JPS5873019A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5873019A JPS5873019A JP56170377A JP17037781A JPS5873019A JP S5873019 A JPS5873019 A JP S5873019A JP 56170377 A JP56170377 A JP 56170377A JP 17037781 A JP17037781 A JP 17037781A JP S5873019 A JPS5873019 A JP S5873019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- present
- electron beam
- magnetic recording
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高分子形成物基板に、強磁性金属を蒸着して磁
気記録媒体を得る方法の改良に係わり長尺の媒体製造に
於て、角形比が良好で耐久性、耐蝕性の優れたものを確
実に得ることのできる方法を提供しようとするものであ
る。
気記録媒体を得る方法の改良に係わり長尺の媒体製造に
於て、角形比が良好で耐久性、耐蝕性の優れたものを確
実に得ることのできる方法を提供しようとするものであ
る。
短波長記録を実現するには、高抗磁力で、大きい飽和磁
束密度の磁性体を薄く、基板上に形成するのが、得策で
あることは良く知られており、古くから、いわゆる金属
薄膜形の磁気記録媒体の実用化への努力が続けられてお
り、最近では一部オーディオ用途で実用可能な媒体が発
表されビデオ用途への改良も急速に進められている。
束密度の磁性体を薄く、基板上に形成するのが、得策で
あることは良く知られており、古くから、いわゆる金属
薄膜形の磁気記録媒体の実用化への努力が続けられてお
り、最近では一部オーディオ用途で実用可能な媒体が発
表されビデオ用途への改良も急速に進められている。
ところでこの場合斜方蒸着が抗磁力の増加に有効である
が、蒸着効率の面で難点があり、そこで本発明者は、既
に、斜方蒸着の変形と酸素を利用することで、生産性の
向上が可能であることを示した（特開昭５３−４２０１
０号公報）。
が、蒸着効率の面で難点があり、そこで本発明者は、既
に、斜方蒸着の変形と酸素を利用することで、生産性の
向上が可能であることを示した（特開昭５３−４２０１
０号公報）。
本発明は各種環境下での耐久性、耐蝕性について詳細な
検討を加えた結果、角形比を改良することで、両者の特
性にも改良効果がみられることを見出したことによりな
されたものである。
検討を加えた結果、角形比を改良することで、両者の特
性にも改良効果がみられることを見出したことによりな
されたものである。
以下本発明の説明を行う。
゛本発明の要件は、基板が高分子であることと、その基
板が支持体に沿った状態で蒸着することと、蒸着原子の
入射角が９００〜７ｏ０といった高入射角成分で蒸着さ
れる領域を蒸着と同時に電子線を照射することである。
板が支持体に沿った状態で蒸着することと、蒸着原子の
入射角が９００〜７ｏ０といった高入射角成分で蒸着さ
れる領域を蒸着と同時に電子線を照射することである。
電子線照射することで、次の３つの作用が考えられ後述
する効果を生んでいると思われる。
する効果を生んでいると思われる。
（１）高入射角部の照射は蒸着の行われない位置での基
板の照射を同時に行える照射域を選ぶことにより、基板
が前処理されることになるため、付着強度が改良される
。
板の照射を同時に行える照射域を選ぶことにより、基板
が前処理されることになるため、付着強度が改良される
。
（ＩＩ）注入され°た電子による静電気力により回転支
持体への垂直圧力が増加し、回転支持体により基板の冷
却作用が充分行われるため、蒸着中基板からの放出ガス
量が抑制され、酸素の効果が安定に作用する。
持体への垂直圧力が増加し、回転支持体により基板の冷
却作用が充分行われるため、蒸着中基板からの放出ガス
量が抑制され、酸素の効果が安定に作用する。
（ｉｉｔ） 薄膜の初期成長に荷電粒子を作用させた
時の効果のひとつとして良く知られる結晶性の改善があ
る。
時の効果のひとつとして良く知られる結晶性の改善があ
る。
これは、角形比の改良につながるものである。
父、結晶性が良くなることで耐蝕性も改良される傾向を
有している。
有している。
これらの効果を最大限に発揮させるために、電子線のエ
ネルギーは１６ＫｅＶ以上であることが好ましく、基板
の厚みにも若干左右されるが、４μｍ〜３０μｍの範囲
の厚みであれば、２５ ＫｅＶ〜３０ＫｅＶであれば充
分である。
ネルギーは１６ＫｅＶ以上であることが好ましく、基板
の厚みにも若干左右されるが、４μｍ〜３０μｍの範囲
の厚みであれば、２５ ＫｅＶ〜３０ＫｅＶであれば充
分である。
又、電流密度も６０μＡ〜 以上であることが好ましい
。
。
８００以上であれば、本発明の効果は充分期待できるが
、それより低い入射角成分まで含んでも特に逆効果はみ
られないので、要は実施し易い範囲を選ぶのが良い。
、それより低い入射角成分まで含んでも特に逆効果はみ
られないので、要は実施し易い範囲を選ぶのが良い。
図は本発明の実施例において用いられる製造装置の一例
を示す。
を示す。
図に示すように、基板１は回転支持体２に沿って、送り
出し軸３より巻き取り軸４へ移動するように配設される
。蒸発源６より放射された蒸気流６の一部はマスク７で
限定された入射角以上で、斜方蒸着に供される。蒸着さ
れる部分は回転支持体２の周上に沿ってＤｏからり、ま
でであるＯＤｏは９ｏ０の入射角を示したものである０
蒸発源６の加熱は模式的に示した電子ビーム８により行
われる。
出し軸３より巻き取り軸４へ移動するように配設される
。蒸発源６より放射された蒸気流６の一部はマスク７で
限定された入射角以上で、斜方蒸着に供される。蒸着さ
れる部分は回転支持体２の周上に沿ってＤｏからり、ま
でであるＯＤｏは９ｏ０の入射角を示したものである０
蒸発源６の加熱は模式的に示した電子ビーム８により行
われる。
Ｄｏを中心にして、もう一つの電子ビーム９を照射する
よう、電子線照射装置を配設する０この電子ビーム９は
、電磁コイル１０の磁界により走査される。これにより
高入射角部と、蒸着直前の基板の電子線照射が行われる
。
よう、電子線照射装置を配設する０この電子ビーム９は
、電磁コイル１０の磁界により走査される。これにより
高入射角部と、蒸着直前の基板の電子線照射が行われる
。
次により具体的に本発明の詳細な説明する。
〈実施例１〉
ポリエチレンテレフタレート（フィルム基板厚さ９．６
μｍ）上に、Ｃｏを３．５ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ
の酸素分圧中で、入射角４００以上で０．１６μｍ の
厚さに蒸着した。
μｍ）上に、Ｃｏを３．５ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ
の酸素分圧中で、入射角４００以上で０．１６μｍ の
厚さに蒸着した。
基板の移動速度は４２ ｍ／ｍｉｎ で回転支持体（直
径１ ｍ ）は接地電位とし、内部に５℃の媒体を循環
させ、基板の冷却を行うようにした。電子線は３０Ｋｅ
Ｖで、Ｄｏを中心とし局長で前後に１０ｍ照射した。電
流密度はフィルム幅５０ｔＭにわたり均一に走査し、１
２０μＡ／ ｃｒＩとした。
径１ ｍ ）は接地電位とし、内部に５℃の媒体を循環
させ、基板の冷却を行うようにした。電子線は３０Ｋｅ
Ｖで、Ｄｏを中心とし局長で前後に１０ｍ照射した。電
流密度はフィルム幅５０ｔＭにわたり均一に走査し、１
２０μＡ／ ｃｒＩとした。
又比較として未照射の場合も実施した。
全長３５００ｍにわたり、蒸着してそれぞれ４のテープ
を作成し２０℃６０％ＲＨ９３０℃８６％ＲＨ，４０℃
１０％ＲＨの環境下で、５００パスのくり返し走行を行
ったところ、本発明により製造されたテープは、目づま
りもなく、耐久性。
を作成し２０℃６０％ＲＨ９３０℃８６％ＲＨ，４０℃
１０％ＲＨの環境下で、５００パスのくり返し走行を行
ったところ、本発明により製造されたテープは、目づま
りもなく、耐久性。
耐蝕性の良さを示したが、従来法により製造されたもの
では目づまり、ドロップアウトの増加がみられた。
では目づまり、ドロップアウトの増加がみられた。
又、角形比も、本発明によるものが０．９１ に対し、
従来法のものでは０．７７で、記録波長０．６μｍ で
出力に１．ｓ ｄＢの開きがあった点をあわせて、本発
明により製造された記録媒体の優秀性が伺い知れる。
従来法のものでは０．７７で、記録波長０．６μｍ で
出力に１．ｓ ｄＢの開きがあった点をあわせて、本発
明により製造された記録媒体の優秀性が伺い知れる。
〈実施例２〉
ポリエチレンテレフタレートフィルム基板（厚さ１３．
５．ａｍ）上に、Ｃｏ８０％Ｎｉ２Ｏ％からなる合金を
２ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ の酸素分圧中で入射角４
４°以上で０．１３μｍの厚さに蒸着した０基板の移動
速度は５５ ｍ／ｍｉｎ で、回転支持体（直径１．２
ｒｎ）は接地電位とし、内部に０℃の媒体を循環させ、
基板を冷却した。
５．ａｍ）上に、Ｃｏ８０％Ｎｉ２Ｏ％からなる合金を
２ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ の酸素分圧中で入射角４
４°以上で０．１３μｍの厚さに蒸着した０基板の移動
速度は５５ ｍ／ｍｉｎ で、回転支持体（直径１．２
ｒｎ）は接地電位とし、内部に０℃の媒体を循環させ、
基板を冷却した。
電子線は、２５ＫｅＶでＤｏを中心とし、同長で前後に
１６ｃｒｎ照射した。電流密度は１００μＡ／ｃａ〜２
００ ｐＡ／ｃｔ／Ｉとした０ 又比較として未照射の場合も実施した。
１６ｃｒｎ照射した。電流密度は１００μＡ／ｃａ〜２
００ ｐＡ／ｃｔ／Ｉとした０ 又比較として未照射の場合も実施した。
全長５，０００ ｍにわたり蒸着してそれぞれイのテー
プを作成し、２６℃６０％ＲＨ，３０℃９０％ＲＨ，４
０’Ｃ１０％ＲＨの各環境下で５００バスのくり返し走
行を行った。
プを作成し、２６℃６０％ＲＨ，３０℃９０％ＲＨ，４
０’Ｃ１０％ＲＨの各環境下で５００バスのくり返し走
行を行った。
この場合にも本発明により製造されたものは、目づまり
、ドロップアウトは変化せｖｌかつ低いレベルであった
のに対し、従来法によるものでは、目づまり、ドロップ
アウトが初期値の１２倍にまで増加し、−力出力も０．
５６μｍで本発明によるものは１．８ ｄＢ従来法によ
るものを上まわ−〕た。
、ドロップアウトは変化せｖｌかつ低いレベルであった
のに対し、従来法によるものでは、目づまり、ドロップ
アウトが初期値の１２倍にまで増加し、−力出力も０．
５６μｍで本発明によるものは１．８ ｄＢ従来法によ
るものを上まわ−〕た。
〈実施例３〉
ポリイミドフィルム基板（厚さ２５μｍ）トにＣｏ８６
％Ｃｒ１４％の合金を酸素は導入せず、１Ｘ １０−５
Ｔｏｒｒの真空中で入射角４５°以上で・０．２μｍの
厚さに蒸着した。基板の移動速度は３３ｍ ／ｍ ｉ
ｎで、回転支持体（直径１ ｍ ）は接地電位とし内部
に２０℃の媒体を循環させ基板を冷却した０ 電子線は４０ＫｅＶでり。を中心とし、局長で前後に１
９ｃｍ照射した。電流密度は４２０７１Ａ／ＣＪとし、
未照射の場合と比較した。全長２０００ｍＶこした〇 ２５℃６ｏ％ＲＨ，３０℃９０％ＲＨ，４０℃１０％Ｒ
Ｈの各環境下での６００パス試験において、本発明によ
るものは目づまり、ドロップアウトが低いレベルで安定
であったが、従来法によるものでは、目づまり、ドロッ
プアウトが初期値の１Ｑ倍に増加し、平均出力も３．６
ｄＢ減少した。
％Ｃｒ１４％の合金を酸素は導入せず、１Ｘ １０−５
Ｔｏｒｒの真空中で入射角４５°以上で・０．２μｍの
厚さに蒸着した。基板の移動速度は３３ｍ ／ｍ ｉ
ｎで、回転支持体（直径１ ｍ ）は接地電位とし内部
に２０℃の媒体を循環させ基板を冷却した０ 電子線は４０ＫｅＶでり。を中心とし、局長で前後に１
９ｃｍ照射した。電流密度は４２０７１Ａ／ＣＪとし、
未照射の場合と比較した。全長２０００ｍＶこした〇 ２５℃６ｏ％ＲＨ，３０℃９０％ＲＨ，４０℃１０％Ｒ
Ｈの各環境下での６００パス試験において、本発明によ
るものは目づまり、ドロップアウトが低いレベルで安定
であったが、従来法によるものでは、目づまり、ドロッ
プアウトが初期値の１Ｑ倍に増加し、平均出力も３．６
ｄＢ減少した。
他に、ポリアセテート、ポリアミドフィルム基板を用い
、あらかじめ、Ａｔ、 Ｔ ｔ、 Ｓ ｔ、 Ｃｒ、
Ｃｕ等を０．０５μ〜０．１６μｍ の厚さに蒸着しそ
の上にＣｏ、Ｃｏ−Ｃｒ 合金、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
を蒸着し、本発明の効果をたしかめた。いずれの場合も
、基板に直接磁性層を形成した場合上回じ効果が確認さ
れた。
、あらかじめ、Ａｔ、 Ｔ ｔ、 Ｓ ｔ、 Ｃｒ、
Ｃｕ等を０．０５μ〜０．１６μｍ の厚さに蒸着しそ
の上にＣｏ、Ｃｏ−Ｃｒ 合金、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
を蒸着し、本発明の効果をたしかめた。いずれの場合も
、基板に直接磁性層を形成した場合上回じ効果が確認さ
れた。
以上のように本発明によると、短波長記録の信頼性を大
きく向上せしめることができその工業的有価値性は大で
ある。
きく向上せしめることができその工業的有価値性は大で
ある。
図は本発明の実施例において用いられる製造装置の一例
を示す図である。 １・・・・・基板、２・・・・・・回転支持体、５・・
・・・・蒸発源、６・・・・・・蒸気流、７・・・・・
・マスク、８゜９・・・・・・電子ビーム。
を示す図である。 １・・・・・基板、２・・・・・・回転支持体、５・・
・・・・蒸発源、６・・・・・・蒸気流、７・・・・・
・マスク、８゜９・・・・・・電子ビーム。
Claims (1)
- 支持体に沿って移動する高分子成形物基板上に強磁性金
属層を蒸着にて形成する際、前記基板の高入射角で蒸着
の行われる部分を電子線照射することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56170377A JPS5873019A (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56170377A JPS5873019A (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5873019A true JPS5873019A (ja) | 1983-05-02 |
| JPH0226294B2 JPH0226294B2 (ja) | 1990-06-08 |
Family
ID=15903802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56170377A Granted JPS5873019A (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5873019A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59201226A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-14 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1981
- 1981-10-23 JP JP56170377A patent/JPS5873019A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59201226A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-14 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0226294B2 (ja) | 1990-06-08 |
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