JPS5855928A - 直接ポジハロゲン化銀感光材料の処理方法 - Google Patents
直接ポジハロゲン化銀感光材料の処理方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/30—Developers
-
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/485—Direct positive emulsions
- G03C1/48538—Direct positive emulsions non-prefogged, i.e. fogged after imagewise exposure
- G03C1/48546—Direct positive emulsions non-prefogged, i.e. fogged after imagewise exposure characterised by the nucleating/fogging agent
- G03C1/48561—Direct positive emulsions non-prefogged, i.e. fogged after imagewise exposure characterised by the nucleating/fogging agent hydrazine compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、直接ボジ写真像を形成するハロゲン化銀感光
材料を現像する処理方法に関するものである。特にカブ
ラセ剤として新規な化合物を・・ロゲン化銀乳剤層又は
他の親水性コロイド層K含有する直接ポジ型与真感光材
料をpHii.o以上の現像液で、安定に処理するだめ
の現像処理方法に関するものである。
材料を現像する処理方法に関するものである。特にカブ
ラセ剤として新規な化合物を・・ロゲン化銀乳剤層又は
他の親水性コロイド層K含有する直接ポジ型与真感光材
料をpHii.o以上の現像液で、安定に処理するだめ
の現像処理方法に関するものである。
ハロゲン化銀写真法の分野において、ネガ像あるいはネ
ガ像を得る中間処理を介しないでポジ写真像を得ること
のできる写真法を直接ボジ与真法、そのような写真法に
用いる写真感光材料及び写真乳剤を、直接ポジ感光材料
及び直接ポジ写真乳剤と各々呼んでいる。
ガ像を得る中間処理を介しないでポジ写真像を得ること
のできる写真法を直接ボジ与真法、そのような写真法に
用いる写真感光材料及び写真乳剤を、直接ポジ感光材料
及び直接ポジ写真乳剤と各々呼んでいる。
直接ポジ写真法には種々あるが、予めカブらせたハロゲ
ン化銀粒子を減感剤の存在の下に露光したdk現像する
方法と、主としてハロゲン化鍜粒子の内部K感光核を有
するノ・ロゲン化銀乳剤を露光後カブらせ剤の存在下に
現像する方法とが最も有用である。本発明は後者に関す
るものである。ハロゲン化銀粒子内部に感光核を主に有
し、粒子内部に主として潜儂が生成さnるような・・ロ
ゲン化銀乳剤は内部m儂淑ハロゲン化銀乳剤と言われて
おり、主として粒子表面上に潜像を形成するハロゲン化
銀粒子とは区別されるものである。
ン化銀粒子を減感剤の存在の下に露光したdk現像する
方法と、主としてハロゲン化鍜粒子の内部K感光核を有
するノ・ロゲン化銀乳剤を露光後カブらせ剤の存在下に
現像する方法とが最も有用である。本発明は後者に関す
るものである。ハロゲン化銀粒子内部に感光核を主に有
し、粒子内部に主として潜儂が生成さnるような・・ロ
ゲン化銀乳剤は内部m儂淑ハロゲン化銀乳剤と言われて
おり、主として粒子表面上に潜像を形成するハロゲン化
銀粒子とは区別されるものである。
内部潜gI型ハロゲン化銀写真乳剤をカブらせ剤の存在
下で表面現像することKよって直接ポジ像を得る方法及
びそのような方法κ用いられる写真乳剤又は感光材料は
米国特許コ.44j4,WjJ号明細書、同一,夢27
.I7j号明細書、同コ,≠27,174号明細書、同
−ejII−タtコ号明細書、同コ,!タコ,コj0号
明細書、同コ,≦71,Jet号明細書、同J,ココ7
,112号明細書、同J,74/,274号明細書、英
国特許i,oit,otλ号明細書、同/,/11,J
4J号明細書、特公@参J−コタ4g01号公報などで
知られている。
下で表面現像することKよって直接ポジ像を得る方法及
びそのような方法κ用いられる写真乳剤又は感光材料は
米国特許コ.44j4,WjJ号明細書、同一,夢27
.I7j号明細書、同コ,≠27,174号明細書、同
−ejII−タtコ号明細書、同コ,!タコ,コj0号
明細書、同コ,≦71,Jet号明細書、同J,ココ7
,112号明細書、同J,74/,274号明細書、英
国特許i,oit,otλ号明細書、同/,/11,J
4J号明細書、特公@参J−コタ4g01号公報などで
知られている。
上記の直接ポジ像を得る方法においてカブらせ剤は現像
液中に添加してもよいが、感光材料の写真乳剤層または
その他の層に添加することによりハロゲン化銀粒子表面
に吸着させたときに、より良い反転特性を得ることがで
きる。
液中に添加してもよいが、感光材料の写真乳剤層または
その他の層に添加することによりハロゲン化銀粒子表面
に吸着させたときに、より良い反転特性を得ることがで
きる。
上記の直接ボジ儂を得る方法において使用するカブらせ
剤としては米国特許コ.j乙J,71j号明細書、同コ
,set.タlコ号明細書及び同3.λλ7,!jλ号
明細書にそれぞれ記載されたヒドラジン及びその誘導体
が知られている。特に米国特許3,λλ7.11λ号明
細書には、ヒドラジンの誘導体であるヒドラジド及びヒ
ドラジン系化合物が現儂液中のみでなく感光層中に添加
しても使えることが示されている。
剤としては米国特許コ.j乙J,71j号明細書、同コ
,set.タlコ号明細書及び同3.λλ7,!jλ号
明細書にそれぞれ記載されたヒドラジン及びその誘導体
が知られている。特に米国特許3,λλ7.11λ号明
細書には、ヒドラジンの誘導体であるヒドラジド及びヒ
ドラジン系化合物が現儂液中のみでなく感光層中に添加
しても使えることが示されている。
爽に米国特許参,030,タ2!号明細書(対応西独特
許出願公開(OLS)λ,tJj,Jlt号)pfri
34k,03/,/27号明Ia簀<対応西独特許出願
公開(OL8)コ,431,317号》にはアシルヒド
ラジノ7エニルチオ尿素化合物t使用する事が提案きれ
ている。
許出願公開(OLS)λ,tJj,Jlt号)pfri
34k,03/,/27号明Ia簀<対応西独特許出願
公開(OL8)コ,431,317号》にはアシルヒド
ラジノ7エニルチオ尿素化合物t使用する事が提案きれ
ている。
しかしながら、これら公知のカブらせ剤は直接ポジ感光
材料の保存性に悪影醤を与えたり、粒子サイズの小さな
内部潜像型ハロゲン化銀をカブらせる能力が不足してい
たり、現像液の臭素イオン濃度の変動によって反転性1
ヒが大きく変動したり、添加量のパラつきによる反転性
能の変動が大きいなどの欠点を有するものであった。
材料の保存性に悪影醤を与えたり、粒子サイズの小さな
内部潜像型ハロゲン化銀をカブらせる能力が不足してい
たり、現像液の臭素イオン濃度の変動によって反転性1
ヒが大きく変動したり、添加量のパラつきによる反転性
能の変動が大きいなどの欠点を有するものであった。
一方、上記ヒドラジ/n導体のカプラセ剤を含有した内
部l1偉減ハロゲン化銀感材を現像する場合、現像液の
9Hをii,o以上Kしないと現像がおこらず、従って
J)maxが出ない。これはカブラセ剤のカブラ七作用
が、pHtt,o以上でないとおこらないことによる。
部l1偉減ハロゲン化銀感材を現像する場合、現像液の
9Hをii,o以上Kしないと現像がおこらず、従って
J)maxが出ない。これはカブラセ剤のカブラ七作用
が、pHtt,o以上でないとおこらないことによる。
従って、ヒドラジン型のカプラセ剤を用いた場合、現像
液のp,}l’6通常の現像液よりも高くしなければな
らず、そのため、空気酸化や、処理時の疲労物により現
像液のpHが変動し、感度、階調、Dmax%pmin
などの与真性が変化するという根本的な欠点があった。
液のp,}l’6通常の現像液よりも高くしなければな
らず、そのため、空気酸化や、処理時の疲労物により現
像液のpHが変動し、感度、階調、Dmax%pmin
などの与真性が変化するという根本的な欠点があった。
近年、高pi−1の現像液を空気による酸化から防ぐた
めに、処理液を粘性にしてポッドκつめて密ペイしてお
き、現像する直前に機械的にポツドをやぶり処理する方
法や、密ペイした容器に現像液を入れて、そこからスプ
レイ方式で感材に現像液をふきつける方法など、空気と
の接触をさける方向で高pH現像を行う試みがなされて
いる。
めに、処理液を粘性にしてポッドκつめて密ペイしてお
き、現像する直前に機械的にポツドをやぶり処理する方
法や、密ペイした容器に現像液を入れて、そこからスプ
レイ方式で感材に現像液をふきつける方法など、空気と
の接触をさける方向で高pH現像を行う試みがなされて
いる。
しかしながらこnらの方式は、従来の浸漬型の処理万式
に比べ処理面積を広くとれないとか、処理機の機構が機
雑になるなどの欠点があり、汎用の処理方式としては不
適当で、従って、汎用の浸漬皺の処理機でも使える高p
Hでも安定な処理方法がとくに望まれていた。
に比べ処理面積を広くとれないとか、処理機の機構が機
雑になるなどの欠点があり、汎用の処理方式としては不
適当で、従って、汎用の浸漬皺の処理機でも使える高p
Hでも安定な処理方法がとくに望まれていた。
又ハロゲン化銀感材を処理した処理液は、pHが下が゛
りハロゲンが増加し、生薬や亜硫酸が消費される。この
様な処理液を処理疲労液と呼ぶが、カブラセ剤を含有す
る感材は特にpHの変動に対し敏感で、感度、l)ma
xが著しく変動する。この様な場合、通常緩衝剤として
炭酸ソーダや第三リン酸ソーダが用いられているが、こ
れらの緩衝剤はpHが/0前後まででしか有効でな(、
pHが/l−tλ付近では緩衝作用がないという欠点が
あった。
りハロゲンが増加し、生薬や亜硫酸が消費される。この
様な処理液を処理疲労液と呼ぶが、カブラセ剤を含有す
る感材は特にpHの変動に対し敏感で、感度、l)ma
xが著しく変動する。この様な場合、通常緩衝剤として
炭酸ソーダや第三リン酸ソーダが用いられているが、こ
れらの緩衝剤はpHが/0前後まででしか有効でな(、
pHが/l−tλ付近では緩衝作用がないという欠点が
あった。
従って、不発萌の第一の目的は、直接ボジ感光材料を−
処理する方汰を提供することであり、第二に処理疲労や
空気酸化によるpH変動の少ない女定な高pH型現像−
液を用いた処理方法を提供することである。また、第三
に反転性能のすぐれた直接ポジ感材の処埋方法を提供す
ることであり、更に、纂四に保存性のすぐれた直接ポジ
感光材料の処理方法を提供することである。
処理する方汰を提供することであり、第二に処理疲労や
空気酸化によるpH変動の少ない女定な高pH型現像−
液を用いた処理方法を提供することである。また、第三
に反転性能のすぐれた直接ポジ感材の処埋方法を提供す
ることであり、更に、纂四に保存性のすぐれた直接ポジ
感光材料の処理方法を提供することである。
本発明の上記諸目的は、支持体上に―布された観水性コ
ロイド層の少なくとも一層中に下記の一般式(1)で表
わされる化合物を含有する直接ボジハロゲン化銀写真感
光材料を、ハイドロキノ7類をλsI/l以上含有する
pH//,D〜/Jの現像液で処理することによって達
成されることを見い出した。
ロイド層の少なくとも一層中に下記の一般式(1)で表
わされる化合物を含有する直接ボジハロゲン化銀写真感
光材料を、ハイドロキノ7類をλsI/l以上含有する
pH//,D〜/Jの現像液で処理することによって達
成されることを見い出した。
一般式CI)
RNHNHCOR”
式中、几は置換されてもよいアリール基又は置換されて
もよいアルキル基を表わし、凡は水素原子、置換されて
もよいアリール基又は置換されてもよいアル中ル蔦を表
わす。
もよいアルキル基を表わし、凡は水素原子、置換されて
もよいアリール基又は置換されてもよいアル中ル蔦を表
わす。
一般式(1)においてBlで表わされる基のうち置換さ
れてもよいアリール基は単穣又はλ穣のアリール基で、
例えばべ/ゼン壌やナフタレン環、特に好ましくはべ/
ゼ/壌を含むものである。
れてもよいアリール基は単穣又はλ穣のアリール基で、
例えばべ/ゼン壌やナフタレン環、特に好ましくはべ/
ゼ/壌を含むものである。
このアリール基は置換されていてもよく、好ましい置換
基としては直鎖、分岐及び壌状のアルキル基(好ましく
は炭素数/〜λ0のもの。例えば、メチル基、エチル基
、イノプロビル基、n−ドデシル基など)、アラルキル
基(好ましくはアルキル部分の炭素数がl〜3の単壌又
は−2311のもの。
基としては直鎖、分岐及び壌状のアルキル基(好ましく
は炭素数/〜λ0のもの。例えば、メチル基、エチル基
、イノプロビル基、n−ドデシル基など)、アラルキル
基(好ましくはアルキル部分の炭素数がl〜3の単壌又
は−2311のもの。
例えばベンジル基)、アルコキシ基(好ましくは戻素数
/−20のもの。例えばメトキシ基、エトキシ基)、置
換アミノ基(好ましくは炭素数7〜λOのアルキル基で
置換されたもの.例えばジメチルアミノ基、ジエチルア
ミノ基)、脂肪族アシルアミノ基(好ましくは炭素数λ
〜λlのアルキル基を持つもの。例えばアセチルアミノ
基、ヘブチルアミノ基)、芳香族アシルアミノ基(好ま
しくは単壌又はλ壌のアリール基を持つもの。例えばペ
ンゾイルアミノ基)、又はX{−Y+。で表わされる基
などを挙げることができる。
/−20のもの。例えばメトキシ基、エトキシ基)、置
換アミノ基(好ましくは炭素数7〜λOのアルキル基で
置換されたもの.例えばジメチルアミノ基、ジエチルア
ミノ基)、脂肪族アシルアミノ基(好ましくは炭素数λ
〜λlのアルキル基を持つもの。例えばアセチルアミノ
基、ヘブチルアミノ基)、芳香族アシルアミノ基(好ま
しくは単壌又はλ壌のアリール基を持つもの。例えばペ
ンゾイルアミノ基)、又はX{−Y+。で表わされる基
などを挙げることができる。
上記X+Y+。で表わされる基において、/)nはO又
はlを意味する。
はlを意味する。
−2)Yは−2仏の連結基、例えば一〇〇NH−,−a
”1−CONH−.−(J−Rl1−CONH−,−S
−ルl1−CONH−,一凡五1−.Hll−o−Bl
!−.−Bll,41−Hl!.−SL)N}1−.−
R”l−80,N}i−,2 −NHCON}i−,−CH,−C}1−N−.一几1
1−NH−.一凡1l−〇一B””−CON}1−.−
NHCO一几11−.−N}icO−Rll−CON}
i−,一几11−B12一などを意味する. こζで凡とHal!は同じでも異なってもよ〈、それぞ
れλ価の飽和又は不飽和の脂肪族基(例えばエチレン基
、ゾテニレ/基、l−メチルプロピレン&、/−メチル
メチレ7Mrなど)、又はコ価の芳香族基(アミノ基な
どの置換基を有していてもよい.例えばフエニレン1、
ナ7チレン基、!−アミノーl.λ−フエニレン基など
》を表わす。ただし一R11−B12−の場合、凡11
と凡12は互いに異なるλ価の基となる.羊位を有する
基、 単位を有する革、 で表わされる 基、{I素壌残基、アラルキル基(nコlのとき)、置
換アリール基、 基を意味する。
”1−CONH−.−(J−Rl1−CONH−,−S
−ルl1−CONH−,一凡五1−.Hll−o−Bl
!−.−Bll,41−Hl!.−SL)N}1−.−
R”l−80,N}i−,2 −NHCON}i−,−CH,−C}1−N−.一几1
1−NH−.一凡1l−〇一B””−CON}1−.−
NHCO一几11−.−N}icO−Rll−CON}
i−,一几11−B12一などを意味する. こζで凡とHal!は同じでも異なってもよ〈、それぞ
れλ価の飽和又は不飽和の脂肪族基(例えばエチレン基
、ゾテニレ/基、l−メチルプロピレン&、/−メチル
メチレ7Mrなど)、又はコ価の芳香族基(アミノ基な
どの置換基を有していてもよい.例えばフエニレン1、
ナ7チレン基、!−アミノーl.λ−フエニレン基など
》を表わす。ただし一R11−B12−の場合、凡11
と凡12は互いに異なるλ価の基となる.羊位を有する
基、 単位を有する革、 で表わされる 基、{I素壌残基、アラルキル基(nコlのとき)、置
換アリール基、 基を意味する。
ここでgL素壌残基とは少なくとも1個のへテロ原子を
含む!又は6員壌であって、芳香環、特にベンゼン項と
緬合していてもよく、好ましくは複素壌化合物の一価の
晶(例えばl,λ−べ/ズトリアゾール−!−イル、j
−テトラゾイル、インダゾール−3−イル、/,3−ペ
ンズイミダゾール−j−イル、ヒドロキシテトシザイ/
デンーλ一又は−3→ルなと)、複累積四級アンモニウ
ム塩の一価の基(例えばN一エチルベンズチアゾリニウ
ム−λ−イル、N−スルホエチルーベ/ズチアゾニリウ
ム−λ−イル、N,N−ジメチルベ/ズイミダゾリニウ
ム−一−イルなど)、メルカプト基を有する複素壌化合
物の一価の基(例えば、λ−メルカブトベンズチアゾー
ル=j一又は−4−イル、λ−メルカブトベ/ズオギサ
ゾールー!−又ri−4−イルなと)である。
含む!又は6員壌であって、芳香環、特にベンゼン項と
緬合していてもよく、好ましくは複素壌化合物の一価の
晶(例えばl,λ−べ/ズトリアゾール−!−イル、j
−テトラゾイル、インダゾール−3−イル、/,3−ペ
ンズイミダゾール−j−イル、ヒドロキシテトシザイ/
デンーλ一又は−3→ルなと)、複累積四級アンモニウ
ム塩の一価の基(例えばN一エチルベンズチアゾリニウ
ム−λ−イル、N−スルホエチルーベ/ズチアゾニリウ
ム−λ−イル、N,N−ジメチルベ/ズイミダゾリニウ
ム−一−イルなど)、メルカプト基を有する複素壌化合
物の一価の基(例えば、λ−メルカブトベンズチアゾー
ル=j一又は−4−イル、λ−メルカブトベ/ズオギサ
ゾールー!−又ri−4−イルなと)である。
また、Xが意味するアラルキル基としてはアルキル基部
分が炭素数/−jの単環又はλ壌のアラルキル基をいい
、例えばベンジル基などがある。
分が炭素数/−jの単環又はλ壌のアラルキル基をいい
、例えばベンジル基などがある。
Xが意味する置換アリール基としては、置換基として、
メチル、エチル、プロビル、ブチル、アミル、などのア
ルキル基や、メトキシ、エトキシなどのアルコキシ基、
ニトロ基、スルホ/アミド基、アセトアミド基などで置
換されたものがある。
メチル、エチル、プロビル、ブチル、アミル、などのア
ルキル基や、メトキシ、エトキシなどのアルコキシ基、
ニトロ基、スルホ/アミド基、アセトアミド基などで置
換されたものがある。
Xが、
単位を有する基及び
単位を有する基のアルキル基部分としてはI7it累数
が7〜ioのものである。
が7〜ioのものである。
Xが意味する
単位を有する基とし
ては、好ましくは
どが好ましい。
ここでR21は脂肪族基(例えば、アルキル基、シクロ
アルキル基、アルケニル基〕、芳香族基(例えばフエニ
ル基、ナフチル基)又は複木横残基(例えばチアゾリル
基、ペンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、テアゾリニ
ル基、ビリジニル基、テトラゾリル基など)を表わし、
几22は水素原子、R21で例示した脂肪族基又はH2
1で91」示した芳香族基を表わし、几は水素原子又は
R31で例示した脂肪族基を表わし、ル11は前述した
と同じ意味を表わす。ただし、Bと321のうちの少な
くともひとつは水素原子である。またR21と几2sは
互いに結合して積を形成してもよく、その好ましい例と
してはなどを挙げることができる。
アルキル基、アルケニル基〕、芳香族基(例えばフエニ
ル基、ナフチル基)又は複木横残基(例えばチアゾリル
基、ペンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、テアゾリニ
ル基、ビリジニル基、テトラゾリル基など)を表わし、
几22は水素原子、R21で例示した脂肪族基又はH2
1で91」示した芳香族基を表わし、几は水素原子又は
R31で例示した脂肪族基を表わし、ル11は前述した
と同じ意味を表わす。ただし、Bと321のうちの少な
くともひとつは水素原子である。またR21と几2sは
互いに結合して積を形成してもよく、その好ましい例と
してはなどを挙げることができる。
上記の几2l又はB−23は更にアルコキ7基、アルコ
キシカルボニル基、アリール基、アルキル基、ジアルキ
ルアミ7基、アルキルチオ1、メルカプト基、ヒドロヤ
シ基、ノ1ロゲン原子、カルiキ7ル基、ニトロ基、7
7ノ基、スルホニル基、カルパモイル基などで置換され
ていてもよい。
キシカルボニル基、アリール基、アルキル基、ジアルキ
ルアミ7基、アルキルチオ1、メルカプト基、ヒドロヤ
シ基、ノ1ロゲン原子、カルiキ7ル基、ニトロ基、7
7ノ基、スルホニル基、カルパモイル基などで置換され
ていてもよい。
Xが意味する
で表わされる
基において、Zは
と共に!員又は4
員の複累壌を形成する非金属原子群であり、該複素壌は
具体的にVよ、チアゾリン嬢、ペンズチアゾリン壌、ナ
フトチアゾリン壌、チアゾリジン場、オキサゾリ7項、
べ/ズオキサゾリン壌、オキサゾリジン項、セレナゾリ
/壌、ペンズセレナゾリン壌、イミダゾリ/項、ペンズ
イミダゾリ/壌、テトラゾリン項、トリアゾリン壌、チ
fジアゾリン項、i−コージヒドロピリジZ壊、/tλ
−ジヒドロキノリンm、/.コ.3,弘一テトラヒドロ
キノリ711k,パーヒドロー/,J−オキサジン環、
λ,≠−ベンズ〔d〕オキサジン環、パーヒドロー/,
J−チアジン環、コ,<L−ベンズ〔d〕チアジン環、
ウ2シル項等が挙げられる。
具体的にVよ、チアゾリン嬢、ペンズチアゾリン壌、ナ
フトチアゾリン壌、チアゾリジン場、オキサゾリ7項、
べ/ズオキサゾリン壌、オキサゾリジン項、セレナゾリ
/壌、ペンズセレナゾリン壌、イミダゾリ/項、ペンズ
イミダゾリ/壌、テトラゾリン項、トリアゾリン壌、チ
fジアゾリン項、i−コージヒドロピリジZ壊、/tλ
−ジヒドロキノリンm、/.コ.3,弘一テトラヒドロ
キノリ711k,パーヒドロー/,J−オキサジン環、
λ,≠−ベンズ〔d〕オキサジン環、パーヒドロー/,
J−チアジン環、コ,<L−ベンズ〔d〕チアジン環、
ウ2シル項等が挙げられる。
また凡は水5K鳳子ま九は飽和もしくは不飽和の脂肪族
基(例えばアルキル基、プルヶニルル、アル中二ル基)
であり、これは更にアルコキン基、アルギルチオ基、ア
シルアZノ基、アシロΦシ基、メルカプト基、スルホ基
、カルボキシル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミ
ン基などで置換されていてもよい。
基(例えばアルキル基、プルヶニルル、アル中二ル基)
であり、これは更にアルコキン基、アルギルチオ基、ア
シルアZノ基、アシロΦシ基、メルカプト基、スルホ基
、カルボキシル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミ
ン基などで置換されていてもよい。
上に述べたX″′C表わされる基のうち特に好まし一般
式(1)においてH−1で表わされる轟oうち、置換さ
れてもよいアルキル基は%炭g*i〜IOのアルキル基
であって、酌述したアリール蔦の置換基として挙げたよ
うな基で置換されていてもよい。
式(1)においてH−1で表わされる轟oうち、置換さ
れてもよいアルキル基は%炭g*i〜IOのアルキル基
であって、酌述したアリール蔦の置換基として挙げたよ
うな基で置換されていてもよい。
一般式(I)の几1としては、置換されてもよいアリー
ル基の方が置換されてもよいアルキル基よりも好ましい
。
ル基の方が置換されてもよいアルキル基よりも好ましい
。
一般式(1)においてH2で表わされる基のうち置換さ
れてもよいアリール基は単壌又は2環のアリール基で、
例えばベンゼン壌やナフタレン環、特に好ましくはベン
ゼン環を含むものであるうこのアリール基は、例えばノ
・ロゲン原子、シアノ基、カルボ午シ基、スルホ基など
の本で置換ちれていてもよい。几2で表わされるアリー
ル基の好ましい例としては、フエニル基、参−クロロフ
エニルM、4’−7’ロモフエニル基、3−クロロフエ
ニル基、≠−シアノフエニル基、弘一カルボキシ7.Z
=ル基、≠−スルホフエニル&、J*z−’)クロロフ
エニル基、λ,j〜シクロロフエニルiなどを挙げるこ
とができる。
れてもよいアリール基は単壌又は2環のアリール基で、
例えばベンゼン壌やナフタレン環、特に好ましくはベン
ゼン環を含むものであるうこのアリール基は、例えばノ
・ロゲン原子、シアノ基、カルボ午シ基、スルホ基など
の本で置換ちれていてもよい。几2で表わされるアリー
ル基の好ましい例としては、フエニル基、参−クロロフ
エニルM、4’−7’ロモフエニル基、3−クロロフエ
ニル基、≠−シアノフエニル基、弘一カルボキシ7.Z
=ル基、≠−スルホフエニル&、J*z−’)クロロフ
エニル基、λ,j〜シクロロフエニルiなどを挙げるこ
とができる。
一般式(1)において、几で表わされる基のうち置換さ
れてもよいアルキル基は好筐しく1ま炭素原子数l−参
のアルキル基であって、以下のような置換基を有してい
てもよい。すなわち、一・ロゲン原子、シアノ基、カル
ボキシ基、スルホ基など。特に好ましいアルキル基の例
としては、メチル基、エチル基、ロープロビル基、i−
’ロビル基などt挙げることがで龜る。
れてもよいアルキル基は好筐しく1ま炭素原子数l−参
のアルキル基であって、以下のような置換基を有してい
てもよい。すなわち、一・ロゲン原子、シアノ基、カル
ボキシ基、スルホ基など。特に好ましいアルキル基の例
としては、メチル基、エチル基、ロープロビル基、i−
’ロビル基などt挙げることがで龜る。
これらの一般式(1)で表わされる化合物の中で好筐し
い化合物は%開昭jJ−/0タλl1同j3−λoyコ
λ、同13−447J.2、特願昭jJ−1211a0
2、同!$−12、4?H昭j3−λOj/I,リサー
チディスクロージャー結l7626号(lタ7l年A/
71)などに記載されている。この中で特に好ましいの
は特開昭j3−1oタλl1同jJ−コOタλλ、同J
3−61,’7:12に記載された化合物である。
い化合物は%開昭jJ−/0タλl1同j3−λoyコ
λ、同13−447J.2、特願昭jJ−1211a0
2、同!$−12、4?H昭j3−λOj/I,リサー
チディスクロージャー結l7626号(lタ7l年A/
71)などに記載されている。この中で特に好ましいの
は特開昭j3−1oタλl1同jJ−コOタλλ、同J
3−61,’7:12に記載された化合物である。
本発明の一般式(1)の化合物の中で特に好ましい化合
物は一般式(n)で懺わすことができる.一般式LII
J 式中、 几と凡2は同一で、も異゛クていてもよく、それそれ水
素原子、脂肪族残基、芳香族残基、又は、ヘテロ環残f
iを、 1{は水素原子、又eよ脂肪族残基金、ルは水素原子、
脂肪族残基又は芳香族残基を表わし、 Xは二価の芳香族残基t表わす。
物は一般式(n)で懺わすことができる.一般式LII
J 式中、 几と凡2は同一で、も異゛クていてもよく、それそれ水
素原子、脂肪族残基、芳香族残基、又は、ヘテロ環残f
iを、 1{は水素原子、又eよ脂肪族残基金、ルは水素原子、
脂肪族残基又は芳香族残基を表わし、 Xは二価の芳香族残基t表わす。
更に詳しく説明すると、几、R及び凡の脂肪族残本とし
ては、直鎖及び分岐のアルキル基、/クロアルキル基及
びこれらに置換基のついたもの、並びにアルケニル基及
びアルキル基を含む。
ては、直鎖及び分岐のアルキル基、/クロアルキル基及
びこれらに置換基のついたもの、並びにアルケニル基及
びアルキル基を含む。
ル、几2の直鎖及びサ岐のアルキル基としては、1
例えば炭素数/〜/I,好ましくは/−1のIルキル基
であって、具体的には例えばメチル基、エチル晶、イノ
ブチル基、t−オクチル基等である。
であって、具体的には例えばメチル基、エチル晶、イノ
ブチル基、t−オクチル基等である。
凡4の直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば反素
数/−/0のものであり、具体的にはメチル基、エチル
基、プロビル基等である。
数/−/0のものであり、具体的にはメチル基、エチル
基、プロビル基等である。
また、ル、ル及び凡のククロアルヤル基としては、例え
ば災累a3〜ioのもので、具体的には例えばククロプ
ロピル基、シクaヘキシA/基、アダマ/チル基等であ
る。アル中ル晶や7クロアルやル基に対する置換基とし
てはアルコキシ基(例えばメトキシ眉、エトキク基、プ
ロボキシ基、ブトギシ基等》、アルコキ7カルボニル基
、カルバモイル基、ヒドロキ7晶、アル中ルチオ基、ア
きド基、アシロキ7基、77ノ基、スルホニル基、ハロ
ゲン原子(例えば塩素、臭素、弗素、沃素など》、アリ
ール基(例えば7エニル基、ハロゲン置換フエニル基、
アルキル置換7エニル基》等であり、結局、置換された
ものの具体例としては例えばJ−メトキシプロビル基、
エトキシ力,srボニルメチル基、弘−ク鑓ロシクロヘ
キ7ル基、べ/ジルル、p−メチルベンジルlp−クロ
αベ3ンジル基などを挙げる事ができる。また、アルケ
ニル基としては例えばアリル(allyl)基、アルキ
ニル基としてはプロパルギル基を挙げる事ができる。
ば災累a3〜ioのもので、具体的には例えばククロプ
ロピル基、シクaヘキシA/基、アダマ/チル基等であ
る。アル中ル晶や7クロアルやル基に対する置換基とし
てはアルコキシ基(例えばメトキシ眉、エトキク基、プ
ロボキシ基、ブトギシ基等》、アルコキ7カルボニル基
、カルバモイル基、ヒドロキ7晶、アル中ルチオ基、ア
きド基、アシロキ7基、77ノ基、スルホニル基、ハロ
ゲン原子(例えば塩素、臭素、弗素、沃素など》、アリ
ール基(例えば7エニル基、ハロゲン置換フエニル基、
アルキル置換7エニル基》等であり、結局、置換された
ものの具体例としては例えばJ−メトキシプロビル基、
エトキシ力,srボニルメチル基、弘−ク鑓ロシクロヘ
キ7ル基、べ/ジルル、p−メチルベンジルlp−クロ
αベ3ンジル基などを挙げる事ができる。また、アルケ
ニル基としては例えばアリル(allyl)基、アルキ
ニル基としてはプロパルギル基を挙げる事ができる。
一方R1、R2及び凡4の芳香族残晶としては、7エニ
ル基、ナ7チル基及びこれらK置換基(例えばアルキル
基、アルコキシ基、アシルヒドラジノ基、ジアル中ルア
ミノ蔦、アルコキ7力ルボニル基、シアノ基、カルボキ
シル基、ニトロ基、アルキルチオ基、ヒドロΦシ基、ス
ルホニル眉、カルパモイル基、ハロゲン原子、アシルア
ミノ基、スルホンアミド1、チオウレア基など》のつい
たものを含む。置換基のついたものの具体例として、例
えば、p−メト中シフェニルio−メトキシフエニル蓬
、トリル基、p−ホルミルヒドラジノ1M、p−yロロ
フェニル基、m−7ルオロフェニル蔦、m−ペンズアミ
ド基、m−7セトアミド基、m−べy−vンスルホンア
ミド4%m−7ェニルチオクレア1などを挙げる事がで
きる。
ル基、ナ7チル基及びこれらK置換基(例えばアルキル
基、アルコキシ基、アシルヒドラジノ基、ジアル中ルア
ミノ蔦、アルコキ7力ルボニル基、シアノ基、カルボキ
シル基、ニトロ基、アルキルチオ基、ヒドロΦシ基、ス
ルホニル眉、カルパモイル基、ハロゲン原子、アシルア
ミノ基、スルホンアミド1、チオウレア基など》のつい
たものを含む。置換基のついたものの具体例として、例
えば、p−メト中シフェニルio−メトキシフエニル蓬
、トリル基、p−ホルミルヒドラジノ1M、p−yロロ
フェニル基、m−7ルオロフェニル蔦、m−ペンズアミ
ド基、m−7セトアミド基、m−べy−vンスルホンア
ミド4%m−7ェニルチオクレア1などを挙げる事がで
きる。
几1及び凡1で表わされる複素積残基としては、酸素、
窒素、硫黄、又は噸レ/原子のうち少なくとも一つを有
する五員もしくは六員の単atたは縮合壌で、これらに
置換碁がついてもよい。具体的には例えば、ピロリ/I
I,ピリジン壌、キノリ/tインドール穣、オキナゾー
ル積、k冫ゾオキサゾール項、ナフトオ中サゾール積、
イミダゾール環、ペンゾイイダゾール濃、チアゾリン濃
、チアゾール環、ペンゾチアゾール礼ナフトチアゾール
壌、セレナゾール積、ペンゾセレナゾール壌、ナットセ
レナゾール積などの残基を挙げることが出来る。
窒素、硫黄、又は噸レ/原子のうち少なくとも一つを有
する五員もしくは六員の単atたは縮合壌で、これらに
置換碁がついてもよい。具体的には例えば、ピロリ/I
I,ピリジン壌、キノリ/tインドール穣、オキナゾー
ル積、k冫ゾオキサゾール項、ナフトオ中サゾール積、
イミダゾール環、ペンゾイイダゾール濃、チアゾリン濃
、チアゾール環、ペンゾチアゾール礼ナフトチアゾール
壌、セレナゾール積、ペンゾセレナゾール壌、ナットセ
レナゾール積などの残基を挙げることが出来る。
これらの複累積は、メチル基、エチル基等炭素数l〜弘
のアルキル基、メトキシ基、エト中シ基等炭素数ノ〜参
の1ルコキシ碁、7エニル碁等の炭素数4〜itのアリ
ール基や、クロル、プロム等のハロゲン原子、アルコキ
シヵルボニル基、シアノ轟、アミド基等で置換されてい
てもよい。
のアルキル基、メトキシ基、エト中シ基等炭素数ノ〜参
の1ルコキシ碁、7エニル碁等の炭素数4〜itのアリ
ール基や、クロル、プロム等のハロゲン原子、アルコキ
シヵルボニル基、シアノ轟、アミド基等で置換されてい
てもよい。
几1と凡のうちどちらか一方が水木原子であることが好
ましい。またB4は水素鳳子又はメチル基であることが
、特に水素原子であることが好ましい。
ましい。またB4は水素鳳子又はメチル基であることが
、特に水素原子であることが好ましい。
ル3で表わされる脂肪族残基としては、直鎖も指〈は分
岐のアルキル基、シクロアルキル基又はこれらに置換基
のついたもの、並びにアルケニル基、アルキニル基を含
む。直鎖又は分岐のアルキル基としては、例えばR素数
/−It,好ましくは/−4のアルキル基であって具体
的には、メチル基、エチル基、インブロビル基等である
。シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜10の
もので、具体的にはシクロペ/チル基、シクアヘキシル
基等である。置換基の例としては、アルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、等)、アルコキシカルボニ
ル基、アリール基(例えばフエニル基、ハロゲン置換フ
エニル基、アルコキシフエニル基、アルキルフエニル基
等)、アミド基、アシロ中シ基、等である。置換された
ものの具体例としては、3−メトキシプロピル基、ベン
ジル基、p−クロロベンジル基、p−メトキシベンジル
基、p−メチルベ/ジル基等を挙げることができる.ア
ルケニル基としては炭素数J−/一のもので、例えばア
リル基、λ−プテニル基が好ましい. 几8は好ましくは水素原子である。
岐のアルキル基、シクロアルキル基又はこれらに置換基
のついたもの、並びにアルケニル基、アルキニル基を含
む。直鎖又は分岐のアルキル基としては、例えばR素数
/−It,好ましくは/−4のアルキル基であって具体
的には、メチル基、エチル基、インブロビル基等である
。シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜10の
もので、具体的にはシクロペ/チル基、シクアヘキシル
基等である。置換基の例としては、アルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、等)、アルコキシカルボニ
ル基、アリール基(例えばフエニル基、ハロゲン置換フ
エニル基、アルコキシフエニル基、アルキルフエニル基
等)、アミド基、アシロ中シ基、等である。置換された
ものの具体例としては、3−メトキシプロピル基、ベン
ジル基、p−クロロベンジル基、p−メトキシベンジル
基、p−メチルベ/ジル基等を挙げることができる.ア
ルケニル基としては炭素数J−/一のもので、例えばア
リル基、λ−プテニル基が好ましい. 几8は好ましくは水素原子である。
Xは二価の芳香族残基を表わし、具体的には例えばフエ
ニレ7基、ナフチレン基(/,J一、/,参−、λ,J
−、i,z−、i,t−など》及びこれらに置換基を有
するものである。
ニレ7基、ナフチレン基(/,J一、/,参−、λ,J
−、i,z−、i,t−など》及びこれらに置換基を有
するものである。
二価の芳香族残基の置換基としては、例えば炭素数l−
一〇のアルキル基(分岐を有してもよい)、アルキル部
の炭素数が/NJのアツルキル基、アルコキシ基(好ま
しくは炭素数l−コO)、置換アルコ午シ基(好ましく
は炭素数l−コO)、アルキル基又は置換アル+ル碁(
炭素数l〜λ0)で七ノーまたはジー置換されたアミノ
基、腫肪族アシルアκノ基(好ましくは炭素数λ〜λノ
)、芳香族アシルアミノ1、アルキルチオ基、ヒドロキ
シ基、ハロゲン原子(例えば塩平など》などを有するこ
とができる。
一〇のアルキル基(分岐を有してもよい)、アルキル部
の炭素数が/NJのアツルキル基、アルコキシ基(好ま
しくは炭素数l−コO)、置換アルコ午シ基(好ましく
は炭素数l−コO)、アルキル基又は置換アル+ル碁(
炭素数l〜λ0)で七ノーまたはジー置換されたアミノ
基、腫肪族アシルアκノ基(好ましくは炭素数λ〜λノ
)、芳香族アシルアミノ1、アルキルチオ基、ヒドロキ
シ基、ハロゲン原子(例えば塩平など》などを有するこ
とができる。
Xとしてより好ましいのはフエニレン基である。
一般式(…)の化合物の中で特に好ましいのは一般式(
jU) で表わされる化合物である, 式中、几とXは、一般式(…)と同義である。
jU) で表わされる化合物である, 式中、几とXは、一般式(…)と同義である。
本発明において一般式(【)にて示される有用なカブら
せ剤の具体例を以下に示す。
せ剤の具体例を以下に示す。
−194ー
195
l96一
これらの具体的化合物のうち、より好ましいものは1−
26からl−4/の化合物である。
26からl−4/の化合物である。
本発明の直接ボジ感光材料にお^て一般式(IIで示さ
れる化合物は、内部fII像減ハロゲン化銀乳剤に含有
させるのが好ましいが、内部潜像証ハロゲン化銀乳剤層
に隣接する親水性コロイド層に含有させてもよい。その
ような層は感光層、中間層、7イルター層、保謹層、ア
ンチハレーション層など、カブらせ剤が内部潜像微ハロ
ゲン化銀へ拡散していくのを妨げない限り、どんな機能
をもつ層であってもよい。
れる化合物は、内部fII像減ハロゲン化銀乳剤に含有
させるのが好ましいが、内部潜像証ハロゲン化銀乳剤層
に隣接する親水性コロイド層に含有させてもよい。その
ような層は感光層、中間層、7イルター層、保謹層、ア
ンチハレーション層など、カブらせ剤が内部潜像微ハロ
ゲン化銀へ拡散していくのを妨げない限り、どんな機能
をもつ層であってもよい。
層中での本発明のカブらせ剤の含有量は内部潜像屋乳剤
を表面現像液中で現像したときに充分な最大濃rII:
.《例えば/.70以上》を与えるような量であること
が望ましい。実際上tよ、用いられるハロゲン化錯乳剤
のvf注、カブらせ剤の化字横造及び現儂条件によって
異るので、適当な含有量は広い範囲にわたって変化し得
るが、内部潜像型ハロゲン化銀乳剤中の銀lモル当り約
o,ivyからzoooqの範lが実際上有用で、好ま
しいのは銀lモル当り約0.2〜から約λoooqで、
特に好ましいのは約7■から約/00014である。
を表面現像液中で現像したときに充分な最大濃rII:
.《例えば/.70以上》を与えるような量であること
が望ましい。実際上tよ、用いられるハロゲン化錯乳剤
のvf注、カブらせ剤の化字横造及び現儂条件によって
異るので、適当な含有量は広い範囲にわたって変化し得
るが、内部潜像型ハロゲン化銀乳剤中の銀lモル当り約
o,ivyからzoooqの範lが実際上有用で、好ま
しいのは銀lモル当り約0.2〜から約λoooqで、
特に好ましいのは約7■から約/00014である。
乳剤層に隣接する親水性コロイド層に含有させる場合に
は、内部潜像型乳剤の同一面積に含まれる銀の量に対し
て上記同様の量を含有させればよい。
は、内部潜像型乳剤の同一面積に含まれる銀の量に対し
て上記同様の量を含有させればよい。
内部溜像戯乳剤についてはすでにl)aveyらにより
、米国特許λ,jタλ,λjθ号に示されており、又そ
の他の文献にも示されている。内部潜儂屋ハロゲン化銀
乳剤は「内部型」現像液で現像した場合に達成される最
大1i1[が1表面型」現像液で現像した場合に達成さ
れる最大濃度より大であるという事により明確に定義す
ることができる。
、米国特許λ,jタλ,λjθ号に示されており、又そ
の他の文献にも示されている。内部潜儂屋ハロゲン化銀
乳剤は「内部型」現像液で現像した場合に達成される最
大1i1[が1表面型」現像液で現像した場合に達成さ
れる最大濃度より大であるという事により明確に定義す
ることができる。
本発明に適する内部潜儂型乳剤は、そのハロゲン化銀乳
剤を透明な支持体に塗布し、0.0/ないしl秒の固定
された時間で露光を与えF記現像液λ(内部型現像液)
中で、20′゛CでJ分間現像したとき通常の写真s度
測定方法によって欄られる最大濃度が、上記と同様にし
て露光し九ノ・ロゲ/化銀乳剤を下記現像液B(表面s
l現像液》中でコO′Cで参分間現像した場合に得られ
る最大一度の、少くとも!倍大きいIlllILを有す
るものである。
剤を透明な支持体に塗布し、0.0/ないしl秒の固定
された時間で露光を与えF記現像液λ(内部型現像液)
中で、20′゛CでJ分間現像したとき通常の写真s度
測定方法によって欄られる最大濃度が、上記と同様にし
て露光し九ノ・ロゲ/化銀乳剤を下記現像液B(表面s
l現像液》中でコO′Cで参分間現像した場合に得られ
る最大一度の、少くとも!倍大きいIlllILを有す
るものである。
現像液人
ハイドロキノン/jf
モノメチルーp−アミノフエ
ノールセスキサル7エー}/II
亜硫酸ナトリウム10g
臭化カリウム/Of
水酸化ナトリウムλjI
チオ硫酸ナトリウムλop
水を加えてig
現像液B
p−オキ7フエニルグリシンiag
炭酸ナトリウムioog
水を加えて/1
本発明の目的に適する内部6111壓乳剤としては先に
挙げた米国特1ffλ,!9λ,λ!θ号に記載された
乳剤の他に、特公昭jコー3参コ/J号、英!351%
許/,0,.27,/弘6号、米国特許J,λO≦,J
IJ号、同i,zii.ttλ号、同J,4c17,タ
コ7号、同!,737,JIJ号、同J,74/,27
1号、同3.27/,/17号等に記載された乳剤を用
いることができる。しかしこれらに限定されるものでは
ない。
挙げた米国特1ffλ,!9λ,λ!θ号に記載された
乳剤の他に、特公昭jコー3参コ/J号、英!351%
許/,0,.27,/弘6号、米国特許J,λO≦,J
IJ号、同i,zii.ttλ号、同J,4c17,タ
コ7号、同!,737,JIJ号、同J,74/,27
1号、同3.27/,/17号等に記載された乳剤を用
いることができる。しかしこれらに限定されるものでは
ない。
本発明の直接ボジ写真感光材料中には各穐の親水性コロ
イドを結合剤として使用することができる。
イドを結合剤として使用することができる。
この目的に用いられるコロイドとしては、例えばゼラチ
ン、コロイド状アルブミ/、ポリサンカライド、セルロ
ーズ誘導体、合成樹脂、例えばポリビニルアルコール鋳
導体を含むポリビニル化合物、アクリルアミドボリマー
等、一般に写真分野で使用せられる親水性コロイドを挙
げる事ができる。親水性コロイドと共に疎水性コロイド
例えば分散された重合ビニル化合物、特に写真材料の寸
法安定性t増大する様なto、を含有せしめることがで
きる。この種の化合物の適当なものにはアルキルアクリ
レート又はアルキルメタアクリレート、アクリル酸、ス
ルホアルキルアクリレート又はスルホアルヤルメタアク
リレート等のビニル系七ノマーを重合してつくられる水
不溶性ポリマーが含まれる。
ン、コロイド状アルブミ/、ポリサンカライド、セルロ
ーズ誘導体、合成樹脂、例えばポリビニルアルコール鋳
導体を含むポリビニル化合物、アクリルアミドボリマー
等、一般に写真分野で使用せられる親水性コロイドを挙
げる事ができる。親水性コロイドと共に疎水性コロイド
例えば分散された重合ビニル化合物、特に写真材料の寸
法安定性t増大する様なto、を含有せしめることがで
きる。この種の化合物の適当なものにはアルキルアクリ
レート又はアルキルメタアクリレート、アクリル酸、ス
ルホアルキルアクリレート又はスルホアルヤルメタアク
リレート等のビニル系七ノマーを重合してつくられる水
不溶性ポリマーが含まれる。
上記の写真乳剤には感光材料の製造工程、保存中或いは
処理中の感度低下やカブリの発生を防ぐために極々の化
合物を添加することができる。それらの化合物はダーヒ
ドロキシ−1−メチルーl.3,J&,7−テトラザイ
/デン、J−メチルーペンソチアゾール、l−フエニル
ー!−メルカプトテトラゾールをはじめ、多くの複素壌
化合物、含水銀化合物、メルカプト化合物、金属塩類な
ど極めて多くの化合愉が古くから知られている。
処理中の感度低下やカブリの発生を防ぐために極々の化
合物を添加することができる。それらの化合物はダーヒ
ドロキシ−1−メチルーl.3,J&,7−テトラザイ
/デン、J−メチルーペンソチアゾール、l−フエニル
ー!−メルカプトテトラゾールをはじめ、多くの複素壌
化合物、含水銀化合物、メルカプト化合物、金属塩類な
ど極めて多くの化合愉が古くから知られている。
使用できる化合物の一例は、K.M@@m@“’l’h
e’fheoryofth@Photographic
process″(’iiXJ版、lタ44年)に原文
献を挙げて配されているほか、米国籍許譲/,711,
174号、同第コ,iiθ,/71号、同第2,iii
,oJt号、同第コ,/73,tλl号、同第一.4タ
7,0lfiO号、同第一,JO#.タ4λ号、同第λ
,3コ≠,lコ3号、同第λ,3タ参.lタl号、岡第
コ.≠≠μ,+ot−r号、同第λ,jjj,=lj号
、同第コ,tタ≠,7l≦号、同第λ,4タ7,0タタ
号、同薬コ.7or,itd号、同第λ,7λ1.44
3〜!号、同第コ.4A7孟,!34号、同第2.12
lI,00ノ号、同第2.1143,IfiYl号、同
第2.1ff4,≠37号、同第3,0!コ,j参参号
、同第J,137,377号、同@.?,λλ0.13
2号、同tIX7,lZA.2J/号、同mJ.2J6
.≦jコ号、同第3,一31,6タl号、同第J,21
コ,7タタ号、同第3.コr7,/31号、同第3,3
コt.tti号、同’IIJ,4c20,441号、同
第j,422,jjタ号、英国特許HtタJ,参λl号
、同第≠OJ,712号、同第/,/7J,409号、
同第l,コoo,itr号などに記載されている。
e’fheoryofth@Photographic
process″(’iiXJ版、lタ44年)に原文
献を挙げて配されているほか、米国籍許譲/,711,
174号、同第コ,iiθ,/71号、同第2,iii
,oJt号、同第コ,/73,tλl号、同第一.4タ
7,0lfiO号、同第一,JO#.タ4λ号、同第λ
,3コ≠,lコ3号、同第λ,3タ参.lタl号、岡第
コ.≠≠μ,+ot−r号、同第λ,jjj,=lj号
、同第コ,tタ≠,7l≦号、同第λ,4タ7,0タタ
号、同薬コ.7or,itd号、同第λ,7λ1.44
3〜!号、同第コ.4A7孟,!34号、同第2.12
lI,00ノ号、同第2.1143,IfiYl号、同
第2.1ff4,≠37号、同第3,0!コ,j参参号
、同第J,137,377号、同@.?,λλ0.13
2号、同tIX7,lZA.2J/号、同mJ.2J6
.≦jコ号、同第3,一31,6タl号、同第J,21
コ,7タタ号、同第3.コr7,/31号、同第3,3
コt.tti号、同’IIJ,4c20,441号、同
第j,422,jjタ号、英国特許HtタJ,参λl号
、同第≠OJ,712号、同第/,/7J,409号、
同第l,コoo,itr号などに記載されている。
本発明の感光材料には各種の写真用支持体を用いること
ができる。ハロゲン化銀乳剤は支持体の片面又は両面に
塗布することができる。
ができる。ハロゲン化銀乳剤は支持体の片面又は両面に
塗布することができる。
本発明の感光材料において、写真ハロゲン化銀乳剤層及
び他の親水性コロイド層は任意の適当な硬膜剤で硬化せ
しめることがで自る。これらの硬膜剤にはIl!t願昭
11−/!/4J孟号、同j/−1Jl444/号や同
J/−1j4I−弘タ参号に記載された如きビニルスル
ホニル化合物;活性ハロゲンを有する硬膜剤;ジオキサ
ン誘導体;オキシ澱粉の如きオキシポリサツカライド等
が含まれる、,厚真ハロゲン化鋏乳剤層には他の添加物
、特に写真乳剤に有用なもの、例えば潤滑剤、増感剤、
光吸収染料、可塑剤等を添加することができる。
び他の親水性コロイド層は任意の適当な硬膜剤で硬化せ
しめることがで自る。これらの硬膜剤にはIl!t願昭
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J/−1j4I−弘タ参号に記載された如きビニルスル
ホニル化合物;活性ハロゲンを有する硬膜剤;ジオキサ
ン誘導体;オキシ澱粉の如きオキシポリサツカライド等
が含まれる、,厚真ハロゲン化鋏乳剤層には他の添加物
、特に写真乳剤に有用なもの、例えば潤滑剤、増感剤、
光吸収染料、可塑剤等を添加することができる。
更に本発明においてはハロゲン化銀乳剤中にヨウ素イオ
ンを放出する化合物(例えばlウ化カリウムなど》を含
有せしめることができ、又冒ク素イオンを含有する現像
液を用いて所望の画像を得ることができる。
ンを放出する化合物(例えばlウ化カリウムなど》を含
有せしめることができ、又冒ク素イオンを含有する現像
液を用いて所望の画像を得ることができる。
本発明の感光材料には親水性コロイド層に7イルター染
料として、あるいはイラジエーション防止、ハレーショ
ン防止その他種々の目的で水溶性染料を官有してよい。
料として、あるいはイラジエーション防止、ハレーショ
ン防止その他種々の目的で水溶性染料を官有してよい。
このような染料にはオキソノール染料、ヘミオキソノー
ル染料、スチリル染料、メロシアニン染料、シアニン采
科及びアゾ染料が包含される。中でもオキノノール染料
;ヘミオキソノール染料及びメロシアニン染料が有用で
ある。
ル染料、スチリル染料、メロシアニン染料、シアニン采
科及びアゾ染料が包含される。中でもオキノノール染料
;ヘミオキソノール染料及びメロシアニン染料が有用で
ある。
本発明の感元材料において、親水性コロイドl一に染料
や紫外線吸収剤などが含有される場合に、それらはカチ
オン注ボリマーなどによって媒染されても工い。例えば
英国特Pff4a’j,$7j号、米国特lir′fλ
,471,J/6号、同λ,73タ,≠Ol号、同λ,
itλ,izt号、同3,びりt,弘l7号、同3,/
lμ,302号、同J,4L4L.t,,2j/号、6
独特Flf出ia(ULδ)l,タ/弘.34一号、特
開昭10一弘74λ参号、同10−7/JJ2号等に記
載されているボリマーを用いることができる。
や紫外線吸収剤などが含有される場合に、それらはカチ
オン注ボリマーなどによって媒染されても工い。例えば
英国特Pff4a’j,$7j号、米国特lir′fλ
,471,J/6号、同λ,73タ,≠Ol号、同λ,
itλ,izt号、同3,びりt,弘l7号、同3,/
lμ,302号、同J,4L4L.t,,2j/号、6
独特Flf出ia(ULδ)l,タ/弘.34一号、特
開昭10一弘74λ参号、同10−7/JJ2号等に記
載されているボリマーを用いることができる。
本発明の感光材科にVま、撞々の目的で界面活性剤を含
んでもよい。目的に応じ非イオン性、イオン性及び両性
界面活性剤のいずれを用いることもでき、例えばポリオ
キ7アルキレン紡導体、両性アミノ酸(スルホベタイン
類も含む》等があげられる。かかる界面活性剤は米国特
許λ,100,r3i号、米国籍許λ.λ7l.6λλ
号、米国特許λ.27ノ.62J号、米国特許λ,λ7
!,7コ7号、米&特許一.717.40参号、米国特
許λ,riぶ,タコO号、米国特許λ,77タ,lタ/
号及びベルギー特1’F4jコ.t≦λ号に紀載されて
いる. 本発明の感光材料において厚真乳剤は、増感色素によっ
て比較的長波長の宵色光、緑色光、赤色光または赤外光
に分光増感されてもよい。増感色素として、7アニン色
素、メロシアニン色素、コンプレックス7アニン色素、
コンブVツクスメロシアニ7色素、ホロポー2一シ.γ
二ノ色素、スチリル色素、ヘミシアニ7色素、オキソノ
ール色!、へiオヤノ,ノール色素等を用いることがで
寝る.本発明に使用される有用な増感色素は例えば米国
特詐3.!λコ,01コ号、同3,4lタ,/タ7号、
同J,7/3,127号、同J,t/j,4ダJ号、同
j,4/J,432号、同3.677,λ93号、同j
,421,タ44A号、同3,70j,j77号、同3
,ttt,pro号、同J,t47,240号、同J,
t7f,IIJt号、同J,47J,rP7号、同!,
74?.OJ4号、同J,!714,100号、同3.
ぶ/!,tIJ号、同J,4/!t,≦Jl号、同J,
t/!,4JJ号、同!,701,IOf号、NJet
Jコ.J−2号、同J,477,741号、同J,77
0.44449号、同J,770.44440号、同3
l74タ,0コ!号、同3,7441.0lIfi号、
同J,71J,Iλl号、同J,j≦7.≠jl号、同
J,4コz.tyt号、同一,jλ1,4JJ号、同一
,jOJ,774号、特開昭参l−74jコ!号、ベル
ギー特許第≦タ/,107号などK記載されている。
んでもよい。目的に応じ非イオン性、イオン性及び両性
界面活性剤のいずれを用いることもでき、例えばポリオ
キ7アルキレン紡導体、両性アミノ酸(スルホベタイン
類も含む》等があげられる。かかる界面活性剤は米国特
許λ,100,r3i号、米国籍許λ.λ7l.6λλ
号、米国特許λ.27ノ.62J号、米国特許λ,λ7
!,7コ7号、米&特許一.717.40参号、米国特
許λ,riぶ,タコO号、米国特許λ,77タ,lタ/
号及びベルギー特1’F4jコ.t≦λ号に紀載されて
いる. 本発明の感光材料において厚真乳剤は、増感色素によっ
て比較的長波長の宵色光、緑色光、赤色光または赤外光
に分光増感されてもよい。増感色素として、7アニン色
素、メロシアニン色素、コンプレックス7アニン色素、
コンブVツクスメロシアニ7色素、ホロポー2一シ.γ
二ノ色素、スチリル色素、ヘミシアニ7色素、オキソノ
ール色!、へiオヤノ,ノール色素等を用いることがで
寝る.本発明に使用される有用な増感色素は例えば米国
特詐3.!λコ,01コ号、同3,4lタ,/タ7号、
同J,7/3,127号、同J,t/j,4ダJ号、同
j,4/J,432号、同3.677,λ93号、同j
,421,タ44A号、同3,70j,j77号、同3
,ttt,pro号、同J,t47,240号、同J,
t7f,IIJt号、同J,47J,rP7号、同!,
74?.OJ4号、同J,!714,100号、同3.
ぶ/!,tIJ号、同J,4/!t,≦Jl号、同J,
t/!,4JJ号、同!,701,IOf号、NJet
Jコ.J−2号、同J,477,741号、同J,77
0.44449号、同J,770.44440号、同3
l74タ,0コ!号、同3,7441.0lIfi号、
同J,71J,Iλl号、同J,j≦7.≠jl号、同
J,4コz.tyt号、同一,jλ1,4JJ号、同一
,jOJ,774号、特開昭参l−74jコ!号、ベル
ギー特許第≦タ/,107号などK記載されている。
本発明で用いる増感色素は、通常のネガ型ハロゲン化銀
乳剤に用いられると同等のllllfで用いられる。と
くに、ハロゲン化銀乳剤の固有感度を夷質的に落さない
程度の色素11&で用一るOが有利である。ハロゲン化
銀lモル轟り増感色素の約l.oxios〜約zxio
’モル、と〈κハロゲン化銀lモル当り増感色素の約+
xio〜λxio’モルのl)[で用いることが好まし
い。
乳剤に用いられると同等のllllfで用いられる。と
くに、ハロゲン化銀乳剤の固有感度を夷質的に落さない
程度の色素11&で用一るOが有利である。ハロゲン化
銀lモル轟り増感色素の約l.oxios〜約zxio
’モル、と〈κハロゲン化銀lモル当り増感色素の約+
xio〜λxio’モルのl)[で用いることが好まし
い。
本発明の直接ポジ感材の乳剤層又は保謹層中にはマット
剤及び/又は平滑剤などを添加してもよい。マット剤の
例としては適尚な粒径(特に0.3〜jμ)のポリメチ
ルメタアクリレートなどのごとき水分散性ビニル重合体
のごとき有機化合物又はハロゲン化銀、硫酸ストロンチ
ュームバリウムなどのごとき無機化合物などが好ましく
用いられる。平滑剤はTット剤と類似した接着故障防止
に役立つ他、特に映画用フイルムの撮影時もしくは映写
時のカメラ適合性に関係する摩擦特性の改良に有効であ
り、具体的な例としては流動/497イン、高級脂肪酸
のエステル類などのごときワックス類、ポリフッ素化炭
化水素類もしくはその誘導体、ポリアルキルポリシロキ
サン、ポリアリ−ルボリシロキサン、ポリアルキルアリ
ールボリ7ロキサン、もしくはそれらのrルキレンオキ
サイド付加誘導体のごときノリコーン類などが好ましく
用いられる。
剤及び/又は平滑剤などを添加してもよい。マット剤の
例としては適尚な粒径(特に0.3〜jμ)のポリメチ
ルメタアクリレートなどのごとき水分散性ビニル重合体
のごとき有機化合物又はハロゲン化銀、硫酸ストロンチ
ュームバリウムなどのごとき無機化合物などが好ましく
用いられる。平滑剤はTット剤と類似した接着故障防止
に役立つ他、特に映画用フイルムの撮影時もしくは映写
時のカメラ適合性に関係する摩擦特性の改良に有効であ
り、具体的な例としては流動/497イン、高級脂肪酸
のエステル類などのごときワックス類、ポリフッ素化炭
化水素類もしくはその誘導体、ポリアルキルポリシロキ
サン、ポリアリ−ルボリシロキサン、ポリアルキルアリ
ールボリ7ロキサン、もしくはそれらのrルキレンオキ
サイド付加誘導体のごときノリコーン類などが好ましく
用いられる。
本発明の感光材料には保@層、中間層、フィルター層、
ハレーション防止層などの種々の補助I一を設けること
ができる。
ハレーション防止層などの種々の補助I一を設けること
ができる。
本発明の処理方法には、公知の方法のいずれも用いるこ
とができる。具体的には現像工程及び定着工程があれば
よく、必賛に応じて停止工程、水洗工程を設けることが
できる。処理温度としては、普通/I”Cからzo0c
の間に選ばれるが、/l@Cより低いfL度またはto
”cをこえる温度としてもよい。
とができる。具体的には現像工程及び定着工程があれば
よく、必賛に応じて停止工程、水洗工程を設けることが
できる。処理温度としては、普通/I”Cからzo0c
の間に選ばれるが、/l@Cより低いfL度またはto
”cをこえる温度としてもよい。
本発明の処理方法に用いる現像液には、現像薬としてハ
イドロキノン類のみ又はハイドロギノ/類と3−ピラゾ
リドン類、例えば/−7エニルー3−ビラゾリドン、≠
,弘−ジメチル−7−フエニルーJ−ピラゾリドン等又
は、ハイドロキノ/類とアミノフェノール類、例えばN
−メチルーp−アCノフェノール、コ,≠−ジアミノフ
ェノール等を用いることができる.ノ・イドロヤノン類
としては具体的にはハイドロキノン、メチルハイドロ午
ノン、クロルハイドロキノン、t−7’チルハイドロ中
ノン、プロムハイドロキノンなどを挙げることができる
。・・イドロキノ/@O量としてはλzIll以上であ
るが、好ましくはコzf/1〜7oI/lであり、より
好ましくはiof/1〜4jf//lである。
イドロキノン類のみ又はハイドロギノ/類と3−ピラゾ
リドン類、例えば/−7エニルー3−ビラゾリドン、≠
,弘−ジメチル−7−フエニルーJ−ピラゾリドン等又
は、ハイドロキノ/類とアミノフェノール類、例えばN
−メチルーp−アCノフェノール、コ,≠−ジアミノフ
ェノール等を用いることができる.ノ・イドロヤノン類
としては具体的にはハイドロキノン、メチルハイドロ午
ノン、クロルハイドロキノン、t−7’チルハイドロ中
ノン、プロムハイドロキノンなどを挙げることができる
。・・イドロキノ/@O量としてはλzIll以上であ
るが、好ましくはコzf/1〜7oI/lであり、より
好ましくはiof/1〜4jf//lである。
保恒剤としては、亜硫酸塩などを用いることができる。
添加量としては、好ましくは0.λモル〜コモル/lの
量を用いることができ、特にO.参〜/.1モル/lが
好ましい。
量を用いることができ、特にO.参〜/.1モル/lが
好ましい。
現像液にはアルカリ剤及び緩衛剤として水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
リンllJナトリク▲、メタホク酸ナトリウム等を含ん
でよい。これらの薬剤(Ilgel(ltllの含有董
は、現像液のp}11kl/−/J,好ましくはpH/
/−/λ.!とするように選ぶ.現像液にはまた直接ポ
ジ画像の最小濃度をより低くするために、たとえばペン
ズイミダゾール類、たとえば!一二トロベ/ズイミダゾ
ール;ベンゾトリアゾール類、たとえばベンゾ}IJア
ゾール、!−メチルーベンゾトリアゾール等、通常力ブ
リ防止剤として用いられる化合物を営むことが有利であ
る。
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
リンllJナトリク▲、メタホク酸ナトリウム等を含ん
でよい。これらの薬剤(Ilgel(ltllの含有董
は、現像液のp}11kl/−/J,好ましくはpH/
/−/λ.!とするように選ぶ.現像液にはまた直接ポ
ジ画像の最小濃度をより低くするために、たとえばペン
ズイミダゾール類、たとえば!一二トロベ/ズイミダゾ
ール;ベンゾトリアゾール類、たとえばベンゾ}IJア
ゾール、!−メチルーベンゾトリアゾール等、通常力ブ
リ防止剤として用いられる化合物を営むことが有利であ
る。
現像液には、更に必要に応じ溶解助剤、色調剤、現像促
進剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、粘性
付与剤などを含んでもよい。
進剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、粘性
付与剤などを含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成の一のを用いるこ
とができる。
とができる。
定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸塩のほか、定
着剤としての効果が知られている有機硫黄化合物を用い
ることができる。
着剤としての効果が知られている有機硫黄化合物を用い
ることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルiニウム塩を含んで
もよい。
もよい。
停止液としては、一般に低pHの水溶液であればよい。
具体的には、酢酸、硫酸などによってG)HJ.1以下
のもので、緩衝剤が含まれていれば好ましい。
のもので、緩衝剤が含まれていれば好ましい。
矢に本発明について実施例に基づ@具体的に説明する。
夷施例l
下記の組成の現像?lIiヲvI4!Rシた。これらの
液の9}1alItiiftl4ヘルタメK、pHll
.IOからii.ooに、又は9H//.DOから/0
.!θに、又はpH/0.!0からio.ooに下げる
のに必要なJOl4酢酸の量を測定した。結果を@/表
に示した。
液の9}1alItiiftl4ヘルタメK、pHll
.IOからii.ooに、又は9H//.DOから/0
.!θに、又はpH/0.!0からio.ooに下げる
のに必要なJOl4酢酸の量を測定した。結果を@/表
に示した。
上配結釆より、ハイドロキノンが炭酸ソーダや第JIJ
ン酸ソーダに比べ緩衝作用が着しく大きいことがわかり
、特にpi{//,0以上でもすぐれた緩IIl能をも
っていることがわかる。
ン酸ソーダに比べ緩衝作用が着しく大きいことがわかり
、特にpi{//,0以上でもすぐれた緩IIl能をも
っていることがわかる。
次に、lil製済みの現像液よ、4、7、l及びタを各
々/jlビーカーにll入れ、開橙状態でIl温でj日
間経時したときのハイドロキノンの残存量を調べた。そ
の結果を第−2表に示した。
々/jlビーカーにll入れ、開橙状態でIl温でj日
間経時したときのハイドロキノンの残存量を調べた。そ
の結果を第−2表に示した。
ハイドロキノンの残存率は、ハイドロ牟ノノの添加量が
2ofll@度であると31一と低いが、本発明の如く
添加量をコzy/l以上とすると著レく大きく向上する
。
2ofll@度であると31一と低いが、本発明の如く
添加量をコzy/l以上とすると著レく大きく向上する
。
特公昭jコー3弘コ/J号(米国籍詐第J,74/,コ
74号)の実施例lの乳剤人のxm法に従って平均稜長
0.1ミクロンのt面体臭化銀からなる内部潜像型直接
ポジ乳痢を調製した。なお、この乳剤の粒子表面は、チ
オ硫酸ナ}IJウムで化学増感しておる。この乳剤を6
等分し、各々に第3表に記した如くカブらせ剤を添加し
、これをポリエチレンテレフタレート支持体上に銀量で
J.ay/wt”になるように塗布し、更にその上にゼ
ラチン保譲層を塗布して試料/〜j4c作つ九。試料/
−jを色温If:コt!440Kで/KWの夕/グステ
ン灯で7秒間ステップウエッジを介してIl光した後、
Fresh(2)現像液!、6、7及びタと室温で!日
間経時した現像液z、4、7及びタでJ!″Cで7分間
現偉し、次いで常法に従いて停止、定着、水洗した。
74号)の実施例lの乳剤人のxm法に従って平均稜長
0.1ミクロンのt面体臭化銀からなる内部潜像型直接
ポジ乳痢を調製した。なお、この乳剤の粒子表面は、チ
オ硫酸ナ}IJウムで化学増感しておる。この乳剤を6
等分し、各々に第3表に記した如くカブらせ剤を添加し
、これをポリエチレンテレフタレート支持体上に銀量で
J.ay/wt”になるように塗布し、更にその上にゼ
ラチン保譲層を塗布して試料/〜j4c作つ九。試料/
−jを色温If:コt!440Kで/KWの夕/グステ
ン灯で7秒間ステップウエッジを介してIl光した後、
Fresh(2)現像液!、6、7及びタと室温で!日
間経時した現像液z、4、7及びタでJ!″Cで7分間
現偉し、次いで常法に従いて停止、定着、水洗した。
停止液としては、jwt%酢酸水mgを用い、また、定
着液としては、下記のものを用いた。
着液としては、下記のものを用いた。
定着液
チオ硫酸アンモニウムioog
亜硫酸ナトリウムコOf
水を加えて/1
(pH4.1
このようにして得られた試料/−ji−濃度針にて蝋大
元学@[Dmax、最小光学濃[Dmint″側定した
。
元学@[Dmax、最小光学濃[Dmint″側定した
。
第3表より明らかなように、pHii.toであってか
クハイドロキノンを.2jl/l以上含有した現像によ
って処理したとき、経時していてもDmaxの低下がほ
とんどなく優れていることがわかる。
クハイドロキノンを.2jl/l以上含有した現像によ
って処理したとき、経時していてもDmaxの低下がほ
とんどなく優れていることがわかる。
夷施N2
夷施←j/で作製した試料l〜!を用いて、実施例/O
y4像g4のpHを変化させて現像処聰して1)max
及びDm1ロの変化を調べた。第参表からわかる様pH
f//,o以上にしたときに充分なJJmax(2J値
が得られ、疵に箇た曳好にポジ像が得られた.
y4像g4のpHを変化させて現像処聰して1)max
及びDm1ロの変化を調べた。第参表からわかる様pH
f//,o以上にしたときに充分なJJmax(2J値
が得られ、疵に箇た曳好にポジ像が得られた.
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に撒布された親水性コロイド層の少なくとも一
層中に下記の一般式(1)で表わされる化合物を含有す
る直接ポジハロゲン化銀写真感光材料をコII/l以上
のハイドロキノン類を含有tルpH//.0〜/J.0
O1A像flC処11ifbことを特微とする直接ポジ
八ロゲン化銀感光材料の処理方法。 一般式(1) R’NHNHCO&2 式中、Rは置換されてもよいアリール1又は置換されて
もよいアルキル基tuわし、几2は水素原子、置換され
てもよiアリール基又は置換されてもよいアルキル基を
表わす
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56154116A JPS5855928A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | 直接ポジハロゲン化銀感光材料の処理方法 |
| US06/660,241 US4540655A (en) | 1981-09-29 | 1984-10-11 | Method of processing a direct positive silver halide photographic light-sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56154116A JPS5855928A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | 直接ポジハロゲン化銀感光材料の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5855928A true JPS5855928A (ja) | 1983-04-02 |
| JPS6345576B2 JPS6345576B2 (ja) | 1988-09-09 |
Family
ID=15577268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56154116A Granted JPS5855928A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | 直接ポジハロゲン化銀感光材料の処理方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4540655A (ja) |
| JP (1) | JPS5855928A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6147954A (ja) * | 1984-08-14 | 1986-03-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像形成方法 |
| JPS6385740A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-16 | Konica Corp | 直接ポジハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS63231448A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジ画像形成方法 |
| JPS63261360A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジカラ−画像形成方法 |
| EP0318987A1 (en) | 1987-12-02 | 1989-06-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Direct positive photographic lightsensitive material |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4789627A (en) * | 1906-07-02 | 1988-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming direct positive color images |
| JPH0756565B2 (ja) * | 1986-06-25 | 1995-06-14 | 富士写真フイルム株式会社 | 直接ポジ画像形成方法 |
| JPH0823680B2 (ja) * | 1986-06-30 | 1996-03-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 直接ポジカラ−画像形成方法 |
| EP0278986B1 (en) * | 1986-08-15 | 1994-01-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Direct positive photographic material and process for forming direct positive image |
| JP2604177B2 (ja) * | 1987-10-05 | 1997-04-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 直接ポジカラー画像形成方法 |
| US4912016A (en) * | 1988-05-31 | 1990-03-27 | Eastman Kodak Company | High contrast photographic recording material and emulsion and process for their development |
| JPH0477286U (ja) * | 1990-11-16 | 1992-07-06 | ||
| EP0521198A1 (en) * | 1991-07-04 | 1993-01-07 | Agfa-Gevaert N.V. | Method of developing direct-positive silver halide material |
| EP0774686B1 (en) | 1995-11-14 | 1999-07-21 | Eastman Kodak Company | High-contrast photographic elements protected against halation |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2588982A (en) * | 1950-10-26 | 1952-03-11 | Eastman Kodak Co | Direct positive photographs using hydrazine in the emulsion |
| US3050392A (en) * | 1958-08-01 | 1962-08-21 | Mergenthaler Linotype Gmbh | Oxidation-stable developer compositions |
| US4030925A (en) * | 1975-08-06 | 1977-06-21 | Eastman Kodak Company | Photographic compositions and elements including internal latent image silver halide grains and acylhydrazinophenylthiourea nucleating agents therefor |
| JPS5931691B2 (ja) * | 1978-11-30 | 1984-08-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 直接ポジハロゲン化銀感光材料 |
| JPS5952820B2 (ja) * | 1979-11-06 | 1984-12-21 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS60660B2 (ja) * | 1980-11-19 | 1985-01-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 直接ポジハロゲン化銀感光材料 |
-
1981
- 1981-09-29 JP JP56154116A patent/JPS5855928A/ja active Granted
-
1984
- 1984-10-11 US US06/660,241 patent/US4540655A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6147954A (ja) * | 1984-08-14 | 1986-03-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像形成方法 |
| JPS6385740A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-16 | Konica Corp | 直接ポジハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS63231448A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジ画像形成方法 |
| JPS63261360A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジカラ−画像形成方法 |
| EP0318987A1 (en) | 1987-12-02 | 1989-06-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Direct positive photographic lightsensitive material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4540655A (en) | 1985-09-10 |
| JPS6345576B2 (ja) | 1988-09-09 |
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