JPS5832231A - 二層塗布磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、二層塗布型磁気記録媒体に関するものであり
、特には放射線により硬化または重合されるバインダー
を使用する第一磁性層と、該第一磁性層上に設けられそ
して熱可塑性または熱硬化性バインダーを使用する第二
磁性層とを具備する磁気記録媒体に関するものである。

近年、オーディオ用カセットテープにおいては。

高周波特性のより良好なものが要求されてきているうま
た、低速走行、例えば半速デツキやマイクロカセット郷
においても、高周波特性のより良好なものが要求される
。一般に１高周波特性を良好にする為には保磁力の高い
磁性粉が必要であるが、保磁力が高いだけでは低周波特
性が低下するため。

高周波及び低周波特性を分担す暮上下二層を有する二層
塗布磁気記録媒体が開発されている。

従来からの二層塗布テープは、上層及び下層いずれもそ
れぞれの分担周波数に応じた範日の保磁力を有する磁性
粉を熱可塑性成いは熱硬化性樹脂バインダーに分散した
磁性塗料を使用するものである。このような熱硬化性バ
インダーな纂一層に用いると、１〜５ＫＨｚの低域１８
鼓数での出力変動等の品質上り問題点や生産工程の合理
化及び自動化への制約といった生産管理上の問題点岬が
認識され、高品質の製品を低コストで製造するという目
標に向けて不断の努力が為されつつある中で大きな限界
乃至障害を呈している。

具体的な問題を列記すると次のような事項がある： （イ）　イソシアネート等の反応性り＾い化合物を用い
る為、磁性塗料のポットライフの量販が生じる。

ポットライフが長くなると磁性塗料の反応が進行し、そ
の事実が％に１〜５ＫＨｚの低域周＃Ｌ−数での出力変
動に大きく影響することが判明した。磁性層コーティン
グ以゛降の表＃Ｊ！＆理そり他の工程も磁性層中に三次
元網、目構造化ができるだけ迩まぬうちに実施せねばな
らないという制約が生じる。

←）磁気記録媒体の基材として広く用いられるボリエ諷
チルフィルムの熱変形による寸法安定性０低下、不均一
部分の磁性層間転移尋を防止し、また磁性塗膜中の成分
の浸入出しＫよるブロッキング等を防止する為、硬化炉
温度や熱源とする熱風、赤外線、遠赤外線源０温度に上
限が有り、かつ硬化剤等の低分子量成分の使用量にも限
度が有った。

（ハ）硬化反応の推進を熱エネルギーとして加える為エ
ネルギー効率が゛悪く、またバインダーがライン速度そ
の他より第一層ロール塗布時粘着等の防止の為高分子量
ポリマーを主体としたものとなる為溶剤使用量が多り、
従ってエネルギーコスト及び溶剤コストが高くついた。

に）高記録密度化に進む程磁性層表面の平滑化が重要な
問題となるが、磁性塗膜形成工Ｎにおいて、ロール周囲
への巻取り状態中便用するペース基材の裏面と磁性層表
面との密着によるペース基材裏面の表面粗度の磁性層へ
の転移が起ること及び溶剤使用量が多い事により乾燥時
表面が不均一になる等の理由で表面が粗化した。

（ホ）熱硬化処理時ＫＩＫ一層磁性層での巻きしまりＫ
よる表面粗化の影響が避けられず、また熱硬化開始時ペ
ース面と磁性層表面とが密着状態であるため塗膜が弱い
うちに磁性層が欠落する事態が生じた。

更に、従来の二層塗布テープは第一の磁性層と第二の磁
性層との保磁力の差が大２きいため、低域及び高域の周
波数特性は良好であるが、中域ｏｉｔａ波数特性が歪ん
でしまい、所謂中だるみ現象が生じるという欠点があっ
た。このため、一般の膏薬の主成分が位置する中域にお
いて原音の再生が忠実に行なわれず・、歪の多い音にな
ってしまうという欠点があった。また、第二磁性層Ｏ塗
布厚みが比較的薄いため出力変動が大きくなるという欠
点もあった。

本発明は、このような従来からの二層塗布磁気記録媒体
の欠点を克服することを目的とする。

本発明者は、二層塗布型磁気記録媒体の第一層即ちペー
ス面に塗布される磁性層においてそのバインダーとして
放射線により硬化又は重合し５るもＯを使用し、放射線
照射により発熱を伴わずにａＳにバインダーを硬化させ
る放射線硬化技術を利用することＫより、そして第−及
び第二磁性層の属人並びＫそこに含まれる磁性材料の保
磁力郷を制御するととにより上記問題点が一挙に改善さ
れることを知見した。

放射線硬化技ｗＫより可能とされる改轡点を挙げると次
の通りである。

（４）磁性塗料及びコーテイング後の磁性塗膜の化学的
、物理的安定性が高く、放射線照射を行うまでは塗料状
態でのポットライフ及び塗膜の表面処理加工等の工程に
おける制約を受けない。

そのため、従来のように塗料のポットライフが進行する
ことＫより、第一層の表面性が暴くなり１表面処理が不
充分となって低域（１〜５ＩＩｍ）での出力変動への影
響が回避される。

（２）放射線照射硬化が瞬時に行われる為、工程上必要
な処理をほどこした後放射線を照射する工程を岨む事に
より生産工程の合理化、自動化、品質安定性の確保に極
めて有利となる。

（ロ）本発明によるバインダーの条横及び重合乾燥は、
放射線照射によりバインダー中にラジカルを発生せしめ
、これらが瞬ｗ＃に架槁重合する事により磁性塗膜の硬
化、乾燥がせなわれる・促ってラジカルを発生せしめる
為ＫＯみ最大２０Ｍｒａ４程度の放射線を瞬時照射する
程度であり、その際基材として広く用いられるポリエス
テルフィルムの熱変形等を生ずる事は無り、シかもシー
ト状オンラインにて照射を行なう為ロール状で捲取俵熱
硬化する際の磁性層不均一層の層７　間転移による２歩
留りの低下や捲縮り、べ＝ス基材裏面の表面粗度の転移
による短波長領域でＯＢ／Ｈの低下等を防止する点で有
利となる。

（ロ）（Ｃ’）Ｋてすでに述べた様に反応がラジカル反
応であり、従来Ｏ熱硬化化学反応の様に反応促進の為長
時間加熱等を必！’−とせずかつ架橋度、重合による乾
燥度を放射＠０照射線量にで簡単に制御可能となる為、
磁性層中０低分子量成分Ｏ） 浸み出しによる粘着等のトラブルは防止可能となる。硬
化工程ＫｉＦするエネルギーの節約となり、省エネルギ
一対策としても有利である１本発明Ｋｔえは、二層塗布
製磁気記録媒体の第一層におけるバインダーは前述の通
り放射線照射により架構゛及び重合しさるものとされる
が、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すブク
リル！！、メククリル酸あるいはそれらのエステル化合
物のようなアクリ身系二重結合、マレイン酸。

マレイン酸誘導体等のマレイン酸系二重結合、ジアリル
フタレー）のようなアリル系二重結合等０放射線感応性
木飽和二重結合を有する放射線感応習性樹脂に、上記二
重結合を有する放射線感応性軟質樹脂或いはそのプレポ
リマー、オリゴマー乃至讐ロマーを混合して可傾化させ
たものであることが好ましい。

放射線感応変性樹脂と放射線感応性軟質樹脂乃至そＯプ
レポリマー、オリゴマー乃至テロマーとの混合比率は、
下記に示す性質を満足させる為にも、前者対後者の比率
が８対２〜２対Ｂの範囲とすることが好ましい。

ここで首う放射線感応変性ａｍとは、放射線感応変性ｖ
ｉＯ状態で１１０ＯＨでの動的弾性率が２０〜４０℃の
温度範囲でｔ　ＯＸ　ｔＯ’　ｄｙｍ／ｇｓ＊”以上を
示すものが望ましい。他方、放射線感応性軟質樹脂乃至
そのプレポリ！−、オリゴマー乃至テロ！−は、合成ゴ
ムとしてＯゴム弾性、柔軟性、ポリエステルベース面と
の接着性に優れた性質を有するもので、１００１１での
動的弾性率が２０〜６０℃の範囲でｔＯＸｌｏ”ｄｙｍ
／−未満の力学的性質を示すものでありまた溶剤可溶性
の４１ｖである。

これら放射線感応変性樹脂及び放射線感応性軟質樹脂乃
至そＯプレポリマ−、オリゴマ−、テーマ−は、放射線
により２ジーｊＩルを生じ架構構造を生ぜしめるべく放
射線感応変性が施される。放射線感応蜜−性ｖｋＯ樹脂
成分と軟質樹脂乃至そＯプレボ９ｗ−：＊ｑゴマー、テ
リマーは、磁性微粒子粉末Ｏ分散を良くするとの見地か
ら相溶性が良い事が望まれる。　　　　　　　　゛ このような放射線感応変性を施された樹脂成分と軟質樹
脂乃至そのプレポリ！−、オリゴマ゛−１テ四マーを組
合せ、放射線照射により三次元網状構造を形成せしめた
バインダーを活用するととにより１ｗＩＩ述した従来バ
インダーのポットライフに起因する低域（１〜ＳＫＨｍ
程度）での出方変動の改善が計れる。また、このバイン
ダーは、オーディオ用、ビデオ用、メモリー、計測用等
各種用途に活用される磁気記鎌媒体の電磁質換特性はも
とより、磁性＊Ｉ［Ｋ要求される各種物性たとえば硬さ
、柔軟性、耐摩耗性、適度の摩擦係数とスティックスリ
ップ現象が無い事、表面成型性、ベースとの接着性、弾
性率、以上の各′種物性の低温度から高温度、低湿度か
ら高温度に渡る種々の漂墳条件下での安定性を保持する
上で極めて効果的であ′る。゛ 第一磁性２に使用する放射線感応変性に有効な熱可ｉｇ
ｉ＊＠脂としては下記のような塗料用合成樹脂を挙げる
ことが出来る： （１）塩化ビニル系共重合体　、′１ｉａ）塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルー−ルＡ重合体、塩化ビニル
ービニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビニルアル
コ−ループ冒ヒオン酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニ々−！レイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体。たとえばｔｒｃ
ｃ社ＶＲＯＨ、マＹＮＣ，ＹＹＥＧ−Ｘ等またＶＣＣ社
ＶＥＲＢ等が挙げられる。

ｑ＃に放射線感応変性塩化ビニル系共重合体を２ｏＭ　
ｒ　ａ　ａ以下の低線量で使用するときは、その反応機
構は明確ではないがアクリル系二重結合部の放射線官能
基より生ずるラジカル反応以外−放射線照射による何ら
かの反応によりラジカルを発生し、架橋構造を形成し磁
気記嚢謹体用パイングーとして有効である事を確認した
。

ｂ）上記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系
二重結合、！レイン酸系二重結合、アリル系二重結合を
導入し放射線感応質性を行な５゜■　飽和ポリエステル
樹脂 ａ）７タル酸、イソ”フタル酸、テレフタル酸、プ＾り
酸、アジピン酸、セパシンａｌｌＯ様な飽和多塩基酸と
エチレンダリプール、ジエチレンダヲ５−ｋ、／　９４
リン、トリメチ讐−ルプ田パン、１２−プ四ビレンダリ
コール、ｔ３−ブタンジオール、シフ四ヒレングリコー
ル、ｔ４−プｐンジオール、ｔ４−ヘキサンジオール、
ペンタエリスーリフト、ソルビトール、グリセリン、ネ
オヘンチルグリコール、ｔ４−シフ胃ヘキサンジメタツ
ールの様な多価アルコ、−ルとのエステル結合により得
られる飽和ボ亨エステル樹脂又はこれらのポリエステル
樹脂を８０１Ｎｍ等で変性した磁性粒子との親和性を向
上させた樹脂（パイ四ン５３−）。

ｂ）後に述べる手法により放射線感応変性を行なう。

（厘）不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性−不飽和二重結合を含有するポ
リエステル化合物、例えばｊｌ（１）項の熱可塑性樹脂
として記載の多塩１拳と多価アルコ−１のエステル結合
から成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレ
イン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不
飽和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴ！−を挙
げることができる。

飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルーール
成分は第１項に記載した各化合物を挙げることができ、
放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、フマ
ル酸等を挙げることができる。

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は多塩基酸
成分１種以上と多価アルコール成分１１１１以上にマレ
イン酸、フタル酸等を加え常法。

すなわち触媒存在下１８０〜２００℃窒素算囲気下脱水
あるいは脱アルコール反応の後、２４０〜２８０℃まで
昇温し５．１５〜ｌｍｍＨｇ０減圧下趣合反応によりポ
リエステル１Ｍ脂を得ることができる。マレイン酸やフ
マル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射１ｍ！硬化性
等から酸成分中１〜４０毫ルチで好ましくは１０〜３０
毫ルチである。

α）ポリビニルアルコール系樹脂 ａ）ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセター
ル樹脂、ホル！−ル樹脂及びこれらの成分Ｏ共重合体等
が挙げられ、これらは磁性粉との親和性も良好である。

ｂ）これら樹脂中に含まれる水酸基を後に述べる手法に
より放射線感応変性を行なう。

（Ｖ）　　エポキシ系樹脂、フェノヤシ樹脂ａ）　　ビ
スフェノールＡとエビクールにドリノ、メチルエビクｗ
ルにドリノの反応によるエポキシ樹脂。シェル化学製（
エビコー）１５２，１５４゜８２１１％１０１，１００
７）ダウケζカル製（ＤＷＮ４３１％ＤＭＮ７Ｓ２、Ｄ
ＩＲ５１１，ＤＩＩ１３１）大日本インキ製（エピター
ン４００１エピクロン８０口）、更に上記エポキシの高
重合度樹脂であるυＣＣ社製フェノ命シ樹脂（ＰＫＨＡ
、ＰＫｌｉＣ％ＰＫＨＩＩ）、夷素化ビスフェノールム
とエビクールヒドリンとＯ共重合体　大日本インキ製（
エビクｐン１４５％　１５２，１５５．１１２０）勢も
有効である０、： （４）繊繍素−導体 （−各種分子量の繊維素系誘導体もまた本発明の熱可閣
性樹脂成分として効果的である。その中でも％に効果的
なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチル
セルローズ、ブチル竜ル四−ズ、アセチルセルシーズ等
である。

ｂ）樹脂中の水酸基を活用して後に述べる手法により放
射線感応変性を行な５゜ （ロ）ポリエーテル樹脂・ その例としては水酸基を１個以上含有する化合物として
アデカボリエーテルｐ−７０Ｏ，アデカボリエーテルＰ
−１０９０，アクリルエステルｏ−１ｓｏｏ（以上旭電
化社製）、ボリメダ１０００．ボリメダ６５０（以上フ
ォーカーコーラ社製）等の多官能性ポリエーテル類があ
る。

（至）　ポリカプロ５クトン その例とし、てはポ９カプーラクシンＰＣ？−２０００
、ポリカプロ５クト：／ｆＣＰ−０２４０゜ボリカプー
ラク）ゼｐＣｒ−ｏｓｏｏ（以上チッソ社製）等の多官
能性ポリエステル類がある。

００　＆）　　その低熱可塑性樹脂としては、熱可Ｉ！
性硬買ポリクレクン樹脂、ポリエーテルエステル樹脂、
ボダビエルビロリドン樹脂及び誘導体（ＰＶＰオレフィ
ン共重六体）ポリアミド樹脂。

ポリインド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹
脂、水酸基を含有するアクリルエステル及びメタクリル
エステルを少くとも一種以上重合成分として含むアクリ
ル系樹脂尋も本発明の目的に対して有効である。

ｂ）放射線感応変性により更にその効果を発揮させる事
が出来る。

他方、上述７したような熱可塵性樹脂と組会せるべき熱
可塑性軟質＊ｍ％乃至そのプレポリマー、オ呼ゴマ−、
テ四マーＯ例を示すと下記の通りであるφ （１）　　ポ亨りレタン樹脂及びプレポリマー展びテロ
マー この様なりレタン化合物の例としては、インシアネー）
として、λ４−トルエンジイノシアネー）、２．４−）
ルエンジインシアネー）１ｔ５−會シＹンジイソシアネ
ー）、ｔ４−今シレンジイーソシアネー）％　先５−す
７タレンジイソシアネート、ｗｈ−フェニレンジイソシ
アネート、ν−フエニレンジイソシアネー）、　”ｈ、
５’−’））チル−４４１−ジフェニルメタンジイソシ
アネー）、　４４’−ジフェニルメタンジイソシアネー
シ、４３′−ジメチルビフエニレンジイソシアネーＦ。

４４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、イソツーロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、テス毫ジエ
ールＬ、デスモジ瓢−ルＮ等の各種多価イソシアネート
と、線状飽和ポリエステル（エチレンダレプール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、ｔ４−ブタンジオールｓ　　％４−へキナンジオー
ル、ペンタエリスリット、ソルビ）　−に、４ｔペンチ
ルクリコ−ｆｉ−Ｉ、ｚ４−シフ胃へΦナンジメタノー
ルの様な多価アルコールと、７タル酸、イソフタルｗ１
１テレフタル酸、プハク酸、アジピンａｅ、セパシン酸
の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和
Ｉマエ−チル（ポリエチレングリコール、ボリグロビレ
ンダリコール、ポリテトラメチレングリコール）やカブ
胃うクタム、ヒト冒キシ含有アタリＡ−酸エステル、ヒ
ドロキシ含有メタアクリル酸エステル等の各種４１Ｊ工
ステル類０縮貢合物より成るポリウレタン樹脂、プレポ
リマー、テロマーが有効である。

これらの軟質樹脂を前記放射線感応変性各種熱釘−性樹
脂とそのまま組合せても良いが、更に上記クレタン樹脂
の末端のインシアネート基又は水酸基と反応するアクリ
ル系二重結合、アリに系二黛結合を有する単量体と反応
させる事により放射線感応性Ｋｆ性する事は非常に効果
的である。

（１）　　アクリルニ）リループタジェン共重合エラス
Ｆマー タンクレアベト困ケミカル社製ポリＢＤリクイソドレジ
ンとして市販されでいる末端水酸基Ｏあるアクリルニシ
リループタレエン共重合体プレポリマー、あるいは日本
ゼオン社製ハイカー１４！５２Ｊ等は、特にブタジェン
中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架構及び腫
会させる軟質樹脂成分として適する。又末端水酸基を有
するものはジイソシアネート等を介してアクリル系不飽
和二重結合を付加する事により放射線感応性を更に高め
る上で有効である。

（１）　　ポリブタジェンエラストマーシンクレアベト
ロケξカル社製ポリＢＤリクイツドレジンＲ−１５等の
低分子量末層水ＩＩｍを有するプレポリ！−がＩＩ！Ｐ
Ｋ熱可重性樹脂と０相溶性、磁性粉とＯ１！和性Ｏ上で
好適である。

Ｒ−１５プレポリ！−においては分子末端が氷酸基とな
っている為分子末端をアタ９ル系゛−不飽和二重結合を
付加する事により放射線感応性を高める事が可能であり
パイン〆一として更に有利となる。

またポリブタジェンＯＩＩ化物日本合成ゴム纒ｅｍｕ−
ｍｙｏｔ４ｂ熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性
能を発揮する。Ｉｌ！ｌＫ１１化されたポリブタジェン
は、ポヲプタジェン本来０有する不飽和結合のラジカル
による放射線による架橋腫合の効率が良く、バインダー
として優れた性質を有している。

その低熱可塑性軟質樹脂及びそのプレポリマーの系で好
適なものとしては、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレ
ンゴム及びその環化物（日本合成ゴム［ＣＩＲ７ｏｔ）
、エポ中シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル
（東洋紡バイロン参ｇｏｏ）等軟質樹脂も下記に述べる
放射線感応変性処理をほどこすととにより本発明に対し
て有効である。

放射線感応変性は、具体的には、ラジカル重合性を有す
る不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル酸あ
るいはそれらのエステル化合物のようなアクリル糸二腫
結合、ジアリルフタレートの様なアリル蓋二重結合、ｖ
レイン酸、マレイン＃誘導体等Ｏ不飽和結合等の放射線
照射による条横あるいは重合乾燥する基を分子中に導入
する事である。

その低放射線照射により架構重合する不飽和二重結合で
あれば用いる事が出来る。

更に具体的な放射線感応変性の手法としては次のように
して行われる； ■　分子中に水酸基を１個以上有する上記の熱可塑性樹
脂又は熱可塑性軟質樹脂、プレポリマー１分子中に１分
子以上のポリインシアネート化合物のインシアネート基
を反応させ、次にイソシアネ−）基と反応する基及び放
射線硬化性を有する不飽和二重結合を有する単量体１分
子以上との反応物１例えば、ケン化された塩酢ビ共重合
体（ＵＣＣ製ＶＡＧＨ）の水酸基１個６すにトルエンジ
イソシアネート１分子を反応させ、その稜１分子の２−
とドロキシエチルメタクリートを反応させて得た、塩酢
ビ系共重合樹脂にアクリル系二重結合をベンダ状に有す
る樹脂を挙げ全ことができる。

また、と工で使用されるポリインシアネート化合物とし
ては、２．４−）ルエンジイソシアネーＦ１１６−）ル
エンジイソシアネート、ｔ５−キシレンジイソシアネー
ト、ｔ４−キシレンジイソシア＄−）、ｍ−フェニレン
ジイソシアネートｓＰ−フエエレンジイソシアネーＦ１
ヘキナメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネー酬やデス毫ジュールＬ１デス毫ジエールｔｂ（西
ドイツバイエル社製）等がある。

インシアネート基と反応する基および放射線硬化性不飽
和二重結合を有する単量体としては、アクリル酸あるい
はメタクリル酸の２−ヒト田キシエチルエステル、２−
とドロ、キシプｖピルエステル％２−ヒドロキシオクチ
ルエステル等水酸基を有するエステ、＆−類；アクリル
アマイド、メタクリルア！イド％Ｘ−メチロールアク９
ルアマイト等のインシアネート基と反応する活性水素を
持ちかつアクリル系二重結合を含有する単量体；更に、
アリにアルコール、ｆｆレイン酸−多価アル：Ｉ−ルエ
ステル化合物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸ｏ−
ｉノあるい′＆言ジグ？セリド等イソシアネーシ基と反
応する活性、水素を持ちかつ竺射線硬化性を有する不飽
和二重結合を含有する門量体も含まれる。

鳳　分皐中にエポキシ基な１個以上含む化合物１分子と
、エポキシ基と反応する基および放射線硬化性不飽和二
重結合を有する単量体１分子以上と０反も物、例えばグ
リシジルメタクリルレートなラジカル重合させて得たエ
ポキシ基を含有する熱可製性樹脂にアクリル酸を反応さ
せ、カルｌキシル基とエポキシ基との開環反応により、
分子中にアクリル系二重結合をペンダン、トさせた樹脂
、ブレポリマー屯しくはオリゴマー、また、マレイン酸
を反応させたカルボキシル基と、エポキシ基との開環反
応により分子骨格中に４ｔ！、ｑ−Ｙ線硬化性不飽和二
重結合を有する樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げ
ることができる。

ここで分子中にエポキシ基を１個以上含む化合物として
は、グリシジルアクリレ−）、ダリシジルメタクリレー
トＯ如きエポキシ基な含むアクリルエステルあるいはメ
タクリルエステルのホ罎ポリ！−あるいは他の重１合性
毫ツマ−とＯ共重合体として先０熱可塑性樹−（至）項
で述べた、エビブー）　８２　＠１．エピコー）１００
１、エピコート１１）＠７゜エピコートＩ　Ｇｏ？（以
上シェル化学社製）等そＯ他種々のタイプのエポキシ樹
脂がある。

エポキシ基と反応する基および放射線硬化性不飽和二重
結合を有する単量体としては、アク羊ル酸、メタクリル
酸岬ＯカルｆｄＰ□シル基を含有するアクリル系単量体
、メチルアンノエチルア夛リレー）、メチルアずノメタ
クリレーＦ等の第１級もしくは第２級ア建ノ基を有する
アクリル単量体に加えマレイン酸、フマル酸やクロトン
酸、ウンデシレンｌＩ轡放射線硬化性不飽和二重結合を
有する多塩基酸単量体も使用できる。・ 肩　分子中にカルｌキシに基を１個以上含む化合物１分
子と★ルＩキシ＾基と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合な有する単量体１分子以上との反応物１例
えばメタクリル酸を溶液重合させて得たカルｌキシル基
を含有する熱町履性樹脂にグリシジルアクリレー）を反
応させ、第１項と同様にカルｌキシル基とエポキシ基の
開砿反応により分子中にアクリル系二重結合を導入させ
た樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げることができ
る。

分子中にカルｌキシル基を１個以上含む化金物としては
、分子鎖中または分子末端にカルｌキシル基を含む先に
述ぺた樹脂中のポリエステル−；アクリル酸、メタクリ
ル酸、無水マレイン酸、７マル酸等のラジカル重合性を
持ちかつカルｌキシル基を有する単量体のホモポリマー
あるいは他の重合性毫ツマ−との共重合体等もある。

カルが一シル基と反応する基および放射線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体としては、ダ亨シジルアクヲレ
ート、グリシジルアクリレーＦ等がある。

本発明の第一磁性層Ｏ架構及び重合に使用する活性エネ
ルギー線としては、電子線加速器を線源とした電子線が
下記に述べるｍ山で４１に有利であるが、その他にもＣ
・・・を線・源としたｒ−薔、・３−・を線源としたβ
−線、Ｘ線発生器を線源としたＸ線等も使用できる。

照射線源−としては、吸収線量の制御、製造工程ツイン
へＯ導入の為の電離放射線の自己遮蔽、工程ライン諸設
備とのシーケンス制御との接続のし易さ等の点で電子線
加速器の利用が有利である。

電子線加速器としては、従来から、ブッククロット！］
、パンデダラフＷ１共振変圧器璽、鉄心絶縁変圧器ｍ％
リンアアタセレレーター型等主として高電圧を得る方式
の差により各種の加速器が実用−化されている。

しかし、磁気記録媒体は汎用用途においては１０建クロ
ン厚以下の薄い磁性膜厚ｏ４．ｏがはとんどであり、従
って上記加速器で通常的に使用される１００Ｑ区Ｖ以上
の高加速電圧は不必要であり、５ｏｏｔマ以下の低加速
電圧の電子線加速器で十分である。このような低加速電
圧加速器は。

システム自体のブス）が低下する点だけでなく、その上
に電離放射線の遮蔽設備の点でも％に有利となる。遮蔽
設備を鉛製とするかクンクリ−）製とするかまたその遮
蔽厚については次表のような基″皐−報告されている（
放射線利用研究会報告８頁、１９７９年８月、日本原子
力金議）。

上ＩＩＫ示されるように％　５ＱＱＫＶ以下の電子線一
連電圧においては、遮蔽材として最大３１の鉛板を用い
て電子線被照射部を包む加速管金体を覆うことで漏洩Ｘ
線を十分遮断することができる。

こＯ為、高額の電子線照射室を別に設ける必要がなく、
照射システム２１体も磁気記録媒−製造フィンの１シス
テムとして組込むことが可能となり、従って磁気記録媒
体の電子−による乾燥・硬化工程をオンライン化するこ
とが可能となる。

こＯような異体的システムとしては、米国エナージーナ
イエンス社により製造されている低線量タイプの電子線
加速器（エレクトロカーテンシステム）や西独国ホリマ
ーフィジックス社の自己遮閉型ス中ヤエンダ型低線量タ
イプ電子線加速器が好適例である。

また、放射線条横に際しては、Ｎ冨ガス、１１會ガス、
ＣＯ，ガス等の不活性ガス気流中で放射線を記俸媒体Ｋ
Ｊｌ！射するこ′とが重要であり、磁性塗ＭＯ様に非常
に磁性顔料充填度の高い塗膜は非常に多孔質となってい
る為に％空気中で放射線を照射することは、バインダー
成分の架橋に際し放射層照射により生じたＯｓ等の影響
でポリマー中に生じたラジカルが有効に架構反応に働く
事を阻害する。

そＯ影響は、磁性層表面は轟然として多孔質の為塗膜内
部までバインダー架ｍ阻害０影響を受ける。

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
Ｉｌ！ＩＫＩＩ＋３１１！濃度が最大で１１１ＯＮ雪、
■命、Ｃｏｔ等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要と
なる。

電子線による塗膜の重合、架橋密度が１０　Ｍｒａｄ迄
で効果的であるが、適当な柔軟性と剛直性のパツンスを
有する為にα５〜５Ｍｒａ−がＯぞましい。

コーティングに使用する基体としてヲ１、現在磁気記録
媒体用基材として広く活用されているポリエチレンテレ
フタレート系フィルム及び更に耐熱性を要求される用途
としては、ポリイ電ドフイルム、ポリアミドイミドフィ
ル五等が活用され、特にポリエステル系フィルムにおい
ては薄物ベースでは１軸凰伸、２軸鷺伸処理をはとこし
て利用するケースも多い１、 本発明に活用される磁性体微粉末はｒ−Ｆ・嘗−１Ｆ＠
８０４％Ｃ＠ドープｙ−Ｆ＠１０Ｂ、Ｃｏドープ７−Ｐ
ａ嘗０＠−ｒ軸０４固溶体、ＣｒＣｋ＠％Ｃ・系化合物
被着ｍｒ−Ｆ＠ｊＯ１、Ｃｅ系化合物被着１１ＦｅｓＯ
＊　（ｒ−Ｆ＠ｓＯｓとＯ中間酸化状態も含む。又と〜
で言うＣ・系化合物とは、酸化＝パル）、水酸化コバル
ト、コバルト７エライシ、コバルトイオン吸着物等コバ
ルトの磁気異方性を保磁力陶土に活用する場合を示す、
） こＯ放射線硬化’ｔｔｉｉｍ気記録媒体用バインダーに
関しても、轟骸用途にて通常便用される各種帯電防止剤
、分散剤、塗膜強度補強添加剤郷な用途に合わせて適宜
活用することが有効である。

この第一層バインダーにおいては、溶剤を使用しない無
溶剤ＩＩＯ樹脂であっても短時間で硬化することができ
るので用いることは可能であるが、一般には溶鋼が使用
される０本発明は溶剤を使用する場合には、アセト７、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
へ中ナノン畔０ケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
エステルｍ、メタノール、エタノール、イングロパノー
ル、ブタノール等のイソシアネーシ熱硬化では使用出来
なかったアルー−に＠、テＦラヒドロフラン、ジオ中テ
ン等のエーテル結合を有するものジメチル７オルムア々
ド、ビニルビ冒すドン郷０１１剤、Ｆ　−ルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素の希釈剤ないしはｓｍが用いら
れる。

上記の放射線感応変性樹脂と放射線感応性軟質樹脂ある
いはそＯプレポリマー等との組合せにおいて、弾性率の
高い樹脂成分を放射線感応変性することは、バインダー
の架橋密度を高め、磁性塗膜の硬度を高め且つ剛直とし
、塗膜がもろくなり、耐摩耗性、ヘッドタッチ等を低下
させる。磁気テープ用に好適な熱可塑性樹脂が要求され
る適度の柔軟性を付与する点で効果的であるので、上記
の組合せに１熱可塑性樹脂を混合し、使用する事により
、適度な重合、架橋密度となり、柔軟性と剛直性のバラ
ンスを有するものとなる。一方、熱可塑性樹脂が適度な
柔軟性があるので、これと、放射線感応性軟質樹脂を組
み合わせても、もちろんよい。

この場合５両者の混合比率は上記Ｏ事を満足させる為に
４．熱可塑性樹脂と放射線感応性樹脂が６対２〜２対８
の比率が特に望ましい。

以上説明したよ５に、零発＠Ｏ第一層においては、磁性
粉末が、必要なら適宜の添加剤と共に１放射線照射によ
り架橋及び重合するバインダーと混合されて磁性塗料が
調製される。磁性塗料の調製に当ってこれら成分は、Ｉ
−ルミル、す振ノドダラインド（ル、ロールミル、高速
インペラー分散機、ホモジナイず−、超音波分散機等各
種の装置が使用され５る。

斯うして調製された磁性塗料は従来態様に従って基体上
に塗布され、磁性粒子の配子、溶剤乾燥及び表面平滑化
処瑠後、後述するよ５に第一磁性層の厚２Ｌが２．１〜
ｚｓｐｍｙなるように放射線照射される。

とのよ５Ｋして、第一層が形成された後、従来一様Ｋｔ
つてその上に第二層が形成される。第二層用に使用され
る樹脂としては、４リエステル樹脂（ｌフエステル化反
応、アル中ド樹脂、オイルフリーアル中ド、不飽和ポリ
エステル）、アミノ樹Ｉｒ、エポキシ樹脂、ポリクレク
ン樹脂、アタリル樹脂、塩化ビＪＬルａｍ、反応性塩化
ビニル樹脂。

塩化ビニル共腫会体、ふっ素樹脂、シリコン樹脂、繊維
素樹脂、フェノール樹脂、中シＶン樹脂、シルエン樹脂
、ポリエチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリブタジェ
ン樹脂、ポリシクロペンタジェン樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂等ＯＩＩ脂を、熱可讃性又は、熱硬化系とし
てシリレンジイソシアネー）％４４′−ジ７エエルメタ
ンジイノシアネート％中シリレンジイソシアネート、メ
タ中シ亨レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、リジンジイソシアネーＦ、−イソホリンジ
イソシアネート、）ジメチルへキサメチレンジイソシア
ネート、ダイマー酸シイツクアネートが共に用いられる
。これら樹脂バインダーが、指定された範１５０磁性材
料を前記と同様に分散せしめた後、第一層上に塗布され
る。第二層において熱硬化性樹脂を使用することは、生
産管理上の不刹益は、第一層程でなく、工業上元分に許
容され５る。

氷見＠においては、前述したよ５に形成された第−及び
第二磁性層についてその厚み及び保磁力範囲並びに第一
磁性層の磁性粉含量が、第一層の放射線硬化による長所
と併せて低域での出力変動が少な（しかも中域での歪の
ない二層塗布磁気記録媒体を提供するべく制御される。

氷見ｌｌｌにおいては、放射線硬化される第一磁性層は
保磁力が５５０−４５００６でありそして厚みが２−１
〜１８Ｐ集であるようにされ、加えて磁性粉含有量はＳ
ｔＳ嘩以上とされるのが好ましい。

第二磁性層はその厚さを’ｉ１−１ｐ以上としそして保
磁力範囲は５１０〜８０００＠・とされるのが好ましい
。

第一磁性層上の第二磁性層をある程度厚く塗布するとと
Ｋより、第一磁性層における表面凹凸の影響が低減し、
高域周液数において出力変動の少ない二層塗布磁気記鍮
媒体が得られることが１ｇｔ来からＯ二層塗布磁気記録
媒体について本件出願人により確認されている０本件出
願人は更に、（１）第二磁性層厚が８ＫＨｓＯ低馬液数
では、ｔＳ声集以上でそして１４ＫＨｍの高域周液数で
は２−１μ愼以上で出力変動〜がα５４１以下となるた
め、第二磁性層厚は２．１ＰＩＩｌ＆以上に選定するこ
とが望ましいこと、（至）ト磁性層Ｖ磁ｍ５ｉｉｏ含有
率は川−以上であればその厚さが２１〜２６声＄ｃ＋Ｉ
Ｉｓで充分良好な低域周液数峙性が得られ、　２２−６
ｐ以上になると全体の保磁力が低下し、そして低域周波
数峙性は向上するが中域が歪んでしまうという欠点が出
てくるため２．１〜Ｌ＠ｐｍとすることが望ましいこと
を既に確認している０本発明においても、上記提唱ＶＣ
従うのがよいことが知見された。

加えて、本発明においては、第一磁性層におけるバイン
ダーが放射線により硬化または重合されるため、従来保
磁力が５９００・までしか使用できなかったものが６３
０００まで使用できるとζが判明した６ｇｔつて、第一
磁性層Ｏ保磁力の便用範囲が従来より広がり、このため
低域での歪入Ｏ一層少ない磁気記録媒体が得られる。こ
れは、款射線照射により重合するバインダーにおける網
目構造が従来のものと差があることに帰因するものと思
われる。

このように５本発明は、放射線硬化し５るバインダーを
第一磁性層に使用すること及び第−及び第二磁性層Ｏ塗
厚、保磁力等を制御することＯ組合せＯ下で、従来より
も出力変動の少ないそして中域での中だるみのない磁気
記録媒体を合運化許れた生産工程の下で製造することを
可能とする。

これは、従来のイソシアネート系化合物を使用して加熱
による架橋反応を行なわしめたテープは、塗料に硬化網
としてのイソシアネーシ化合物が混合された後は、バイ
ンダー中の水酸基等との反応が始まり、塗布、乾燥後は
バインダー中での架橋反応が急速に進み、塗料Ｏボッシ
ライア経過時闘−と共に架橋反応進行による塗膜硬化が
進み、表面成型性が低下するととによる出力変動が生じ
るＯＫ対し、放射線感応樹脂を使用するものにおいては
表面成型加工後電子線照射により発生したラジカルによ
る架橋が進行するため磁性塗料のポットライフによる表
面成型性の低下による出力変動劣化を生ぜず、更には塗
布後の放置時間による表面成型性の低下による面の悪さ
からの出力変動の制約も取除くことができたことｋよる
。第一〇磁性層の保磁力の上限が放射線感応樹脂を用い
ることにより６５００＠まで拡大され、これＫより中域
での中だるみが解消される。

また、使用磁気記帰媒体が前記した第一層及び第二層の
保磁力範囲の中で更に４！定された範囲の組合せを選定
するのが有利である。その場合、露　　　一層及び第二
層の各々の保磁力範囲を使用磁気テープ保磁力に応じて
比例的に低くなるように菖一層及び第二層が形成される
０例えば、５５００゜以上の録音装置に用いるものでは
次のような範囲の組合せがとられる。

第一層　　　　　　　第二層 （ｊ）４００〜６３００・　５９０〜８０９０・（２）
　　３８０〜４０００ｅ　　　５６０〜７６００ｍ（５
）　　５５０〜５５００＠　　５１０〜７０００ｅ以下
、本発明の実施例を示すが、最ｗＪＫ放射纏感応性バイ
ンダーの合成例を呈示しておく。

ビニライ）ＶＡＧＨ７５０部とト、ａ−ｚン１２５０郁
シタ冑ヘキサノンｓ　ｏ　ｏｓを５４４つロフツスコに
仕込み加熱溶解し８０℃昇温後トリレンジイソシアネー
トの２−にドロキシエチルメタアタリレードアダクト（
製法は下記註参照）を６１４部加え、更にオクチル酸ス
ズ（ＬＯ１２部。

ハイドロキノン１０１２部加え８０℃でＮ、気流中ＮＣ
Ｏ反応率が９０１以上となるまで反応せしめる。

反応終了後冷却しメチルエチルケトン１２５０部を加え
稀釈する。

（Ｕ：）リレンジイソシアネート（τＤＩ）の２−°　
℃ドロキシエチルメタアクリレード（・２１’ｆＥＭＡ
）アダクトの製法：　　゛トリレンジイソシアネート５
８４部をＮ３気流中１１の４つロフラスコ内で８０℃ニ
加熱後、２−へキサエチレンメタアクリレート２６０部
、オクチル酸スズｃＬ０７部、ハイドロキノン１０５部
を反応缶つの温度が８０〜８　”５　℃となる様に冷却
プンシロールしながら滴下終了後８０℃で５時間攪拌し
反応を完結させる０反応終了後取り出して冷却後日やペ
ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−８１００部をＦルエン
１９１２部シクロノキナノン７１４部をＳＬ４つロフラ
スコに仕込み加熱溶解し８０℃昇温後前記Ｆリレンジイ
ノシアネートの２−ヒドロキシエチルメタアクリレート
アダクトを７４部加え更にオクチル酸スズ１０１５部、
ハイドロキノン１０１５部を加え、８０℃でＮ、気流中
ＮＣＯ反応率が９０４以上となるまで反応せしめる。

反応終了後冷却メチルエチルケトンにで稀釈する。

東洋紡製バイロンＲＹ−２００・１ｏｏ１１をトルエン
１１４部、メチルエチルケＦン１１６部に加熱溶解し８
０℃昇温後前記テＤＩ０２ＨＸＭムア〆り）を４５５部
加えオクチル酸スズ（ＬＯＯ７郁、ハイドロキノン１０
０７部を・添加しＮｓ気流中８０℃でＮＣ０反応率９０
％以上となるまで反応１ せしめる、　　　　　　　′ シェル化学製エビコー）１００７　４ｏｏＩＢを）ｈｘ
ン５０％ＭＮＫＳＯ郁に加熱溶解後ＮＮ１−ジメチルベ
ンジルアミン１ｌＬ００４部、ハイドルキノンα００５
部を添加し・０℃としアクリルｌ！６９部を滴下し・０
℃で酸化５以下となるまで反応せしめる。

末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
）（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製＝ツボラン４ｏ４ｏ５°２５０部、２ＨＥＭム５Ｌ
５部、ハイド田キノ゛ンα０７部、オクチル酸スズｃＬ
ｏｏ？郁を反応缶に入れ＠ＯＣＫ加熱溶−後〒ＤＩ　４
五５部を反応缶内の温度が１１０−９０℃となる様に冷
却しながら滴下し、滴下終了後６０℃でＮＣＯ反応率？
５−以上となるまで反応せしめる。

日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００２５
０部、２ＨＥＭＡ５２．５部、ハイド０キノン（ＬＱＯ
７部、オクチル酸スズ（ＬＯＯ９部を反応缶に入れ８ロ
℃に加熱溶解後ＴＤＩ　　４４５部を反応缶内の温度が
８０〜？θ℃となる様に冷却しながら滴下し２滴下終了
後８０℃でＮＧＯ反応率９５嘩以上となるまで反応せし
める。

タンクレアペトロケンカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジエンボリ１Ｄリクイツシレジン翼”１１２５部部
、２ＨＥＭｋＳ２−５部、ハイド−キノンＷＯＯ７部、
オクチル酸スズ１００９部を反応缶に入れ８０℃に加熱
溶解後１６１４１５部を反応缶内０温度が８０〜９０℃
となる様に冷却しながら滴下し、滴下終了”ｖｋ８０℃
でＮＣ０反応率９５−以上となるまで反応せしめる。

（〒Ｄ！−アリルアルコールアダクＦす体）〒ＤＩ　　
５４８部をＮ、気流中！ｉ）’ＵＫ加熱優、アリルアル
コール１１６部、オク一ル醗スズａｌ１７部、＾イドー
命ノン（ＬＯ２１１を反応缶内の温度が８０〜６５℃と
なるように冷却＝ントｐ−ルしながら−下し、滴下終了
後８０℃で３時間攪拌反応させる。

（１１脂合成例） ニーａｈドロキシエチルアクリレ−）（２ＨＩム）１５
Ｉ３．ブチルメタクリレ−）３５部、）ルエン！１″１
．５部、ＭＥＫ！５７．５部を反応缶に入れ８０℃に加
熱し、　　２Ｈ１ｅム４５部、ブチルメタクリレート１
０５ｍ、ペンゾイルパーオ中サイド１ｓｐｏ６３）ルエ
ン１１１５部、を滴下し８０〜？（Ｉｔ：”ｌ’４時闘
反応せしめ１反応生成物１９５部ＫＴＤＩ−アワルアル
コールアダクト体を４４６部加え、オクチル酸スズ（Ｌ
Ｏ１部、ハイドルキノン（ＬＯ１部を添加８０℃−でＮ
ＣＯ反応率９０９６以上まで反応せしめる。

セパチン鍍ジメチル１３６１１１１１アジピン酸ジメテ
Ａ−１２，２部、マレイン酸ジメチル６４８部、ネオペ
ンチルグリコール７５１１．ｔ４−ヘキサンジオール７
４部、ナト２−１１−プチルテタネー１１０部を反応缶
に仕込みＮ、気流中１８０℃で脱メタノール反応後２４
０〜２６０℃まで昇温し、ａ５〜１　ｗｍ　Ｊｉｇの減
圧下縮合反応により、内部可塑化されたエラスＦマーに
近い樹脂を得た。

例１−１（本発明による第一層の形成）＝パルト被着針
状７−Ｆ＊１０ｇ　　　　　　１００部アク９ル二重結
合導入塩酢ビ共重合体　　１０部（ｉｉｔ形分換算）分
散剤（大豆精製レシチン）　　　　　　４部メチルエチ
ルケトン　　　　　　　　　８部ｇメチルイソプチルケ
ｌ／　　　　　　　　８０１１）ルエン　　　　　　　
　　　　　　　８０部上記組成ＯＡ合物をポールさル中
で２４時間晶錬し、ポリエステにフィルム上Ｋ１１ｌ布
し、ａ性粒子Ｏ配崗、溶剤乾燥反び表面平滑化４６１１
＆、磁性層０１ＩＩＬ４がｚｌｐｗ−なるよ５Ｋした。

磁性ｓｏ會有率は＄！Ｌ４嘔であり保磁力は５９００・
であった、テレタトロカーテンタイプの電子線加速器で
加速電圧１５０ＫＶ、電極電流１０部ム及び吸収線量Ｓ
　Ｍｒａ４０条件の下で％Ｎｌガス雰日気において電子
線を照射し、塗膜を硬化させた。

；パルト被着針状ｒ−ＦすＯｓ　　　　　１　ｏ　ｏ部
分散剤（大豆精製レシチン）　　　　　　４部メチルエ
チルケトン　　　　　　　　　８０部メチルイソブテル
ヶ）ン　　　　　　　８０部トルエン　　　　　　　　
　　　　　　６０部上記組成の混合物を２４時ｉＩ！混
錬後架橋剤としてプリネート５３部を混合し１例１−１
と同様にして塗布し、これを６０℃の温度で４８時間加
熱処理し、バインダーを架橋硬化させた。保磁力は５３
００・であった。

例１−３（第二層の形成） コバルト被着ｒ−Ｆ＠雪Ｏｓ　　　　　　　１００部ウ
レタンプレポリマー （日本フレタン社＆ｉ１＃２３ｏ４）　　　　１・部分
散剤（大豆精製レシチン）　　　　　　１部メチルエチ
ルケトン　　　　　　　　１００＠メチルイソブチルケ
トン　　　　　　１００ＩＩＩシルエン　　　　　　　
　　　　　　１００部以上の組成の混合物をメールミル
中で４８時同温錬した後架橋剤として日本ポリウレタン
社製コロネー）Ｌを４部混合し、例１−１及び１−２で
形成した第一磁性層上に塗布し、磁性粒子の配向延理、
溶剤乾燥処理及び表面処理後厚みが２．２声協となるよ
うＫした。第二、磁性層の保磁力は６１１００＠であっ
た０例１−１と例１−３との組合せｋよる本発明の磁気
テープは例１−２と例１−ｓとＶ＠合せによる磁気テー
プより一低〜中〜高域で歪のないものであった。

ボッ）ライフが及ばず出力変動への影響を示す為−例１
−１及び例１−２０磁性塗料を様々の時開放筐し、ＬＫ
Ｈｓ及び３夏Ｈｍにおいて出力変動を測定した。結果を
第１図に示す。第１図から明らかなように磁性塗料Ｏポ
ットライフが進むと％　１ＫＨｚ及びＳＫＨｍいずれに
おいても、例１−２０熱硬化性バインダーを使用した磁
気記鎌媒体は同様の傾向の出力変動を示すＯＫ対し、例
１−１の放射線硬化バインダーを使用する本発明磁気記
録媒体は出力変動に問題を全く呈しない。

実施例２ コハル）ｍ着針状γ−ｙ＠鵞０畠　　　　１００部分散
剤（大豆精製レシチン）　　　　　　５部メチルエチル
ケトン　　　　　　　　１２０部トルエン　　　　　　
　　　　　　　　１００部以上の組成Ｏ混合物を例１−
１と同様の方法で加速電圧１７０ｘｖ、［＆電流２０ｍ
Ａ、°及び吸収線量１０）！ｒａｍＯ条件の下でＮ、ガ
ス雰囲気において電子線を照射するととＫより塗膜を硬
化させ第一磁性層を形成した。第一磁性層の保磁力は５
６００拳であり、そして塗膜厚は２．８声集であつた。

次いで、下記組成の磁性塗料を調製して例１−２と同様
にして第二層を形成した。

コハル）　被着針状１Ｆ＠２０Ｂ　　　　　　Ｉ　Ｇ　
０部分散剤（大豆精製レシチン）　　　　　　１部メチ
ルエチルケ）ン　　　　　　　　１５０部トルエン　　
　　　　　　　　　　　　１（１０部第二磁性層の保磁
力は６５００・でありそして塗膜厚は２１μ集であった
。

得られた二層塗布テープは、全周波数範囲で優れた周波
数特性を有し、まｔ高域周波数でも著しい周波数特性の
向上を示した。ｔ！５ＫＨＩ低域でＯ出力変動も１１０
以内であった。

実施例３ 本例は、第一磁性層において一方な熱可塑性樹−とした
ものを示すもＯである。

プパル）被着針状ｒ−Ｆ＠１０１　　　　１００部分散
剤（大豆精製レシチン）　　　　　　５部メチルエチル
ケトン　　　　　　　　１２０部トルエン　　　　　　
　　　　　　　１００部以上の組成の混合物を例１−１
と同様の方法で加速電圧１７５ＫＶ、電極電流１５ｍム
、吸収線量！ＳＭｒａ４（）条件においてＮ、ガス雰囲
気下で電子線を照射し、塗膜を硬化させた。形成された
第一磁性層の厚さは２−１声愼そして保磁力は！　ｓ　
ｏｏ・であった。

第一磁性層上に％実施例２の第二磁性層用磁性塗料と同
じ組成のものを同様に塗布し、２８声集塗厚反び７２０
０・保磁力の第二磁性層を形成した。

得られた二層塗布磁気テープの１％　５ＫＨｓでの出力
変動は１５４ｍ以内であり、その周波数特性も全周波数
範囲で優れたものであった。

（註）上記実施例において原料として使用した塩化ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体は次のようにして作成し
た： 塩化ビニル基／酢酸ビニル基Ｏ比が７５７２５で、平均
重合度Ｂ−４Ｑ　Ｑの塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
を原料とし、これをＭＩＩＩＫ（メチルイソブチルケト
ン）等の溶剤と水との混合分散媒体中に懸濁させ、攪拌
機等による機械的分散により、樹脂を膨潤させたスラリ
ーに近い懸濁愉を作る。

次にこれに、カ性ノーダーナシリウムメチラーＦを触媒
として添加し、かつ温度を８０℃近辺に保ち、酢酸ビニ
ルのアセチル基を水酸基にケン化する。

なお、脱塩酸防止のためＯ安定剤や、均一に懸濁させる
ためＯＭ濁剤を使用してもよい。

次に脱離したアセチル基より生成する酢酸や触媒を、ケ
ン化の終了したスラリーを水洗することｋより除去し、
樹脂の安定性を高める。この揚台。

必要に応じて、ケン化時の着色を消すため、塩嵩イオン
等を破り除く脱色工程を付加してもよい。

上述リケン化法１によって得られた塩化ビニル−ビニル
アルプール共重合体の特性は次のようなものであった。

塩化ビニル基　　　　１３７％ 酢潜ビニル基　　　　（Ｌ５チ以下 ビニルアルコール基　１２６ｓ 重合度　　３５０ 実施例４ 本例は第一磁性層において、放射線感応質性樹脂、熱可
塑性樹脂と放射線感応性軟質樹脂との組入合せを示すも
のである。

コバルト被着針状ｒＦ＠１０３　　　　　１００部エポ
キシＩＩ！！ｉＩ５部 アタ呼ルニ重結合導入りレタンエラス）Ｙ−１０部分散
削（大更精製レシチン）　　　　　　５部メチルエチル
ケトン　　　　　　　　１．２０部、１１島 トルエン　　　　　　　　　　　　　　１００部以上の
組成の混合物を実施例３と同様に行なつた。得られた出
力変動はα５４Ｂ以内であり、その周波数特性も全周波
数閣囲で優れたものであった。

以上、説明したように、本発明は、生産工程の尚一層の
自動化、高速化等を可能ならしめると共に、従来の二層
塗布テープに伴った出力変動、中域中だるみ等の品質上
の問題点を解消し、斯界に重意義な貢献を為すものであ
る。

【図面の簡単な説明】

図面はポットライフが出力変動に及ぼす影響を示すグラ
フである。 第１頁の続き ０発　明　者　田中和志 東京都中央区日本橋−丁目１３番 １号東京電気化学工業株式会社 内 ０発　明　者　西松正治 東京都中央区日本橋−丁目１３番 １号東京電気化学工業株式会社 内 ０発　明　者　磯部幸広 東京都中央区日本橋−丁目１３番 １号東京電気化学工業株式会社 内 ［相］発　明　者　篠浦治 東京都中央区日本橋−丁目１３番 １号東京電気化学工業株式会社 内 ０発　明　者　河原博 東京都中央区白本橋−丁目１３番 １号東京電気化学工業株式会社 ■出　願　人　東洋インキ製造株式会社東京都中央区京
橋二丁目３番１３ 号 ２０３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）非磁性支持体上に、放射線照射によつて架橋及び重
   合するバインダーを使用する第一磁性層と、該第−磁性
   層上に設けられた熱可塑性また◆１熱硬化性バインダー
   を使用する第二磁性層と”を備えるととを特徴とする磁
   気記録媒体。 ２）　！Ｉ−磁性層のバインダーが、放射線感応性不飽
   和二重結合を有する放射線感一応性樹脂及び（又は）熱
   可塑性樹脂と、該二重結合を有する放射線感応性軟質樹
   脂またはそのプレポリマーＶ＃リゴマー及びテロマーと
   からなる特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 ５）放射線感応性不飽和二重結合が、アクリル系二腫−
   合、マレイン酸基二重結合或いはアリル系二重結合であ
   る特許請求の範囲第２項記載の磁気記録媒体。 ４）第一磁性層の磁性粉の含有率が８１８％以上である
   特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 ５）放射線照射が１５０−５０ＱＫＶの電子線加速器を
   使用して不活性ガス雰囲気中で実施される特許請求の範
   囲第１項記載の磁気記録媒体。 ６）第一磁性層が３５０〜６５０．０・の範囲の保磁力
   と２−１〜２．８１１１１１Ｌの厚さを有し、そして第
   二磁性層が５１０〜８０００＠の範囲の保磁力と２．１
   ｊｌ集以上の厚さを有する特許請求の範囲第１項記載め
   磁気記録媒体。 ７）　ｊＩ−磁性層の保磁力が４００〜６５００・であ
   りそして第二磁性層の保磁力が５９ａ−ｓｏｎＯ・であ
   る特許請求の範Ｓ第６項記載の磁気記録媒体。 １１）　ｊｌ−磁性層の保磁力が５８０〜６・ＯＯ・で
   ありそして第二磁性層の保磁力が５６０〜７６００・で
   ある特許請求の範囲第２項記載の磁気記録媒体。 ９）第一磁性層の保磁力が３５０〜５５０Ｏｅでありそ
   して第二磁性層の保磁力が５１０〜７００Ｏｅである特
   許請求の範囲第６項記載の磁気記録媒体。