JPS5859992A - 新規セフエム化合物およびその製造法、並びに細菌感染症予防・治療剤 - Google Patents

新規セフエム化合物およびその製造法、並びに細菌感染症予防・治療剤

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JPS5859992A
JPS5859992A JP16074682A JP16074682A JPS5859992A JP S5859992 A JPS5859992 A JP S5859992A JP 16074682 A JP16074682 A JP 16074682A JP 16074682 A JP16074682 A JP 16074682A JP S5859992 A JPS5859992 A JP S5859992A
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alkylamino
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Tsutomu Terachi
寺地 務
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Jiro Goto
後藤 二郎
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は抗菌性物質として有用な一般式:〔式中、R
1はアミノ基または保護されたアミノ基; R2は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族
炭化水素基、シクロ(低級)ア7レキル基またはシクロ
(1氏吸)アlレヶニIし基;R5は低級アルキlレア
ミノ基、保護されたN−(低級)アルキルアミノ基、ジ
(低級)アノレキフレアミノ基、スルホ(低級)アルキ
ルアミノ基、ヒドロキシ(低級)アルキルアミノ基、保
護されりN−ヒドロキシ(低級)アルキlレアミノ基、
アシルオキシ(低級)アルキIし基、低級アフレコキシ
(低級)アルコキシ(低級)アMキlし基、シ(低級’
JアルキVアミノ((氏@)ア7レキM基、低級アルキ
ルチオ(低級)アルキlv基、低級アIレキルチオ基、
低級アルコキシ基、低級アルコキシ(低級)アルコキシ
基、とドロキシ(低級)アルコキシ基、ア’/Tしく 
低級)アlレキM蔭、ヒドロキシ(低級)ア!レギルチ
オ基、ジ(低級)アルキルアミノ基(低級)アルギlレ
チオ基、N−含有不飽和5は複素環基、N−含有不飽和
5d複素環チオ基fたは適当な置換基で置換されていて
もよいN−含有不飽和5筐たは6員複素環千オ(低級)
アルキIV基;Rは水素原子または低級アVキIし基を
それぞれ意味する〕で示される新規セフェム化合物、そ
の塩類およびそれらの製造法、並びに細菌感染症予防・
治療剤に関するものである。
この発明の新規セフェム化合物CDは、以下の反応式で
示される種々の方法によって製造することができる。
方法1 (n)            ([11)筐たはその
塩類     またけその塩類■ (I) またはその塩類 方法2 (Ia) またはその塩類 、(tb) またばその塩類 方法3 (1,) またはその塩類 〔式中、R1、R2、R5およびR4は前と同じ意味で
あり1 は前と同じ意味)で示される基によって置換されつる基
; R3a−は保護されたN−(低級)アルキルアミノ基ま
た(d保護されたN−ヒドロキシ(低級)アルキルアミ
ノ基; R3bは低級アルキルアミノ基またはヒドロキシ(低級
゛)アノレキlレアミノ基; R6は保護された々ルポギシ基; Xは栃残基を任味する〕。゛ 物であり、次の反応式で示す製造法によって製造するこ
とができる。
(v)               (W)モジ<f
dそのカーレボキ  もしくはそのアミノ基シ基におけ
る反応性誘  における反応性銹導体導体贅たはそれら
の塩  またはそれらの塩類類 ↓ (V口) (Vhl) またはその塩類 (IX) (IV) 〔式中、R1、R2、R3、R4、R6オヨびXばそれ
ぞれilと同じ意味〕。
化合物〔v〕のあるものは次の反応式で示す製造法によ
って製造することができる。
( (X)           (XI)またはその塩類
    またはその塩類(Xll          
   (Va)またけその塩類       またはそ
の塩類〔式中、R2は前と同じ意味であり、Zは保護さ
ル れた力襲ポギシ基、Yはハロゲンをそれぞれ意味する〕
目的化合物CI)、(Ia)および[Ib]ならびに原
料化合物(nl、〔■〕、〔v〕、〔マa〕、〔■〕、
〔マ■〕、(IX)、CX)、[:Xllおよび〔店〕
については、該目的化合物および原料化合物にはシン異
性体、アンチ異性体およびそれらの混合物が含まれるも
のとする。例えば目的化合物CI)について説明すれば
、シン異性体は式; 〔式中、R1およびR2[それぞれ前と同じ意味〕で示
される部分構造分有する一つの幾何異性体を意味し、ア
ンチ異性体は式: 〔式中、RおよびRは前と同じ意味〕で示される部分溝
aを有するもう一方の幾何異性体を意味する。
化合物〔■〕以外の前記目的化合物および原料化合物に
ついても、シン異性体およびアンチ異性体trlfヒ合
物[1〕で説明した幾何異性体と同様に説明することが
できる。
目的化合物〔Iaの好適な塩類は、慣用の無毒性塩でち
り、例えばナトリウム塩、7目lウム塩等のアIレカリ
金属塩およびカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカ
リ土類金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、例えば
トリメチル・アミン塩、トリエチルアミン塩、ヒリジン
塩、ピコリl塩、ジシクロヘキシルアミン4. N、N
’−ジベンジ!レエチレンジアミン福等の有機塩基塩、
例えば酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスフレ
ホン酸塩、ペンゼンスMホン酸塩、ギ酸L  ト’レエ
ンスlレホン酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化水
素酸塩、ヨウ化水素ヤ廖、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸
塩4たは例えばアIレギニン、アスパラギン酸、グルタ
ミン酸等のアミノ酸との塩等が挙げられる。
この明細書の以上の記載および以下の記載において、こ
の発明の範囲内に包含される種々の定義の適切な例と説
明とを以下詳細に説明する。
「低級」とは特に指示がなければ炭素原子1〜6個を有
する基を意味する。
R1の好適な「保護されたアミノ」としては、アシMア
ミノまたは、例えばベンジル、トリfV等の置換基を少
なくとも1個有していてもよいアV(低級)アルキMの
ような慣用の保護基によって置換されたアミノ基等が挙
げられる。
「保護されたN−(低R)アルキルアミノ」および「保
護されたN−ヒドロキシ(低級)アルキルアミノ」の好
適な保護基としては、アシル基および前記のアV(低級
)アルキM等のような慣用の保護基が挙げられる。
好適なアシV基および「アシMアミノ」、「アシルオキ
シ」、「アシルオキシ(低級)アルキM」および「アシ
/L/(低級)アルキ〃」における好適なアシM部分と
しては、力Mパモイル、脂肪族アシル括および芳香環も
しくは複素環を含むアシM基が挙げられる。前記アシル
仄の好適な例としてはカルバモイ!し;例えばホIレミ
Iし、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、・バレリM。
イソバレリル、オギサリIし、サクシニM1 ピバロイ
ル、ヘキサノイル、藏プタノイIし、オクタノイル、ノ
ナノイM、デカノイM、ウンデカノイM1ドデカノイl
し、トリデカノイIし、テトラデカノイM1ペンタデカ
ノイル、ヘキサデセノイル、ヘプタデカノイル、オクタ
デカノイル等の炭素原子1〜18個を有するアルカノイ
ル;例えばアクリロイル、メタクリロイル、クロトノイ
lし、イソクロトノイlし、ペンテノイル、ヘキセノイ
!し、ヘキサノイル、ドデセノイル、テトラデセノイル
、ヘキサデセノイル、オレオイル、エライドイM等の炭
素原子3〜20個を有するアクリロイル;例えばメトキ
シカ!レポ二M、エトキン力lレボニル、プロポキンカ
ルボニル、■−シクロプロヒ!レエトキン力!レポ二M
1イソプロポキシカルボニル、フ゛トキンカIレポ二M
、第三級ブトキシカMボール、ペン千MオキンカMポニ
M、ヘキンVオギシ力ルボ二M等の炭素原子2〜7個を
有する低級アMコキンカrvホ=ル;例tばメジM1エ
タンスIレホニル、プロパンスルホニ!し、イソプロパ
ンスlレホニル、プロンスルホニル等の低級アVカンス
Mホニル;例エハベンゼンスMホニル、トシtv等のア
レーンスMホニル;例工id:ベンゾイ&、  )ルオ
イル、キシロイル、ナフトイヤ1フタロイ1し、インダ
ンカMボニル等のアロイル;例エバフェニルアセチル、
フエ二MプロピオニM等のア/L/(低級)アルカノイ
V; 例えばベンジ/レオキシカワボニル、ソエネチル
オギシ力ルポ二M等のアn/(低級)アルコキン力ルポ
二M等が挙げられる。上記アシ!し部分はハロゲン(例
えば塩素、臭素、フッ素およびヨウ素)、低級アルカノ
イIし等のような置換基金少なくとも1個有していても
よい。
好適な低級脂肪族炭化水素基としては低級アMキv1低
級アVケニv1低級アVキニル等が挙げられる。
好適な「低級アVキV」および「低級アVギMアミノ」
、「保護されたN−’(低@)アルキ〃アミノ」、「ジ
(低級)アルキ!レアミノ」、「スIレホ(低級)アl
レキルアミノ」、「ヒドロキシ(低v1 )アノレキに
アミノ」、「保護されたN−ヒドロキシ(低級)アルキ
Iレアミノ」、「ヒドロキシ(低級)アルキ々チオ」、
「ジ(低級→アw?rtvアミノ(低級)アルetvチ
オ」、「アシルオキシ(低vk)−yzy*uj、r低
級アVコキシ(低級)アルコキシ(低級)アルキル」、
「ジ(低級)アIレキ!レアミノ(低級)アn/キv、
J、riflJmアVキVチオ(低級)アルキル」、「
低級アfvキルチオ」、[アシIv(低級)アMキM」
および[N−含有不飽和5または6員複素環チオ(低g
!I)アVキV」における好適な「低級アMキル部分」
は炭素原子1〜6個を有するアn/キVであり、その例
としてはメチv1エチM、プロピル、インプロヒル、ブ
チM、イソブチM%第三級ブチIし、ペンチル、第三級
ペンチル、ヘキシル等が挙げられるが、好ましくは炭素
原子1〜4個を有するアルキルである。
好適な「低級アルケニVJは炭素原子2〜6個を有する
ものであり、その例としてはビニv、アリル、イソプロ
ペニル、1−10ベニv12−ブテニA/13−ベンテ
ニM等が挙げられるが、好ましくは炭素原子2〜4個を
有するものであ−る。
好適な「低級アlL/キ=vJは炭素原子2〜6個を有
するものであり、その例としてはエチニM、2−プロビ
ニIV、2−−j”チニM、3−ペンチニル、3−ヘキ
シニV等が挙げられるが、好1しくは炭述の保護された
力Vポキン等のような1〜3個の適当な基で置換されて
いてもよい。
好適な「シクロ〔低級〕アルキル」は、炭素原子3〜6
個を有するものであり、シクロプロピル、シクロブチル
、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられるが、
好ましぐは炭素原子5〜6個を有するものである。
好Afx rシクロ(低級)アlレケニル」は、炭素原
子3〜6個を有するものであり、シクロ10ベニM、シ
クロブテニM、シクロペンテニジ、シクロヘギセニル等
が挙げられるが、好1しぐは炭素原子5〜6個を有する
ものである。
好適な「低級アフレコキシ」および「低級ア7レコギシ
(低級)アlレコキシ(低級)ア7レギ7し」、「低級
アルコギシ(低級)アルコキシ」およ°び「ヒドロキシ
(低級)アルコキシ」における好適な「低級アルコキシ
」部分としては、エトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシ、第三級ブトギシ、ベンチルオ
キシ、ヘギシ!レオキシ等が挙げられるが、好1しくけ
#素原子1〜3個を有するものである。
好適な「N−含有不飽和5員複素環屑」および「N−含
有不飽和5@複素環チオ」における好適な「N−含有不
飽和5員榎素環」部分は、1〜4個の窒素原子を有する
不飽和5員複素環基であり、その例としてピロリlし、
イミダゾリル、ピラゾリル、例えば4H−1,2,4−
)リアシリlし、IH−1,2,3−)リアゾリル、2
H−1,2,3−トリアゾリル等のトリアシリlし、例
えばIH−テトラゾリル、2H−テトラシリV等のテト
ラゾリル等が挙げられる。
「適当な置換基で置換されていてもよいN−含有不飽和
5または6員複素環チオ(低級)アルキM」の好適な「
N−含有不飽和5または6員複素環」部分としては、上
述の「N−含有不飽和5員複素環基」およびピリジM1
ピリミジニM1ビラジニv1 ピリダシ=V、  )リ
アジニル、ジヒドロトリアジニル等のような1〜4個の
窒素原子を有する不飽和6員複素環基−が挙げられす。
前記「N−含有不飽和5または6員複素環チオ(低級)
アルキル」は、低級アルキル、ヒドロキシ、オキソ等の
ような適当な置換基1〜3個で置換されていてもよい。
好適なR5としては、アシμオキシ、アジド、ハロゲン
(例えば塩素、臭素、ヨウ素またはフッ素)等のような
酸残基が挙げられ、「アシμオキシ」のアシM部分とし
ては前に例示したものと同じものが挙げられる。
好適なXとしては上記酸残基が挙げられる。
好適な「ハロゲン」としては塩素、臭素、フッ素捷たは
ヨウ素が挙げられる。
好適な「保護されたカルボキシ」としてはエステlし化
された力Mボキンが挙げられ、そのiステルノ例トして
ハ、例えばメチルエステM、エチMエステル、プロヒI
レエステル、イソブチルエステル、ブチヤニステル、イ
ソブチルエステル、第三級ブチ7レエステル、ペンチル
エステル、第三級ベンチルエ不テル、ヘキンVエステル
、ヘデチMエステM1 オクチMエステル、ノニVエス
テV。
デシVエステM、ウンデシMエステV、ドデシMエステ
ル、ヘギサデシルエステル等のアVキMエステV ; 
例、5eJfビニVエステ7し、ア1ルエステル等の低
級アルケニVエステM;エチニMエステv110ビニル
エステル等の低級ア/I/ギニVエステM;例tJf2
−ヨードエチルエステル、2,2.2− ) IJクロ
ロエチルエステM等のモノ(またはシーt タuトリ)
ハロ(低級)アVキルエステル;例えばアセトキシメチ
Mエステ7し、プロピオ;Vオキシ−メチルエステ7L
/、  1−アセトキシプロピvエステv1パレリルオ
ギシメチMエステル、ピバロイルオキシメ千VエステM
1ヘキサノイVオキシメチMエステv、1−アセトキシ
エチVエステM、2−プロピオニVオキンエチMエステ
ル、1−イソブチリMオキンエチVエステV等の低級ア
M力lイVオキシ(低Il&)アVキMエステV:例え
ばメジVメ千Vエステル、2−メジVエチμエステM等
の低級アVカンスルホニlv(低級)アpv’t、lv
エステル;例えばベンジMエステyv、 4−エトキシ
ベンジルエステル、4−ニトロベンジMエステM、フエ
ネチMエステル、トリ千MエステM1ジフエニV〈チV
エステv1ビス(メトキシフェニル)メチルエステy、
3.4−ジメトキシベンジルエステM。
4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三級ブチμベンジルエス
テル等の1個以上の適当な置換基で置換されていてもよ
いフエ=A/(低級)アlvキVエステMがその例とし
て挙げられるアV(低級)アMキシエステV;例えばメ
トキシカVボ=VオキンメチVエステ〃、エトキンカV
ボ=MオキンメチVエステル、エトキシカVポニVオキ
ンエチルエステV等の、アジドで置換されていてもよい
低級アVコギシカルポニMオキシ(低級)ア/L/キル
エステV;榎素環エステlし、好ましくはオキソ基で置
換されていてもよいベンゾテトラヒドロフリ2レエステ
ル、さらに好1しくはフタリジMエステlし;例えばペ
ンゾイシオキシメチMエステ1し、ベンシイ7レオキシ
エチ!レエステlし、ト7レオイルオキンエチlレエス
テ!し等のアロイ7レオキシ(低級)アルキVエステt
v ;例エバフェニルニーステlし、トリMエステル、
ff1Edプチルフエニ!レエステIvVキシリルエス
テlし、メン千〃エステル、クメニMエステM等の1個
以上の適当な置換ff有していてもよいアリー〃エステ
lし等が挙げられる。
「保護されたカルボキシ」の好ましい例としては、例え
ばメトキシカヤボニル、エトキシ力!レポ二lし、ブロ
ボキン力ルボニIし、ブトキシカルボニル、第三級プト
キンカMボニ7し等の低級アMコキンカνポニM、また
は例えばベンジャオキシカルポール、フエネチMオキン
カ!レボニル、トリ千MオキシカルポニM1ジフエニM
メトキン力Mボニル等のアV(低級)アルコキシカVポ
=Mが挙げられる。
目的化合物III)の好ましい実施態様は次のとおりで
ある。
R1の好ましい実施態様はアミノ; R2の好ましい実施態様は低級アルキル、力?レボキシ
(低級)アルキ〃、低級アルキニル、シクロ(低級)ア
ルキv1 シクロ低級アルケニルtたは低級アIレケニ
M; R3の好ましい実施態様は低級アルキルアミノ、N−(
アシ/L/)(低級→アルキルアミノ〔さらに好まし−
〈はN−(低級)アVカノイV(低@)アル!F−ジア
ミノ〕、ジ(低級)アルキルアミノ、スMホ(低級)ア
ルキルアミノ、ヒドロキシ(低級)ア7し2vアミノ、
N−(アシル)ヒドロキシ(低級)アルキルアミノ〔さ
らに好ましくはN−(低級)アVカノイMヒドロキシ〔
低、fJl )アルキルアミノ〕、アシMオキシ(低級
)アルキM〔さらに好ましくはアロイ7レオキシ(低級
)アルキMもしくはアロイ7レオキシ(低級)アルキル
〕、ヒドロキシ(低級)アMコキン、イ昏級アMコキシ
(低級)アIレコキシ(低級)アIレキ!し、ジ(低級
)アルキルアミノ(低級)アルキM、ヒドロキシ(低級
)アルキルチオ、低級アルキルチオ(低級’)7A/キ
M、低級アル!f1vチオ、低級アVコキシ(低級)ア
lレコキシ、ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキ
ルチオ、低級アtVコキン、アシV(低級)ア!′Vキ
V〔さらに好ましくは低級アlレカンスMホニV(低級
)アlレギu〕、N−含に不W8和5員暉累環仄〔さら
に好ましくはテトラシリV〕、N−含有不飽和5員榎素
環チオ〔さらに好1しくはテトラゾリルチオ〕、または
低級アVギV、ヒドロキシおよヒ/筐たはオキソで置換
されていてもよいN−含有不飽和5または6員複素環チ
オ(低級)アA/41F−μ〔さらに好寸しくにテトラ
ゾリルチオ(低級)アルキMもしくはジヒドロトリアジ
ニルチオ(低級)アルキル〕; R4の好ましい実施態様は水素または低級アルキMであ
る。
この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。
方法l 目的化合物CI)またはその塩類は、化合物〔■〕また
はその塩類に化合物(II)またはその塩類を作用させ
ることにより製造することができる。
化合物〔旧および化合物l〕の好適な塩類としては、化
合物CI)について例示したものと同じ塩類を挙げるこ
とができる。
この反応は水、リン酸緩衝液、リン酸、アセトン、クロ
ロホVム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、塩化メチ
レン、塩化エチレン、ホVムアミド、ジメチルホルムア
ミド、メタノール、エタノール、エーテV、テトラヒド
ロフラン、ジメチlレスVホキシトのような溶媒中で行
なうことができ、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれ
ばいかなる溶媒も使用することができるが、極性溶媒中
で反、応を行なうことが好ましい。上記溶媒中親水性溶
媒は水と混合して使用してもよい。反応は好ましくは中
性付近の媒質中で行なわれる。化合物CIOを遊離の形
で使用する場合、反応を塩基、例えばアVカリ金属水酸
化物、アミノカーリ金属炭酸塩、アルカリ今1萬炭醪水
素塩のような襟機塩基、トリアlレキlシアミンのよう
な有機塩基等の存在下に行なうことが′■寸しい。反応
r品度は特に限定されず、通常は常温、加温下もしくは
加姑下に反応が行なわれる。この反応は好1しくに、例
えばヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等のアIレカリ
金属ハロゲン化物、例えばチオシアン咽ナトリウム、チ
オシアン酸カリウム等のアミレカリ金属チオシアン峻塩
等の存在下に行なわれる。
方法2 目的化合物IJblまたはその塩類H化合物〔133寸
たけその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付すことによ
って製造することができる。
化合物〔Ia〕および[:Ib:]の好適な塩類は、化
合物CI〕について例示したものと同じ塩類を挙げるこ
とができる。
この脱離反応は、加水分解;還元;保護基がアシル基で
ある化合物meイミノハロゲン化剤と反応させ、次いで
イミノエーテル化剤と反応させ、要すれば引続いて生成
物を加水分解に付す方法等のような慣用の方法に従って
行なわれる。加水分解法としては、酸または塩基または
電−自一一≠ヒドラジン等を用いる方法が挙げられる。
これらの方法は脱離すべき保護基の種類によって選択す
ればよい。
これらの方法のうち、酸を用いる加水分解は、例エバ第
三級ベンチIVtキンカMボニル、第三級ブトキシ力!
レボ=M等の置換もしくは非置換アVコキンカVポニv
1例エハホ7レミw’4のアルカノイル、シフロア#:
ff)シカMボニV、 例工ばベンジMオキンカVポニ
v1置換されたベンジlレオキシ1jlV7f:ニル等
の置換もしくは非置換アワVコキ7シカMポニM1例え
ばベンジA/、  )リチM等のアル(低級)アルキ〃
等のような保護基の脱離に共通した好ましい方法の一つ
である。
好適な酸としては、例えばギ酸、トリフVオロ酢酸、ベ
ンゼンスフレホン酸、p−)ルエンスルホン酸、塩酸等
の有機酸または無機酸が挙げられるが、好筐しい酸は、
例えばギ酸、トリフlレオロ酢酸、塩酸等である。反応
に使用すべき酸は脱離すべき保;7Iiのtii類!で
よって適宜選ばれる。脱離反応が酸を用いて行なわれる
場合には、溶媒はあってもなくてもよい。好適な溶媒と
してに、慣用の有e!#7媒、水寸たにそれらの混合物
が挙げられる。
トリフルオロ酸#を用いる場合には、脱離反応をアニソ
−Mの存在下に行なうことが望ましい。
ヒドラジンを用いる加水分解に通常、例えばサクシ=I
し寸たはフタロイMのような保護基の脱離に南用淑れる
塩基によるIJO水分解は好1しくはアシル基、例えば
ジクロロアセチy、  )リフ2レオロアセチlし等の
ハロアミレカノイル等の脱離に適用される。好適な塩基
の例としては、例えば水酸化す) IIウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属1に酸化物、例えば水酸化マグ
ネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水管
化物、例えば炭酸ナトリウム、岸酸カリウム等のアルカ
リ金属炭酸塩、例えば脚力 やマグネシウム、炭酸カルシウム等のアFl/%り土題
金属炭rvII塩、例えば炭酸水素す) IJウム、炭
酸水素カリウム等のアセカリ金属炭W/に素塊、例えば
酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩
、例えばリン酸マグネシウム、リン酸力Mシウム等のア
ルカリ土類金属リン酸塩、例えばリン酸水素2ナトリウ
ム、リン酸水素2カリウム等のアルカリ金属酢酸水素塩
等のような無機塩基、例えばトリメチMアミン、トリエ
チMアミン等のトリアrv’x、−yvアミン、ピコリ
ン、N−メ千Vピロリジン、N−メチMモMホリン、1
.5−ジアザビシクロ〔4,3,O〕ノン−5−エン、
1.4−ジアザビシクロ[2,2,2)オクタン、1,
5−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−5等の
ような有機塩基が挙げられる。塩基を用いる加水分解は
しばしば、水、慣用の有機溶媒またはそれらの混合物中
で行なわれる。
保護基中、アシル基は通常E記加水分解またはその他の
慣用の加水分解によって脱離することがテキル。アシル
基がハロゲン置換アMコギシカMポニVまたは8−キノ
リMオキンカルポニVである場合には、これらのアシV
基は銅、亜鉛等のような重金属処理によって脱離される
涜尤による脱4は1山常、例えばトリクロロエトキシ力
!レボニル等のハロアミレコキンカIレボニル、例えば
ベンジMオキンカフレボ=ル、置換すれたペンジルオキ
シ力ルポニIし等の置換もしくは非置換アラ7レコキシ
カルポニlし、2−ピリジlレフトキシ力ルポニル等の
保護基の脱離に適用される。好適な還元法の例としては
、例えば水素化ホウ素ナトリウム等の水素化ホウ素アル
カリ金属による還元等が挙げられる。
反応温度は特に限定されず、アミノ保護基の種類および
上記脱離法の種類Cτよって適宜選択されるが、この反
応は好1しくに冷却下、常温またはわずかに加温する程
変の温和な条件下に行なわれる。
この反応において、Rの保護されたアミノ基が、上記脱
離反応過程中寸たけ反応生成物の混合物後処理過程中に
、遊離アミノ基に変化する場合もその範囲内に包含され
る。
方法3 化合物〔19寸たはその塩類に、化合物CIDをカMボ
キシ保護基の脱離反応に付すことによって製造すること
ができる。
この反応は加水分解または還元等の慣用の方法。
によって行なうことができる。
保護基がエステルである場合には、保護基は加水分解に
よって脱離することができる。加水分解は好ましくは塩
基・tたは酸の存在下に行なわれる。
好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、マグネシウム、力Mシウム等のアルカリ
土類金属、それらの水酸化物または  。
炭酸塩またtI′i炭酸水炭酸水側堰ばトリエチルアミ
ン、トリエチルアミン等のトリアルキVアミン、ピコリ
ン、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0)ノン−5−
エン、1.4−ジアザビシクロ(2,2,2)オクタン
、1.8−ジアザビシクロ〔5,4,0)ウンデセン−
7等のような無機塩基および有機塩基が挙げられる。好
適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、ト
リフルオロ酢酸等の有機酸および塩酸、臭化水素酸、硫
酸等の無機酸が挙げられる。
トリフルオロ酢酸を使用する場合、反応は好1しくはア
ーソーMの存在下に行なわれる。
反応は通常、水、例えばメタノ−V、エタノ−M等のア
ルコール、それらの混合物中で行なわれるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる溶媒中
でも行なうことができる。
液状の塩基または酸も溶媒として使用することができる
。反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし
加温下の範囲で反応が行なわれる。
還元は好壕しくは4〜ニトロベンジル、2−ヨードエチ
&、2,2.2− )リクロロエチ&%のような保護基
の脱離に適用づれる。脱離反応に適用できる還元法の例
としては、例えば亜鉛、亜鉛アマルガム等の金属もしく
は塩化第1クロム、酢酸第1クロム等のクロム化合物の
塩と、例えば酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機酸また
に無機酸との組合わせを用いる還元;および例えばパラ
ジウム−炭素等の慣用の金属触媒下における常用の接触
還元が挙げられる。
原料化合物C■〕の製造について以下詳細に説明する。
製造法l 化合物〔■〕またはその塩類は、化合物〔マ〕もしゼは
その力Mポキン基における反応性誘導体筒たはそれらの
塩類に、化合物(Vl)もしぐはそのアミ7基における
反応性誘導体またはそれらの塩類を作用させることによ
って製造することができる。
この反応は、セファロスポリン化合物の7−アミノ位の
アシM化反応に用いられる慣用の方法によって行なうこ
とができる。
製造法2 化合物(VI〕またはその塩類は、化合物〔■〕または
その塩類を酸化することによって製造することができる
この反応に使用される好適な酸化剤としてはセファロス
ポリン化合物におけるーS−基を一ミー基に酸化しつる
すべての酸化剤が挙げられ、その例としては、例えば過
酸化水素、3−クロロ過安息香峻等の過酸化物等?5;
挙げられる。
反応は通常塩化メチレンのような溶媒中で行なわれるが
、反応に態形$Jiを及ぼさない溶媒であればいかなる
溶媒も使用できる。反応温度は特に限定されないが、好
ましくは冷却下4たは常温で反、応が行なわれる。
製造法3 化合物〔■X〕は化合物(:V[l)’Eたはその塩類
に化合物[:ll1) ’に作用させることにより製造
することができる。
この反応に方法1に準じて行なうことができる。
製造法4 化合物CIV)は化合物[IX] k還元すること【よ
り製造できる。
この還元はセファロスポリン化合物における、、f−基
を−S−屑に還元しうる慣用の還元剤、例えば三塩化リ
ン等のトリハロゲン化リンのようなハロゲン化リンの存
在下に行なうことができる。
化合物CVa〕の製造について以下詳細に説明する。
製造法5 化合物[XI]またはその塩類は、化合物〔X)1だ(
はその塩類をハロゲン化することによって製造すること
かできる。
化合物CX)および化合物(XI)の好適な4.1とし
ては、化合物CI)について例示した酸付加塩を挙げる
ことができる。
この反応は化合物〔X〕またはその塩類をハロゲン化剤
と反応させることにより行なうことができる。
この反応に用いられる好適なハロゲン化剤としては、ハ
ロゲン(例えば塩素、臭素、フッ素またはヨウ素)、例
えばN−クロロサクシンイミド、N−プロモサクシンイ
ミド等のN−ハロゲン化すクシンイミド、例えば次亜塩
素酸、次亜臭素酸等の次亜ハロゲン酸、例えば塩化イソ
シアヌル酸、臭化イソシアヌル酸等のハロゲン化イソシ
アヌlし酸等がその例として挙げられる。
反応は通常エーテル、例えばメタノ−M、エタノール等
のアルコ−Iし、それらの混合物等のような反応に悪影
響を及ぼさない溶媒中で行なわれる。
反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下から常温
1での範囲で反応が行なわnる。
製造法6 化合物〔XIまたはその塩類は、化合物(XI)またに
その塩類を力!レボキシ呆護基の脱離反応に付すことに
より製造することができる。
この脱離反応は方法3の方法に準じて行なうことができ
る。
製造法7 化合物CVa) ’jたはその塩類は、化合物〔薊また
けその塩類にチオシアン酸(H8CN)の塩を作用博せ
ることにより製造することができる。
化合物〔XIおよび(Valの好適な塩類としては、化
合物〔■〕について例示したものと同じ福@を使用する
ことができる。
チオシアン酸の好適な塩類としては、例えばナトリウム
塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩等のような金属塩、
例えばトリエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチル
アニリン等の有m第三M塩基との塩等が挙げられる。
この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない溶媒、その
例として、例えばメタノール、エタノ−M等のアVコー
M等のような親水性溶媒中で行なわれる。
反応温度は特に限定されず、通常は冷却下ないし常温の
範囲で行なわれる。
このように前記方法1〜3に従って得られた化合物は、
慣用の方法によって塩類にすることができる。
この発明の目的化合物〔目は高い抗菌活性を示し、ダラ
ム陽性およびダラム陰性病原菌を含む多数の微生物の増
殖を抑制する。
目的化合物CI) e医薬として用いる場合は、医薬上
許容される塩の形で用いてもよい。
この発明のセフェム化合物CI)またはその塩類は、治
療を目的として投与されるに際し、この化合物に医薬と
して許容しつる媒体、例えば経口、非経口もしくは外用
投与に適した有機もしくは無機、固体または液体の賦形
剤を混和した製剤の形で使用される。このような製剤と
しては、カプセM1錠剤、顆粒剤、軟膏、坐剤等の固体
状製剤、または溶液剤、懸濁剤もしくは乳剤等の液剤が
ある。さらに所望により前記製剤中に補助剤、安定剤、
湿潤剤もしくは乳化剤、緩衝剤、その他の慣用添加剤等
を含有させることもできる。
有効化合物の投与量は患者の年令および症状に応じても
変動するが、この発明の化合物の平均的な1回の投与量
としては、約50岬、100岬、250ダおよび500
岬の量が多くの病原菌により誘起される感染症の治療に
有効である。一般に日用量としては1111ないし約1
000′III或はそれ以上の量が投与されうる。
次に目的化合物CI)の有用性を示すためにこの発明に
係る代表的化合物の抗菌活性に関する試験データを示す
@ 試験方法 試験管内抗菌活性を下記の寒天平板希釈法によって求め
た。
トリプチケース・ソーイ・ブロス(iHklO”個/m
)中で一夜培養した各試験菌株の一白金耳をハート・イ
ンフェージ目ン・アガー()II−寒天)に接種した。
この培地には抗菌剤が各濃度で含まれており、37℃で
20時間培養した後最低発育阻止濃度(MIC)を測定
した。C単位:μfl/l ) 試験化合物 (1)?−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−71/−3−イV)アセトア
ミド]−3−(3−メチルアミノ−1−ピリジニオメチ
ル)−3−セフェム−4−力Vボキンレート(シン異性
体) (2)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−77−3−イA’)7−tc
)アミド)−3−(3−ジメチルアミノ−1−ビリジニ
f−チJ%/)−3−セフェム−4−カルボキシレート
(シン異性体) (3)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−Iv−3−イlv)アセトア
ミド]−3−(3−メトキシ−1−ピリジニオメチV)
−3−セフェム−4−力Vポキンレート(シン異性体) 試験結果 MIC(μg/−) 以下この発明を製造例および実施例に従って説明する。
製造例1 イソニトロ嘔マロン酸ジメチルエヌテ/’(12,25
y)とジエチノー硫酸14.32F>とのN、N−ジメ
チルホルムアミド(12g+/)中温合物ニ、トリエチ
ルアミン(9,39P1を30〜40℃で攪拌しながら
滴下し、°さらに同じ温度で1.5時間攪拌を続けた。
混合物を塩化メチレン(45g/)および水(5011
1)で希釈して有機層を分離して取り、炭酸カリウム5
%水溶液および水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、蒸発乾固して油状残渣1(11,5y)を得た。
この残渣を減圧(5mHg)蒸留し1エトキシイミノマ
ロン酸ジメチルエステ/l’(5,51)を得た。沸点
85〜105℃(5smHy)。
工F(フィルム):5000.2970.1755.1
730,1610clIINMR’(CDql、 、δ
)イ30(3B、t、J=7Hz) 。
5.85C6H,s)、432(2H,q、J=7Hz
)エトキシイミノマロン酸ジメチルエステル(57,4
5F)と濃アンモニア水(50g+/)とのメタノ−/
’(150g/)中温合物を室温で2.5時間攪拌した
。混合物を冷却下に濃塩酸でpH4に調整し、減圧濃縮
して7Q+wlとした。水溶液を冷蔵庫中に1時間放置
し、生成した沈殿をIP取して冷水で洗浄した後、乾燥
して、2−カルバモイル−2−エトキシイミノ酢酸メチ
ルエステ/I/(シン異性体)(31F)を得た。融点
68〜71°c0IR(ヌジ=x  zし):3450
,3300.3200.1740゜1680.1660
.1600a++ NMR(DMSO−(16,δ):1.28(5H,t
、J=7Hz) 。
5.85C5H,’ s ) 、 4.28(2H,q
 、 J=7Hz) 、 7.70(2H1)シード 
S) メーヤパインMl(、)リエチルオキソニウム・テトラ
フルオロボレート)〔6フツ化ホウ素工−テyv錯体(
2,842)カラオーガニック シンセシス、第46巻
、第116頁(1966年)の方法に゛より調製〕の塩
化メチレン(30m/)溶液に、2−カルバモイ)v−
’l−エトキシイミノ酢酸メチルエステル(シン異性体
、2.6F)を加え、混合物を室温で18時間攪拌した
。反応混合物を水浴中で冷却し、これにトリエチルアミ
ン(6y)を加えた後、水(20g/)を加えた。有機
層を分離して取り、硫酸マグネシウムで乾燥した後、蒸
発乾固シ・て、m155−イミノ−6−ニトキシー2−
エトキクイミノプロピオン酸メチルエステ/L/(シン
異性体)(5,OF)を油状物として得た。
上記で得られた粗製5−イミノ−3−エトキシ−2−エ
トキシイミノプロピオン酸メチルエステル(シン異性体
)(5,0jE)と塩化アンモニウム(8021v)と
のメタノール(25薄l)溶液を室温で6時間撹拌した
後、蒸発乾固して得た残渣を酢酸エチル中で粉砕して、
2−アミジノ−2−エトキシイミノ酢酸メチルエステ/
v塩酸塩(シン異性体)(1,75))を得た。融点1
68〜140’C(分解)。
工R(ヌジヲ二ル):2600.2490.1740.
1680゜1595z’ NMR(DMSO−d6.δ):1.33(3H,t、
J=7Hz)。
3.90(3H,S)、4.45(2H,q、J=7H
z)2−アミジノ−2−エトキシイミノ酢酸メチルエス
テル塩酸塩(シン異性体)(12,61)のメタノ−#
<500w1)溶液に、次亜塩素酸のエーテル溶液(9
0g/)(次亜塩素酸ナトリウム10多水溶液(100
g+/)および6N塩酸(60g+1りからジエチルエ
ーテz+/(’10 (1+/ ’)中で調整)を氷浴
中で0〜5°Cに冷却しながら攪拌下に滴下し、同じ温
度でさらに60分間攪拌した。反応混合物にトリエチル
アミン(14y)を同じ温度で滴下した後、混合物を蒸
発乾固した。残渣を冷水(150g/)中で粉砕し、水
浴中で60分間攪拌した。生成した沈殿を炉取し、冷水
で洗浄した後、乾燥して、2−(N −クロロ)アミジ
ノ−2−エトキシイミノ酢酸メチルエステ/L/(シン
異性体)(7,2F)を得た。融点68〜40’C。
工R(ヌジョール):3470.3350,1750.
1655゜1600.1560,1030,840cW
INMR(CD30D、δ):1.25(+H,t、J
=7Hz)、3.76(3H,s)、4.20(2H,
q、J=7Hz)(6)  2−(N2−クロロ)アミ
ジノ−2−エトキシイミノ酢酸メチルエステlv(シン
異性体)(6,Op)の水酸化ナトリウム1N水溶液(
60ml )中懸濁液を室温で1時間攪拌した。この溶
液を水浴中で冷却り、、、、 6 N塩酸(5,5g/
)雪酸性にし、酢酸エチル(30g/)で2回抽出した
。抽出液を乾燥し、蒸発乾固して残渣をジイソプロピル
エーテルと石油エーテルとの混合溶媒中で粉砕して、2
−(N  −クロロ)アミジノ−2−エトキシイミノ酢
酸(シン異性体)(5,OF)を得た。
融点125〜126℃(分解)。
工R(ヌジ=i  zし):3480,3370.28
00−2200゜1740.1620.1600.13
80.1040゜970.820cM NMR(CD 30D 、δ):1.30(3H,t、
J=7Hz)、425(2H,q、J=7Hz) (7)チオシアン酸カリウム(970■)とトリエチル
アミン(1,2F)とのメタノール(40厘l)溶液に
2−(N2−クロロ)アミジノ−2−エトキシイミノ酢
酸(シン異性体) (2,15y )t、氷−塩浴中で
一5〜0℃に冷却しながら攪拌下に加えた。、混合物を
同じ温度で50分間攪拌し、−夜冷蔵庫中に放置した。
混合物を蒸発乾固し、残渣を水(10m<)に溶解して
3N塩酸でpH1,5に調整し、酢酸エチルで抽出した
。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固した後
、ジイソプロピルエーテル中で粉砕して、2−エトキシ
イミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−6−イ/1/)酢酸(シン異性体)(1,67F)
を得た。融点164〜165℃(分解)。
製造例2 五塩化リン(54,6F)の塩化メチレン(500厘/
)giK2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,
2,4−7−アジアシー/l/−5−、イ/l/)酢酸
(シン異性体)(54,OF)を、−20°Cに冷却し
ながら攪拌下に加えた。混合物を−15〜−12℃で3
0分間攪拌し、−5°Cで2時間攪拌した。
目的化合物の沈殿を含む混合物にジイソプロピルニーT
IL’ (500ml )を−5°cで加え、混合物を
一5〜10°Cで50分間攪拌した。生成した沈殿を炉
取してジイソプロピルエーテルで洗浄した後、乾燥して
、2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4
−チアジアゾ−/L/−5−イル→アセチルクロリド塩
酸塩(シン異性体)(6,017F)を得た。融点12
5〜127°C(分解)。
工R(ヌジW−+):1785.1625.’1055
r1元素分析: 計算値: 26572.952OA611.81 26
20実験値: 26.152.992.0.4911.
7726.41製造例3 7−アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステ/l/塩酸塩(273
E )の塩化メチン1ン(500譚t)溶液にN、N−
ジメチルアニリン(36,2F )ヲ水浴中で5℃に冷
却しながら加えた。この溶液に2−エトキシイミノ−2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)アセチルクロリド塩酸塩(シン異性体)(16,2
y)を11℃未満の温度で分割して加え、混合物を5℃
で45分間攪拌した。反応混合物を塩化メチレン(10
0g/)と水(200ml)との混合溶媒で希釈し、1
N塩酸でpH2に調整した有機層を分離して取シ、水洗
後、硫酸マグネシウムで乾燥して、蒸発乾固した。
残渣をジエチルエーテル中で粉砕して、7−(2−エト
キシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾ−/v−6−イlL/ )アセトアミドクー3−クロ
ロメチル−5−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステl(シン異性体)<32.4り)を得た。融
点120〜125°C(分解)。
IP(ヌジg /L/):6300.3150.178
0−1725゜1675.1625.1530,149
5CIr’NMR(DMSO−d 6.δ):1.28
(3H,t、J=7Hz)。
3A8(2H,ブロード!3)、14.23(2H,、
q、J=7Hz)。
4.47(2](、s)、5.27(1’H,d、J=
5Hz)’、5.97(iH,2(1,J=5オよび8
Hz)、、7.0(IH’、’S)、   ’    
−7,2〜7.7(10F(、m)、8.17(2)(
、プ0−ドS)。
9.62(IH,d、J=9Hz) 製造例4 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−A/−5−イル)アセトアミドツー
5−クロロメチ1v−5−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステIL/(シン異性体)(10y)
の塩化メチレン(100譚t)と酢酸(10g/)との
混合溶媒冷溶液に、30%過酸化水素水(1,84,’
 ml 7”とタングステン酸プトリウム(0,3F)
とを加えた。
混合物を水浴中で45分間攪拌した後、ジエチルエーテ
ル(600g+/)中に注いだ。沈殿を枦取し、ジエチ
ルエーテルで洗浄して、7−(2−エトキシイミノ−2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−)v−5−
イル)アセトアミド〕−3−クロロメfyV−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1−
オキシド(シンM性体)(8,91)を得た。融点15
0〜155°C(分解)。
工R(ヌジv−#):5280 、!+170.178
5.1723゜1667.1628.1530z ’ NMR(DMSO−(16,δ) :1.30(3H,
t、J=7Hz)。
3.90(2H,ブロード S)、4.23(2H,q
J=7Hz)、4.58(2H,7”tr−ド S)、
5.12(1H。
d、J=5Hz)、6.10(IF(,2d、J=5お
よび8Hz)。
7.02(IH,s);7.20〜7.73(10H,
m)、8.15(2H,7b−ド S )、9.00(
1H,d、J=8Hz3製造例5 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−1−アジアシー/l/−3−イル)アセトアミド
〕−5−クロロメチル−6−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステ/L/−j−オキシド(シン異
性体)(3p)と6−シメチルアミノピリジン(0,7
F)とのテトラヒドロフラン(20g/)中混合物を4
8〜50°Cで2.5時間攪拌した。生成した沈殿を炉
取してテトラヒドロフランで洗浄し、乾燥して、7−〔
2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−6−イル)アセトアミド)−3−(3
−ジメチルアミノ−1−ピリジニオメチル〕−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエネテル−1−
オキシド・クロリド(シン異性体)(3,18))を得
た。融点120〜130℃(分解)。
工R(ヌジシール) :3250 、1800.172
0.1670 。
1620.1580.1525 as NMR(DMSO−d 6.δ):L17(3H,t、
J=7Hz)。
3.00(6H,8)、3.90(2H,m)、4.1
8(2H,(1゜J=7Hz) 、5.22(IH,d
、J=4Hz) 、5.50(2H,m)。
6.10(IH,dd、J=4および8Hz)、6.9
4(IH,s)。
7.35(10H,m) 、 7.70 (2H,m)
 、 8.03(2H,m) 。
8.22(2H,m) 、9.03(IH,d、J=8
Hz)製造例6 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−グアジアゾ−1v−3−イ/l/)アセトアミド
)−3−(3−ジメチルアミノ−1−ヒ°リジ=#)−
flV)−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステ/L/−1−オキシド・クロリド(シン異性
体)(5,12F)とN、N−ジメチルアニリン(1,
01P)とのアセトニトリル(31譚l)中混合物に、
三塩化リン(1,141)を氷−塩浴中で冷却しながら
攪拌下に滴下し、同じ条件でさらに1.5時間攪拌した
。反応混合物にジエチルエーテル(200s+13を加
え、50分間攪拌した。生成した沈殿を炉取し、ジエチ
ルエーテルで洗浄した後、乾燥して、7−〔2−エトキ
シイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアシアソ
ーA/−5−イ/l/)アセトアミド)−3−(3−ジ
メチルアミン−1−ピリジニオメチyv ’) −3−
1−〇   ” =キ=セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル・クロリド(シン異性体)(2゜96))を得た。
融点97〜107°C(分解)。
工R(フィルム)−1780,1740,16B0.1
620゜1580.1525cIII NMF7(DMSO−d6+D20.δ):1.25(
3H,t、J=7Hz)。
3.10(6H,s)、3.67(2H,、m)、4.
19(2H,q 、J=−7Hz)、537(IH,d
、J=!5.Hz)’、5.5(2H,m)。
6.07(IH,d、J=5Hz)、7.00(1H,
S)、7.45(10H,m)、 7.67〜8.15
(3H,m) 、822(IH’、m)製造例7 4−ヒドロキシメチ)vピリジン(10,02F)とト
リエチルアミン(9,275i+)とのテトラヒドロフ
ラン(100g?)溶液に、ヘキサデカノイルクロリド
(25,23F)のテトラヒドロフラン(80gt)溶
液を、水浴中で冷却しながら攪拌下に滴下し、同じ温度
でさらに1時間攪拌した。生成した沈殿を炉別し、炉液
を蒸発乾固した。残渣をジエチルエーテルに溶解して水
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、蒸発乾固した。
残渣をシリカゲ/L/(250y)カラムクロマトグラ
ブイ−に付し、塩化メチレン−酢酸エチル混合溶媒で溶
出することによシ精製して、4−ヘキサデカノイルオキ
シメチルピリジンc 14.3F )ヲ得*。
NMR(CDCI5.δ):0.88(3H,m)、1
.28(26H,m)。
2.39(2H,t、J=7H2)、5.07(2H,
8) 、7.15(2H,m)、8.50(2B、m) 製造例8 製造例7の方法に準じて下記の化合物を得た。
(1)4−ドデカノイルオキシメチルピリジン(油状物
) 工R、フィルム):1745,1610,1570.1
465,1420゜1380.1360.1240.1
160.1115.1075゜1050cIr1 050cIr1N、δ):0.88(3H,m)、1.
27(18H,m)。
2.35(2H,t、J=6Hz)、5.02(:2H
,S)、7.10(2H,m) 、8.45(2H,m
)ρ)4−(3−ヘキサデカノイルオキシプロピlL/
)ピリジン、融点57〜40℃。
工E(ヌジrゴレ):17!+0.1605.1175
1:II+  ’(6)4−オレオイルオキシメ千ルビ
リジン(油状物) IP(ブイにム):3020.2950,2870.1
746.1608cIg製造例9 5−アミノピリジン(2,82F)とヒドロキンメタン
スルホン酸ナトリウムの一水和物(9,12F)との水
(40譚l)中温合物を80°Cで1.5時間攪拌し暫
この溶液を濃縮して沈殿を生成させ、数時間放置した。
生成した沈殿を恒数し、エタノールで洗浄した後、乾燥
して、6−ピリジルアミノメタンスルホン酸す両つム(
3,711)ヲ得た。融点211〜220°C0 工R(ヌジEl−#):3600.3530.3250
,3200゜1640.1590.1490ff 1H
MR(DMS o−a 6.δC4D5(2H,d、J
=6Hz)。
630(1H,t、、T=6Hz) 、7.05(2’
E(、m) 。
7.74(IH,m)、8.10(IH,m)製造例1
0 6−ブロモピリジン(25,IC1)、エタノールアミ
ン(34,893’)および硫酸銅(2,90F)の水
(14(1+Z)溶液を攪拌下に5時間還流させた。反
応混合物をクロロホルムで洗浄し、水層を分離して取っ
た。水層に炭酸カリウム(225F)水溶液を加え、次
いでこの混合物を塩化す)IJウムで飽和させて、クロ
ロホルムとエタノールとの混合溶媒(1:1)で抽出し
た。抽出液を蒸発乾固して残渣をシリカゲル(200F
)カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとエ
タノールとの混合溶媒(5:1)で溶出した。目的化合
物を含む両分を集め、蒸発乾固して、5−(2−ヒドロ
キシエチ1v)アミノピリジン(5,96F)を油状物
として得た。
工F(フィルム):3500〜3050.2950.2
850.1590゜1515.1490.1460.1
420,1580,1530゜−+305.1250.
1190.1140,1070.1050.。
800.710 cr’ NMR(CCI + CDCl 3.δ):3.15(
2H,t、J=5Hz)。
3.73(2H,t、J=5Hz)、4B9(2H,7
tx−ド S)。
6.85(2H,m)、7.77(2H,m)製造例1
1 ギ酸(5,02F)と無水酢酸(11,14F)との混
合物を40〜45°Cで50分間攪拌し、次いで水浴中
で冷却した。この冷混合無水物に6−(2−ヒドロキシ
エチfv)アミノピリジン(5,8[1))のテトラヒ
ドロフラン(20g/)溶液ヲ、水浴中で冷却しながら
攪拌下に加え、室温でなお2時間攪拌した。混合物を蒸
留に付してテトラヒドロフランを回収し、水(ICjQ
g/)中に注いだ。
この混合物を炭酸水素ナトリウムでpH6〜7に調整し
、塩化メチレンで抽出した。抽出液を塩化ナトリウム飽
和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、蒸
発乾固して、3−(N−(2ホルミルオキシエチ/X/
)ホルムアミドコピリジンC7,479)を油状物とし
セ得た。
工R(ブイ、ルム):3075.2975.2910.
1725.1700〜1655.1585,1490.
1435,1415,1355゜1295.1230.
1190〜1160,1110,1030゜940 、
815 、715 ff ’NMR(CDCI、、δ)
:4,23(4H,m)、7.50(2H,m)。
7.93(IH,s)、8.35(IH,、s)、8.
53(2H,m)製造例12 3−(N−(2−ホルミルオキシェチ/L/)ホ〜ムア
ミド〕ピリジン(7,01P)とゲ1水素ナトリウム(
3,04F)との、テトラヒドロフラン(60m/)お
よび水(110+/)(7)混合溶媒中混合物を45〜
46℃で8時間攪拌した。反応混合物をクロロホルムと
エタノールとの混合g[(1:1)で抽出し、抽出液を
蒸発乾固した。残渣をクロロホルムとエタノールとの混
合溶媒(4:1)に溶解し、シリカゲ/L/(150F
)カラムクロマトグラフィーに付した。同じ溶媒で溶出
して目的化合物を含む画分を集め、蒸発乾固して、3−
(N−(2−とドロキシエチル)ホルムアミドラピリジ
ン(4,60F)を油状物として得た。
工R(フイ/レム):3600−−6050 、!l’
o00.2950.2900 。
1700−1650.1585.1490.1430.
1350゜1290.1190,1080〜1050.
870,810゜710z’ NMR(CDC工、、δ) ”5.84(5H,m) 
、 7.50(2H,m) 。
8.31(1H,5)i8.45(2H,m)実施例1 3−(N−メチルホルムアミド)−ヒリジン(3,26
F)、ヨウ化ナトリウム(21,585j)、リン酸(
0,71P)、水(3+w/)およびアセトニトリ/I
/(911/)の混合物を攪拌下に65〜70℃に加熱
し、これに7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾ−1L/−3−イ/I/)
アセトアミド〕セファロスポラン酸ナトリウム(シン異
性体)(5,90F)を加えた。混合物を70〜72℃
で1.5時間攪拌した後、水(3C1s+/)で希釈し
た。水溶液を冷却し、6N塩酸でpH3に調整し、水で
150m1に希釈した。
水溶液をクロロホルムとエタノールとの混合溶媒(2:
1 )(100譚l)で5回洗浄し、200 weにな
るまで減圧濃縮した。不溶物を戸別し、ろ液を非イオン
性吸着樹脂[ダイヤイオンHP−2DJ(商標、三菱化
成工業(株)製)(200+/)を用いてカラムクロマ
トグラフィーに付した。カラムを水洗した後、10%水
性メタノールで溶出した。目的化合物を含む溶出液を集
め、メタノ−A・を減圧蒸留して回収し、残渣を凍結乾
燥して、7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1゜2.4−チアジアゾ−/I/−3−イ/I/)ア
セトアミド〕−3−1j−(N−メチルホルムアミド)
−1−ピリジニオメチ/lz ) −3−セフェム−4
−カルポキVレ−) (シン異性体) (3,141)
 =4り。
融点120〜127℃(分解)。
工R(ヌジラールつ:3250,3150,1770.
1670 。
1610、t590.1510cII NMR(D、20.δ):1.29(3H,t、J=7
Hz)、3.19′および5.73(2H,ABq、J
=18Hz)、337および3.50(3H,S)、4
.32(2H,q、J==7Hz)、528(IH,d
、J=5H2) 、5.30および5.70(2H。
ABq 、J=14Hz) 、5.87(IH,d、J
=5Hz) 。
8.10(IH,m) 、8.4〜9.0(3H,m)
、933(IH,m)実施例2 実施例1の方法に準じて下記の化合物を得た。
(1)  7−C2−エトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトア
ミド、l−3−(3−メチルアミノ−1−ピリジニオメ
チル)−5−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)、融点149〜157°C(分解)。
IR(ヌジョ二ル):3250,3050,1770.
1660゜1610.1530clR (2)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−/L/−3−イ/L/)アセ
トアミド)−3−(4−ドデカノイルオキシメチル−1
−ピリジニオメチル)−6−セフェム−4−カルボキシ
レート(シン異性体)、融点111.5〜118.0°
C(分解)。
IR(ヌジョール0:3300,1770.1730,
1670゜1640.1610.1570,1520a
NMR(a −DMSO+D20.δ) :0.85(
3H,m) 、1.25(21H,m) 、2.4Tj
(2H,m)、3.40(2H,m)。
4.15(2H,q 、J=7Hz) 、4.80−5
.93(4H,rn) 。
5.07(IH,d、J=5Hz)、5ニア1(IH,
d、J=5Hz)。
8.00(2H,d’、J=6Hz)、、9.22(2
H,d、J=6Hz)(3)7−(2−エトキシイミノ
−2−(5−アミノー’1.2.4−チアジアゾール−
6−イ/L/)アセトアミド〕−5−(4−ヘキサデカ
ノイルオキシメチtLy−1−ピリジニオメチル)−5
−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、融
点121〜160°C(分解)。
IR(ヌジョ1υ):3300,3150.1770.
1670゜1640.1610,1570.1520c
mNMR(d 6−DMS 0−)−D 20 、δ)
 :0.82(3H,m)、1.21(29H,m) 
−2,35(2H,m)、3.42(2H,m)14.
15(2H,q、J=7Hz)、5.05(1B、d、
J=5Hz)。
5.2〜5.6(2H,m) 、 5.40 (2H,
s ) 、 5.70(IH,d。
J=5Hz) 、8J)2(2H,d、J=6Hz) 
、 928(2H。
d、J=6逸) (4)  ナトリウム 7−(2−エトキシイミノ−2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−5−イ
ル)アセトアミド、)−3−(3−スルホブトメチルア
ミノ−1−ピリジニオメチル)−5−セフェム−4−カ
ルボキシレート(シン異性体)、融。
点161〜169°C(分解)。
工R(ヌジ「lし):335Q、5500,1760,
1660,1640゜1610.1530clII (5)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド
’)−5−(5−ジメチルアミノ−1−ピリジニオメチ
/L’)−3−セフェム−・4−カルボキシレート(シ
ン異性体)、融点129〜168°C(分解)。
IP(ヌジョール):3300.1775,1660,
1620.1580゜1530cIII (6)7−(2−エトキシイミノ−2−05−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド
)−3−(3−(2−ヒドロキシエチル)アミノ−1−
ピリジニオメチ氾ドローセフェム−4−カルボキシレー
ト(シン異性体)、融点141〜150°C(分解)。
IR(ヌジョール):3300,1770,1660.
1610゜153001 (7)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾ−A/−5−イ/L/)ア
セトアミド)−5−(3−gN−(2−ヒドロキシエチ
ル)ホルムアミド)−1−ピリジニオメチルシー6−セ
フェム−4−カルボキシレート(Vン異を 性体)、融点147〜155°C(分解)。
工E(ヌジw−/I/):3250.1770,167
0.16’10−1530.1510ag NMR(D 20 、δ):1.36(3H,t、、T
=7Hz) 、3.30および3.73(2H,ABq
、J=18Hz)、3.70−4.30(4H,m)、
4.!+9(2H,(1,JニアH2)e5.!15(
IH。
d 、 J=5Hz ) 、 5.43 >ヨび5.7
0 (2H、ABq 。
J=14Hz)、5.95(IH,d、J=5Hz)、
8.69(IH,S)、8.80〜8.85(2H,m
)、8.95(IH。
d、J=6Hz)、9.37(IH,5)(8)7−(
2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾ−1v−3−イ#)アセトアミド)−3−(
3−スルホ−1−ビリジニオメf#)−3−セフェム−
4−カルボキシレート(シン異性体)、融点175〜1
82°C(分解)。
工R(ヌジョ−l):5500.5200.5050.
1780゜1670.1630.1530 t:wrN
MR(D20+NaHCO3,δ) :1.34(3H
,t、J=7Hz) 。
3.30 オよび3.73(2H,ABq、J=18H
z)、4.36(2H,(1,J=7Hz)、5.32
(IH,d、J=5Hz)。
5.40オよび5.73(2H,ABq 、J=14H
z) 、5.92(IH,d、J=5HzL8.23(
IH,dd、J=6および8H2) 、8.91 (I
H,dd、J=+3およヒIHz)。
9.15(IH,dd、Jj オよび6Hz)、9.4
3(IH。
ブロード 5) (9)  7− (2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イ/l/)ア
セトアミド)−3−(4−(3−ヘキサデカノイルオキ
シプロビル)−1−ピリジニオメチルシー5−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)、融点140〜
150°C(分解)。
IE?(ヌジw  /L’):”3300.177J、
1725.1670゜1640.1610.1525c
IIINMR(DMS〇−d6+D20.δ)=0.8
7(3H,t、J=5Hz)。
1.25 (31H,m) 、 1.75−2.40 
(2H,m ) 、 2A7〜5:26(2H,m) 
、3.56(2H,m) 、3.80〜4.40(4H
m)、5.03(IH,d、J=5Hz);4.9〜5
.7(2H,m)。
5J33(IH,d、J=5Hz) 、7.98(2H
,d、J=7Hz) 。
922(2H,d、J=7Hz) (11)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾ−)v−3−イル)アセトア
ミド)−5−(4−オレオイルオキシメチル−1−ピリ
ジニオメチ/l/)−5−hフエムー4−カルボキシレ
ート(シン異性体)、融点106〜116°C(分解)
工R(ヌジw  #):3300.1770.1670
,1640゜1610.1520cM’ NMR(DMSO−d6+D20.δ) :0.84(
3H,t、J=5Hz) 。
1.25(25H,m) 、1.95(4H,m) 、
2.41 (2H,m) 。
3.60(2H,m) 、 4.15(2H,q 、 
J=7Hz) 、4.9〜5.8(6H,m) 、 5
.07(IH,d 、J=5Hz)、 5.72NH,
d、J=5Hz) 、8.04(2H,d、J=6Hz
) 。
9.27(2H,d、J=6Hz) 実施例3 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−/l/−5−イル)アセトアミド)
−5−C5−(N−メチルホルムアミド)−1−ヒリジ
ニオメチル〕−5−セフェム−4−カルボキシレート(
シン異性体)(2,75F)のメタノ−zL/(27,
5at )中野濁液に濃塩酸(1,39舅/)を加え、
混合物を75分間攪拌した。溶媒を留去して、残渣をア
セトン中で粉砕した。得られた粉末を水(70g/)に
懸濁して炭酸水素ナトリウム水溶液でpH4〜5に調整
し、非イオン性吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20J 
(100at )を用いてカラムクロマトグラフィーに
付した。カラムを水洗した後、15%水性イソプロピル
アルコールで溶出した。目的化合物を含む溶出液を集め
、減圧蒸留してイソプロピルアルコールを回収し、残渣
を凍結乾燥して、7−〔2−エトキシイミノ−2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−5−イ/I/
)アセトアミド)−1−(3−メチルアミノ−1−ピリ
ジニオメチ#>−3−セフェム−4−カルボキシレート
(シン異性体)(1,41y)を得た。融点149〜1
57°C(分解)。
IR(ヌジヲール):3250.3050,1770,
1660 。
1610.1530CIII NMR(DMSO−d6+D20 、δ):1.22(
3H,t、J=7Hz)。
2.79(3H,s)、3.05および3.57(2H
,AB(1。
J=18Hz)、4.15(2H,q、J=7Hz)、
5i15(IH。
d、、T=5Hz)、a08オjび5.55(2H,A
Bq 、J=14Hz) 、5.70(IH,cl、、
T=5Hz) 、7.65(2H,m)8.40(IH
,m)、8i(IH,n−)’  s)!!漬り 実施例5の方法に準じて下記の化合物を得た。
7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イ)v)アセトアミド、l
−3−(3−(2−ヒドロキシエチル)アミノ−1−ピ
リジニオメチルクー3−セフェム−4−カルボキシレー
ト(シン異性体) 、M点141〜150℃(分解)。
工R(ヌジ=r  #):3500.1770.166
0−1610.1530ffiNMR(D20.δ):
1.30(3H,t、J=7Hz)、3.44(2H,
、t、J=5Hz)、3.23オjび3g0(2H,A
Bq、J=18Hz)、5BO(2H,t、J=5Hz
)、4,53(2H,q。
J=ンHz)、5.28<IH,d、J=5Hz)、5
.15および5.43(2H,ABq、J=15Hz)
 、5B8(’In、d。
、T=5Hz)、7.65(2H,m)、7.97−8
.50(2H,m)実施例5 胡 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−/l/−3−イ/I/)アセトアミ
ド〕−5−(3−ジメチルアミノ−1−ピリジニオ)f
l)−5−t!フエムー4−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル・クロリド(シン異性体)’   (0,4
2y)とアニソ−/’(1+w/)とのトリフルオロ酢
酸(3,5at)中温合物を水浴中で冷却しながら15
分間攪拌した。混合物をジイソプロピルエーテル(10
+++/)中に注ぎ、生成した沈殿を炉取した。この粉
末を尿に溶解して非イオン性吸着樹脂[ダイヤ、イオン
珂P−2(IJ (10at )を囲いてカラムクロマ
トグラフィーに付した。カラムを水洗した後、30%水
性メタノールで溶出した。
目的化合物を含む溶出液を集め、メタノールを減圧蒸留
して回収し、残渣を凍結乾燥して、7−〔2−エトキシ
イミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−5−イル)アセトアミド〕−3−(3−ジメチルア
ミノ−1−ピリジニオメチ)L/)−3セフェム−4−
カルボキシレート(シン異性体)(0,121)を得た
。融点129〜138”C(分解)。
IR(ヌジrゴレ>:5soo、1y7s、16b6,
1b2o。
1580.1530m NMR(D20.δ):1.30(3H,t、J=7H
2)、3.03C6H,E;)、520オよび360 
(2H1ABq 、 J=18Hz) 、 432(2
H,q 、 、7=7Hz) 、 526(1H。
d、J=5H2)、5.17オ!び545(2H,AB
q。
、r=4..6Hz) 、5.83(1H,d、J==
5Hz) 、7.65(2H,m) 、8.0O(IH
,m) 、8.19(iH,m)実施例6 実施例5の方法に準じて下記の化合物を得た。
(1)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミド
)−3−C3−(N−メチルポルムアミド)−1〜ピリ
ジニオメチル〕−6−セフェム−4−1カルボキシレ一
ト(シン異性体)、 融点120〜127°C(分解)
IR(ヌジq−/L’):32LO−3150,177
0,1670゜1610.1590.1510ff ’
(2)7−(2−エトキシイミノ〜2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−6−イル0ア士ドアミド
l−3−(3−メチルアミノ−1−ピリジニオメチル)
二6−セフェムー4−カルボキシレート(シン異性体)
、融点149〜157℃(分解)。
IR(ヌジョ−#):525Q、5050.1770.
1660−1610.15.5011 (5)  7−C,2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イ/L/)ア
セトアミド)−3−(4−ドデカノイルオキシメチル−
1−ピリジニオメチ/”)−5−セフェム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)、融点111.5・−118
,0°C(分解)。
工R(ヌジg−y):5300,1770.1730.
1670.1640゜1610.1570.1520c
q ’(4)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イlL/)ア
セトアミド)−3−(4−ヘキサデカノイルオキシメチ
A/−1−ピリジニオメチ/L’)−5−セフェム−4
−カルボキシレート(シン異性体)、%に点121〜1
50°C(分解)。
工F(ヌジw−/I/):3300.3150.177
0.1670.1640゜1610.1570.152
0011−1(5)ナトリウム 7−(2−エトキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−/
L/ −5−イ#)アセトアミド)−3−(3−ヌルナ
ナトメチルアミノ−1−ピリジニオメチA/)−3−セ
フェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、〜点1
61〜169℃(分解)。
IR(、;Zジ!!−#):3350.3300.17
60.1660゜164Q、1610.1550nm (6)  7− (2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−6イ/I/)アセ
トアミ)’)−3−1: 3−(2〜ヒドロキシエチル
)アミノ−1−ピリジニオメチル〕・−3−セフェム−
4−カルボキシレート(シン異性体)、融、叔141〜
150”C(分解)。
工R(ヌジw  /L’):3300.1770,16
60.1610゜1530α−1 (7)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド
)−3−(3−(N−(2−ヒドロキシエチル)ホルム
アミド)−1−ピリジニオメチルクー5−セフェム−4
−カルボキシレート(シン異性体)、融点147〜15
5°C(分解)。
IP(ヌジq  #):3250,1770,1670
,1610゜1550.1510n 1 (8)  7− (2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾ−/l/−3−イ、/L
/)アセトアミド)−3ノー(3−ヌルホー1−ピリジ
ニオメチル)−3−セフェム−4−カルボキシレート(
シン異性体)、融点175〜182℃(分解)。
IR(ヌジ「ル):3300.3200.3050.1
780゜1670.1630.1530ff (9)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−fi/−3−イル→アセトア
ミド)−3−(4−(3−ヘキサデカノイルオキシプロ
ピ/L/)−1−ピリジニオメチ*)−3−セフェム−
4−カルボキシレート(シン異性体)、融点140〜1
50℃(分解)。
工R(ヌジ=i  /I’):3300.1775−1
725.1670゜1640.1610,15250m (坤 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド
)−5−(4−オレオイルオキシメチ/l/ −1−ピ
リジニオメチル)−3−セフェム−4−カルホキシレー
)(シン異性体)、融点106〜116℃(分解)。
工R(ヌジw−#):3300,1770.1670−
1640゜1610.1520QI ’ 製造例7の方法に準じて下記の化合物を得た。
(t>  4−テトラゾカッイルオキシメチルビリジン
(油状物)。
IR(フィルム):2910,2850,1740.1
606゜1560.1460,1405.1160QI
NMR(DMSα褐。、δ) : 0.7−1.9 (
25H、m ) 、 2.1〜2.5(2H,m) 、
5.12(、l!H,s)、7.5(2H,m) 。
8.5(2H,m) (2)3−ヘキサデカノイルオキシメチルビリジン(油
状物)。
工R(フィルム):2950.2860.1740.1
580.1470 。
14.50,1380.1350,1230.1160
,1120゜10301’11 NMR(DMSO−<、(、、δ) :0.7〜1.7
(29H,m) 、2.55(2H,t、J=7H2)
 、5.12(2H,S ) 、7.36(IH。
m)、7.75(IHjn)、8.50(2H,m)(
5)4−オクタデカノフルオキシメチルピリジン(半固
形物)。
工R(ヌジョ−/I/):1740,1605,156
0,1415゜160aI NMR(DMSO−d6+D20 、δ’) :0.7
−1.9 (33H,m) 。
2.1〜2.6(2H,m)、5.05(2H,s)、
7.15(2H,m)。
8.50(2H,m) 製造例14 7−〔2−メトキシイミノー2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イル→アセトアミド〕セフ
ァロスポラン酸(シン異性体)を慣用の方法により酢酸
ナトリウムと反応させて、7−〔2−メトキシイミノ−
2−(5−アミノ−1,2゜4−チアジアゾ−/l/−
3−イlL/)アセトアミド〕セファロスポラン酸ナト
リウム(シン異性体)を得た。融点185〜190°C
(分解)。
工R(ヌジw /l’):3150.1765−174
5.1670゜1550.1400,1355,129
0.1250.105=C11実施例7 以上の実施例に準じて下記の化合物を得た。
(1)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾ−/I/−3−イ/1/)
アセトアミド〕−3−(3−メトキシメチ/l/−1−
ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート(シン異性体)、融点138〜146℃(分解)。
IR(ヌジョール):3250.3150.1770.
1670゜1610.1530,1340.1280.
1230,1190゜1 114Ckl’FM NMR(D20.δ) :1.30(3H,t、J=7
Hz) 、3.47(3H,s)、3,20および3.
66(2H,ABq、、J=18Hz) 、433(2
H,q、、T=7Hz) 、4.73(2H。
S) 、5.28(IH,cl、J=5Hz) 、53
4および5.63(2B、ABq 、J=j4.Hz)
 、5.88(IH,’d。
J=5Hz) 、8.15(IH,m) 、8.51 
(IH,m) 。
8.90(2H,m) (2)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−/L/−3−才ル)アセドア
ミド)−3−(3−(N、、 N−ジメチルアミノメチ
/l/)−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4
−カルボキシレート(シン異性体)、融点145.5〜
f55.5℃(分解)。
IR(ヌジョール):3300,3150.2700.
1770゜1660.1610,1520,1350,
1290.1145゜1060.1030Cfll NMR(D20.δ) :1.33(3H,t、J=7
Hz) 、3.0O(6H,S)、333および3.7
7 (2H、AB(1、J=18Hz)、435(2B
、q、J=7Hz)、4.60(2H。
E3) 、532(IH,(i、J=5H2) 、5.
43オよび5.67(2H,ABq 、J=14Hz)
 、5.88(IH,d。
J=5Hz) 、8.24(IH,m) 、8.78(
IH,m) 。
9.17(2H,m) (3)7−(2−シクロペンチルオキシイミノ−2−(
5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−tv−3−イ/
L/)アセトアミド)、−3−(4−(I H−テトラ
ゾ−/L/−5−イA/)−1−ピリジニオメチル〕−
3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、
融点181.5〜190υ(分解)。
IR(ヌジョール):5300,1775.1670,
1640゜1530.1400.1350.1210,
1160,1060゜10000m ’4”(D20+NaHCO3,δ) :1.1−1.
9(8H,m) 、3.25および3.70(2H,A
gq 、J=18Hz) 、530(IH。
d、J=5Hz) 、 535 オよび5A7(2H,
ABq、J=15Hz) 、5J34(1H,d、Jセ
5Hz) 、8.37(2H。
d、J=6Hz)、8.98(2H,d、J=6Hz)
(4)  7−[2−(2−シクロペンテン−1−イル
オキシイミノ)−2−(5−アミノ−1,2,4−チア
ジアゾ−A/−3−イ/v)アセトアミド〕−3−(4
−(IH−テトラゾ−/L/−5−イル)−1−ピリジ
ニオメチ/L/ ’) −3−セフェム−4−力ルポキ
シレート(シン異性体)、8点165〜174℃(分解
)。
IR(、(ジEl−/L’):3300.1770.1
670.16!15゜153(T、1210,1160
,1110.1060,1030゜IDIDCm−1 Nλ1Fi(D20→NaHC○3.δ) : 1.6
−25(4H,m) 。
6.28および3.68(2H,ABq、J=18Hz
) 。
5.12−6.20C5H,m) 、 530 (IH
,d、J=5Hz) 。
5j38(IH,d、J=5Hz)、857(2H,d
、、T=6Hz)、8.98(2H,d、J=6Hz)
(5)7−C2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−6−イ#)アセトアミド
〕−5−(3−メチルチオメチル−1−ピリジニオメチ
A/)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)、融点150〜155℃(分解)。
工R(ヌジョール):3300,3150.1770,
1660゜1640−4610.1530.1280,
1140.1060゜1040口 NMR(D20.δ’):1.33(3H,t、J=7
H2)、2D5(3H,8)、335および3.85(
2H,ABq 、J=18Hz) 、3.97(2H,
S) 、4.4!1(2H,q 、J= ’7Hz) 
、 5.40(IH,d、J=5Hz) 、5.45お
よび5.92(2H,ABq、J=14Hz)、5.9
5(1B、d。
J=5Hz) 、7.93−8.27(IH,m) 、
8.62(IH,7”ロード d、J=8H’Z)、8
.87(IH,d、J=5Hz)。
8.92(IH,5) (6)7−(2−エトキンイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−1V−3−イ#)7−f=ニ
ドアミド−3−(4−メチルチオ−1−ピリジニオメチ
)v ) −5−セフェム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)、融点167〜171℃(分解)。
IR(ヌジョール):3650−3100,1770.
1660゜1620.1550.1490.1280.
1170.1100゜030cm NMIE?、(D20十DC1,δ):1.32(3H
,t、J=7H2)。
2.70(3H,S) 、335および3.83(2H
,ABq 。
J=18Hz)、4.40(2H,q 、J=7Hz)
 、 537(IH,d、、T=5Hz)、5.23お
よび5.70(2H。
ABq 、J=14Hz) 、5.95(IH,d、J
=5Hz) 。
7.80(2H,d、J=7H2) 、8.57(2H
,CL、J=7Hz) (ハ 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−/l/−3−イ/I/)アセ
トアミド) −3−(−3−メトキシ−1−ピリジニオ
メチル)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン
異性体)、融点137.5〜145℃(分解)。
IR(ヌジョール):3250.3150.j770,
1665゜1610.1530.1510.1290,
1240,1180゜1150.1110.1040c
I1 040cInN、δ) :1.22(3H,t、J=7
Hz) 、3.15および3.58(2H,ABq、J
=18H2)、3.94(3H。
S) 、4.26(2H,q、、T=7Hz) 、5,
22(IH,d。
J=5Hz ) 、 5.22および5.50(2H,
ABq 、J=14Hz) 、5.82(IH,cl、
J=5H2) 、8.0(2H。
m)、8.57(2E(、m) (8)7−C2−メトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イ/L/)アセトア
ミド)−3−(3−メトキシメチtv−1−ピリジニオ
メチル→−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン
異性体)、融点168〜145.5℃(分解)。
工R(ヌジぢ−ル’):3250,3150,1770
,1660゜1610.1525.12F10,119
0.1j40,1100゜1060.1035cm NMB(D20.δ):3.25および3.70(2H
,ABq 、J=18Hz)、3.50(3H,S)、
4.09(3L8)、4.78(2H,s)、51(I
H,d、J=5Hz)、5.38および5.65(2H
,ABq 、J=15H2) 、5.92(1’H,d
J=5Hz)、8.10(IH,m)、8.56(IH
,d、J=8Hz)、8.95(2H,m) (9)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−1−アジアゾール−5−イル)′アセトア
ミド)−3−[4−(I H−テトラゾール−5−イル
)−1−ピリジニオメチルツー6−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)、融点182〜187℃(
分解)。
IR(ヌジョール>:3300.3150.1775.
1665゜166s、1szo、11sO,1osoc
InNMR(D20+NaHC○5.δ) :1.30
(3H,t、J=78Z)。
5.32および3.75(2H,ABq、J=18Hz
) 。
4.30(2H,q、J=7Hz)、5.38(IH,
d、、T=5Hz) 、 5.33および5.62 (
2H、ABq 、J=14Hz) 。
5.97(1H,(1,J=5Hz)、8.35(2H
,d、J=6Hz)、8.93(2H,d、J=6Hz
)(IC1)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)ア
セトアミド〕−3−(3−(I H−テトラゾール−5
−イル)−1−ピリジニオメチル〕−3−セフェム−4
−カルボキシレート(シン異性体)、融点176〜18
1℃(分解)。
工R(ヌジラール):3290.3150.1770.
1665゜1605.1520.1150.103DC
1l+NMR(D20+NaHCO3,δ) :1.2
8(3H,t、、T=7Hz ) 、 5.42および
3.80(2H,ABq 、J=18Hz)、4.30
(2H,q、J=7H2)、5.32(IH。
d 、 J=5Hz ) 、 5.50および5.80
(2H,ABq 。
J=14Hz) 、5.97(IH,d、J=5Hz)
 、8.0−83(IH,m)、8.8−9.2(2H
,m)、95(1H,71:+−t’5) (11)  7−[2−(2−プロピニルオキシイミノ
)−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)アセトアミド]−5−(4−(IH−テトラ
ゾール−5−イル)−1−ピリジ戸オメチル〕−6−セ
フェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、融点1
65〜175℃(分解)。
IF?(ヌジョール):3250,1770.1670
.1635゜15!+0.1150.1010(! NMR(DMSO−46,δ) :3.2−3.8(2
H,m) 、3.5(1H。
m) 、4.7(2H,m)、5.18(IR,d、J
=5Hz) 。
5.2−5.7(2H,m) 、5.89(IH,dd
、Jd5および(12)  7−(2ニエトキシイミノ
−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−/l/
−3−イル)アセトアミド)−3−(3−メシルメチA
/i −ピリジニオメチル)−6−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)、融点155〜158℃(
分解)。
IP(ヌジコール):3300,3150,1770.
1660゜1610.1530cIn NME(D20.δ) 、130(3H,t、J=7H
z) 、3.18(3H,s)、3.15および3.7
0(2H,ABq 、J=18Hz)、4.35(2H
,q、J=−7H!Z)、4.87(2H。
S) 、5.28(jH,d、J=5Hz) 、5.3
3および5.68(2H,ABq、J=14H2)、5
.90(IH,d。
J=sHz)、8.0−8.3(1H,m)、8.65
(IH,7’ロードd、J=7Hz) 、9.0−9.
3(IH,m) 、9.30(IH。
5) (13)  7−(2−メトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセト
アミド)−3−(4−へキサデカノイルオキシメチ/L
/−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)、融点146〜148℃(
分解)。
工R(ヌジロール’):5270.3150,1770
.1750゜1730.1670.1640.1610
,1520,1145゜115( NME (DMSO司、+D20.δ): 0.85(
5H,t、J=5Hz)、1.0−1.9(27H,m
)、2.1−25(2H,m)。
3.1−3.7(2H,m) 、 5B7C3H,s)
 、 5.07(IH。
d、J=5Hz) 、5.1−5.7(2H,m) 、
5.40(2H,ブロード S)、5.5−5B(IH
,m)、8.10(2H,m)。
9.40(2H,m) (14)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセト
アミド”l−3−(4−テトラデカノイルオキシメチル
−1−ピリジニオメflし)−3−−1xフェムー4−
カルボキシレート(シン異性体)、融点149〜154
71’(分解)。
TR(ヌジョール):3260.3150.1770.
1670゜1640.1610,1525.1150.
1035CIl+肌留(DMSO−d6+D20.δ)
:0J34(3H,t、J=5Hz) 、 1.3−1
.7(25H,m) 、 2.1−2.7(2H,m)
 。
3.20および3.58(2H,ABq、J=18H2
) 。
4.14(2H,q、、T=7H2) 、5.o8<1
H,d、J=5H2)、s、1−5.7(4H,m)、
5y6<1H,d、J=5Hz) 、8.07(2H,
d、J=6H2) 、9.44 (2H。
d、J=6會2) (15)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イiL/)ア
セトアミド)−3−(4−オクタデカノイルオキシメチ
ル−1−ピリジニオメチル)−5−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)、融点151〜156t!
(分解)。
IR(ヌジョール):3300.3150,1770.
1750゜1670.1640.1610,1520c
rnNMR(DMSO−d6+D20.δ):0.85
(3H,t、、T=5Hz) 、 1.0−1.9(3
3H,m) 、 2.1−2.5(2H。
m)、3.30および3.68(2H,AB(1、、T
=48H2) 。
4.14(2H,q、J=7Hz)、5.06(IH,
d、J=5H2) 、5.0−5.8(4H,m) 、
5.70(IH,cl、、T=5Hz) 、8.07(
2H,d、J=6H2) 、9.43(2H。
d、J=6Hz) (16)  7−(2−メトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセト
アミド)−5−(4−オレオイルオキシメチ/L/−1
−ピリジニオメチ/L/ ) −3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(シン異性体)、融点125〜131t
:(分解)。
工R(ヌジョー/I/):3300.1770.167
0.1640゜−1゜ 1610.1,570.1525crnNMR(DMS
O−(1,6+D20.δ):0.80(3H,t、J
=5Hz)、1.18(22H,m)、1.6−2.4
(6H,m)。
3.0−3.7(2H,m)、3g80(3H,S)、
4.90−5.85(6H,rn)、5.06(IH,
d、J=5Hz)、5.71(IH。
d、J=5Hz)、8.02(2H,m)、9.18(
2H,m)(17L  7−4:2−エトキシイミノ−
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−
イル)アセトアミド)−3−C5−ヘキサデカノイルオ
キシメチ/l/−1−ピリジニオメチ/l/ ) −3
−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、融
点167〜146℃(分解)。
工R(ヌジョール):3300,3150,1770.
1670゜1610.1520.1510(m NMR(DMSO−46+D20.δ):0.82(3
H,t、J=6H2) 、1.2(29H,m) 、2
.32(2H,m) 、6.5O(2H,m) 、4.
15(2H,q 、J=7Hz) 、4.9−5.9(
4H,m> 、5nb<1H,d、y=FA亮)、5.
72(IH。
d、J=5Hz) 、8.13(IH,m) 、8.5
0(IH,m) 。
9.30(2H,m) 【18)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾ−)V−3−イル)アセ
トアミド)−5−(3−(I H−テトラゾ−/L/−
5−イルチオメチル→−1−ピリジニオメチル〕−3−
セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、融点
151〜160℃(分解)。
工R(ヌジせ−ル):3250.3150.1775.
1670゜1620.1525.1140,10103
hN (D 20+NaHCO3,δ):127(5H
,t、J=7H2)。
2.97および3.40 (2H、ABq 、 J=1
8H7) 。
432(2H,q、J=7Hz) 、4.35(2H,
S) 、5.27オヨび5.50(2H,ABq、J=
14Hz) 、5.28(IH。
d、J=5H2) 、5.88(IH,d、J=5Hz
) 、7.90(IH,dd、J=6オよび8Hz) 
、8.40(IH,d。
J=8H2) 、8.75(2H,m)(19)  7
−(2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾ−1v−5−イル)アセトアミド)
 −3−[4−(IH−テトラゾ−Iv−5−フイA/
)−1−ピリジニオメチル〕−5−セフ、エム−4−カ
ルボキシレート(シン異性体)、融点186〜188℃
(分解)。
IR(ヌジゴール):3300,3180.1775,
1680゜NMR(D20−+NaHCOs 、δC3
,30および5.75C2H。
AB(1、J=18H2) 、 4.5−5.1 (2
H,m) 、 5.0−6.5(5H,m)、535(
IH,d、J=5Hz)、5.94(IH,d、J=5
Hz)、8.22(2H,d、J=6Hz)。
9.02(2H,d、J=6Hz) l至!ユニ 3−クロロメチルピリジン塩酸塩(54,87f)とチ
オセミカルバジド(27,68iとのメタノ−/L/(
280s/)中温合物を6.5時間還流させた。
冷後、混合物をメタノ−A/(22011/)で希釈し
、この溶液をイソプロピルアルコール(31)中に攪拌
下に注いだ。生成した沈殿を戸数し、メタノールで洗浄
した後、乾燥して、3−(3−ピリジルメチル)イソチ
オセミカルバジド、2塩酸塩(581)を得た。融点1
45〜145℃。このようにして得られた生成物(12
,75g)の水(100gl)溶液に、亜硝酸ナトリウ
ム(3,45g)の水(25gt)溶液を、水溶中で冷
却しながら10〜20℃で攪拌下に滴下し、次いで10
%塩酸(20g/)を加えた。混合物を10〜20℃で
40分間撹拌した後、炭酸水素大トリウム水溶液で1)
H4,5に調整した。この溶液を蒸発乾固し、残渣をエ
タノールで抽出した。抽出液を蒸発乾固し、残渣をアセ
トン中で粉砕して、5−(IH−テトラゾール−5−イ
ルチオメチ/L/)ピリジン(10,44F)を粗生成
物として得た。
工R(ヌジ*−#):2400 2300.1605.
1570−1550.1430.1530 、1050
.1040CIl!NMR(D20.δ):430(2
H,S)、7.50(IH,dd。
J−5および8H2) 、8.10(IH,m) 、8
.38(2H,m) 粗生成物をア七ト二トリルから再結晶し1小葉状結晶を
得た。融点141.5〜144.0℃。
実施例8 4−メトキシピリジン(4,41)、ヨウ化ナトリウム
(36F)、リン酸(1,2F)、水(6g/)および
アセ)”−)!Jル(18g/)の混合物を攪拌しなが
らこれに、7−〔2−メトキシイミノ−2−(5−yミ
ノ−1,2,4−チアジアゾ−A/−3−イA/)アセ
トアミド〕セファロスポラン酸ナトリウム(シン異性体
)(1’1.Of)を65℃で加え、混合物を68〜7
0℃で2.5時間撹拌した。反応混合物を水(300m
+/)中に注ぎ、3N塩酸でpH6,2に調整して濾過
した。ろ液を非イオン性吸着樹脂[ダイヤイオンHP−
20J (300s/)を用いてカラムクロマトグラフ
ィーに付した。カラムを水(11)洗した後、50%水
性メタノール(700s/)で溶出した。溶出液を重量
17gになるまで減圧濃縮し1N−、N−ジメチルホル
ムアミドエ、17厘/)に溶解した。この溶液を攪拌下
にアセトン(200s/)に注ぎ、生成した沈殿を沖取
してアセトンで洗浄し、再度温水(100s/)に溶解
した。不溶物を炉別した後、P液を酸性アivミナ(5
8f)充填塔を通し、重量5,5gになるまで減圧濃縮
して、N、N−ジメチルホルムアミド(5g/)に溶解
した。溶液をアセトン(100111)中に攪拌しなが
ら注ぎ、生成した沈殿を沖取し、アセトンで洗浄した後
、乾燥して、7−〔2−メトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾ−#−5−イル)アセト
アミド〕−3−(4−メトキシ−1−ピリジニオメチ/
L’) −3−セフェム−4−カルボキシレート(シン
異性体)(2,5N)を得た。融点180〜185℃(
分解)。
工R(ヌジョール0:3300.1760.1670.
1640゜1610.1560.1520cIn N畑(D20+CD 30D 、δ) : 5.27お
よび3.67(2H。
ABq、J=18Hz)、4.12(3H,S)、42
0C3H。
S) 、5.28(IH,d、、T=4Hz) 、5.
17および5.47(2H,ABq、、J=−14Hz
) 、5.93(IH,d、J=4Hz) 、7.57
(2H,d、J=70z) 、8.83(2H。
α、 J=7Hz ) 実施例9 以上の実施例に準じて下記の化合物を得た。
(1)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−1v−3−イ/L/)アセト
アミド)−3−(4−メトキシ−1−ピリジニオメチ#
>−5−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)、融点195〜200℃(分解)。
工H(ヌジョールう:3300.1770.1670.
1630゜1590 、1560cm NMB(D20+DC1,δ) :1.30(3H,t
、J=7Hz) 。
5.40および3.73(2H,ABq、J=18Hz
)。
4.17(3H,s)、4.42(2H,q、J=7H
z)、5.27および5.63(2H,ABq 、J=
14Hz) 、5.33<1H,d、:r=4H2)、
5.90(IH,d、J=4H2)。
7.50(2H,d、J=8H2)、8.70(2H,
(1,J−8Hz) (2)  7−(2−(2−プロピニルオキシイミノ)
−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)アセトアミド)−3−(4−メトキシ−1−ピ
リジニオメチ/L’)−3−セフェム−4−力ルポキシ
レート(シン異性体>、融点、1 s s〜190℃(
分解)。
IR(ヌジョール):5250.1770.1740,
1640゜1570.1’52ocIn NMR(D 20+DCl 、δ) :3.08(IH
,t、、r=2Hz) 。
3.43オよび3.73(2H,ABq、J=18Hz
) 、4.17(3H,s)、537(IH,d、J=
4Hz)、5.40(2H。
d 、J=2Hz) 、 555および5.67(2H
,ABq 。
J=14H2)、5.95CIH,d、J==4Hz)
、7.53(2H,d、J=7H2)、8.73(2H
,d、、T=7Hz)(5)7−C2−アリルオキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)アセトアミド)−5−(4−メトキシ−1
−ピリジニオメチ1v)−3−セフェム−4−カルボキ
シレート(シン異性体)、融点180〜185℃(分解
)。
工R(ヌジッール0:3300.1780.1660.
1640゜1620 、1570.1520国 NMR(D20.δ):3.20および3.57(2H
,ABq 、J=18Hz) 、4.10(5H,8)
 、45−4.8(2H,m) 。
5.1−5.7(5H,m) 、5.85(IH,d、
J=4Hz) 。
5.76−6.17(IH,m) 、7.45(2H,
d、J=7Hz) 。
8.68(2H,d、J=7Hz) (4)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−Iv−5−イル)アセトアミ
)’)−5−(4−エトキシ−1−ピリジニオメチル)
−5−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
、融点150〜155℃(分解)。
IE?(ヌジョール):3350.3250.3150
,1770゜1670.1655.1610.1555
 、151囁−1HMR(D20.δ) :1.30(
3H,t、J=7Hz) 、1.47(3H、t 、 
J=7H2) 、 3.23および5.65(2H。
ABq、J=18Hz)、4.33(2H,q、、J=
7H2)。
4.42(2H,q、J=7Hz)、5.27(IH,
d、J=4H2) 、 5.18および5.35(2H
,ABq 、J=14Hz)、5.87(IH,d、J
=4H2)、7.42(2H,d。
J=7E(z)、8.68(2H,d、J=7Hz)(
5)7−(2−メトキシイミノ−2−(5−アミノ−i
、 2.4−チアジアゾール−6−イ/I/)アセトア
ミド’)−5−(3−メチル−4−メトキシ−1−ピリ
ジニオメチ/k)−5−セフェム−4−カルボキシレー
ト(シン異性体)、融点140〜145℃(分解)。
IR(ヌジョー/l/):3250.3150,177
0.1660゜16り5 、1610.1515 、1
49陣NMR(CD30D−1−D20.δ) :23
0(3H,S) 、5.15および3.62(’2H,
ABq、J=18Hz)、4.03(3H。
S) 、4.18(3H,s) 、 5.20(IH,
d、J=4Hz) 。
5.12および5.45(2H,ABq、J=14Hz
)。
5.87(IH,d、J=4Hz)、7.50(IH,
d、J=7H2)、8.72(IH,S)、8.85(
IH,d、J=7Hz)(6)7−C2−エトキシイミ
ノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−/l
/−3−イル)アセトアミド)−5−(3−メチ1v−
4−メトキシ−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)、融点155〜
160t″(分解)。
工R(ヌジ曹−ル0:3250,3150.1770.
1665゜1630 、1610 、1515 、14
90CII+NMR(D20.δ) :1.32(3H
,t、J=7H2) 、2.28(3H,s)、3.2
0および3.62(2H,ABq 、J=18Hz) 
、4.15(3H,S) 、435(2H,q、J=7
Hz ) 、 5.15および532(2H,ABQ 
、、T=14Hz) 、5:28(IH,d、J=4H
2) 、5J37(IH,d。
J=4Hz) 、 7.43(IH,d、 、T=7H
z) 、 8.50(1n、s)、8.6z(II、d
、J=7Hz)(ハ 7−〔2−メトキシイミノ−2−
(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ/
L/)アセトアミド)−3−(4−メチルチオ−1−ピ
リジニオメチル)−6−セフェム−4−カルボキシレー
ト(シン異性体)、融点170〜175℃(分解)。
IR(ヌジョール):3300,3160,3100,
1770゜1670.1625.1545.1530.
1490CIl+ ’NMR(D 20+CD 30D
 、δ):2.70(3H,S)、5.18および3.
60(2H,ABq、J=18Hz)、4.03(H。
S)、5.22(IH,(1,J=5H2)、5.13
および5.42(2HIABq、J=14H2)、5.
85(1H1d。
J=5Hz) 、7.78(2H,d、J=7Hz) 
、8.65(2H。
d 、 J=7Hz ) (8)7−(2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ/L/)アセ
トアミド)−3−(4−メチルチオ−1−ピリジニオメ
チル)−5−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)、融点155〜163℃(分解)。
IR(ヌジョール):3300.1770.1670.
1620゜j 530 、1490cIn NMR(DMSO−d6.δ) :2.70(3H,S
) 、3.08および3.52(2H,ABq、J=1
8Hz)、4.62(2H,d。
J=5Hz ) 、 5.03および5.47(2H,
ABq、、T=14H2)、5.04(IH,d、J=
5H2)、5.2−6.2(4H,m)、7.93(2
H,d、J=6Hz)、8.17(2H,71z−ド 
S)、9.10(2H,d、J=6Hz)。
9.49 (I H、d 、 J=8Hz )(9)7
−(2−カルボキシメトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イ1v)アセトア
ミド)−3−(4−メチルチオ−1−ピリジニオメチル
)−6−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)、融点168〜177℃(分解)。
工R(ヌジョール):!1300.1770.1670
.1625゜1520.149(XI NMR(DMSO−d6+D20.δG2.70(3H
,s)、3.10および3.57 (2H,ABq 、
 J=17Hz) 、 5.10(IH,d、J=5H
z) 、5.03オよび5.47(2H。
ABq 、J=14Hz) 、5.77(IH,d、J
=5Hz) 。
7.87(2H,d、J=7H2) 、8.88(2H
,d、J=7Hz) (10)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾ−/l/−3−イ/I/)ア
セトアミド)−3=(4−(2−メトキシエトキシ)メ
チル−1−ピリジニオメチル〕−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(シン異性体)、融点132〜140℃
(分解)。
工R(ヌジョール):3250.1775.1670,
1640゜1570.1530σ NMR(D20.δ) :1.27(,5H,t、J=
7Hz) 、3.37(3H,S)、320および3.
63(2H,ABq 、J=18Hz)、3.74(4
H,m) 、4.31 (2H,q、J=7Hz) 、
4.90(2H,8) 、5.25(IH,d、J=5
Hz)。
5.60および5.57(2H,ABq、J=14Hz
)、5.85(IH,d、J=5H2)、8.01(2
H,d、J=7H2)。
8.89(2H,d、J=7Hz) (11)7−(2−メトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾ−A/−3−イル)アセトア
ミド”1−3−[4−(2−メトキシエトキシ)メチt
v−1−ピリジニオメチル]−5−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)、融点127〜134℃(
分解)。
工R(ヌジv−#):3250,1770.1660,
1640゜161D、153DcIn NMR(D20.δ) :3.40(3H,S) 、5
:22および51g3(2H,AB(1,J=18H2
)、3.75(4H,71:l−1’ S)。
4.05(3H,S)、4.91(2H,S)、5,2
6(IH,d。
J=5Hz) 、 5.30および5.57(2H,A
Bq 、J=15Hz)、5.87(IH,d、J=5
Hz)、8.03(2H。
d、、T−iFHz)、8.90(2H,d、J=7H
z)(12)7−C2−アリルオキシイミノ−2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−、イル)
アセトアミド)−3−(4−(2−メトキシエトキシ)
メチル−1−ピリジニオメチルロー5−セフェム−14
−カルホキシレー)(シン異性体)、融点f40〜f 
41AE(分解)。
IR(ヌジヲール):3250.1770.1670.
1640゜1610.1530CIl! NMR(D20.δ) :3.43(3H,S) 、3
.27および3.67(2H,ABq、J=18Hz、
)、3.80(4H,)lr−ド s)。
4.96(2H,S)、4.8−5.0(2H,m)、
5.0−5.6(2H’、m)、5.23(IH;d、
J=5Hz)、5,27および5.50(2H,ABq
;J=14Hz) 、5.92(IH,(1゜J=5H
z) 、 5.9−6.1 (、IH,m) 、8.I
 0(2H,d、  ゛、T=7Hz)、8.q5’C
2H,d、:r=7Hz)(13)7− (2−エトキ
シイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−6−イル)アセトアミド”l  3  C,4−
(I H−テトラゾ−/L’−5=イルチオメチル)−
1−ピリジニオメチルロー5−セフェム−4−カルボキ
シレート(シン異性体)、融点165〜172tE(分
解)。
IR(ヌジョール):3300.3180.1770,
1660゜1635.1520側 NMR(D 20−+ NaHCO3,δ):1.27
(3H,t、J=7Hz)。
610および3.55 (2,H、ABq 、 、T=
1 snz ) 。
4.50(2H,q 、J=7Hz) 、4.70(2
H,S) 、525(1u、d、J=snz)、s、z
6i−よび5.50(2H。
ABq 、J=14Hz) 、5J37(IH,d、J
=5Hz) 。
7.79(2H,d、J=7Hz) 、8.74(2H
,d、J=7Hz) (14) 7−C2−(2−シクロペンテン−1−イル
オキシイミノ)−2−(5−アミノ−1,2,4−チア
ジアゾール−3−イル→アセトアミド”]−3−C4−
(1’H−テトラゾール−5−イルチオメチル)−1−
ピリジニオメチル〕−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート(シン異性体)、融点173〜180℃(分解)。
IR(ヌジv−zし):3300−315[1,305
0,1770゜1660 、1630.1530cll
+NMR(D20+NaHCOs 、δ) :1.70
−2.60(4H,m) 。
3.08および3.57 (2H、ABq 、J=17
.Hz ) 。
4.75(2H,S) 、4.88−5.75(3H,
m) 、5.27(IH,d、J=5Hz)、5.88
(IH,d、J=5Hz)。
5.75−635(2H,m) 、7.88(2H,d
、J=6Hz)。
8.81 (2H,cl、J=6H!:)(15)7−
(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4
−チアジアゾール−3−イ/L/)アセトアミド〕−5
−(4−(I H−テトラゾール−5−イルチオ)−1
−ピリジニオメチル)−5−セフェム−4−カルボキシ
レート(シン異性体)、融点166〜173℃(分解)
丁R(ヌジョール):3300,3150.1770,
1660゜1620.1530.1490crn NMR(D2(MNaHCO3,δ):1.32(3H
,t、、T=7Hz)。
6.33および3.67(2H,ABq、J=18Hz
)。
4.36(2H,q 、J=7Hz) 、5.:25お
よび550(2H,ABq、J=14Hz)、5.32
(IH,d、J=5Hz)、5.94(IH,d、J=
5Hz)、7.57(2Ld、J=yH2>’、s、b
y(2H,d、J=7Hz)(16) 7−[2−(2
−シクロペンテン−1−イルオキシイミノ)−2−(5
−アミノ−1,2,4〜チアジアゾール−3−イ/I/
)アセトアミド〕−3−C4−(IH〜テトラゾール−
5−イルチオ)−1−ピリジニオメチル〕−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート(シン異性体)、融点164
〜171℃(分解)。
IR(ヌジョール):3300,3150.1770,
1670゜=1 1620.1530 、149陣 NME (D20+NaHCO6,δ) :1.80−
2.60(4H,m) 。
2.8−3.8(2H,m) 、 5.10−5.65
(3H,m) 、5.1−5.9(4H,m) 、5.
30(1H9CI、 J=5Hz) 、5.90(IH
,d、J=5Hz)、6.15(jH,m)、7.58
(2H。
d、J=7Hz)、s、70(2n、d、J=7Hz)
(17) 7− (2−アリフレオキシイミノ−2−(
5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−A/−5−イル
)アセトアミド)−3−r 4− (I H−テトラゾ
ール−5−イル)〒1−ピリジニオメチル〕−5−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、融点15
1〜160℃(分解)。
IR(ヌジジール):3300.1770.1670.
1640゜1525cIn NMR(D20+NaHCO3,δ):3jOおよび3
.70(2H。
ABq 、J=18Hz) 、4.5−4B(2H,m
) 、5.0−6.2(7H,m)、8.37(2H,
d、J=6Hz)、8.95(2H。
cJ−、J=6H2) (1s) 7− (2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾ−/l/−3−イル)ア
セトアミド)−3−C4−(2−メトキシエトキシ)−
1−ピリジニオメチル〕−5−ヒフエム−4−カルボキ
シレート(シン異性体)、 M点150〜155℃(分
解)。
IR(ヌジョール):3350,3250,3110,
1770゜1660.1630.1610,1560.
151c:pnNMR(D20.δ) :1.32(3
H,t、J=7H2) 、5.45(3H,S)、3.
23および!1.65 (2H、ABq 、 J=18
Hz)、3.77−4.07(2H,m)、4.33(
2H,Q、。
J=7Hz)、4.4−4.7(2H,m)、530(
IH,d。
J=5Hz ) 、 5.22 オよび5.37(2H
,ABq 、 J=14Hz)、5.88(IH,d、
J=5Hz)、7.50(2E(。
d、J=7Hz)、8.75(2H,d、J=7Hz)
(19)7−42−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミ
ド〕−3−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)=1−ピ
リジニオメチル〕−6−セフェム−4−カルボキシレー
ト(シン異性体)、一点160〜165℃(分解)。
TR(ヌショール0:3360.3250.3160,
1770゜1660.1635,1610.1560.
1520crnNMR(D20.δ):1.30(3H
,t、J=7Hz)、3.20および3.58(2H,
ABq 、J=48Hz)、3.9.8C2H,t−。
、T=4Hz) 、4.28(28,q7.J=7H2
) 、4.40(2H。
t、J−4Hz)、522(IH,、d、J=4Hz)
、5.12および5.30(2H,ABq、J=14H
z)、5.80(IH,d、J=4H2)、7.40(
2H,d、J=7Hz)。
8.60(2H,d、J=7Hz) (20)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾ−/l/−5−イル)アセト
アミド)−3−〔4−(2−メチ1v−5−オキソ−6
−ヒドロキシ−245−ジヒドロ−1,2,4−トリア
ジン−3−イル)チオメチル−1−ピリジニオメチル〕
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
、融点195〜197℃(分解)。
IR(ヌジョール):3300.3180.1773.
1665゜1 1655.1635,1610.1510CXl+NM
E (D 20 、δ):1.28(3H,t、、T=
7H2)、31および358(2H,ABq、J=18
H2)、3.66(5H。
S) 、430(2H,q、J=7Hz)、522(I
H,d。
J=5Hz)、528および5.47 (2H、’ A
Bq 、 J=14Hz)、5.83(−1H,d、J
=5Hz)、8.10(2H。
d、J=7Hz) 、8B2(2H,d、J=7Hz)
(21) 7− (2−(2−シクロペンテン−1−イ
ルオキシイミノ)−2−(5−アミノ−1,2,4−y
−アジアゾール−3−イIv)アセトアミド)−3−(
4−(2−メチ/L/−5−オキソ−6−ヒドロキシ−
2,5−ジヒドロ−1,2,4−)リアジン−5−イ#
)チオメチル−1−ピリジニオメチル〕−3−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)、融点168〜
173℃(分解)。
工R(ヌジョール):3300,3150.1770,
1635゜1510crn NME?(DMS〇−d6+D20.δ) :1.6−
2.6(4H,rn) 。
3.58(3H,S) 、3.2−3.9(2H,m)
 、5.1−6.1(7H,m) 、8.1 (2H,
m)、8.8(2H,m)(22) 7− (2−エト
キシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−f7ジア
ゾールー3−イIv)アセトアミド) −,3−(4−
メトキシメチル−1−ピリジニオメチ#)−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート(シン異性体)、融点145
〜155℃(分解)。
工R(ヌジョー#):3300,1775,1670,
1640゜1 1610 、1570 、1530cfnNFAR(D
20.δ):1.30(3H,t、J=7Hz)、3.
50(3H,s)、323および3.63 (2H、A
Bq 、J=18Hz)=432(2H,q、J=7H
z)、4B5(2H。
S) 、5.28(IH,d、J=5H2) 、532
および5.57(2H,ABq、J=14Hz)、5.
88(IH,d。
J=5Hz)、8.00(2H,d、J=7Hz)、8
.90(2H。
d、JニアHz) l盃!■J 金属ナトリウム(,9,96g)の2−メトキシエタノ
−/L/(100*/)溶液に4−クロロピリジン(4
2,7F)を、140〜145℃に加熱しながら、撹拌
1に滴]し、加え終ってから155℃でさらに1時間撹
拌した。混合物を一15℃に冷却し、これにドライアイ
ス(5,6g)を加オタ。混合物を45℃に加温した後
、室温で放置した。生成シた沈殿を戸別し、ジイソプロ
ピルエーテルで洗浄した。p液と洗液とを合わせて蒸発
乾固した。
残った油状物を蒸留して、4−(2−メトキシエトキシ
)ピリジン(42,31を得た。沸点98〜106℃(
6mHf)。
NMR(CDCl2.δ):3.42(3H,S)、5
57−3.90(2H,m)、4fJ5−430(2H
,m)、6.82(2H。
d、J=6Hz)、8.60(2H,d、J=6Hz)
製造例17 金属ナトリウム(9,2g)のエチレングリコ−tv(
1’00ml )溶液に4−クロロピリジン(39,6
g)を120〜130℃に加熱しなからん拌丁に分割し
て加え、加え終った後、160℃でさらに1時間撹拌し
た。・混合物を一15℃に冷却し、これにドライアイス
<5.21)を加えた。混合物を45℃に加温し、室温
で放置した。生成した沈殿を戸別し、ジイソプロピルエ
ーテルで洗浄した。
p液と洗液とを合わせて蒸発乾固した。残った油状物を
蒸留して、4−(2−ヒドロキシエトキシ)ピリジン(
9g)を得だ。沸点168〜145′c(5〜6ffH
g)。この油状物を固化させ、酢酸エチルから再結晶し
た。融点1.15〜115℃(分解)。
NMR(DMSO−d6+D20.δ):3.82(2
H,t、J=5Hz)、4.17(2H,t、J=5H
z>、7.02(2H。
(1,J=6Eh)、8.42(2H,d、J=6Hz
)l礒!工旦 2−メーflL’−5−メルカプト−5−オキソ−6−
ヒドロキシ−2,5−ジヒドロ−1,2,4−トリアジ
ン(15,91g)、4−クロロメチルピリジン塩酸塩
(19,681および炭酸水素ナトリウム(55,61
)の水(500謬l)中混合物を45℃で2時間攪拌し
た。混合物を10℃に冷却し、6N塩酸でpH6,2に
調整した。生成した沈殿を戸数し、水とアセトンとで洗
浄した後、乾燥して、2−メチル−3−(4−ピリジル
メチルチオ)−5−オキソ−6−ヒドロキシ−2,5−
ジヒドロ−1,2,4−トリアジン(17,2f)を得
た。融点219〜222℃(分解)。
工R(ヌジラール):3480.3400,1700.
1630゜1605.15ぼ− NMR(DMSO−(16→D20 、δ) :3.6
3(3H,S) 、4.45(2H,S) 、7.5−
7.6(2I(、m) 、8.4−8.6(2H,m)
」批記乙しヱ 金属ナトリウム(・7.57iの2−メトキシエタノー
#(135*/)溶液に、4−クロロメチルピリジン塩
酸塩(22,5F)の2−メトキシエタノ−A/(15
0*/)溶液を、氷−塩浴中で冷却しながら攪拌下に滴
下した。混合物を65℃で45分間攪拌した後、減圧下
に蒸発乾固した。残渣を水(500+w/)に溶解し、
この溶液をクロロホルムで抽出した。抽出液を塩化す1
−IJウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥して、蒸発乾固した。残った油状物を蒸留して、4−
(2−メトキシエトキシメチlv)ピリジン(21,5
6f)を得た。沸点98〜1−01℃(3〜3.5mH
g)。
NMR(CDC15,δ):3.42(3H,S)、3
.66(4H,S)。
4.63C2H,B) 、7.33(2H,m) 、8
A3(2H,m)製造例20 (1)4−クロロメチルピリジン塩酸塩(0,81)と
チオセミカルバジド(0,46g)とのメタノ−/1/
(6g/)中混合物を2時間還流させた。この混合物を
イソプロピルアルコール(60111)中に、激しく撹
拌しながら注ぎ、生成した沈殿を戸数し、イソプロピル
アルコールで洗浄した後、乾燥して、3−(4−ピリジ
ルメチル)イソチオセミカルバジド・2塩酸塩(0,7
5F)を得た。融点185〜188℃(分解)。
工R(ヌジラール):3250.3100,2650.
1640゜1630.1610.1590,1520.
150511! ’(2)3−(4−ピリジルメチル)
イソチオセミカルバジド 2塩酸塩(25,5g)の水
(180露l)溶液に□、亜硝酸ナトリウム(8,97
g)の水(50d)溶液を、氷−塩浴で冷却しながら1
0〜20℃で攪拌下に滴下した。反応混合物に10%塩
酸を12〜13℃で攪拌下に滴下した。この溶液を炭酸
水素ナトリウム水溶液でp H4,7に調整して蒸発乾
固した。残渣にエタノールを加え、不溶物を炉別した。
炉液を蒸発乾固して得た暗褐色油状物を、無水酢酸ナト
リウム(4,15g)のメタノール(250g/)溶液
と混合した。
混合物を蒸発乾固し、残渣をジエチルエーテル中で粉砕
して得た5−(4−ピリジルメチルチオ)テトラゾール
のナトリウム塩(8,61f)を、イれ以上精製せずに
次の反応に使用した5゜前記ナトリウム塩水溶液を炭酸
水素す) IJウム水溶液でpH4に調整し、塩析して
テトラヒドロフランで抽出した。抽出液を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、蒸発乾固した。残渣をエタノールに溶解
し、不溶物を炉別した。p液を蒸発乾固し、残渣をジエ
チルエーテルから再結晶して、5−(4−ピリジルメチ
ルチオ)テトラゾールを得た。融点161〜138℃(
分解)。
より(ヌジv−#):2450.1940.1610.
1510cm”NMR(D20+NaHCO3、δ):
4.27(2H,S)、7.55(2H,JJ=sHz
)、8.45(2H,d、J=5Hz)製造例21 4−クロロピリジン堆酸塩(7,25i、5−メルカプ
ト−1H−テトラゾール(4,93g)およびトリエチ
ルアミン(14,61’)のジメチルホルムアミド(1
20g/)中温合物を82〜85℃で1時間攪拌し、次
いで水浴中で冷却した。生成した沈殿を炉別し、p液を
水(60ml)と混合した。この水溶液を2N塩酸で1
)H2に調整し、減圧士に蒸発乾固した。残渣をクロロ
ホルム(300m/)中で粉砕し、生成した沈殿を戸数
して同じ溶媒で洗浄した。
この沈殿にエタノール(650露l)を加えて不溶物を
炉別した。ろ液を蒸発乾固して、4−(1H−テトラゾ
ール−5−イルチオ)ピリジン<4.051)を得た。
融点159〜161℃(分解)。
IR(ヌジッー#):3080.2750−2500.
1650.1610゜1510(m NMR(D20.δ) ニア、70(2H,d、J=7
Hz) 、8.55(2H、(1、J=7Hz ) 製造例22 (1)  3−メルカプトピリジン へキサクロロスタ
ネートおよび2−ヒドロキシエチルプロミドを常法によ
り反応させて、3−(2−ヒドロキシエチルチオ)ピリ
ジン(油分)を得た。
IR(フィルム’):3250.2940.2860,
1575゜1565.1470,1410.1110.
1070,1045゜1020.79−一1 NMR(d6 7(! トン、δ):3.17(2H,
t、J=7Hz)。
3.75(2H,t、、T=7Hz) 、7.27(1
H,m)’、 7.80(IF(、m) 、8.38(
IH,(1(1,J=2 オよび6Hz)。
8.55(IH,d、’J=2Hz) (213〜メルカプトピリジン へキサクロロスタネー
トおよび2−ジメチルアミノエチルクロリドを常法によ
り反応させて、3−(2−ジメチルアミノエチルチオ)
ピリジン(油分)を得た。
IP(フィルム):3400,3020,2950.2
930゜2850.2800.2760 、1560 
、1460.1400 。
1365!’ NMR(CDC/3.δ):2.23(6H,)シード
 B)、2.37−2.70 (2H、m) 、 2.
87−3.20 (2H、m) 、 7.0−7.33
(I H,m) 、 7.53−7.80 (IH,m
) 、8.30−8.50(1’H,m) 、857(
IH,d、J=2Hz)実施例10 上記の実施例と同様の方法により次の化合物を得た。
(1)7−C2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセト−yミ
ド〕−5−(5−(2−ヒドロキンエチルチオ)−1−
ピリジニオメチル〕−3−セフエムー4−カルボキシレ
ート(シン異性体)、m、p。
158〜163℃(分解)。
IR(ヌジョール):3300.3150.1770.
1660 。
1610.1530.1350.1285.1160,
1060゜1040c10 40cInN/+D20 、δ) :1.33(3H,
t、、T=7Hz) 。
6.37および3.85(2H,ABq、、T=18H
2) 、、3J5(2H,t、J=6Hz)、3.87
’(2H,t、J=6Hz)。
4.47(2H,q、J=7Hz) 、537オよび5
」5(2H,ABq、J=14Hz)、5.38(IH
,d、J=5Hz)。
5.90(IH,d、J=5H2) 、7.83−8.
17(IH,m)。
8.40−8.93(3I(、m) (2)7−C2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−/L/−5−イ/I/)アセ
トアミド)−5−(3−(2−ジメチルアミンエチルチ
オ)−1−ピリジニオメチ/l/)−s−セフェム−4
−カルボキシレート(シン異性体)、m、p。
105〜110℃(分解)。
IR(ヌジョール):3300.2690,2350.
1770゜1665.1610.1525ell+NM
R(D20 、δ) :1.32(38,t、J=7H
2) 、2.95(6H,S) 、3.53(4H,S
) 、3.30および5.72(2H,ABq 、J=
18Hz) 、4.35(28,q 、J=7Hz) 
、5.32(IH,d、J=5H2) 、5.28およ
び5.6[L(2H,ABq、J=14Hz)、5.8
5(IHld。
J=5Hz)、7.87−847(IH,m)、8.4
0−8.65(IH,m)、8.73−8.93(IH
,m)、9.17(IH。
d、J=2Hz) 一出願人 藤沢薬品工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ])一般式: 〔式中、R1けアミノ基葦たは保護されたアミノ基; R2(1適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪
    族炭化水素基、シクロ(低級)アVキ!しく低級)アル
    キルアミノ基、ジ(低級)アルキルアミノ基、スMホ(
    低級)アルキルアミノ基、ヒドロキシ(低級)アルキル
    アミノ基、保護されたN−ヒドロキシ(低級)アルキル
    アミノ基、アシルオキシ(低級)アVキIし基、低級ア
    Vコキシ(低@)アルコキシ(低級)アシキM基、ジ(
    低級)アfV’fVアミノ(低級)アVキル基、低級ア
    VキMチオ(低級)アMキル基、低級アrv2rv4−
    オ基、低級アVコキン基、低級アルコキシ(低級)アル
    コキシ基、ヒドロキシ(低級)1nyコ、−キシ基、ア
    Vn/(低級)アMキル基、ヒドロキシ(低級)アシキ
    Mチオ基、ジ(低級)アVキMアミノ(低級)アVキ〜
    チオ基、N−含有不飽和5員複素環基、N−含有不飽和
    5員複素環チオ基または適当な置換基で置換されていて
    もよいN−含有不飽和5また°は6員複素環チオ(低級
    )アMキM基; R4は水素原子筐たは低級アンキル基をそれぞれ意味す
    る〕で示される新規セフェム化合物およびその塩類。 ・で示される承である特許請求の範囲第1項記載の化合
    物のシン異性体。 3)  Rがアミ7基。 R2が1個の力lレボキシ基で1置換をれでいてもよい
    低@脂肪族炭化水素基、シクロ(低級)アルキlし基ま
    たはシクロ(低級)アMケ二M基;R5が低級アルキl
    レアミノi、N−(アシル)(低級)アルキ7レアミノ
    基、ジ(低級)アルキ7レアミノ基、スlレホ(低級)
    アルキルアーノ基、ヒドロキシ(低級)アノレキルアミ
    ノi、N−(アシIし〕ヒドロキシ(低級)アルキMア
    ミ、7基、アシlレオキシ(低級)アルキIし基、低級
    アルコキシ基シ級′)アルコキシ(低fh )アA/ 
    キIV基、ジ(低級)ア7レキルアミノ(低級)7rレ
    キIV屑、低級アlレキlレチオ(低級)アルキル基、
    低級アルキルチオ基、低級アルコキシ基、低級アフレコ
    キシ(低級)アルコキシ基、ヒドロキシ(低級)アルコ
    キシ基、アシル(低Ml)アルキル基、ヒドロキシ(低
    級)アルキルチオ基、ジ(低1.llt )アIレキル
    アミノ(低級)アルキルチオ基、テトラシリlし基、テ
    トラシリ7レチオ基、テトラシリMチオ(低級)アルキ
    ル基、筐たはオキソ基、iドロキシ基および低級アlレ
    キル基で置換すれたジヒドロトリアジニルチオ(低級)
    アルキル基である特許請求の範囲第2項記載の化合物。 4)R2が1個のカルボキシ基で置換されていてもよい
    低級アルキル基、低級アMケ二M基、低級アルコキシ基
    、シクロ(低級→アIレキM基またはシクロ(低級)ア
    ヤケニIし基;R3が低級アルキMアミノ基、N−(低
    級)アVカノイn/(低級)アルキMアミノ基、ジ(低
    級)アルキルアーミノ基、スVホ(低級)アルキVアミ
    ノ基、ヒドロキシ(低級)アルキ7レアミノ基、N−(
    低級)アMカノイlレヒドロキシ(低級〕アv Jf7
    1/アミノ基、ア々カノイMオキシ(低級)アIV’f
    k基、アVケノイMオキシ(低級)アルキル基、低級ア
    Vコキシ(低級)アVコキシ(低級)アルキル基、ジ(
    低級)アtvJfIvアミノ(低級)アルキル基、低級
    アルキルチオ(イ氏吸)アlレキ7し括、・低級アルキ
    ルチオ基、低級アルコキシ基、低級アルコギン(低級)
    アルコキシ基、ヒドロキン(’+氏i)アルコキシ基、
    低級アlレカンス!レホニlしく低級)アルキlし梧、
    ヒドロキシ(低級)アlレギIレチオ基、ジ(低級)ア
    ルキ7レアミノ(低級)アルキルチオ基、テトラシリl
    し基、テトラシリMチオ基、テトラシリ7レチオ基ニ ソ、ヒドロキンおよび低級アルキルで置換されたシヒド
    ロトリアシニlレチオ(低級)アn/ギ1し基である特
    許請求の範囲、π3項記載の化合物。 5)R2がメチIし梧、メチIし括、カルボキシメチ/
    L/&、アリtvg、2−プロビニM%、シクロベンチ
    Iし’+’;’J*1d2−シクロペンテン−1−イ?
    し猥 ; R5がメチlレアミノi、N−(ホlレミn/)メチl
    レアミノ仄、ジメチlレアミノ基、スlレホメチ!レア
    ミノ基、2−ヒドロギシエチルアミノL N−ホlレミ
    lレー2−ヒドロキシエチlレアミノ屑、ドデカ/イν
    オギシメチ!し基、ヘキサデカノイVオキシメチ7し基
    、3−へキサデカノイ!レオキシプロピM基、オレオイ
    Iレオキシメチル基、テトラデカノイ!レオキシメチr
    vL オクタデカノイVオキシメチrv%、2−メトキ
    シエトキシメチ!し基、ジメチMアミノメチM基、メチ
    ルチオメチM基、メチMチオ基、メトキン基、エトキシ
    基、2−メトキシエトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ
    基、メジセメ千ル基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−
    ジメチルアミノエチルチオ基、IH−テトラシリrV蔭
    、、IH’:テトヲゾ。 す!レチオ基、lH−テトラシリフレチオメチtv%ま
    たは2−メチフレー5−オキソ−6−ヒドロキシ−2,
    5−ジヒドロ−1,2,4−トリアジニlレチオメチI
    し基; R4が水素原子筒たはメチ〃基である特許請求の範囲第
    4項記載の化合物。 6)7−[2−エト−キシイミノ−2−(5−アミノ−
    1,2,4−チアジアゾ−V−3−イ!し)アセトアミ
    ド)−3−1’3−メチlレアミノ−1−、ピリジニオ
    メチル)−3−セフェム−4−カルボキンレート(シン
    異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
    ,4−チアジアゾ−lシー3−イ/L/)アセトアミド
    )−3−(4−メチフレチオ−1−ピリジニオメチル)
    −3−セフェム−4−力Vポキンレート(シン異性体〕
    、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
    ,4−チアジアゾ−1v−3−イ/L’)7−t!)ア
    ミド〕−3−(3−ジメチルアミノ−1−ピリジニオメ
    チル)−3−セフェム−4−力Mポキンレート(シン異
    性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
    ,4−チアジアゾ−/l/−3−イ/L/)アセトアミ
    ド)−3−(3−メチルチオメチv−1−ピリジニオメ
    チv)−,3−セフェム−4−カルボキシレート(シン
    異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
    ,4−チアジアゾ−Iソー3−イル)アセトアミド:]
    −3−(3−メトキシ−1−ピリジニオメチIv)−3
    −セフェム−4−力Vポキンレ一ト(!/シン異性体、 ナトリウム 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−ア
    ミノ−1,2,4−チアジアゾ−/L/−3−イ/I/
    )アセトアミド)−3−(3−スVホナトメチMアミノ
    ー1−ピリジニオメチA/)−3−セフェム−4−力V
    ポキンレート(シン異性体)、7−〔2−エトキシイミ
    ノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−71
    /−3−イ1v)7−t!)アミド13−(3−(LH
    −テトラゾ−V−5−イヤチオメチIv)−1−ピリジ
    ニオメチM〕−1,2,4−チアジアゾ−V−3−イA
    /)アセトアミド)−3−[4−(IH−テトラゾ−M
    −5−イIV)−1−ピリジニオメチル〕−3−セフェ
    ム−4−力Mポキンレート(シンIL性K)および、 
          ・ 7− C2−(2−シクロペンテン−1−イルオキシイ
    ミノ)−2−(5−アミノ−1,3,4−チ9.アシア
    ゾ―ルム3−イlし)アセトアミド〕−344−(LH
    −テトラゾ−Iv−5−イ/L/)−1−ピリジニオメ
    チIし〕−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン
    異性体)よりなる群から選ばれた特許請求の範囲第5項
    記載の化合物。 7)111 一般式: 〔式中、Rはアミノ層重たは保護されたアミノ基; Rは適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族炭
    化水素基、シクロ(低級)アIレキM基筐たはシクロ(
    低級)アにケニル基;〃キIレアミノ基、保護されたN
    −(低級)アルキルアミノ基、ジ(低級)アルキルアミ
    ノ基、スルホ(低級)アルキlアミノ基、ヒドロキシ(
    低級)アrvJfvアミノ基、保護されたN−ヒドロキ
    シ(低級)アルキルアミノ基、アシジオキシ(低級)ア
    ルキル基、低級アルコキシ(低級)アルコキシ(低級)
    アルキル基、ジ(%H) y yv キrvアミノ(低
    級)アVキWaS低級アルキャチオ(低級)アルキル基
    、低級アJVキV −? 、t 基、低級アMコキン基
    、低級アフレコキシ(低*)アMコキン基、ヒドロキシ
    (低級)アVコキン基、アシV(低級)アlレキル基、
    ヒドロキシ(低級)アルキVチオ基、ジ(低級)アルキ
    lレアミノ(低級)アルキフレチオ基、N−含有不飽和
    5d複素環基、N−含有不飽和5員複素環チオ基または
    適当な置換基を有していてもよいN−含有不飽和5また
    は6@復素環チオ(低級)アルキル基、R4は水素原子
    または低級アルキル基を意味する)で示される基で置換
    されうる基をそれぞれけ味する〕で示される化(式中、
    R3およびR4は前と同じ意味)で示される化合物を作
    用させて、一般式;〔式中、R,唸R,RおよびRはそ
    れ ぞれ前と同じ意味〕で示される化合物またはその哩mを
    得るが、 (21一般式: 〔式中、R1、R2およびR4はそれぞれ前と同じ醪味
    であり、 R5aは保護されたN−(低級)アルキルアミノ基また
    は保護されたN−ヒドロキシ(低級)アルキルアミノ基
    を意味する〕で示される化合物またはその塩類をアミノ
    保護基の脱離反応に付して、一般式: 〔式中、R%RおよびRはそれぞれ前 と同じ意味であり、 R5bは低級アルキルレアミノ筐たはヒドロキシ(低級
    )アルキルアミノ基を意味する〕で示される化合物また
    はその塩類を得るか、筐たけ、 ■ 一般式: C式中、R,R1RおよびRはそれ ぞ7′1.前と同しけ味であり、 Rは作潮された力Iレボキシ屑、 Xは酸残基をは味する〕で示される化合物を力?レボキ
    シ保護基の脱離反応に付して、一般式; 〔式中、R1、R2、R5およびR’  Iは前と同じ
    σ味〕で示される化合物またはその塩類を得ることを特
    徴とする一般式; %式%( 〔式中、R%R%RおよびRは前と 同じ意味〕で示される新規セフェム化合物またはその塩
    類の製造法。 8)一般式: 〔式中、R1はアミノ基または保護されたアミノ基; R2は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族
    炭化水素基、シクロ(低級)アルキシ基またはシクロ(
    低級)アMケニV基;R3は低級アルキルアミノ基、保
    護されたN−(低級)アルキルアミノ基、ジ(低級)ア
    ルキルアミノ基、スνホ(低級)アルキルアミノ基、ヒ
    ドロキシ(低級)アルキルアミノ基、保護されたN−ヒ
    ドロキン(低級)′アMキMアミ7基、アシMオキシ(
    低級)アrvJfv基、低級アMコキシ(低級)アフレ
    コキシ(低級)アルキル基、シ(低f、G )アルキル
    アミノ 低級アルキルチオ基オ級)アlレキlし基、低級アtレ
    キノV 4− :を基、低級アルコキン基、低級アルコ
    キシ(低級)アlレコギシ域、ヒドロキシ(低級)アル
    コキン基、アシル(低級)アルキル基、ヒドロキシ(低
    級)アルキルチオ基、ジ(低級)アルキルアミノ(低級
    )アルキMチオi、N−含有不飽和5@複素環基、N−
    含有不飽和5員痺素環チオ基または適当な置換基で置換
    されていてもよいN−含有不飽和5′またζ6員複素環
    チオ(低@)アlレキル基;および R4  は水素原子または低級アVキlし基をそれぞれ
    意味する〕で示される新規セフェム化合物およびその塩
    類を有効成分とする細菌感染症予防。 治療剤。 9)一般式; R2 は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪
    族炭化水素基、シクロ(低級)アルキル基またはシクロ
    (低級)アルケニM基;R6 は保護されたカルボギシ
    基; R5 は低級アルキルアミ7基、保護されたN−(低級
    )アルキルアミノ基、ジ(低級)アルキルアミノ基、ス
    Vホ(低級)アIレキMアミノ基、ヒドロキシ(低@)
    アIt/キシアミノ基、保護されたN−ヒドロキシ(低
    級)アルキルアミノ基、アシルオキシ(低級)アルキル
    基、低級アルコキシ(低級)アルコキシ(低級)アルキ
    ル基、シ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキIし基
    、低級アIL/ギVチオ(低級)アMキV基、低級アル
    キルチオ基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ(低級
    )アルコキシ基、ヒドロキシ(低級)アルコキン基、ア
    シlV(低級)アルキIし基;ヒドロキシ(低級)アル
    キルチオ基、シ(低級)アルキルアミノ<<i級)アル
    キルチオ基、N−含有不飽和5員暉素環基、N−含有不
    飽和5員暉素環チオ基またに適当な置換基で置換(れで
    いてもよいN−含有不飽和5捷たは6員複素環千オ(低
    級)アルキル基; R4は水素原子寸たはイ氏級アlレキル基;Xは酸残基
    : AはーSー寸たは一↑−をそれぞれ意味する〕で示享れ
    る化合物およびその塩類。 10)  一般式; 〔式中、R はアミ7基または保.頑されたアミノ基; R は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族
    炭化水素基、シクロ(低級)アシレキIし基またにシク
    ロ(低級)アルケニIし戒:R3は低級アルキルアミノ
    仄、保護されiN−(低級)アルキルアミノ基、ジ(低
    級)アシキルアミノ基、スルホ(低級37Mキルアミ7
    基、ヒドロキシ(低級)アルキルアミノ基、保護すれた
    N−ヒドロキン(低級)アIレキMアミノ基、アシルオ
    キシ(低級)アyv2V基、低級アシルオキシ(低級)
    アVコキシ(低級)アルキル基、ジ(低級)アルキルア
    ミノ(低級)アルキル基、低級アVキMチオ(低級)ア
    MキV基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ基、低
    級アルコキシ(低級)アルコキシ基、ヒドロキシ(低級
    )アルコキシ基、アシル(低級)アルキル基、ヒドロキ
    シ(低級)アルキルチオ基、ジ(低級)アルキルアミノ
    (低級)アルキルチオ基、N−含有不飽和5員腹素環仄
    、N−含有不飽和5員複素環チオ基または適当な置換基
    で置換されていてもよいN−含有5または6員複素環チ
    オ(低級)アルキル基; R は水素原子または低級アlレキル基;R は保護さ
    れたカルポギシ基。 Xは酸残基をそれぞれ意味する〕で示さnる化合物′ま
    たはその塩類を還元することを特徴とする一般式: 〔式中、R’ 、R2,R3、R’ 、R6およびXl
    dそれぞれ前と同じ意味〕で示される化合物またはその
    塩類の製命法。 11)  一般式: %式% 〔式中、Rは適当な置換基で置換されていてもよい低級
    脂肪族炭化水素基、シクロ(低級)アIレキル基または
    シクロ(低級)アIレヶニ!し基、Yはハロゲンをそれ
    ぞれ意味する〕で示される化合物またはその塩類にI(
    SCNの塩を作用させることを特徴とする一般式; 〔式中、R2fl前と同じ意味〕で示される化合物また
    はその塩類の製造法。
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