JPS5845333A - ストリツプの連続焼鈍設備 - Google Patents
ストリツプの連続焼鈍設備Info
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- JPS5845333A JPS5845333A JP14244281A JP14244281A JPS5845333A JP S5845333 A JPS5845333 A JP S5845333A JP 14244281 A JP14244281 A JP 14244281A JP 14244281 A JP14244281 A JP 14244281A JP S5845333 A JPS5845333 A JP S5845333A
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- cooling
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/56—Continuous furnaces for strip or wire
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- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ストリップの連続焼鈍設備の改良に関する。
第１図は、従来のス） ＩＪツブの連続焼鈍設備の一例
を示すが、ペイオフリーリ（図示せず）などに装着され
てほどき出されたス） ＩＪツブ１は加熱炉２で例えば
８００℃程度の温度まで加熱される。
を示すが、ペイオフリーリ（図示せず）などに装着され
てほどき出されたス） ＩＪツブ１は加熱炉２で例えば
８００℃程度の温度まで加熱される。
この加熱装置としては、輻射加熱方式のラジアントチュ
ーブなどが用いられる（図示せず）。ついで、該ストリ
ップ１は均熱炉３に入り、ここで一定の均熱温度で所定
の時間均熱化されたのち、第１冷却帯４で焼鈍温度から
過時効温度まで所定の冷却速度で冷却されたあと、過時
効帯５で一定の過時効温度で所定の時間保持される。そ
して過時効帯５で過時効処理が終ったストリップ１は、
第２冷却帯６で１００℃程度まで冷却され、炉外へ、出
てコイラーで巻き取られる。
ーブなどが用いられる（図示せず）。ついで、該ストリ
ップ１は均熱炉３に入り、ここで一定の均熱温度で所定
の時間均熱化されたのち、第１冷却帯４で焼鈍温度から
過時効温度まで所定の冷却速度で冷却されたあと、過時
効帯５で一定の過時効温度で所定の時間保持される。そ
して過時効帯５で過時効処理が終ったストリップ１は、
第２冷却帯６で１００℃程度まで冷却され、炉外へ、出
てコイラーで巻き取られる。
以上の操作によるス） ＩＪツブ１の温度変化の状態に
つき経過時間Ｔとストリップ温度Ｃの関係を第２図に示
す。
つき経過時間Ｔとストリップ温度Ｃの関係を第２図に示
す。
加熱炉２から第２冷却帯６までは互いに連結されており
、全体として一体の炉を形成していて、内部はス） Ｉ
Ｉツブ１の酸化を防止するために、窒素、水垢ガス等に
よる非酸化、還元雰囲気としである。
、全体として一体の炉を形成していて、内部はス） Ｉ
Ｉツブ１の酸化を防止するために、窒素、水垢ガス等に
よる非酸化、還元雰囲気としである。
上述のように、加熱炉２の加熱手段としては、ラジアン
トチューブ等の間接輻射加熱である。このラジアントチ
ューブを一例にとると、管内に高温の燃焼排ガスを流し
て管内壁を加熱し、この管外壁からの輻射熱でストリッ
プ１を加熱する。そしてス） ＩＪツブと間接的に熱交
換１．た燃焼排ガスは管内を流れて温水器等に導びかれ
て冷却排気される。
トチューブ等の間接輻射加熱である。このラジアントチ
ューブを一例にとると、管内に高温の燃焼排ガスを流し
て管内壁を加熱し、この管外壁からの輻射熱でストリッ
プ１を加熱する。そしてス） ＩＪツブと間接的に熱交
換１．た燃焼排ガスは管内を流れて温水器等に導びかれ
て冷却排気される。
均熱炉６では、ストＩ７ツプ１を一定の温度に保持せね
ばならないためラジアントチューブ或いは電気ヒータエ
レメント等により、炉体放熱分だけ加熱して（・る。
ばならないためラジアントチューブ或いは電気ヒータエ
レメント等により、炉体放熱分だけ加熱して（・る。
第１冷却帯４では、ス） ＩＪツブ１を所定の冷却速度
で冷却するためガスまたは水により冷却を行う。
で冷却するためガスまたは水により冷却を行う。
過時効帯５では、均熱炉３と同様にス） ＩＪツゾ１を
一定の温度に保持しなければならな（・ため、ラジアン
トチューブ或（、・は電気ヒータエレメント等により加
熱している〇 第２冷却帯６では、第１冷却帯４と同様にガスまたは水
により冷却を行っている。
一定の温度に保持しなければならな（・ため、ラジアン
トチューブ或（、・は電気ヒータエレメント等により加
熱している〇 第２冷却帯６では、第１冷却帯４と同様にガスまたは水
により冷却を行っている。
上記従来の連続焼鈍設備において各炉にお（・て次の欠
点があった。
点があった。
（１）加熱帯
ラジアントチューブで加熱する場合、スト１」ツブ１の
加熱に使われる熱量は、燃焼発熱量の５０％程度で効率
が悪く、しかも排ガス顕熱は温水器等により水に回収さ
れるため、有効利用が難しい。
加熱に使われる熱量は、燃焼発熱量の５０％程度で効率
が悪く、しかも排ガス顕熱は温水器等により水に回収さ
れるため、有効利用が難しい。
（均 均熱帯及び過時効帯
ス） ＩＪツブの温度を一定に保持するために加熱が必
要であるが、この熱は炉体かも大気へ放散され回収が不
可能である。
要であるが、この熱は炉体かも大気へ放散され回収が不
可能である。
（ホ）第１冷却帯及び第２冷却帯
（ａ） 冷媒としてガスを使用する場合。
ス） ＩＪツブを冷却する際の熱伝達率は高々３ Ｑ
Ｑ ｋｃａｌ ７ｍ２ｈ ℃であり、所定の冷却速度で
冷却するためには装置が大型化し、かつ多量のエネルギ
が必要となる。
Ｑ ｋｃａｌ ７ｍ２ｈ ℃であり、所定の冷却速度で
冷却するためには装置が大型化し、かつ多量のエネルギ
が必要となる。
また、熱伝達率が低いため、ストリップと冷却ガスの温
度差を大きくとらねばならず。
度差を大きくとらねばならず。
ス） ＩＩツブ顕熱は低（・レベルでしか回収できない
。
。
（ｂ）冷媒として水を使用する場合。
冷却速度を制御することが難しく、しかもストリップ顕
熱を低（・エネルギレベルでしか回収できない。
熱を低（・エネルギレベルでしか回収できない。
上記従来のスト１１ツブ連続焼鈍設備では（イ）それな
りに省エネ対策が採られているか、冷却過程におけるス
トリップの顕熱回収は殆んど行われて（・ない。
りに省エネ対策が採られているか、冷却過程におけるス
トリップの顕熱回収は殆んど行われて（・ない。
仲）加熱、冷却能力が装ｊ青的に限界にきており、大型
化して多量゛のエネルギを使用せざるを得なくなってい
る。
化して多量゛のエネルギを使用せざるを得なくなってい
る。
（ハ）加熱、冷却が各々のセクションで独立して行われ
ており、それぞれが近接して（・るにも拘わらず、ス）
ＩＪツゾ頗熱を介して、加熱、冷却ゾーン相互のエネ
ルギの授受かない。
ており、それぞれが近接して（・るにも拘わらず、ス）
ＩＪツゾ頗熱を介して、加熱、冷却ゾーン相互のエネ
ルギの授受かない。
などの欠点があった。
本発明は、上記従来設備の欠点な′Ｍ消することを目的
として斗是案されたものである。
として斗是案されたものである。
以下、第６図に示す実施例により、本発明につき具体的
に説明する。同図において、１はス） ＩＩツブ、２は
従来と同様の加熱炉、３は従来と同様の均熱炉をそれぞ
れ示す（加熱炉、均熱炉には第１図と同一符号を付しで
ある）。７は均熱炉６にし１示の如く接続された第１冷
却帯で、同第１冷却帯７は溶融塩を充たされた溶融塩槽
１７と冷媒を通す伝熱管２７とで構成されている。８は
該第１冷却帯７に図示の如く連結された過時効帯で、同
過時効帯８も溶書塩槽１８と、伝熱管２８とで構成され
て（・る。９は該過冷却帯８に図示の如く接続された第
２冷却帯で、同第２冷却帯９も溶融塩槽１９と伝熱管２
９とで構成されている。１００は該第２冷却帯９の出口
に図示の如く配設された第１リンガ−ロール、１０は洗
浄槽、１０１は第２リーガーロールをそれぞれ示す。
に説明する。同図において、１はス） ＩＩツブ、２は
従来と同様の加熱炉、３は従来と同様の均熱炉をそれぞ
れ示す（加熱炉、均熱炉には第１図と同一符号を付しで
ある）。７は均熱炉６にし１示の如く接続された第１冷
却帯で、同第１冷却帯７は溶融塩を充たされた溶融塩槽
１７と冷媒を通す伝熱管２７とで構成されている。８は
該第１冷却帯７に図示の如く連結された過時効帯で、同
過時効帯８も溶書塩槽１８と、伝熱管２８とで構成され
て（・る。９は該過冷却帯８に図示の如く接続された第
２冷却帯で、同第２冷却帯９も溶融塩槽１９と伝熱管２
９とで構成されている。１００は該第２冷却帯９の出口
に図示の如く配設された第１リンガ−ロール、１０は洗
浄槽、１０１は第２リーガーロールをそれぞれ示す。
本発明のス） ＩＪツブの連続・焼鈍設備の一実施例は
、上記のように構成されており、従来同様に加熱炉２、
均熱炉３で加熱、均熱されたス） ＩＪツブ１は溶融塩
で充たされた第１冷却帯７の溶融塩槽１７に入り、ここ
で冷却される。この時に放出されるストリップ顕熱は、
＠融塩、伝熱管２７を介して伝熱管２７内の冷媒（例え
ば水）′に、伝えられ。
、上記のように構成されており、従来同様に加熱炉２、
均熱炉３で加熱、均熱されたス） ＩＪツブ１は溶融塩
で充たされた第１冷却帯７の溶融塩槽１７に入り、ここ
で冷却される。この時に放出されるストリップ顕熱は、
＠融塩、伝熱管２７を介して伝熱管２７内の冷媒（例え
ば水）′に、伝えられ。
加熱に使われる。
瞠いてス） ＩＩＩツブは過時効帯８に入り、その内〆
ｆＢ；に保有さ牙１．ているス） ＩＪツブ渦度に等し
く・溶融塩により一定ｌ晶度に所定時間保持される。溶
ｍｌｊ塩佃１８の内部には伝熱管２８が配されており５
炉体放熱分だけ浴融塩を加熱し、溶融塩温度を一定に保
つよう市１（御されている。また、この過時効帯８ば、
過時効を必安にともない鋼種に対しては、（谷融塩を伝
熱室２８中に冷却媒体を流して葡即することによって冷
却帯として使用することもｏＪ能である。
ｆＢ；に保有さ牙１．ているス） ＩＪツブ渦度に等し
く・溶融塩により一定ｌ晶度に所定時間保持される。溶
ｍｌｊ塩佃１８の内部には伝熱管２８が配されており５
炉体放熱分だけ浴融塩を加熱し、溶融塩温度を一定に保
つよう市１（御されている。また、この過時効帯８ば、
過時効を必安にともない鋼種に対しては、（谷融塩を伝
熱室２８中に冷却媒体を流して葡即することによって冷
却帯として使用することもｏＪ能である。
過時効帯８を出たストリップは第２冷却帯９に入り、嬉
１冷却帝７と同様に冷却される。第２冷却帯９を出たス
） ＩＪツブには浴融塩が付層しているため、第１リン
ガ−ロール１００で該付層溶融Ｊ詰が落され、史にスト
リップに付着して残る溶融」蔦を洗浄槽１０に入れ、溶
融塩が水に溶ける性質を利用して該残存溶融塩を水洗除
去する。
１冷却帝７と同様に冷却される。第２冷却帯９を出たス
） ＩＪツブには浴融塩が付層しているため、第１リン
ガ−ロール１００で該付層溶融Ｊ詰が落され、史にスト
リップに付着して残る溶融」蔦を洗浄槽１０に入れ、溶
融塩が水に溶ける性質を利用して該残存溶融塩を水洗除
去する。
洗浄槽１０を出たストリップは、第２冷却帯９を出るス
トリップ同様にその表面に付着する塩水溶液を第２リン
ガ−ロール１０１で除去し、乾燥本発明設備は、上記の
ような構成１作用を具有するものであるがら、本発明に
よれば、次のような実用的効果を挙げることができる。
トリップ同様にその表面に付着する塩水溶液を第２リン
ガ−ロール１０１で除去し、乾燥本発明設備は、上記の
ような構成１作用を具有するものであるがら、本発明に
よれば、次のような実用的効果を挙げることができる。
（１） 熱伝達率の向上をはがれる。すなわち、従来
のガス冷却による方法では、高々３ Ｑ Ｑ ｋｃａｌ
／ｍｈ’ｃであった熱伝達率が本発明では２１］ｔ］０
〜３ Ｑ Ｑ Ｑ ｋｃａｌ／ｍ２ｈ ℃と高くなる。
のガス冷却による方法では、高々３ Ｑ Ｑ ｋｃａｌ
／ｍｈ’ｃであった熱伝達率が本発明では２１］ｔ］０
〜３ Ｑ Ｑ Ｑ ｋｃａｌ／ｍ２ｈ ℃と高くなる。
この結果、冷却速度を従来と同様に設定するとすれば、
冷媒（溶融塩）の温度な高くすることができる。
冷媒（溶融塩）の温度な高くすることができる。
（２）高レベルのエネルギ回収が可能である。すなわち
、ス） １ツブの冷却熱を溶融塩を介して伝熱管内の冷
媒（例えば水）に伝えこれを回収することが可能である
。更に上述の熱伝達率の向上により溶融塩高度が高く設
定されているため、伝熱管内の冷媒が高エネルギレベル
まで上げられる。
、ス） １ツブの冷却熱を溶融塩を介して伝熱管内の冷
媒（例えば水）に伝えこれを回収することが可能である
。更に上述の熱伝達率の向上により溶融塩高度が高く設
定されているため、伝熱管内の冷媒が高エネルギレベル
まで上げられる。
（３）回収したエネルギを装置内で有効利用できる。例
えば第２冷却帯伝熱管内で給水を予熱あるいは更に蒸発
させ、これを第１冷却帯７に送り蒸；ｈ’ Ｅ＞るいは
過熱する。これを加熱帯人口近くの低パ晶ストリップの
加熱に使用することができる（方法としては第１図の冷
却、過時効帯と同様な構造を有する溶剤１塩を熱媒とし
た加熱炉を使用することができるが図示はしない）。
えば第２冷却帯伝熱管内で給水を予熱あるいは更に蒸発
させ、これを第１冷却帯７に送り蒸；ｈ’ Ｅ＞るいは
過熱する。これを加熱帯人口近くの低パ晶ストリップの
加熱に使用することができる（方法としては第１図の冷
却、過時効帯と同様な構造を有する溶剤１塩を熱媒とし
た加熱炉を使用することができるが図示はしない）。
また、第１冷却帯７で得られる蒸気が過時効設定ｌ晶度
以上の温度であれば、これを過時効帯８の伝熱管２８に
導きス） ＩＩＩツブ度保持に便、用することができる
。史にこれに必要な熱量は冷却帯で回収される熱針より
も少ないケースが多（・ため余剰の回収エネルギは他用
途に有効利用できる。
以上の温度であれば、これを過時効帯８の伝熱管２８に
導きス） ＩＩＩツブ度保持に便、用することができる
。史にこれに必要な熱量は冷却帯で回収される熱針より
も少ないケースが多（・ため余剰の回収エネルギは他用
途に有効利用できる。
（４）冷却速度と冷却終了温度の制御が容易である。上
記＋１１で述べたようにストＩＪツブと溶融塩の１．１
１の熱１ぺ達゛冬が旨いため溶・ぜ１１塙温度の若干の
変更により冷却速ＩＷの仙側１が容易である。しかも冷
却終了温度ある（・はス） ＩＩツブ保保温温度溶融塩
温度の設定により浩弓度を筒めることかできる。
記＋１１で述べたようにストＩＪツブと溶融塩の１．１
１の熱１ぺ達゛冬が旨いため溶・ぜ１１塙温度の若干の
変更により冷却速ＩＷの仙側１が容易である。しかも冷
却終了温度ある（・はス） ＩＩツブ保保温温度溶融塩
温度の設定により浩弓度を筒めることかできる。
（５）運転１、・７１力費が減少する。すなわち、従来
の方法・装置に比ベガス循環系等補機設備が殆Ａ７どい
らず、運転ＩＪＺｈ力費が減少する。
の方法・装置に比ベガス循環系等補機設備が殆Ａ７どい
らず、運転ＩＪＺｈ力費が減少する。
第４図に示す本発明の他の実施例は、第１冷却￥ｉ７．
過時効帯８．第２冷却帯９の溶融塩槽をそれぞれ分離し
、史に第１．第２冷却帯７．９については、各々の溶融
塩槽を内部で細分割した例を示す。本例は上記の（４）
で述べたストＩＪツブ温度を制御するための溶融塩温度
の設定が各々のセクションについて行える利点がある。
過時効帯８．第２冷却帯９の溶融塩槽をそれぞれ分離し
、史に第１．第２冷却帯７．９については、各々の溶融
塩槽を内部で細分割した例を示す。本例は上記の（４）
で述べたストＩＪツブ温度を制御するための溶融塩温度
の設定が各々のセクションについて行える利点がある。
第５図に示す本発明の更に他の実施例は、アツキュムレ
ータ１００１を使用し、ストリップをコイル状にして一
時貯蔵する過時効帯１００８を設えたもので、これはロ
ールを使用してパスを構成し過時効所定時間でこれを通
過する第６図及び第４図に示すものよりも装置を小型化
できるメリットをもつ。
ータ１００１を使用し、ストリップをコイル状にして一
時貯蔵する過時効帯１００８を設えたもので、これはロ
ールを使用してパスを構成し過時効所定時間でこれを通
過する第６図及び第４図に示すものよりも装置を小型化
できるメリットをもつ。
第１図は従来設備の略丞的説明図、第２図は連続焼鈍設
備によるストリップの焼鈍時間と温度との関係をボすグ
ラフ、第６図は本発明の一実舟例の概略説明図、第４図
、第５図はそれぞれ本発明の他の実施例の概略説明図で
ある。 １ニストリツプ、 ２：加熱炉、 ３：均熱炉。 ７：第１冷却帯、 １７：溶融塩槽。 ８：過時効帯、 １８：溶融塩槽。 ９：第２冷却帯、 １９：溶融塩槽。 １０：洗浄槽。 ２７、２８．２９ ：伝熱管。 １００．１０１ ：リンガーロール。 １００１：アキュムレータ。 １ｏＯｓ ：過時効帯。
備によるストリップの焼鈍時間と温度との関係をボすグ
ラフ、第６図は本発明の一実舟例の概略説明図、第４図
、第５図はそれぞれ本発明の他の実施例の概略説明図で
ある。 １ニストリツプ、 ２：加熱炉、 ３：均熱炉。 ７：第１冷却帯、 １７：溶融塩槽。 ８：過時効帯、 １８：溶融塩槽。 ９：第２冷却帯、 １９：溶融塩槽。 １０：洗浄槽。 ２７、２８．２９ ：伝熱管。 １００．１０１ ：リンガーロール。 １００１：アキュムレータ。 １ｏＯｓ ：過時効帯。
Claims (1)
- 加熱炉、均熱炉、第１冷却帯、過時効帯及び第２冷却帯
よりなるストリップの連続焼鈍設備において、第１冷却
帯、過時効帯及び第２冷却帯を、それぞれ溶融塩を充し
た溶融塩槽と、内部を冷媒が流通する伝熱管とで形成し
てなることを特徴とするス） ＩＪツブの連続焼鈍設備
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14244281A JPS5845333A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | ストリツプの連続焼鈍設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14244281A JPS5845333A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | ストリツプの連続焼鈍設備 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5845333A true JPS5845333A (ja) | 1983-03-16 |
| JPS6214013B2 JPS6214013B2 (ja) | 1987-03-31 |
Family
ID=15315402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14244281A Granted JPS5845333A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | ストリツプの連続焼鈍設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5845333A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59224981A (ja) * | 1983-04-08 | 1984-12-17 | Sony Corp | テスト信号発生器 |
-
1981
- 1981-09-11 JP JP14244281A patent/JPS5845333A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59224981A (ja) * | 1983-04-08 | 1984-12-17 | Sony Corp | テスト信号発生器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6214013B2 (ja) | 1987-03-31 |
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