JPS5865251A - 液晶性化合物 - Google Patents
液晶性化合物Info
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- JPS5865251A JPS5865251A JP16249081A JP16249081A JPS5865251A JP S5865251 A JPS5865251 A JP S5865251A JP 16249081 A JP16249081 A JP 16249081A JP 16249081 A JP16249081 A JP 16249081A JP S5865251 A JPS5865251 A JP S5865251A
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液晶性化合物に係わり、更に詳しくは液晶温度
範囲の広い、特に液晶−液体転移温度(cl、p)が高
く、且つ液晶混合系において溶解性に優れる液晶性化合
物に関する。
範囲の広い、特に液晶−液体転移温度(cl、p)が高
く、且つ液晶混合系において溶解性に優れる液晶性化合
物に関する。
液晶組成物を用いた電気光学的表示素子については従来
より様々な研究がなされている。中でもねじれ配向をも
つネマチック液晶を用いたTN型の液晶表示体はその主
流として腕時計、電卓などに広く利用されている。
より様々な研究がなされている。中でもねじれ配向をも
つネマチック液晶を用いたTN型の液晶表示体はその主
流として腕時計、電卓などに広く利用されている。
これらに用いられる液晶組成物は、その目的とする表示
特性に応じて物性の異なる数種類の液晶性化合物を混合
して形成されている。
特性に応じて物性の異なる数種類の液晶性化合物を混合
して形成されている。
こうした現状において、表示体材料の一素材として最低
限に要求されることは、 (1) 表示体実用温度範囲を広く被う液晶温度範囲
特に高いc t 、 p をもつこと。
限に要求されることは、 (1) 表示体実用温度範囲を広く被う液晶温度範囲
特に高いc t 、 p をもつこと。
(2)液晶組成物の形成において他の液晶性化合物との
溶解性に優れること。
溶解性に優れること。
(3)湿気、熱、光などに対して安定であること。
などである。
本発明ではこれらの要素を満足する。即ち液晶温度範囲
が広く、且つ溶解性、安定性に優れた液晶性化合物を提
供することを目的とした。
が広く、且つ溶解性、安定性に優れた液晶性化合物を提
供することを目的とした。
本発明の化合物は一般式が
R−昏(←aOO−◎→I R’
〔式中R,R’は炭素数1〜8個の直鎖アルキル基を示
す〕で表わされるP−()ランス−4−n−アルキルシ
クロヘキシル)フェニル P−()ランス−4−n−ア
ルキルシクロヘキシル)ベンシェードである。
す〕で表わされるP−()ランス−4−n−アルキルシ
クロヘキシル)フェニル P−()ランス−4−n−ア
ルキルシクロヘキシル)ベンシェードである。
該化合物は次のようにして合成できる。
市販の4−()ランス−4′−ルーアルキルシクロヘキ
シル)ベンゾニトリル・・・・・・〔以下一般式R−4
1e−ON で示す〕より文献(Mot、 0rys
t 。
シル)ベンゾニトリル・・・・・・〔以下一般式R−4
1e−ON で示す〕より文献(Mot、 0rys
t 。
Lig、0ryst VoA、56I、etters
pp 51〜5/i、1979)の方法に従い4−(ト
ランス−4フール−アルキルシクロヘキシル)アニリン
→〔以下一般式R−MNHtで示す〕を得、更に常法に
より4−()ランス−4フール−アルキルシクロヘキシ
ル)フェノール→〔以下一般式R−4)−@−OHで示
す〕を裂取する。
pp 51〜5/i、1979)の方法に従い4−(ト
ランス−4フール−アルキルシクロヘキシル)アニリン
→〔以下一般式R−MNHtで示す〕を得、更に常法に
より4−()ランス−4フール−アルキルシクロヘキシ
ル)フェノール→〔以下一般式R−4)−@−OHで示
す〕を裂取する。
一方R−釦)ON を常法により4−(トランス4/
、−アルキルシクロヘキシル)安息香ffi→〔以
下一般式R−争ヤトCOOHで示ず〕を得、更に4−(
)ランス−4′−ルーアルキルシクロヘキシル)安息香
酸クロライド→〔以下一般式R−@h−o−COC6で
示す〕を裂取する。
、−アルキルシクロヘキシル)安息香ffi→〔以
下一般式R−争ヤトCOOHで示ず〕を得、更に4−(
)ランス−4′−ルーアルキルシクロヘキシル)安息香
酸クロライド→〔以下一般式R−@h−o−COC6で
示す〕を裂取する。
最後にR−争→ヒOHとR−&→”)−aool−をエ
ステル縮を行ない係わるR−争ツヒOOO−@−@−R
を裂取する。
ステル縮を行ない係わるR−争ツヒOOO−@−@−R
を裂取する。
以下反応工程を示し、その既略を説明する。
R−争−@−ON F+−恰(ヒ0NSte
p1:R−ひ一@−ON を水−エタノール混合溶媒
中で水酸化カリウムと煮沸し4−(トランス−4′−ル
ーアルキルシクロヘキシル)ベンズアミドを得る。
p1:R−ひ一@−ON を水−エタノール混合溶媒
中で水酸化カリウムと煮沸し4−(トランス−4′−ル
ーアルキルシクロヘキシル)ベンズアミドを得る。
5top2:このベンズアミドをナトリウム金属を溶か
した乾燥メタノール中に溶解し、臭素を加え混合、加熱
しメチル−4−(トランス−4フール−アルキルシクロ
ヘキシル)フェニルカーバメイトを得る。
した乾燥メタノール中に溶解し、臭素を加え混合、加熱
しメチル−4−(トランス−4フール−アルキルシクロ
ヘキシル)フェニルカーバメイトを得る。
Stθp6:このフェニルカーバメイトを80%エタノ
ール中で水酸化カリウムと煮沸、分解してR−11NH
zを得る。
ール中で水酸化カリウムと煮沸、分解してR−11NH
zを得る。
S t o p 4 : R−9−@−N H,を70
%硫酸と混合し、亜硝酸ソーダ溶液を加えてジアゾ硫耐
塩溶液をつくり、これを加水分解してR−恰吃HOHを
得る。
%硫酸と混合し、亜硝酸ソーダ溶液を加えてジアゾ硫耐
塩溶液をつくり、これを加水分解してR−恰吃HOHを
得る。
Stθp5:R−4←[有]−〇N をエチレングリ
コール中で水酸化カリウム水溶液と煮沸、分解し、4−
(トランス−47−ルーアルキルシクロヘキシル)安息
香酸のカリウム塩を得る。
コール中で水酸化カリウム水溶液と煮沸、分解し、4−
(トランス−47−ルーアルキルシクロヘキシル)安息
香酸のカリウム塩を得る。
5top6:このカリウム塩を過剰量の塩酸中に入れ数
時間激しく攪拌しR−争(ヒ0OOHを得る。
時間激しく攪拌しR−争(ヒ0OOHを得る。
S t o p 7 : R−争(−000Hを塩化チ
オニルと反応せしめR−争やHaoazを得る。
オニルと反応せしめR−争やHaoazを得る。
EItep8: St′ep4 で得たR−e−@−
OHと5tep7で得たR−ト)OOOLをエーテル中
、適当な塩基性触媒を用いてエステル化し、係わるR−
@’@−a o o−+−@−Rを裂取する。
OHと5tep7で得たR−ト)OOOLをエーテル中
、適当な塩基性触媒を用いてエステル化し、係わるR−
@’@−a o o−+−@−Rを裂取する。
このようにして合成された本発明の化合物は、約100
〜300℃領域の液晶温度範囲を示し、特にot、pは
非常に高い。そのうえこれらの融解K”tmat 熱エンタルピーΔHは6,0〜7.5/ と小さい
。
〜300℃領域の液晶温度範囲を示し、特にot、pは
非常に高い。そのうえこれらの融解K”tmat 熱エンタルピーΔHは6,0〜7.5/ と小さい
。
従って本発明の化合物は他の液晶組成物と容易に混合し
、該液晶組成物の液晶温度範囲を確実に広げることがで
きる。
、該液晶組成物の液晶温度範囲を確実に広げることがで
きる。
以下、本発明の実施の態様を更に詳しく示すため実施例
によりその製造例、及びその有用性を示す応用例を述べ
る。
によりその製造例、及びその有用性を示す応用例を述べ
る。
実施例1
Stopl: 4 (トランス−4′−ルーペンチル
シクロヘキシル)ベンゾニトリル25.5fと水酸化カ
リウム36S’を70%エタノール750 m Lに溶
解し16時間還流下に加熱した。還流後析出した結晶を
口過し、水で洗浄後、乾燥した。該化合物は4−()ラ
ンス−4/ −n、−ペンチルシクロヘキシル)ベンズ
アミドである。
シクロヘキシル)ベンゾニトリル25.5fと水酸化カ
リウム36S’を70%エタノール750 m Lに溶
解し16時間還流下に加熱した。還流後析出した結晶を
口過し、水で洗浄後、乾燥した。該化合物は4−()ラ
ンス−4/ −n、−ペンチルシクロヘキシル)ベンズ
アミドである。
5top2:乾燥メタノール3.9tにナトリウム金属
80yを溶解し、室温迄冷却した。この溶液に5top
i で得たベンズアミド1547を溶解し、激しく攪
拌しつつ臭素40−5 m tを加え引き続き4時間加
熱した。反応後メタノールの大部分を留失し、残渣に3
tの水を加え、析出した沈澱物を口過し、水で洗浄後、
乾燥した。該化合物はメチル−4−()ランス−4′−
ルーペンチルシクロヘキシル)フェニルカーバメイトで
ある。
80yを溶解し、室温迄冷却した。この溶液に5top
i で得たベンズアミド1547を溶解し、激しく攪
拌しつつ臭素40−5 m tを加え引き続き4時間加
熱した。反応後メタノールの大部分を留失し、残渣に3
tの水を加え、析出した沈澱物を口過し、水で洗浄後、
乾燥した。該化合物はメチル−4−()ランス−4′−
ルーペンチルシクロヘキシル)フェニルカーバメイトで
ある。
5tep3: 5tep2 で得たカーバメイト86
1を水酸化カリウム2151を溶解したエタノール68
8 tn L−水172mt混合溶媒に加え、冷却管の
上部に窒素を封したゴム風船を備え、24時間還流下に
加熱した。還流後エタノールを留去し、残留物を300
m lの水に注ぎ込み、この水溶液をエーテル抽出し
た。エーテル溶液を数回水で洗浄した後、無水硫酸す)
IJウムで乾燥後、エーテルを留去した。続いて残渣
を減圧蒸留し、bp150〜160°C・2 mm H
Yの留分を採った。該化合’flJハ4 ()ランス
−47−ルーペンチルシクロヘキシル)アニリンである
。
1を水酸化カリウム2151を溶解したエタノール68
8 tn L−水172mt混合溶媒に加え、冷却管の
上部に窒素を封したゴム風船を備え、24時間還流下に
加熱した。還流後エタノールを留去し、残留物を300
m lの水に注ぎ込み、この水溶液をエーテル抽出し
た。エーテル溶液を数回水で洗浄した後、無水硫酸す)
IJウムで乾燥後、エーテルを留去した。続いて残渣
を減圧蒸留し、bp150〜160°C・2 mm H
Yの留分を採った。該化合’flJハ4 ()ランス
−47−ルーペンチルシクロヘキシル)アニリンである
。
5tep4! 5tep3 で得たアニリン572を4
0%硫酸25 m lを加え均一な混合物として氷冷し
た。一方面硝酸す) IJウム水m液(N”Ot ”
7゛ i、水6 m /、 )をつくり、冷却、攪拌し
ながら、前記アニリン−硫酸混合物に徐々に加えジアゾ
硫酸塩溶液をつくった。ジアゾ化が進行中50%硫酸を
湯浴上で90℃に加熱し、前記ジアゾ硫酸塩溶液を入れ
加水分解した。冷却固化した結晶を口過、水洗い、乾燥
した後、減圧下(2mmHy)で昇華裂取した。該化合
物は4−(トランス−47−ルーペンチルシクロヘキシ
ル)フェノール・・・・・・05 H1,−4)−@)
−0Hである。
0%硫酸25 m lを加え均一な混合物として氷冷し
た。一方面硝酸す) IJウム水m液(N”Ot ”
7゛ i、水6 m /、 )をつくり、冷却、攪拌し
ながら、前記アニリン−硫酸混合物に徐々に加えジアゾ
硫酸塩溶液をつくった。ジアゾ化が進行中50%硫酸を
湯浴上で90℃に加熱し、前記ジアゾ硫酸塩溶液を入れ
加水分解した。冷却固化した結晶を口過、水洗い、乾燥
した後、減圧下(2mmHy)で昇華裂取した。該化合
物は4−(トランス−47−ルーペンチルシクロヘキシ
ル)フェノール・・・・・・05 H1,−4)−@)
−0Hである。
5top5: 4−()’ランスー47−ルーペンチル
シクロヘキシル)ベンゾニトリル22.5yをエチレン
クリコール410mtに加熱溶解した。この溶液の沸騰
中に水酸化カリウム301.水60mt溶液を加え、8
時間還流下に加熱した。冷却後、析出した結晶は4−(
トランス−4′−ルーペンチルシクロヘキシル)安息香
酸のカリウム塩である。
シクロヘキシル)ベンゾニトリル22.5yをエチレン
クリコール410mtに加熱溶解した。この溶液の沸騰
中に水酸化カリウム301.水60mt溶液を加え、8
時間還流下に加熱した。冷却後、析出した結晶は4−(
トランス−4′−ルーペンチルシクロヘキシル)安息香
酸のカリウム塩である。
St op6:上記反応混合物中に水500tatを入
れカリウム塩を溶解した。この溶液に塩酸の過剰量20
0 m tを加え、3時間攪拌混合した。結晶を口過し
、水で洗い、乾燥後エタノールにより再結晶した。該化
合物は4−、()ランス−47−ルーペンチルシクロヘ
キシル)安息香酸である。
れカリウム塩を溶解した。この溶液に塩酸の過剰量20
0 m tを加え、3時間攪拌混合した。結晶を口過し
、水で洗い、乾燥後エタノールにより再結晶した。該化
合物は4−、()ランス−47−ルーペンチルシクロヘ
キシル)安息香酸である。
5tep7: 5tep6 で得た安息香酸51と塩
化チオニル20 m lを混合し、ガスの発生が止むま
で還流下に加熱した。反応後過剰の塩化チオニルをアス
ピレータ−減圧下で完全に留去した。残渣は4−()ラ
ンス−47−ルーペンチルシクロヘキシル)安息香酸ク
ロライド・・・・・・a、 Hl、−4p−@−aoa
’1である。
化チオニル20 m lを混合し、ガスの発生が止むま
で還流下に加熱した。反応後過剰の塩化チオニルをアス
ピレータ−減圧下で完全に留去した。残渣は4−()ラ
ンス−47−ルーペンチルシクロヘキシル)安息香酸ク
ロライド・・・・・・a、 Hl、−4p−@−aoa
’1である。
5top8: 5top4 で得たO、 Hl、−1
@−oHo、 71をエーテル20 m lに溶解し、
トリエチルアミンQ、 5 m lを加えて冷却した。
@−oHo、 71をエーテル20 m lに溶解し、
トリエチルアミンQ、 5 m lを加えて冷却した。
これに5top7 で得たO 、 H,1−争→Ho
OOt l 8グのエーテル15mt溶液を少量ずつ
滴下し、都度よく振り混ぜた。その後1時間還流下に加
熱した。還流後反応混合物中に50 m lの水を注加
し、分液ロートを用いてエーテル層を分離した。エーテ
ル溶液を5%NaOH,水、6NHct、水で各々洗浄
した後エーテルを留去した。残渣をエタノールにより再
結晶した。該化合物は係わるp −(トランス−4−n
−ペンチルシクロヘキシル)フェニル P−()ランス
−4−n −<ンチルシクロヘキシル)ベンゾエート・
・・・・・0sHts −争吃ヒa o o−@−4−
0 、 H、、である。該化合物の遷移点を表1に、ま
た赤外線吸収スペクトルを第1図に示す実施例2〜9 実施例1と同様にして下記化合物を裂取した。
OOt l 8グのエーテル15mt溶液を少量ずつ
滴下し、都度よく振り混ぜた。その後1時間還流下に加
熱した。還流後反応混合物中に50 m lの水を注加
し、分液ロートを用いてエーテル層を分離した。エーテ
ル溶液を5%NaOH,水、6NHct、水で各々洗浄
した後エーテルを留去した。残渣をエタノールにより再
結晶した。該化合物は係わるp −(トランス−4−n
−ペンチルシクロヘキシル)フェニル P−()ランス
−4−n −<ンチルシクロヘキシル)ベンゾエート・
・・・・・0sHts −争吃ヒa o o−@−4−
0 、 H、、である。該化合物の遷移点を表1に、ま
た赤外線吸収スペクトルを第1図に示す実施例2〜9 実施例1と同様にして下記化合物を裂取した。
実施例2:P−()ランス−4−n−プロピルシクロヘ
キシル)フェニル P−()ランス−4−ループロピル
シクロヘキシル)ペンゾエート0、H,−の−◎−ao
o←◇−@−0,H。
キシル)フェニル P−()ランス−4−ループロピル
シクロヘキシル)ペンゾエート0、H,−の−◎−ao
o←◇−@−0,H。
実施例3:P−()ランス−4−n−ペンチルシクロヘ
キシル)フェニル P−()ランス−4−ループチルシ
クロヘキシル)ベンゾエート03H7−o)−o−o
00−@−4D−0. H11実施例4:P−()ラン
ス−4−n−へブチルシクロヘキシル)フェニル P’
−()ランス−4−n−プロピルシクロヘキシル)ベン
ゾエート03H,−@)−o−000−ぐ% 07H
I11実施例5:P−()ランス−4−n−プロピルシ
クロヘキシル)フェニル P −() 5 ンス−4−
ループチルシクロヘキシル)ベンゾエートC4H9o−
@−c OO−@−@ o、 H。
キシル)フェニル P−()ランス−4−ループチルシ
クロヘキシル)ベンゾエート03H7−o)−o−o
00−@−4D−0. H11実施例4:P−()ラン
ス−4−n−へブチルシクロヘキシル)フェニル P’
−()ランス−4−n−プロピルシクロヘキシル)ベン
ゾエート03H,−@)−o−000−ぐ% 07H
I11実施例5:P−()ランス−4−n−プロピルシ
クロヘキシル)フェニル P −() 5 ンス−4−
ループチルシクロヘキシル)ベンゾエートC4H9o−
@−c OO−@−@ o、 H。
実施例6:P−()ランス−4−n−ペンチルシクロヘ
キシル)フェニル P−()ランス−4−n−7”チル
シクロヘキシル)ベンゾエートa 4H、−@p−@)
−a o o−@−@−c 、 H,1実施例7:P−
()ランス−4−7L−へブチルシクロヘキシル)フェ
ニル P−()ランス−4−ループチルシクロヘキシル
)ベンゾエート0、H,−(h◎−000−o−4−0
7H15実施例8:P−()ランス−4−n−プロピル
シクロヘキシル)フェニル P−()ランス−4−ルー
ペンチルシクロヘキシル)ベンゾエート0 、 H、、
−e−@−000−o−@−0、H7実施例9 : p
−()ランス−4−ルーへブチルシクロヘキシル)フ
ェニル P−()ランス−4−ルーペンチルシクロヘキ
シル)ベンゾエート0、 H,1−e−@−ooo−@
−4−a、a、。
キシル)フェニル P−()ランス−4−n−7”チル
シクロヘキシル)ベンゾエートa 4H、−@p−@)
−a o o−@−@−c 、 H,1実施例7:P−
()ランス−4−7L−へブチルシクロヘキシル)フェ
ニル P−()ランス−4−ループチルシクロヘキシル
)ベンゾエート0、H,−(h◎−000−o−4−0
7H15実施例8:P−()ランス−4−n−プロピル
シクロヘキシル)フェニル P−()ランス−4−ルー
ペンチルシクロヘキシル)ベンゾエート0 、 H、、
−e−@−000−o−@−0、H7実施例9 : p
−()ランス−4−ルーへブチルシクロヘキシル)フ
ェニル P−()ランス−4−ルーペンチルシクロヘキ
シル)ベンゾエート0、 H,1−e−@−ooo−@
−4−a、a、。
尚、これらの遷移点を表1に示し、また各々の赤外線吸
収スペクトルを第2図〜第9図に示す。
収スペクトルを第2図〜第9図に示す。
表 1
実施例10(応用例)
0、 H,−@−c o 0−G−ON 1重j部
04H,−4−000ぺ←ON 1重量部05H1
□−かaooぺ汗ON 1重量部より成る液晶組成
物の液晶温度範囲はm p(20’Q〜O/、=、p7
0℃である。
04H,−4−000ぺ←ON 1重量部05H1
□−かaooぺ汗ON 1重量部より成る液晶組成
物の液晶温度範囲はm p(20’Q〜O/、=、p7
0℃である。
該液晶組成物に本発明の液晶性化合物
0、 H□、 −(i)−@−00o−o−@−a、
H。
H。
を5重量パーセント混合した液晶組成物を形成した。該
液晶組成物の液晶温度範囲はm p (20℃〜Ot、
p78℃であった。
液晶組成物の液晶温度範囲はm p (20℃〜Ot、
p78℃であった。
また、該液晶組成物を厚さ&92μ常のTN型液晶セル
に封止して20°Cに於ける電圧V、9 コントラスト
特性を測定したところ第10図に示す結果を得た。Vt
h:1.78v Vsat:2.48vである。
に封止して20°Cに於ける電圧V、9 コントラスト
特性を測定したところ第10図に示す結果を得た。Vt
h:1.78v Vsat:2.48vである。
第1図〜第9図は下記に示す本発明の化合物の各々赤外
線吸収スペクトルである。 第1図:P−()ランス−4−n−ペンチルシクロヘキ
シル)フェニル P−() 5>スー4−.n−ペンチ
ルシクロヘキシル)ベンゾエート第2図:p−(トラン
ス−4−n−プロピルシクロヘキシル)フェニル P−
()ランス−4−n−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
エート第3[’J: P−()ランス−4−ルーペンチ
ルシクロヘキシル)フェニル P−()ランス−4−n
−プロピルシクロヘキシル)ベンゾエート第4図:p−
()ランス−4−ルーへブチルシクロヘキシル)フェニ
ル P−()ランス−4−n−プロピルシクロヘキシル
)ベンゾエート第5図:P−()ランス−4−n−プロ
ピルシクロヘキシル)フェニル P−()ランス−4−
n−ブチルシクロヘキシル)ベンゾエート第6[図:P
−()ランス−4−n−ペンチルシクロヘキシル)フェ
ニル P−()ランス−4−n−ブチルシクロヘキシル
)ベンゾエート第7図:P−()ランス−4−ルーへブ
チルシクロヘキシル〕フェニル P−()ランス−4−
n、−ブチルシクロヘキシル)ベンゾエート第8図:P
−()ランス−4−n−プロピルシクロヘキシル)フェ
ニル P−()ランス−4−n−ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゾエート第9図:P−()ランス−4−n−へ
ブチルシクロヘキシル)フェニル p−()ランス−4
−n−ヘンチルシクロヘキシル)ベンゾエートまた第1
0図は本発明の化合物を含有する液晶組成物を打面した
液晶セルの電圧V、Bコントラスト特性を示す図である
。 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務
線吸収スペクトルである。 第1図:P−()ランス−4−n−ペンチルシクロヘキ
シル)フェニル P−() 5>スー4−.n−ペンチ
ルシクロヘキシル)ベンゾエート第2図:p−(トラン
ス−4−n−プロピルシクロヘキシル)フェニル P−
()ランス−4−n−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
エート第3[’J: P−()ランス−4−ルーペンチ
ルシクロヘキシル)フェニル P−()ランス−4−n
−プロピルシクロヘキシル)ベンゾエート第4図:p−
()ランス−4−ルーへブチルシクロヘキシル)フェニ
ル P−()ランス−4−n−プロピルシクロヘキシル
)ベンゾエート第5図:P−()ランス−4−n−プロ
ピルシクロヘキシル)フェニル P−()ランス−4−
n−ブチルシクロヘキシル)ベンゾエート第6[図:P
−()ランス−4−n−ペンチルシクロヘキシル)フェ
ニル P−()ランス−4−n−ブチルシクロヘキシル
)ベンゾエート第7図:P−()ランス−4−ルーへブ
チルシクロヘキシル〕フェニル P−()ランス−4−
n、−ブチルシクロヘキシル)ベンゾエート第8図:P
−()ランス−4−n−プロピルシクロヘキシル)フェ
ニル P−()ランス−4−n−ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゾエート第9図:P−()ランス−4−n−へ
ブチルシクロヘキシル)フェニル p−()ランス−4
−n−ヘンチルシクロヘキシル)ベンゾエートまた第1
0図は本発明の化合物を含有する液晶組成物を打面した
液晶セルの電圧V、Bコントラスト特性を示す図である
。 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務
Claims (1)
- 一般式カR−+−@−CI O0−o−@−R’ C式
中R、R’は炭素数1〜8個の直鎖アルキル基を示す〕
で表わされる液晶性化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16249081A JPS6059223B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 液晶性化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16249081A JPS6059223B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 液晶性化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5865251A true JPS5865251A (ja) | 1983-04-18 |
| JPS6059223B2 JPS6059223B2 (ja) | 1985-12-24 |
Family
ID=15755601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16249081A Expired JPS6059223B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 液晶性化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059223B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5959648A (ja) * | 1982-07-28 | 1984-04-05 | エフ・ホフマン―ラ ロシユ アーゲー | 液晶性化合物 |
| US4558151A (en) * | 1982-10-30 | 1985-12-10 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Nematic liquid crystalline compounds |
| CN100386406C (zh) * | 2005-09-14 | 2008-05-07 | 西安近代化学研究所 | 四环酯类液晶化合物 |
-
1981
- 1981-10-12 JP JP16249081A patent/JPS6059223B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5959648A (ja) * | 1982-07-28 | 1984-04-05 | エフ・ホフマン―ラ ロシユ アーゲー | 液晶性化合物 |
| US4558151A (en) * | 1982-10-30 | 1985-12-10 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Nematic liquid crystalline compounds |
| CN100386406C (zh) * | 2005-09-14 | 2008-05-07 | 西安近代化学研究所 | 四环酯类液晶化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6059223B2 (ja) | 1985-12-24 |
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