JPS5835191A - セフアセトリルの製造方法 - Google Patents

セフアセトリルの製造方法

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JPS5835191A
JPS5835191A JP13396181A JP13396181A JPS5835191A JP S5835191 A JPS5835191 A JP S5835191A JP 13396181 A JP13396181 A JP 13396181A JP 13396181 A JP13396181 A JP 13396181A JP S5835191 A JPS5835191 A JP S5835191A
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JP
Japan
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acid
derivative
silyl
halogen
reaction
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Pending
Application number
JP13396181A
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English (en)
Inventor
Akira Hasegawa
彰 長谷川
Akio Kusama
草間 昭夫
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TOHO IYAKU KENKYUSHO KK
Original Assignee
TOHO IYAKU KENKYUSHO KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記化学構造式(1) (1) で示される7 −(2,−シアノアセトアミド)−3−
(ヒドロキシメチル)−8−オキソ−1−5−チア−1
−アゾビシクロ(4,2,0)オクト−2−エン−2−
カルがン酸アセテート(以下、一般名セファセトリルで
示す)の製造方法に関する。
セフアセドリルのナトリウム塩であるセフアセドリルナ
トリウムは黄色ブドウ球口、化膿連鎖球菌、肺炎球菌等
に基因する人間及び動物の各種の疾病の治療剤として有
用であシ、従来も下記イヒ学構造式(2) (2) C示される7−アミノセファロスポラン酸を出発原料と
して、これに第三級アミンの存在下にシアノ#酸の酸ハ
ロゲン化物、シアノ酢酸の混合酸無水物又はシアノ酢酸
と脱水縮合剤を反応させてセフアセドリル(1)t−J
&l!造することが行なわれている(%公昭46−47
47号)。
しかし、上記従来法は第三級アミンで7−アミノセファ
ロスポラン酸(2)を有機溶媒に可溶化し、これによシ
均−系反応としているにもかかわらず、反応速度が小さ
く、収率も低い。また、反応によシ得られるセフアセド
リル(1)は純度が低いため、クロマトグラフィー等の
手段によシ精製する必要があシ、このため後処理が繁雑
なものとなシ、特に第3級アミンの除去に問題がある。
更に、反応にシアノ酢酸の酸/為ログン化物を用いる場
合には、酸ハロダン化物が重合を起し易い不安定な化合
物であるので、取扱い上問題がある。
混合酸無水物を用いる場合には、副生成物が多量に生成
する上、反応を低温下で行なう必要がある等の問題があ
る。また、脱水縮合剤を用いる場合には収率及び後処理
に問題がある。
本発明者らは上記問題を解決するために種々検討してい
るうちに、7−アミノセファロスポラン酸(2)のシリ
ル誘導体と特定のシアノ酢酸のエステル誘導体とを反応
させると、第三級アミンの添加金製せずして、室温下で
迅速にセフアセドリルが高収率で得られ、副反応もはと
んど認められないことt知見し、本発明を完成したもの
である。
即ち、本発明は下記反応武人に示すように、7−7 Z
ノセファ冒スポツン酸のシリル誘導体(3)と特定のシ
アノ酢酸エステル誘導体(4)とを反応させてセフアセ
ドリルのシリル誘導体を得、次いでこれを脱シリルして
セフアセドリル(1)f:得るものである。
(3)               (4)(1) (式中Rはトリアルキルシリル基、Yは置換数が4以下
のハロゲン置換フェノキシ基、置換数が4以下のハロゲ
ン置換フェニルチオ基、2−ペンゾチアゾールチオ基、
2−ペンゾチアゾールオΦシ基、2−ベンゾオキサゾー
ルチオ基又は2−ベンゾオキサゾールオキシ基を示す)
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の出発物質である7−ア建ノ噌フア四ス4ツン酸
のシリル誘導体(3)は、7−ア建ノセフアaス4ラン
酸(2)又はその有機もしくは無・機塩類に公知の方法
でシリル化剤を反応させて簡単に製造できるものである
シリル化剤としてa N、O−ビストリメチルシリルア
セドア建ド、トリメチルクロルシラン、N−トリメチル
シリルアセトアミド、ヘキサメチルジシラデン等の公知
のシリル化剤又はこれらの混合物部が好適に使用できる
シリル化反応は、必要によ少溶媒の存在下に、7−ア々
ノセフアロス42ン酸(2)又はその塩類とシリル化剤
とを混合することによシ行なわれる。
シリル化剤の混合割合は、シリル化剤の種類によシ異な
るが、 N、0−ビストリメチルシリルアセドア考ドの
場合、7−ア省ノセフアロスポツン酸(2)又はその塩
類1モルに対し2モル以上加えることが好ましい。この
ようKして製造した7−ア建ノセフアロス4ラン酸のシ
リル誘導体(3)は常法によp単離し、もしくは単離す
ることなくそのまま本発明の出発物質として使用できる
本発明においては、まず上記方法等にょシ製造した7−
アミノセファロスポラン酸のシリル誘導体(3)にシア
ノ酢酸エステル誘導体(4)t−反応させるものである
シアノ酢酸エステル誘導体(4)としては下記一般式 (式中Xは水素又はフッ素、塩素、臭素等のハロゲンを
示す) で示される置換数が4以下のハロダン置換フェノールと
シアノ酢酸とからなるエステル、下記一般式 (式中Xは上記と同じ自答を示す) で示される置換数が4以下のへ四グン置換チオフェノー
ルとシアノ酢酸とからなるエステル、下記化学構造式 で示される2−メルカプトベンゾチアゾールとシアノ酢
酸とからなるエステル、下記化学構造式で示される2−
ヒドロキシベンゾチアゾールとシアノ酢酸とからなるエ
ステル、下記化学構造式で示される2−メルカプトベン
ゾチアゾールとシアノ酢酸とからなるエステル、下記化
学構造式で示される2−ヒトミキシベンゾオキサゾール
とシアノ酢酸とからなるエステル等が好適に使用できる
反応は上記7−アミノセファロスポラン酸のシリル誘導
体(3)とシアノ酢酸エステル誘導体とt溶媒中で混合
して行なわれる。混合割合は7−ア建ノセフアロス4ラ
ン酸のシリル誘導体1モルに対して1〜3モルとするこ
とが収率、反応後の後処理等の点で好ましい。溶媒とし
てはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン類や塩化メチレン、り日ロホルム、四
塩化炭素、二塩化エチレン、トリクレン、パークレン等
の含ハOPン系溶媒、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル類、その他アセトニトリル、ジメチル
スルフオラン等が望ましい。
反応は室温程度の温度で行なうことが好ましく、特に低
温としなくても副反応は起きない。反応時間は通常30
分〜5時間程度とすることが好ましい。
このようにして得られたセフアセドリルのシリル誘導体
は、次いで水又はアルコール類と反応させて脱シリルを
行ない、本発明の目的化合物であるセフアセドリル(1
)に導く。アルコール類としては、 例えば’fルアル
コール、エチルアルコール。
ノロビルアルコール、ブチルアルコール、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、グリセリン等が使用で
きる。セフアセドリルのシリル誘導体のギ〉齢の100
倍程度以上の水又紘アルコールを添加することKよシ、
シリル基は分解除去され、セフアセドリルが得られる。
この脱シリル反応は、塩酸、硫酸、リン酸等の酸又は水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素二カリウ
ム等のアルカリの存在する場合には、極めて迅速に達成
される。反応温度は0〜30℃程度が好ましく、反応時
間は数分〜1時間程度である。
このようにして得られたセフアセドリルは通常の方法で
単離精製することができ、また全知の方法によりアルカ
リ金属塩、アンモニウム塩、更には有機塩基との塩等に
誘導することができる。
以上詳述したように、本発明はセフアセドリルを製造す
るに当シ、出発物質として7−ア建ノセフアロス4ラン
酸のシリル誘導体を用いて、これにシアノ酢酸エステル
誘導体を反応させるようにしたので、反応が温和かつ迅
速なものとなシ、目的とするセフアセドリルを収率棗く
得ることがで龜る。更に、シアノ酢絃エステル鋳導体は
安定な化合物であるので、保存もしくは取扱う際に何ら
特別の配慮を必要とせく都合が曳い。更に、本反応にお
いては、従来法のように三級アミンを使用していないの
で、繁雑でかつ処理量の少ないクロマトグラフ輸−によ
らずとも簡単に精製tすることができ、このため精製工
程が単純化される等の利点を有する。
以下、実施例によシ本発明を更に具体的に説明する。
〔実施例1〕 7−アミノセファロスポラン酸2.71 (h oミリ
モル)t−塩化メチレン40−に懸濁し、窒素雰囲気下
においてN、0−ビストリメチルシリルアセトアミド5
.1 i (25ミリモル)を加えると、全体が均−滴
液となった。次いで、この均一溶液に2.3,4.6−
チトラクロロフエニルシアノアセテー) 4.0 N 
(13ミリモル)會添加した後、室温で2時間攪拌を行
なった。得られた反応混合物上減圧に保って溶媒t−貿
去した後、残渣にerr−vエテル100s1711及
びl O% IJン酸水素二カリウム水溶液100dt
加えて攪拌した。水層を分取し、これ【各50−の酢酸
エチルを用いて2回簿浄した。
次いで、酢酸エチル100wjt−加えた後、17重量
−塩酸でpH62に調節し、抽出を行なった。酢酸エチ
ル層を分取し、これを水洗した後、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒上留去した〇これtイソノロビル
エーテルで洗浄した後、真空乾燥してセフアセドリル2
,911(収率861)’i得た。 m、p、168〜
170℃ IR(KBr法)2240m  (CNN)、1770
m  (C=O)〔実施例2〕 7−アミノセファロスポラン酸1.3 s tp (5
ミリモル)をアセトニトリル20−に懸濁し、窒素雰囲
気下においてN−)リメチルシリルアセトア建ド2.6
11(20ミリモル)t−加えると、均一溶液トナった
。これK 2.4.5− )リフ薗ロフェニルシアノア
セテー) 2.0 N (7,61リモル)のアセ)=
−)リル溶液10sd’に室温下で滴下し、5時間攪拌
上行なった。以下、実施例1と同様に操作し、セフアセ
ドリル1.3 b y (収率sog!I)を得た。
m、p、168〜170℃ 出鵬人 物東邦医薬研究所 代理人 弁理士 小島隆司 弁理士高畑端世

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l 7−7ミノセフアロス4ラン酸のシリル誘導体に置
    換数が4以下のハロダン置換フェノール、置換数が4以
    下のハロゲン置換チオフェノール、2−メルカグトベン
    ゾチアゾール。 2−ヒドロキシベンゾチアゾール、2−メルカ!トペン
    ゾオキサゾール又は2−ヒドロキシベンゾオキサゾール
    とシアノ酢酸とからなるシアノ酢酸エステル誘導体管反
    応させてセフアセドリルのシリル誘導体を得、次いでこ
    れを脱シリルすることを特徴とするセフアセドリルの製
    造方法。 27−7tノセフアロスlラン酸のシリル誘導体が7−
    アミツセフアロスポラ7tRとN。 0−ビストリメチルシリルアセドアミド、トリメチルク
    ロルシラン及びN−)リメチルシリルアセトアミドから
    選ばれるシリル化剤とを反応させて製造したものである
    特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
JP13396181A 1981-08-28 1981-08-28 セフアセトリルの製造方法 Pending JPS5835191A (ja)

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