JPS5826382A - 磁気バブルメモリデバイスの製造方法 - Google Patents

磁気バブルメモリデバイスの製造方法

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JPS5826382A
JPS5826382A JP56123004A JP12300481A JPS5826382A JP S5826382 A JPS5826382 A JP S5826382A JP 56123004 A JP56123004 A JP 56123004A JP 12300481 A JP12300481 A JP 12300481A JP S5826382 A JPS5826382 A JP S5826382A
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JP
Japan
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bubble memory
mold
chip
lead frame
magnet
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JP56123004A
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English (en)
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JPS6153798B2 (ja
Inventor
Shigeharu Hatayama
畑山 重治
Hirobumi Oota
博文 太田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Priority to US06/402,738 priority patent/US4470131A/en
Publication of JPS5826382A publication Critical patent/JPS5826382A/ja
Publication of JPS6153798B2 publication Critical patent/JPS6153798B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/02Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements
    • G11C19/08Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure
    • G11C19/085Generating magnetic fields therefor, e.g. uniform magnetic field for magnetic domain stabilisation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/4902Electromagnet, transformer or inductor
    • Y10T29/49075Electromagnet, transformer or inductor including permanent magnet or core

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はバブルメモリデバイスの構造及びその製造方法
に関するものである、 一般にバブルメモリデバイスは第1図、第2図に示すよ
うな構造よシなる。すなわち、セラミックなどによって
形成された絶縁基板1の中央凹部には、バブルメモリチ
ップ2が固定−gれておシ、また絶縁基板1の外111
0にはX軸方向にX方向駆動コイル3a及びX軸方向に
Y方向駆動コイル3bが互いに[’;!して巻回され、
前記チップ2に水平な回転磁界を供給している。そして
、これら絶縁基板1.チップ2.及びコイル3m、3b
iモールドしてモールドデバイス4を形成している。ま
た、モールドデバイス4の上下面には前記テップ2に均
一なバイアス磁界を与えるための平叛状の永久磁石5m
 、 5bおよびこの永久磁石5a、5bから出た磁束
を均一にするための整磁板fia、5bとからなる磁石
ブロック7a、7bが配置され、更に永久磁石5a、5
bの外側にはこれらを覆うパーマロイなどよルなるシー
ルドケース8が設けられている。
かかるバブルメモリデバイスにおいて、前記モールドデ
バイス4と磁石ブロック7a、7bの従来の組立方法を
第1図2m2図を参照し、て説明すると、モールドデバ
イス4の上下面には得?石ブロック7m、7bが配置さ
れる凹部4a、4bがモールドによ)形成され、この凹
部4a、4bK接着剤を塗布してその中に磁石ブロック
7&、7bが固定される。しかしながら、この組立方法
は接着剤の塗布。
凹部4m、4bへの磁石ブロック7a、7bの接着。
接着剤の硬化などの作業に多大な時間を饗し、かつモー
ルドデバイス4の上下面に磁石組立用凹部4a、4bを
形成する必袈があシ、その結果凹部底面のモールドレジ
ン層が薄くなりモールド成形不良を発生しやすいなどの
欠点があった。
本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みなされたもので、
バブルメモリデバイスの製作工程f!:164略化でき
るバブルメモリデバイスの構造とそのH4方法を提供す
ることを目的とする。
すなわち、本発明は磁石ブロックの組立工程の簡略化を
図るため考えられたもので、一般に電子素子封止に用い
られるレジンモールド封止の際ニ磁石ブロックの位置決
め固定を行うことを目的としている。また、磁石ブロッ
クのモールド型内への装着はモールド金型が磁性体であ
ることに着目し、その磁性を利用している。
以下、不発明を図示の実施例によジ説明する。
第3図は不発明になるバブルメモリデバイスの一笑施例
を示すモールド後の断面図、第4図はモールドデバイス
の斜視図、第5図はモールド前のモールド金型の断面図
である。
本発明によるバブルメモリデバイスのmiは、第3図、
第4図に示すようにコイル3 a a 3 bを巻回し
た絶縁基1fi1と、チップ2と外部回路との間を電気
的に接続するためのリードフレーム9とを組立てた後、
モールドレジンによシ封止、固定する際に同時に磁石ブ
ロック7m、7bをもモールドレジンによシ固定したこ
とを特徴とする。
このパズルメモリデバイスの組立方法を第5図に示す。
モールド型の上型10a、下型10b間にリードフレー
ム9を配置しさらに上型10a、下型10bの内面に磁
石ブロック7a、7bを配置する。
磁石ブロックγm、7bはそれぞれ上下型開具備した位
置決めピン11によル所定の位置に置かれ、あらかじめ
着磁しておくことによシ磁石ブロック自身が持つ磁力に
よシ−ルドケースに固定されるため、上型10a  に
おいても磁石ブロック7aは落丁することなく固定され
る。この状態で上型10a、1”型10bによシ形成さ
れたキャビティ12にモールドレジンを流し込み、レジ
ン硬化後に型を開いてリードフレームと磁石ブロックが
一体にモールドされたバブルメモリデバイスを得る。
以上の説明から明らかな如く、本発明によるバブルメモ
リデバイス構造とその’R’lR方法によれば、磁石ブ
ロックの組立はXY方向駆動用コイル、絶縁基板、リー
ドフレームなどのモールド封止と同時に行うことができ
るので従来のようなモールド後の磁石ブロック組立工程
を必吸とせず、かつ多大な接着剤硬化時間を要しない。
更にモールド型においては磁石ブロック嵌入用の凹部を
形成する必髪がないのでモールド成形不良が発生しない
などの効果を奏する。
【図面の簡単な説明】 第1図は従来のバブルメモリデバイスの断面図、第2図
はその分解斜視図、第3図は本弁明になる1−・・・絶
縁基鈑、2・・−会バプルメモリチッフ、3a・・・・
X方向駆動コイル、3b・・―・Y方向駆動コイル、4
−・・・モールドデバイス、5・・・・永久磁石、6・
・・・整磁板、γ1111+1・’1jl1石10ツク
、8・・−・シールドケース、91IIIIl・リード
フレーム、10a**s*モ−ルド上型、10b・・・
・モールド下型、11・・・・位置決めビン、12・・
・・キャビティ。 7− 第1因 7α b 第2図 G

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 バブルメモリチップが固定された絶縁基板にチッ
    プに水平回転磁界を与えるX、Y方向駆動用コイルをそ
    れぞれ巻回し、前記絶縁基板の外周端部をリードフレー
    ムに固定し、さらに前記コイルの上下に前記チップにバ
    イアス磁界を与える永久磁石及び整磁板からなる磁石ブ
    筒ツクを配設してなるバブルメモリデバイスにお−て、
    前記絶縁基板、コイル、リードフレームと一体に前記磁
    石ブロックをモールドレジンにて固定したことを特徴と
    するバブルメモリデバイス。 2、バブルメモリチップが固定された絶縁基板にチップ
    に水平回転磁界を与えるx、Y方向駆動用コイルをそれ
    ぞれ巻回し、前記絶縁基板の外周端部をリードフレーム
    に固定し、さらに前記コイルの上下に前記チップにバイ
    アス磁界を与える永久磁石及び整磁板からなる磁石ブロ
    ックを配設してなるバブルメモリデバイスの製造方法に
    おいて、前記磁石ブロックをあらかじめ着磁し、この磁
    石ブロックを1才の磁力によってモールド型内に設けた
    位置決めピンに位置決めして固定した状態で前記モール
    ド型内にレジンを流入し、前記絶縁基板、コイル、リー
    ドフレームと一体に前記磁石フロックをモールドしたこ
    とを特徴とするバブルメモリデバイスの製造方法。
JP56123004A 1981-08-07 1981-08-07 磁気バブルメモリデバイスの製造方法 Granted JPS5826382A (ja)

Priority Applications (2)

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JP56123004A JPS5826382A (ja) 1981-08-07 1981-08-07 磁気バブルメモリデバイスの製造方法
US06/402,738 US4470131A (en) 1981-08-07 1982-07-28 Bubble memory device and method of manufacturing the same

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JP56123004A JPS5826382A (ja) 1981-08-07 1981-08-07 磁気バブルメモリデバイスの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5826382A true JPS5826382A (ja) 1983-02-16
JPS6153798B2 JPS6153798B2 (ja) 1986-11-19

Family

ID=14849870

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US (1) US4470131A (ja)
JP (1) JPS5826382A (ja)

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US4470131A (en) 1984-09-04
JPS6153798B2 (ja) 1986-11-19

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