる
カラムクロマトグラフィーで精製し、目的化合物3.0
1を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CC14) :1
.20(6H,三重線)、■、50(6H1−重線)、
3.5(4H,多重線)、3.80(2H1broad
−重線)、4.32(IHl−重線)、5.0〜5.3
(2H,多重線) 赤外線吸収スペクトル シcrIl−1(液膜):35
00.1740.1450.1380.1325.12
50.1160.1105.1070.1020.90
0 参考例 7 (E−E)および(Z−E)−1・1−ジメトキシ−6
・10・14−トリメチル−5・9・13−ペンタデカ
トリエン−2−オン 参考例1の方法に従い、4・4−ジメトキシアセト酢酸
メチルエステル19グとネロリドール22グより製した
ファルネシルプロミドとの反応によって得られた生成物
をシリカゲル200グを用いるカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、目的化合物12.82を得る。
.20(6H,三重線)、■、50(6H1−重線)、
3.5(4H,多重線)、3.80(2H1broad
−重線)、4.32(IHl−重線)、5.0〜5.3
(2H,多重線) 赤外線吸収スペクトル シcrIl−1(液膜):35
00.1740.1450.1380.1325.12
50.1160.1105.1070.1020.90
0 参考例 7 (E−E)および(Z−E)−1・1−ジメトキシ−6
・10・14−トリメチル−5・9・13−ペンタデカ
トリエン−2−オン 参考例1の方法に従い、4・4−ジメトキシアセト酢酸
メチルエステル19グとネロリドール22グより製した
ファルネシルプロミドとの反応によって得られた生成物
をシリカゲル200グを用いるカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、目的化合物12.82を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm(CDCl2):1.
47(9H,−重線)、1.54 (3H,−重線)、
18〜2.7 (12H1多重線)、3.28(6H,
−重線)、4.30(IHl−重線)、4.98(3H
1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrIL−1(液膜):17
40.1460.1390.1230.1200.11
20.1080.1000.960.845 参考例 8 (E−E−E)−1・1−ジメトキシ−6・10・14
・18−テトラメチル−5・9・13・17−ノナゾカ
テトラエンー2−オン参考例1の方法に従い、4・4−
ジメトキシアセト酢酸メチルエステル16グとゲラニル
ゲラニオール251より製したゲラニルゲラニルプロミ
ドとの反応によって得られた生成物をシリカゲルを用い
るカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物16
.31を得る。
47(9H,−重線)、1.54 (3H,−重線)、
18〜2.7 (12H1多重線)、3.28(6H,
−重線)、4.30(IHl−重線)、4.98(3H
1多重線) 赤外線吸収スペクトル シCrIL−1(液膜):17
40.1460.1390.1230.1200.11
20.1080.1000.960.845 参考例 8 (E−E−E)−1・1−ジメトキシ−6・10・14
・18−テトラメチル−5・9・13・17−ノナゾカ
テトラエンー2−オン参考例1の方法に従い、4・4−
ジメトキシアセト酢酸メチルエステル16グとゲラニル
ゲラニオール251より製したゲラニルゲラニルプロミ
ドとの反応によって得られた生成物をシリカゲルを用い
るカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的物16
.31を得る。
核磁気共鳴スペクトル δppm (CDCl 3 )
:1.58 (12H,−重線)、1.64 (3H
,−重線)、1.8〜2.8 (16H,多重線)、3
.35(6H,−重線)、4.39(IHl−重線)、
5.0〜5.3(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シcrIl−1(液膜):17
35.1075.1000
:1.58 (12H,−重線)、1.64 (3H
,−重線)、1.8〜2.8 (16H,多重線)、3
.35(6H,−重線)、4.39(IHl−重線)、
5.0〜5.3(4H1多重線) 赤外線吸収スペクトル シcrIl−1(液膜):17
35.1075.1000
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1およびR2は同一または異なって水素原子
、水酸基、炭素数1乃至8個を有するアルコキシ基、炭
素数2乃至18個を有する脂肪族アシルオキシ基、芳香
族アシルオキシ基あるいは脂肪族アシル部分が炭素数2
乃至3個を有する芳香脂肪族アシルオキシ基を示し、R
3は水素原子、炭素数1乃至8個を有するアルキル基、
炭素数2乃至18個を有する脂肪族アシル基、芳香族ア
シル基あるいは脂肪族アシル部分が炭素数2乃至3個を
有する芳香脂肪族アシル基を示し、nは■乃至4を示し
、nが2乃至4である場合にはR2はそれぞれ同一また
は異なった基を示す。 但し、R1あるいはR2の少な(とも1個は水酸基、炭
素数1乃至8個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至1
8個を有する脂肪族アシルオキシ基、芳香族アシルオキ
シ基あるいは脂肪族アシル部分が炭素数2乃至3個を有
する芳香脂肪族アシルオキシ基を示す。 )で表わされるポリプレニル誘導体。2 一般式(1)
において、R1およびR2が同一または異なって水素原
子、水酸基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、
炭素数2乃至12個を有する脂肪族アシルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基ある℃・はシンナモイルオキシ基であ
り R4が水素原子、炭素数1乃至4個を有するアルキ
ル基、炭素数2乃至12個を有する脂肪族アシル基、ベ
ンゾイル基あるいはシンナモイル基であり、nが1乃至
3であり、nが2あるいは3である場合にはR2はそれ
ぞれ同一または異なった基であり、R1およびR2の少
なくとも1個が水酸基、炭素数1乃至4個を有するアル
コキシ基、炭素数2乃至12個を有する脂肪族アシルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基あるいはシンナモイルオキ
シ基である特許請求の範囲第1項記載のポリプレニル誘
導体。 3 一般式(1)において、R1が水素原子であり、R
2が水素原子、水酸基、炭素数1乃至4個を有するアル
コキシ基、炭素数2乃至12個を有する脂肪族アシルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基あるいはシンナモイルオキ
シ基であり、R3が水素原子、炭素数1乃至4個を有す
るアルキル基、炭素数2乃至12個を有する脂肪族アシ
ル基、ベンゾイル基あるいはシンナモイル基であり、n
が1乃至3であり、nが1である場合にはR2は水素原
子以外の上記の置換基であり、nが2あるいは3である
場合には、R2の少なくとも1個が水素原子以外の上記
の置換基である特許請求の範囲第1項記載のポリプレニ
ル誘導体。 4 一般式(1)において、R1が水素原子であり、構
造式上7位の側鎖にあるR2が水酸基、炭素数1乃至2
個を有するアルコキシ基、炭素数2乃至12個を有する
脂肪族アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基あるいはシ
ンナモイルオキシ基であり、R3が水素原子、炭素数1
乃至2個を有するアルキル基、炭素数2乃至12個を有
する脂肪族アシル基、ベンゾイル基あるいはシンナモイ
ル基であり、nが1乃至3である特許請求の範囲第1項
記載のポリプレニル誘導体。 57−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル
−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オ
ール、 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−)リメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル ジアセテート、 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル ジクロトネート、 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−)IJメチル
−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オ
ール シカプロエート、 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリジメチル
−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オ
ール ジアセテ−ト、 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル ジベンゾエート、 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリジメチル
−2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オ
ール ジラウレート、 7−ヒドロキシメチル−3・11・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル ジメチルエーテル、 ■1−ヒドロキシメチルー3・7・15−トリメチル−
2・6・10・14−へキサデカテトラエン−1−オー
ル、 7−ヒドロキシメチル−3・11−ジメチル−2・6・
10−ドデカトリエン−1−オール、7・15−ジヒド
ロキシメチル−3・11−ジメチル−2・6・10・1
4−へキサデカテトラエン−1−オール 7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラ
メチル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエ
ン−1−オール、 7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラ
メチル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエ
ン−1−オール ジアセテートおよび 7−ヒドロキシメチル−3・11・15・19−テトラ
メチル−2・6・10・14・18−アイコサペンタエ
ン−1−オール ジベンゾエートよりなる群から選ばれ
たところの特許請求の範囲第1項記載のポリプレニル誘
導体。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/633,097 US4059641A (en) | 1975-11-18 | 1975-11-18 | Polyprenyl derivatives |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5262213A JPS5262213A (en) | 1977-05-23 |
| JPS5820933B2 true JPS5820933B2 (ja) | 1983-04-26 |
Family
ID=24538267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51138244A Expired JPS5820933B2 (ja) | 1975-11-18 | 1976-11-17 | ポリプレニル誘導体 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4059641A (ja) |
| JP (1) | JPS5820933B2 (ja) |
| CH (2) | CH631145A5 (ja) |
| DE (2) | DE2652256C2 (ja) |
| DK (1) | DK145492C (ja) |
| ES (2) | ES453455A1 (ja) |
| FR (1) | FR2332009A1 (ja) |
| GB (1) | GB1533377A (ja) |
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-
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