JPS5881971A - 着膜装置 - Google Patents

着膜装置

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Publication number
JPS5881971A
JPS5881971A JP56180828A JP18082881A JPS5881971A JP S5881971 A JPS5881971 A JP S5881971A JP 56180828 A JP56180828 A JP 56180828A JP 18082881 A JP18082881 A JP 18082881A JP S5881971 A JPS5881971 A JP S5881971A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
drum
film
deposited
blades
stirring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56180828A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuo Shoji
庄司 泰夫
Toru Gotanda
五反田 徹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP56180828A priority Critical patent/JPS5881971A/ja
Publication of JPS5881971A publication Critical patent/JPS5881971A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/223Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating specially adapted for coating particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は小形の電子部品の着膜に使用するドラム式の着
膜装置に関する。
近年、ドラムを使用した着膜装置は、電子部品に安価に
大量に着膜可能なため、その使用が増加している。
スパッタ装置に使用した場合の例を、第1図および第2
図に示す。この装置の場合、ターゲット1のスパッタリ
ングが、そのドラム(電極)2の軸方向において必ずし
も一定ではなく、ばらつきが生じる。
このばらつきは第3図および第4図に示すよう27・−
・・ な電子ビーム加熱方式または抵抗加熱方式では、その蒸
着のばらつきが顕著になる、図中、3は碍子などの被着
膜物、4は蒸着源、5は蒸発物である。
これらドラム方式の欠点は、小形の被着膜物3がドラム
2の軸方向(矢印入方向)に移動しないことであり、ま
た被着膜物3の数を多くした場合など撹拌ができないこ
とである。
このため第6図、第6図に示すように、ドラム2の底板
2a、2a’を軸に対しずらしたように変形させたもの
が考えられたが、製作が困難であることと、回転速度に
よっては被着膜物3が軸方向には動かなかったシ、ドラ
ム2のすベシ、被着膜物3の形状に左右され易いという
ことから実用上の価値はなかった。
本発明は以上の点に鑑み、軸方向の撹拌が行われドラム
内に被着膜物が多い場合にも良く撹拌されるとともに被
着膜物の着膜を均一にし、ターゲットや蒸着源を同じド
ラム内に設けた場合の蒸発度のばらつきを改良しだ着膜
装置を提供することこの目的のために本発明の着膜装置
は、円筒状のドラム内面に螺線状の羽根を設け、ドラム
内に被着膜物を入れて回転させ、被着膜物をドラムの軸
方向に交互に前後進させて撹拌するように構成したもの
である。
以下、本発明の実施例について第7図〜第17図を用い
て説明する。なお従来例と同一のものには同一の番号を
付している。
第7図、第8図は本発明の一実施例の着膜装置を示す図
で、との着膜装置には円筒状のドラム2の内面に螺線状
の撹拌用羽根6が2枚設けられている。
第9図は本発明の他の実施例の着膜装置を示す図で、と
の着膜装置においては撹拌用羽根6が3枚設けられてい
る。
この撹拌用羽根6の長手方向の形状は、ドラム2の回転
数、被着膜物3の量や形状によって第10図〜第12図
に示すように変化させる。またこの撹拌用羽根60種々
の断面形状を第13図〜第15を3角状にしたもので、
ドラム2を逆回転させた場合でも、撹拌用羽根6により
ドラム2の上方まで持ち上げられる被着膜物の数を少な
くしたものである。
第16図は撹拌用羽根6によシ被着膜物3が持ち上げら
れている状態を、第17図は被着膜物3の数が多い場合
でも、積層した被着膜物3の山の下部の方から撹拌用羽
根6によりすくわれるようにして撹拌されている状態を
示している。
以上のように本発明の着膜装置は構成したので、ドラム
軸方向の撹拌が行われ、ドラム内における被着膜物の着
膜ばらつきや着膜むらを改善することができ、またその
ための羽根も工作上簡単にかつ安価に作成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の着膜装置のドラムの底板を除いて示した
側面図、第2図は同正面図、第3図は従来の別の着膜装
置のドラムの底板を除いて示した側面図、第4図は同正
面図、第5図は従来のまた図、第7図は本発明の一実施
例の着膜装置のドラムの底板の一部を除いて示した側面
図、第8図は同展開図、第9図は同他の実施例の展開図
、第10図〜第15図は撹拌用羽根の各種形状例を示す
図、第16図、第17図は撹拌状態の説明図である。 2・・・・・・ドラム、3・・・・・・被着膜物、6・
・・・・・撹拌用羽根。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図   1112図 第3図   第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 被着膜物をその内部に入れて回転する円筒状のドラムの
    内面に、前記被着膜物を前記ドラムの軸方向に交互に前
    後進させて撹拌する螺線状の撹拌用羽根を設けた着膜装
    置。
JP56180828A 1981-11-11 1981-11-11 着膜装置 Pending JPS5881971A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56180828A JPS5881971A (ja) 1981-11-11 1981-11-11 着膜装置

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JP56180828A JPS5881971A (ja) 1981-11-11 1981-11-11 着膜装置

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Publication Number Publication Date
JPS5881971A true JPS5881971A (ja) 1983-05-17

Family

ID=16090064

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JP56180828A Pending JPS5881971A (ja) 1981-11-11 1981-11-11 着膜装置

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JP (1) JPS5881971A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58136701A (ja) * 1982-02-08 1983-08-13 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 微粒子のコーティング方法
JP2010209443A (ja) * 2009-03-12 2010-09-24 National Institute For Materials Science 蒸着装置と蒸着方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58136701A (ja) * 1982-02-08 1983-08-13 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 微粒子のコーティング方法
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