JPS5835529A - 縮小投影露光装置の定光量制御方式 - Google Patents

縮小投影露光装置の定光量制御方式

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Publication number
JPS5835529A
JPS5835529A JP13414381A JP13414381A JPS5835529A JP S5835529 A JPS5835529 A JP S5835529A JP 13414381 A JP13414381 A JP 13414381A JP 13414381 A JP13414381 A JP 13414381A JP S5835529 A JPS5835529 A JP S5835529A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reduction projection
light amount
constant light
shutter
projection exposure
Prior art date
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Pending
Application number
JP13414381A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisamasa Tsuyuki
露木　寿正
Soichiro Hayashi
林　聰一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS5835529A publication Critical patent/JPS5835529A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00—Photographic printing apparatus
    • G03B27/72—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、縮小投影露光装置に係り、特にウェーハ上に
ステップアンドリピートで一定露光量で１チツプづつ焼
きつけるのに好適な方法である。
従来の定光量方式は、照度センサーがレチクル照射面上
とは無関係の場所に取りつけられていたため、レチクル
面上の照度とは、必ずしも一致しない欠点があった。
本発明の目的は、ウェーハ上にレチクルの原画を焼きつ
ける時、ウェーハ全面を同一光量で一定露光ができるこ
とを提供することにある。
本発明の目的は、ウェーハ全面を焼きつける場合各チッ
プ争に露光量が変化しては′ならない。常に露光量を監
視し、ランプの輝度を変えなければならない。そこで、
シャッターに照度センサーを取、りつけることによシ、
シャッターが閉じている時に測定し、開いている時は、
前の値をホールドし変化しないようにする。又、シャッ
ターに取シ付けることにより、レチクルパターンが複雑
でも（光の透過が悪い）ランプの輝度をパラメータとし
て１度セットしておけば十分である。
本発明の全体構成図を第１図によシ説明する。
縮小投影露光装置は、ランプ１、収束レンズ２、シャッ
ター３、積算制御回路４、縮小投影レンズ５、レチクル
６、ウエーノＳ７で構成される。
ランプｌより照射された光は、収束レンズ２を通して収
束され、シャッター３を開閉することによシレテクル６
面上に照射して縮小投影レンズ５を通してウェーハ７面
上に露光する。ワンチップ露光が終了するとシャッター
３を閉じ次のチップを露光するためにウェー・・７を移
動させる。順次ステップアンドリピートでウエーノ・全
面を露光する。そこで各チップ毎に定光量保つために第
２図のようにシャッター３に開口部とは反対側に照度セ
ンサーを取りつけ、閉じている間に照度を測定し、変化
量をランプ成力制御回路にフィードバックし定光量にす
る。第３図は、時間と照度の関係図で変化量は時間と照
度とは反比例（１０のａ）するのでランプ電力をフィー
ドバック回路で照度をあげる方法（１１の線）をとシ定
光量にするグラフである。このようにシャッター３に取
り付けることによりレチクル６面上全体を照射する量を
逐次測定していることになる。
本発明によれば、 （１）ワンチップ毎に測定できるため、ウェーハ全面定
光量できる。
Ｃ）　ウェーハの感度がよくなるにつれて、シャッタス
ピードが高速化され、シャッターが開いている時間より
、閉じている時間が長くなるので、より定光量を保つこ
とに効果がある。
（３）複雑なレチクルパターンに対しても無関係に測定
できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は縮小投影露光装置の全体構成図、第２図はシャ
ッター、の正面図、第３図は積算制御回路の関係図であ
る。 １・・・ランプ、２・・・収束レンズ、３・・・シーヤ
ツター、４・・・積算制御回路、５・・・縮小レンズ、
６・・・レチクル、７・・・ウェーハ、８・・・照度セ
ンサー、９・・・シャッター開口部、１０・・・ランプ
消費電力（ワット）、１１・・・ランプ電力制御。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １、照度センサーとシャッターと光源と積算制御回路よ
    り成る定光量露光において、シャッターに照度センサー
    を設けたことを特徴とする縮小投影露光装置の定光量制
    御方式。
JP13414381A 1981-08-28 1981-08-28 縮小投影露光装置の定光量制御方式 Pending JPS5835529A (ja)

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JP13414381A JPS5835529A (ja) 1981-08-28 1981-08-28 縮小投影露光装置の定光量制御方式

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JP13414381A JPS5835529A (ja) 1981-08-28 1981-08-28 縮小投影露光装置の定光量制御方式

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JPS5835529A true JPS5835529A (ja) 1983-03-02

Family

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61103140A (ja) * 1984-10-26 1986-05-21 Fuji Photo Film Co Ltd 写真焼付装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61103140A (ja) * 1984-10-26 1986-05-21 Fuji Photo Film Co Ltd 写真焼付装置

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