JPS5874698A - 新規６α―メチルプレドニゾロン誘導体及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式！ 〔式中、Ｒ１は炭素原子数２〜６の１−オキソアルキル
基又はベンゾイル基を表わし、Ｒ２は炭素原子数２〜６
の１−オキソアルキル基を表わす〕の６α−メチルプレ
ドニゾロン誘導体、その製法及び該化合物を富有する皮
膚疾患及びアレルイー性疾患治療用医薬調剤に関する。

一般式！の新規６α−メチルプレドニゾロン誘導体は炭
素原子数２〜６の１−オキソアルキル基Ｒ０及び８□と
して、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ゾチリル
基、イソゾチリル基、バレリル基、３−メチルクチリル
基、トリメチルアセチル基又はヘキサノイル基な有して
いてよい。

特許請求の範囲第１項に記載された６α−メチルプレド
ニゾロン誘導体は意外にも局所適用の際、公知の６α−
メチルプレドニゾロンの誘導体よりしばしば著しく強い
作用を有し、更、にこの作用はしばしばジフルオル化１
貴コルチコイド（Ｅｄｅｌｋｏｒｔｉｋｏｉｄｅ）　”
　、例えば６α、９α−ジフルオルー１１β−ヒト四キ
シ−１６α−メチル−２１−バレリルオキシ−１，４−
プレグナジェン−３，２０−ジオン（ｚ　Ｎｅｒｉｓｏ
ｎａ）より更に著しく強いということが判明した。

全身投与においては、これらの６α−メチルプレドニゾ
ロンの誘導体は意外にも相応する公知の６α−メチルプ
レドニゾロンよりしばしば作用が弱い。

従って、特許請求の範囲第１ＪＪＫよる一般式ｌの新規
６α−メチルプレドニゾロン誘導体ハガーレン式製剤に
おい【常用の担体と組み合わせて接触性皮膚炎、ｍｋの
湿疹、皮膚神経症、紅皮症、火傷、外陰及び肛門朦痒症
、ｍ、Ｑ鼻、皮膚紅斑性狼瘉、乾廖、扁平及び比状紅色
苔癖及び類似の皮膚疾患の局所治療に好適である。

＠薬調剤の製造は常法で、すなわち作用物質を好適な添
加物と共に所望の適用剤形、例えば；溶液、四−ション
、軟膏、クリーム又は硬膏とすることＫより行なわれる
。そのように成形された薬剤において、作用物質濃度は
適用剤形により決まる。ローション及び軟膏においては
作用物質濃度ｏ、ｏｏｔ％〜１％を有利に使用する。

史ｋ、新規化合物は場合により常用の担体及び助剤と組
み合わせて吸入剤を製造するためにも好適であり、この
吸入剤は気管のアレルイー性疾患、例えば気管支喘息又
は鼻炎の治療に使用することができる。

更に新規コルチコイドを有利に作用物質１０〜２００ダ
を含有するカプセル、錠剤又は糖衣丸の形で経口適用す
ることも好適であるし、有利に投与単位あたり作用物質
１００〜５００１Ｉｖを富有する懸濁液の形で直腸投与
することも好適である。腸管のアレルギー性疾患、例え
ば潰瘍性結腸炎及び肉芽腫性結腸炎の治療のためｋも好
適である。

新規６α−メチルプレドニゾロン誘導体は自体公知法で ａ＋）　　一般式■ 〔式中、Ｒ１は前記のものを表わす〕の６α−メチルプ
レドニゾロン−１７−アジレート上２１位で炭素原子数
２〜６のアル、力ｌカルメン酸又は該酸の反応性誘導体
を用いてエステル化するか、又は ｂ）一般式■ ： Ｈ３ 〔式中、Ｒ２は前記のものを表わす〕の６α−メチルプ
レドニゾロン−２１−アシレートヲｔｔ位でトリアルキ
ルシリル化合物でエーテル化するか、又は強酸性モノカ
ルゼン酸の誘導体でエステル化し、引き続き４−ジメチ
ルアミノピリジンの存在下に１７位をカルーン酸りロリ
Ｐ又はカルゼン酸無水物でアシル化し、１１位の保護基
を脱＃ｌＫするととＫより製造され、これらは西ドイツ
国特許出願第２６４５１０４号、第２６４５１０５号及
び第２３４０５９１号及び第１９５８５４９．号明細書
、並びに米国特許第３３８３３９４号明細書中に記載さ
れている条件下に実施される。

次に実施例につき本発明による方法を詳細に説明する。

例　　１ ピリジン１０ｄ中の１７−アセトキシ−１１β。

２１−ジヒドロキシ−６α−メチル−１，４−プレグナ
ジェン−３，２０−ジオン１．Ｏｌの溶液を無水酢酸５
ｍと１時間Ｏ℃で攪拌する。引き続き、氷水−塩化ナト
リウム溶液上に注ぎ、沈殿を濾別し、アセトン／ヘキサ
ンから結晶化させるととにより精製する。融点２１６℃
の１７．２１−ジアセトキシ−１１β−ヒドロキシ−６
α−メチル−１，４−プレグナジェン−３，２０−ジオ
ン８１０ダが単一される。

例　　２ ａ）ｔｔβ、１７．２１−）ジヒドロキシ−６α−メチ
ル−１，４−プレグナジェン−３゜２０−ジオンｔｏ、
ｏｙとピリジニウムトシレートｔ、ｏｌ’にジメチルホ
ル五ア電ド８０−とベンゾ−＃７００−中＃Ｉｃ１Ｉか
す。１４０℃の浴温で水分離器を介してペンゾール８０
０１１ｊを留去し、この溶液を８０℃に短時間冷却し、
オルトゾロピオン酸トリエチルエステル２４５１Ｆ７を
加える・２０分かけ℃、易揮発性溶剤成分と共に残りの
ペンゾールを留去する。ピリジン１２−を添加した後、
真空中で濃縮し、油状物質として１７゜Ｚｌ−（ｔ−エ
トキシ−プロピリデンジオキシ）−１１β−ヒドロキシ
−６α−メチル−１，４−プレグナジェン−３，２０−
ジオンが得られる。

ｂ）メタノール３００−中の前記粗生成物の懸濁液を０
．１モル酢酸ナトリウム水溶液１２１１７及び０．ＩＮ
酢酸水溶液１０８１からなる混合物と１００℃で２，５
時間還流させる。混濁まで濃縮し、水圧注ぎ、多くの酢
酸エステルで抽出する。有機相を水で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥させ、真空中で蒸発乾個する。この粗生
成物をシリカゲル５ｏｏＩＩ上で、塩化メチレン−アセ
トン−傾斜溶液（０〜１２％アセトン）で精製する。収
量：ｌｌβ、２１−’）ヒドロキシ−６α−メチル−１
７−プロピオニルオキシ−１，４−プレグナジェン−３
，２０−ジオン８．９１、融点：２１４℃。

Ｃ）例１と同様にし【、ピリジンｔｏｙ中の１１β、２
１−ジヒドロキシ−６α−メチル−１７−ブロピオニル
オキシー１．４−プレグナジェン−３，２０−ジオン１
．Ｏｊを無水酢酸５ｄと共に１時間室温で攪拌し、引き
続き処理する。２１−アセトキシ−１１β−ヒドロキシ
−６α−メチル−１７−ゾロ゛ピオニルオキシ−１゜４
−プレグナジェン−３，２０−ジオン７９０ダが単離さ
れる。融点：１３８℃。

例　　３ 例１と同様にして、ｅリジン１０１中の１１β。

２１−ジヒドロキシ−６α−メチル−１フープロピオニ
ルオキシ−１，４−プレグナジェン−３，２０−ジオン
１．０ｊｌを無水プロピオン酸５―で処理し、後処理す
る。粗生成物をシリカゲル４０ＩＩ上で塩化メチレン／
アセトン−傾斜溶１［（０−１２％アセトン）を用いて
精製する。

１１β−ヒドロキシ−６α−メチル−１７，２１−ジゾ
ロビオニルオキシー１．４−！レダナジエン−３，２０
−ジオン７６０！が単重する。

融点１２６℃。

例　　４ ａ）　　６α−メチルプレドニゾロンｔ　ｏ、　ＯＮを
例２ｍと同様にしてオルト安息香酸トリエチルエステル
２４−と反応させ、ｔ７，２ｔ−（ｔ−エトキシ−ベン
ジリデンジオキシ）−ｔｔβ−ヒドロキシ−６α−メチ
ル−１，４−ｆレグナシエン−３，２０−ジオンとする
。

ｂ）粗１７．２ｌ−（１−エトキシ−樒／ジリデ／ジオ
キシ）＝−１１β−ヒドロキシ−６α−メチル−１，４
−プレグナジェン−３，２〇−ジオンを例２ｂの条件下
に加水分解し、処理し、精製する。収量：１７−ベンゾ
イルオキシ＝ｔｔβ、２１−ジヒドロキシ−６α−メチ
ル−１，４−プレグナジエ／−３，２０−ジオン７、５
１　ｅ融点２３０℃。

ｃ）１７−ペンゾイルオキシー１１β、２１−ジヒドロ
キシ−６α−メチル−１，４−７”レグナシエン−３，
２０−ジオン１．９Ｉを例２Ｃと同様にして無水酢酸と
反応させ、処理する。

粗生成物をシリカゲル２００ｊ上塩化メチレン／アセト
ン−傾斜溶液（０〜１２％アセトン）を用いて精製する
。２１−アセトキシ−１７−ペンゾイルオキシー１１β
−ヒドロキシ−６α−メチル−１，４−プレグナジェン
−３，２０−ジオｙ　１．８１が単離する。融点２５８
℃。

例　　５ 例２ｃの条件下に１７−ペンゾイルオキシー１１β、２
１−ジヒＰロキシー６α−メチル−１，４−プレグナジ
ェン−３，２０−ジオン１．９Ｉと無水プロピオン酸と
を反応させ、処理し、精製する。１７−ペンゾイルオキ
シー１１β−ヒドロキシ−６α−メチル−，２１−プロ
ピオニルオキシ−１，４−ルグナジエンー３．２〇−ジ
オン１９ｊが得られる。融点２４１℃。

例　　６ １７−！チリルオキシー１１β、２１−ジヒドロキシ−
６α−メチル−１，４−プレグナジェン−３，２０−ジ
オンｏｕｔ；ｔを例２Ｃと同様にして無水酢酸と反応さ
せ、後処理する。粗生成物をシリカゲル４０ＩＩ上で塩
化メチレン／アセトン−傾斜溶液（０〜１２％アセトン
）を用いて精製する。収量：２１−アセトキシ−１７−
！チリルオキシー１１β−ヒドロキシ−６α−メチル−
１，４−プレグナジェン−３，２０−ジオン６８０岬。

融点１５８℃。

例　　７ 例３の条件下に１７−ゾチリルオキシー１１β。

２１−ジヒドロキシ−６α−メチル−１，４−プレグナ
ジェン−３，２０−ジオン０．８ＩＩをゾロピオン酸無
水物と反応させ、処理し、精製する。収量：１７−プチ
リルオキシーｉｔβ−ヒドロキシ−６α−メチル−２１
−プロピオニルオキシ−１，４−プレグナジェン−３，
２０−ジオン７７５ｍ９゜融点：１２６℃。

例　　８ ａ）無水テトラヒＰロフラン７Ｂ０−中の沃化鋼（１）
　３６５　＄１の懸濁液に０℃でアルジン２００ｄ雰囲
気下にエーテル中の５％メチルリチウム溶液を滴加する
。黄色溶液を一３０℃に冷却し、無水テトラヒドロフラ
ン７３０１１７中の１１β。

１７−シヒドロキシー２１−イン／９レリルオキシ−６
α−メチ／ｌ／−１，４−ｆしｌｌ−）エン−３，２０
−ジオンｚｅ、ｏｌの溶液を加える。更に、−２５”Ｃ
で１０分間攪拌し、塩化アンモニウム水溶液に注ぐ、塩
化メチレンで抽出した後、有機溶液を洗浄し、硫酸す）
　ＩＪウム上で乾燥させ、真空中で濃縮する。粗生成愉
をシリカゲル７５０１上塩化メチレン／アセトン−傾斜
溶液（０〜２０％アセトン）で精製する。収量＝ｔｔβ
１２１−ジヒド四キシ−１７−インパレリルオキシー６
α−メチル−１，４−プレグナジェン−３，２０−ジオ
ン１Ｂ、２ｊｉ、融点１６４℃。

ｂ）例２ｃと同様にしてピリジンｔｓｙ中の１１β、２
１−ジヒドロキシ−１７−イソ／々レリルオキシ−６α
−メチ４−１　、４−プレグナジェン−３，２０−ジオ
ン１．５　＄１を無水酢酸７，５−と反応させ、処理し
、精製する。２１−アセトキシ−１１β−ヒドロキシ−
１７−イソ／々レリルオキシ−６α−メチル−１，４−
プレグナジェン−３，２０−ジオン９８０ダカ単雛すＦ
Ｌる。融点１７２℃。

例　　９ １）例８の条件下に１１β、１７−シヒドロキシー６α
−メチル−２１−トリメチルアセト命シー１．４−プレ
グナジェン−３，２０−ジオン３・６ＩＩを転位し、１
１β、２１−ジヒドロキシ−６α＝メチル−１７−）ジ
メチルアセトキシ−１，４−プレグナジエン−３，２０
−ジオン７８０Ｗ９とし、処理し、精製する。

ｂ）例２Ｃ＆Ｃ記載したと同様にして、１１β。

２１−ジヒド四キシー６α−メチル−１７−ドリメチル
アセトキシー１．４−プレグナジェン−３，、２０−ジ
オン７ＱＱｓｙを酢酸無水物と反応させ、後処理する。

収量＝２１−アセトキシー１１β−ヒドロキシ−６α−
メチル−１７−ドリメチルアセトキシー１．４−プレグ
ナジェン−３，２０−ジオン°６１０ダ。融点２０１℃
。

例　　１０ ａ）例８と同様にして１１β、１７−シヒドロキシー６
α−メチル−２１−／々レリルオキシー１．４−プレグ
ナジエンー−３，２０−ジオン２、Ｏｊｌをジメチル鋼
酸リチウＡ　（Ｌｉｒｈｉｕｍｄｌｍｅ−ｔｈｙｌｃｕ
ｐｒａｔ）で転位させ、１１β、２１−ジヒドロキシ−
６α−メチル−１７−バレリルオキシ−１，４−プレグ
ナジェン−３，２０−ジオン１８ｊとし、処理し、精製
する。

ｂ）ｔｔβ、２．１−ジヒＰロキシー６α−メチル−１
７−パレリルオキシー１．４−７’レダナジエン−３，
２０−ジオン１．！ｉｆを例２Ｃと同様にして無水酢酸
でアセチル化し、２１−アセトキシ−１１β−ヒドロキ
シ−６α−メチル−１７−ノ饗レリルオキシ−１，４−
プレグナジェン−３，２０−ジオン１．２９とする。

例　　１１ ａ）例８と同様にして、１１β、１７−シヒドロキシー
２１−イソブチリルオキシ−６α−メチル−１，４−プ
レダナジエ７−８．２０−ジオン２（ｌｌを転位させ、
１１β、２１−ジヒドロキシ−１７−イン！チリルオキ
シ−６α−メチル−１，４−ゾレグナジ善ンー３．２０
−ジエン１．　Ｂ　ｊＦとする。

ｂ）ｔｔβ、２１−ジヒドロキシ−１７−イックチリル
オキシ−６α−メチル−１，４−プレグナジェン−３，
２０−ジオン１．ＯＩを例２Ｃと同様にして無水酢酸と
反応させ、２１−アセトキシ−１１β−ヒドロキシ−１
７−イン！チリルオキシ−６α−メチル−１，４−プレ
グナジェン−３，２０−ジオン０．７９とし、これを処
理し、精製する。

例　　１２ 例２Ｃの条件下Ｖｃ１１β、２１−ジヒドロキシ−６α
−メチル−１７−ブロピオニルオキシー１．４−プレグ
ナジェン−３，２０−ジオン１、　ＯＮをイソ酪酸無水
物と反応させ、処理し、精製する。収量：１１β−ヒド
ロキク−２１−インクチリル−６α−メチル−１７−ブ
ロピオニルオキシー１．４−！レグナシエアー３．２０
−ジオン８５０ダ。

例　　１３ 例２ｃＫ記載され【いるよ５に、１１β、２１−ジヒｒ
ロキシー６α−メチル−１７−グセビオニルオキシ−１
，４−！レグナシエン−３゜２０−ジオンｔ、ｏｙをピ
リジン中で吉草酸無水物５５１７と反応させる。常用の
処理及びシリカゲル５０１上での塩化メチレン／アセト
ン−傾斜溶液（０〜１５％アセトン）を用いての精製の
後、１１β−ヒｒロキシー６ｇ−メチルー１７−ブロビ
オニルオキシー２１−ノ々レリルオキシー１．４−プレ
グナジェン−３，２０−ジオン９６０ダが得られる。

例　　１４ １７−ｆチリルオキシ−１１β、２１−ジヒドロキシ−
６α−メチル−１，４−プレグナジェン−３，２０−ジ
オン１．Ｑｊを例２ｃの条件下に酪酸無水物と反応させ
、同様に処理する。

粗生成物をアセトン／ヘキサンから再結晶させる。１７
．２１−ジブチリルオキシ−１１β−ヒドロキシ−６α
−メチル−１，４−プレグナジェン−３，２０−ジオン
８２０ｗｇが単層される。

例　　１５ ピリジン２５ｍ中の２１−アセトキシ−１１β。

１７−シヒドロキシー６α−メチル−１，４−プレグナ
ジェン−３，２０−ジオンｓ、ｏｙの溶液１ｔＣ−ｔｓ
℃でトリフルオル酢酸無水物３ゴを滴加し、−１０℃で
１０分間攪拌する。氷水−塩化ナトリウム溶液上に注ぎ
、沈殿を濾別する。

残分な塩化メチレン中にとりこみ、中性まで洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥させた後、真空中で濃縮させる。

収量：２１−アセトキシ−１７−ヒｒ四キシ−６α−メ
チル−ｉｔβ−トリフルオルアセトキシ−１，４−プレ
グナジェン−３，２０−ジオン５．４Ｎ。

ｂ）　　ａ）により得られた粗生成物４．Ｏｊｌをジエ
チレングリコールジメチルエーテル５０ｍ１ｊ及びプロ
ピオン酸無水物６．ｏ１中で４−ジメチルアミノピリジ
ン６．５ｇと室温で１８時間攪拌する。

常法で処理した彼、２１−７セトキシー６α−メチル−
１７−プロビオニルオキシ−１１β−トリフルオルアセ
トキシー１．４−プレグナジェン−３，２０−ジオン４
５ｊが得られる。

Ｃ）２１−アセトキシ−６α−メチル−１７−ブロビオ
ニルオキシーｔｔβ−トリフルオルアセトキシ−１，４
−プレグナジェン−３，２０−ジオンＳ、　！！　＃を
メタノール１ｌＱｓｄ及びトリエチルアミン４．２−中
で４時間室温で攪拌する。

粗生成物をシリカゲル６００ｊ上塩化メチレン／アセト
ン−傾斜溶液（Ｏ−１ｇ％アセトン）で精製し、２１−
アセトキシ−１１β−ヒｒロキシー６α−メチルー１７
−ブロビオニルオキシー１．４−プレグナジェン−３，
２０−ジオン２．３１が単一される。

例　　１６ ７−１４日１のクルクラリア・ルナタ（Ｃｕｒｖｕｌａ
ｒｊａ　１ｕｎａｔａ　）　ＮＲＲＬ　２３８０を有す
る麦芽汁−傾斜試験管を生理食塩溶液３１Ｉｊで洗い流
し、これでオートクレーゾ中１２０℃で３０分間滅滅菌
たグルコース２％及びコーンスチープ（Ｃｏｒｎｓｔｅ
ｅｐ　）　２％からなり、ｐＨ６，！５に調整した栄養
培地の入った２ｊの３角フラスコを接種する。３０℃で
回転振盪器（１６５ｒ、ｐｌｍ　）上で６０時間振盪さ
せた後、この培養体２５０ｄを予発酵装置の接種に使用
する。

１２１’Ｃ１１，１アテエで滅菌した培養培地と同じ組
成の栄養培地を装入した２０４−子発酵装置を前記培養
体２５０１Ｉｊで接種する。消泡剤としてシリコーン（
５ｉｌｉｃｏｎ　）　Ｓ　Ｈを添加して通気（ｘｓ＃／
分）及び攪拌（２２０ｒ、ｐ、ｍ　）下［２９℃及び圧
力０．７アテユで２４時間発芽させる。この予発酵装置
−培養体の１．５１を主発酵の接種のために使用する。

コ−ｙ　スｆ　−１液３％及びグルコース０．７％から
なり、ｐＨ５，５に調整した滅菌栄養培地１３．６’ｊ
を満たした２０１−主発酵装置を予発酵装置−培養体１
，５）で接種する。予発酵装置条件下で１２時間の増殖
期の後、ジメチルホルムアミドｔＳＯｄ中の１７．２ｌ
−（１−メトキシ−エチリデンジオキシ）−６α−メチ
ルー４−ゾレダネンー３．２０−ジオン１２１８＄１の
滅菌溶液を加え、更に攪拌し、通気する。基質添加後、
４時間の開場養液のｐＨ値をｐＨ４，５とし、１６％Ｎ
ａＯＨ／　２０％Ｈ２Ｓｏ４により自動調節、装置で加
水分解の終了まで（接触時間：５１時間）ｐａｔｓ±０
．２　　Ｋ保持する。

加水分解が完了した後、培養体の半分の容量（ｓｓＪ）
を第２の滅菌した発酵装置に導入し、それぞれ同じ容量
（６，５１）の両方の培養体にその間に培養した、２４
時間増殖させたアルトロ／々クター・シンプレックス（
ＡｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒｓＢｌｍｐｌｅｘ　）培養体
ＡＴＣＣ６ｍ４＠を加える。引き続きｐＨ値を５．５と
し、第１の発酵工程におけると同様に自動調節装置によ
り変換の終わるまでこの値に保持する。アルトロ／セク
ター培養体と接触させて２２時間の後脱水素は完了する
。

処理のために発酵装置内容物を濾過し、培養体濾液及び
濾別した菌糸体を別々にメチルインクチルケトンで抽出
する。この抽出物を合併し、先ず回転蒸発装置中真空で
、約４０＠ＧＫ加温して１１に濃縮し、引き続きこれを
２ｊ−丸底フラスコ中で回転蒸発装置により真空で４０
℃の浴温で蒸発乾個する。残留油状残分をヘキサン４０
０ｄと混合し、短時間振盪させ、シリコーン油及びリポ
イドを含有している洗浄ヘキサンを傾瀉する。引き続き
、残分にも５１度へΦサン４００ｄを加え、実験室用マ
グネチツクスターツー上で２時間攪拌する。完全に結晶
化させた残分な吸引濾過し、ヘキサン１００ＩＩＪで洗
浄し、６０℃で４時間真空乾燥箱中で乾燥させる。

理論値の７８％の収率で融点ｔＳＳ〜２０１℃の結晶、
１７−アセトキシ−１１β、２１−ジヒドロキシ−６α
−メチル−１，４−ｆレグナジエｙ−３，２０−ジオ／
が得られる。

第１頁の続き ０発　　明　者　ルドルフ・ヴイーヒエルトドイッ連邦
共和国ベルリン３９ペ ツオヴアー・シュトラーセ８ア ｏ発　明　者　へルムート・ホーツマイスタードイツ連
邦共和国ベルリン２８ヴ アイスリンゲンシュトラーセ４ ０発　明　者　ハンス・ヴエント ドイツ連邦共和国ベルリン３８エ ルンストーリングーシュトラー セ１４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式！ 〔式中、Ｒ１は炭素原子数２〜６の１−オキシアルキル
   基又はベンゾイル基を表わし、Ｒ２は炭素原子数２〜６
   の１−オキシアルキル基な表わす〕の６α−メチルプレ
   ドニゾロン誘導体・ ２．１１β−ヒドロキシ−６α−メチル−１７−ブロピ
   オニルオキシー２１−Ａシリルオキシ−１，４−ゾレグ
   ナジエ７−３．２０−ジオンである特許請求の範囲第１
   項記載の化合物・ ３、２１−アセトキシ−１１β−ヒドロ午シー１７−イ
   ンゾチリルオキシー６α−メチル−１，４−プレグナジ
   ェン−３，２０−ジオンである特許請求の範囲第１項記
   載の化合物。 ４、２１−アセトキシ−１１β−ヒト藁キシー６α−メ
   チルー１７−ドリメチルアセトキシー１．４−プレグナ
   ジェン−３，２０−ジオンである特許請求の範囲第１項
   記載の化合物。 ｓ、　１ｔ−ぺｙジイルオキシ−１１β−ヒドロＡ’　
   シー、ｓα−メチル−２１−プロピオニルオキシ−１，
   ４−プレグナジェン−３，２０−ジオンである特許請求
   の範囲第１項記載の化合物。 ６、１１β−ヒドロキシ−６α−メチル−１７゜２１−
   シプロピオニルオ中シー１．４−ｆレグナシエン−３，
   ２０−ジオンである特許錆求の範囲第１項記載の化合物
   。 ７．２１−アセトキシ−ｔｔβ−ヒドロキシ−６α−メ
   チル−１７−プロピオニルオキシ−１，４−プレグナジ
   ェン−３，２０−ジオンである特許請求の範囲第１項記
   載の化合物。 ８、２１−アセトキシ−１７−プチリルオキシー１１β
   −ヒドロキシ−６α−メチル−１゜４−プレグナジェン
   −３，２０−ジオンである特許請求の範囲第１項記載の
   化合物。 ９、１７−！チリルオキシー１１β−ヒドロキシ−６α
   −メチル−２１−プロピオニルオキシ−１，４−プレグ
   ナジェン−３，２０−ジオンである特許請求の範囲＄１
   １１１．ｌｊ記載の化合物。 １０．１７．２１−ジブチリルオキシ−１１β−ヒドロ
   キシ−６α−メチル−１，４−プレグナジェン−３，２
   ０−ジオンである特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １１．１１β−ヒドロキシ−２１−イソゾチリルオ＊’
   ／−６α−メチル−１７−プロピオニル−ジオンである
   特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １２．２１−アセトキシ−１１β−ヒドロキシ−６α−
   メチル−１７−イツノ々レリルオキシー１．４−プレグ
   ナジェン−３，２ｏ−ジオンである特許請求の範囲第１
   項記載の化合物。 １３．２１−アセトキシ−１１β−ヒドロキシ−１７−
   ノ々レリルオキシ−６α−メチル−１゜４−プレグナジ
   ェン−３，２０−ジオンである特許請求の範囲第１項記
   載の化合物。 １４２１−アセトキシ−１７−ペンゾイルオキシー１１
   β−ヒドロキシ−６α−メチル−１゜４−プレグナジエ
   ７−３．２０−ジオンである特許請求の範囲第１項記載
   の化合物。 １５．１７．−２１−ジアセトキシ−１１β−ヒドロキ
   シ−６α−メチル−１，４−プレグナジェン−３，２０
   −ジオンである特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １６、　一般式■ オキシ−１，４−プレグナジェン−３，２０るＲ３ 〔式中、Ｒ１は炭素原子数２〜６の１−オキソアルキル
   基又はベンゾイル基を表わし、Ｒ２は炭素原子数２〜６
   の１−オキソアルキル基を表わす〕の６α−メチルプレ
   ドニゾロン誘導体を製造するために、自体公知法で一般
   式■Ｈ３ 〔式中、Ｒ１は前記のものを表わす〕の６α−メチルプ
   レドニゾロン−１７−アジレート上２１位で炭素原子数
   ２〜６のアルカンカルＩン酸又は該酸の反応性−導体を
   用いてエステル化することを特徴とする６α−メチルプ
   レドニゾロン誘導体の製法。 １７、一般式！ 〔式中、Ｒ１は炭素原子数２〜６の１−オキソアルキル
   基又はベンゾイル基を表わし、Ｒ２は炭巣原子数２〜６
   の１−オキソアルキル基を表わす〕の６α−メチルプレ
   ドニゾロン誘導体を製造するために、自体公知法で一般
   式■シＨ１，ユ、 〔Ｒ２は前記のものを表わす〕の６α−メチルプレドニ
   ゾロン−２１−７シレ一トヲｌ１位でトリアルキルシリ
   ル化合物でエーテル化するか、又は強酸性そノカルーン
   酸の誘導体でエステル化し、引き続き４−ジメチルア建
   ノビリジンの存在下Ｋ１７位をカルダン酸りｏ　１７　
   ）ｅ又はカルーン酸無水物でアシル化し、１１位の保験
   基を脱雁することを特徴とする６α−メチルプレドニゾ
   ロン誘導体の調法。 １８、一般式ｌ 〔式中、Ｒ１は縦素原子数２ｉ′〜６の１−オキソアル
   キル基又は碩ンゾイル基を表わし、Ｒ２は炭素原子数２
   〜６の１−オキソアルキル基な表わす〕の６α−メチル
   ゾレｒニゾロン８４体１種又は２檜を含有することを特
   徴とする皮膚医患及びアレルイー性疾患治療用医薬調剤
   。