JPS5893889A - 電気メツキ方法 - Google Patents

電気メツキ方法

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JPS5893889A
JPS5893889A JP19261181A JP19261181A JPS5893889A JP S5893889 A JPS5893889 A JP S5893889A JP 19261181 A JP19261181 A JP 19261181A JP 19261181 A JP19261181 A JP 19261181A JP S5893889 A JPS5893889 A JP S5893889A
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JP
Japan
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plating
anode
anode chamber
chamber
plating bath
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Application number
JP19261181A
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English (en)
Inventor
Nobukazu Suzuki
鈴木 信和
Mikio Kurimoto
栗本 樹夫
Kazuo Asano
和夫 浅野
Atsuyoshi Shibuya
渋谷 敦義
Takashi Deo
隆志 出尾
Yuji Terada
寺田 雄二
Yoshio Tani
谷 善雄
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Nippon Steel Corp
Tokuyama Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
Tokuyama Corp
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、硫酸浴?用いた鉄鋼のFe系電気メ、上方法
に関し、さらに詳細には、不溶性陽極を陰イオン交換膜
隔膜によりメッキ浴から分離した陽極室中に設置して行
う鉄鋼のFe系電気メツキ方法に関する。
一般に、電気メッキにおける陽極としては可溶性陽極あ
るいは不溶性陽極が用いら扛ている。
ところが、可溶性陽極をFe系電気メ キに用ツ いると次のような不都合が生じる。
(1)  Fe”  イオン濃度、pH等の浴組成が変
化する。
(2)  高電流密度(4oA/d、7以上)のメッキ
条件では、Fe陽極の不働態が生じ、陽極において、F
e2 イオンがFe3+イオンに酸化さ扛る。
(3)  陽極の消耗により新しい陽極との交換が必要
となる。
(4)  同一ラインで多品種の電気メッキを行う場合
には、品種別に可溶性陽極の取替が必要となる。
(5)陽極の消耗のため、陽極と鋼板間の間隙を一定に
することが困難である。
一方、不溶性陽極をFe系電気メッキに用いる場合には
、上記(3)〜(5)の問題は解消さR,(11の問題
も容易に解決することができる。ところが、不溶性陽極
を用いると、次に詳細に述べるように、メッキ浴中のF
e2+イオンが不溶性陽極にょ1)Fe3+イオンに酸
化されるという新たな問題を生じることになる。すなわ
ち、Fe 系電気メッキにおいて不溶性陽極を用いた場
合、不溶性陽極では次の2つのアノード反応が生じる。
(1)水の電気分解による02の発生 2H20→4H
+0乏+4e− (2)  Fe2+の酸化 ”++Fe  ”+e−不
溶性陽極では先ずアノード反応(2)が生じ、Fe2+
がFe3+に酸化さ扛る。さらに、アノード反応α)で
生成さnたo2ガスにより、メッキ浴中のFe2+イオ
ンが順次Fe3+イオンとなるので、メッキ浴中のFe
3+イオンが急速に増加することになる。メッキ浴中に
多量のFe”Zオンが存在する状態で電気メッキを行う
と、皮膜の相変化、皮膜の色ムシ、合金組織の変化、電
流効率の低下などメッキ皮膜およびメッキ条件に悪影響
を及ぼすのみならず、被メッキ物の裏面のFeやメッキ
装置の腐食を促進することにもなる。
一方、不溶性陽極を用いる電気メツキ方法において、陰
イオン交換膜を隔膜として用い、メッキ液と分離さ扛た
陽極室を形成し、この陽極室中に不溶性陽極全設置する
構成が、例えば、特公昭51−2900号公報に開示さ
扛ている。
この構成は、メッキ液?例えば金属の硫酸塩の形で供給
する場合、金属イオンはメッキによって系外に出さnる
のに対し陰イオンであるSO42−はメッキ浴中に蓄積
しメッキ浴のpHk下げる事実に鑑みて提案されたもの
であって、メッキ浴中の余剰陰イオンを陰イオン交換膜
隔膜を介して陽極室側へ移動させることにより、メッキ
浴から余剰陰イオンを除去し、メッキ浴のpHを一定に
保とうとするものである。
この方法f F e系の電気メッキに適用すると、2+ メツ“浴中のFe イオンは隔膜である陰イオン交換膜
により阻止さnて陽極室に移動することができないと考
えら詐るので、理論上は陽極室に設置された不溶性陽極
によるFe2+″Fe3”+e−の酸化現象は起り得な
いことになる。しかし実際には、メッキ室と陽極室間の
金属イオンの濃度匂配によってメッキ室中のFe2+イ
オンが若干陽極室へ漏洩し、不溶性陽極によg Fe 
3+イオンに酸化さnることが生じる。
さらに、いま陽極室に注目してみると、陽極室には、メ
ッキ室において金属の析出により余剰となった陰イオン
5O42″″が隔”膜を透過して移行しており、上記し
たアノード反応α)の水分解により生成さfたH と反
応してH2SO4k生成する。したがって、電気メッキ
の進行とともに陽極室ではH2SO4濃度が高くなる。
一方、本発明の発明者らの研究によると、通常の陰イオ
ン交換膜の場合には、膜の性能上 H+、ような小さな
イオンの透過は無視できないことが判明した。さらに、
本発明者らは陰イオン交換膜隔膜を設けた電気メッキに
おける陽陰イオンの輸率について研究を進めたところ、
輸率は隔膜の性能によっても影響を受けるが、一般に、
陽極室のH2,SO4濃度が低い場合には5042−の
輸率が高くなり、こnに対して陽極室のH2SO4濃度
が高くなるとH+の輸率が高くなることを知見した。い
1、隔膜として陰イオン交換膜隔膜rNeosepta
  ACH−45TJ  (徳山曹達(株)製)を用い
て、電流密度27 A / d m 、温度40〜51
°Cの条件下で行 た実験の結果を陽つ 極室におけるH2SO4濃度と陽極室でのH2SO4生
成効率との関係として示せば第1図のようになる。第1
図によtば、陽極室でのH2SO4濃度が例えばINの
場合、H2SO4の生成効率は約58%てあり、メッキ
室から隔膜を介して陽極室に流入した5042−の移動
率すなわち輸率は約58チ、逆に陽極室から隔膜を通過
してメッキ室に流入したH+の移動率すなわち輸率は約
42%であることが判る。ところが、陽極室におけるH
2SO4濃度が2Nの場合には、陽極室でのH2SO4
生成効率は約4・3チとなり、SO42−の輸率が約4
3%と減少し、H+の輸率が約57に増加するようにな
る。このように、陽極室中のH2SO4濃度によりH+
の輸率が大きく変化し、そnによ てメッキ浴のpHが
影響さnるつ ことは明らかである。したがって、上記の特公昭51−
2900号に開示さnている方法のように、メッキによ
シメッキ浴中に生じた余剰のSO42−に陰イオン交換
膜隔膜によ て陽極室つ 側に移行させるだけの方法では、メッキ浴のpH全一定
に維持できない不都合が生じる。特にFe系メッキの場
合には、メッキ浴のpHは電流効率に大きく影響し、メ
ッキ浴のpHが変動すると所期のメッキ全達成できない
ことになる。
不発明は以上の点に鑑みて成さnたものであって、その
目的は、不溶性陽極の長所金偏えながらFe系電気メッ
キにおける不溶性陽極の欠点であるFe  の生成を抑
え、あるいは微量生成さnた場合にもFe3+のメ キ
浴への混入をツ 断つことによって、かつ、陽極室からメッキ室竺移動す
・るH+の輸率を一定にすることによりHの輸率変化に
よるメッキ浴のpHの変動碕止することによって切望の
Fe系電気メッキを行うことができる方法を提供するこ
とにある。
すなわち、本発明は、陰イオン交換膜隔膜によりメッキ
浴室から分離した陽極室中に不浴性陽極全設誼して行う
硫酸浴Fe系電気メツキ方法において、陽極室で生成さ
nるH2 S O4kアルカリによって中和し、塩とし
て系外に取り出すことにより、陽極室内のI(2SO4
濃度を一定に維持し、そ扛によって陽極室からメツへ浴
室+ へのHの移動度の変化によるメッキ浴pHの変動を防ぐ
ことを′特徴とするものである。
不発明で実施さnるFe系メッキとは、Feメッキのほ
か、Fe−Znメッキ、Fe−Niメッキ等のFek含
む合金メツキ一般をいう。
次に、本発明を図示する見体例によって説明する。第2
図はFe−Zn合金メッキの場合、第3図はFeメッキ
の場合をそnぞn例にとて示すものである。
第2図に示すF e m、 Z、n合金メッキ装置では
、メッキ槽1は、陰イオン交換膜隔膜2によってメッキ
浴室3.と陽極室4とに分離さ扛ている。
5はptやpb金合金からなる不溶性陽極、6は被メッ
キ物たとえば鋼板で、こ扛らの間に電源7が接続さ扛、
メッキ電圧が印加さnる構成となっている。またメッキ
浴室3には、たとえば、ZnSO4’7H20およびF
 e SO4” 7 H20からなるメッキ液が満さ扛
ている。
さらにメッキ液は順次メッキ浴室3の上部から抜き出さ
扛、メッキ液循環槽8に返送さ扛、またこのメッキ液循
環槽8から送液ポンプ9によりメッキ浴室3へ循環して
送給さ扛る。メッキ浴室3内のzA“およびF e’ 
2+は放電により被メッキ物6に析出するため、こ扛?
補充すべくメッキ液建浴槽10にFeSO4・7H20
が添加さn1ポンプ11によシメ キ液循環槽8に補ツ 給さ扛る構成となっている。
他方、陽極室4にはH2SO4″!たけ硫酸塩(第2図
ではNa2SO4に用いた例が示さ扛ている)が満さ扛
てお9、メッキの実施に伴って生成さnるHzSO4に
含む陽極室液は、順次抜き出さ五、陽極室液循環槽12
に戻さnる。陽極室液循環槽12では、メッキにより陽
極室4中に生成さnたH2 SO4k中和するためにア
ルカリが添加さnる。添加するアルカリとしては、Na
OH。
KOH等が用いらn1好ましくは、水溶液の形で投入さ
nる。アルカリの添加量は、生成さnたH2SO4と反
応するために必要な量である。
アルカリの添加により生成H2SO4が中和さn、所定
のpHに調整さnた陽極室液は循環ポンプ13により陽
極室4へ返送さnる。
このように、陽極室液は常に当初のH2SO4濃度全維
持することができる。したがって、メッキ室3へのHの
移動度は一定に保たAXH”の輸率の変化により引き起
さ扛るメッキ浴のpHの変動を避けることが叉きる。ま
た、陽極室液循環槽12内では添加さtたアルカリとH
2SO4の反応により、Na2 SO4、K2 SO4
等の塩が生成される。したがって、陽極室液循環槽12
から、こnらの塩の溶液全添加アルカリ溶液量に相当す
る分だけ除去す扛ば陽極室4の液量と塩濃度全一定に保
つことができる。
上記のように陽極室4におけるH2SO4濃度を一定に
し、H+の輸率の変化にょるメ キ浴ツ pHの変動を防止しても、電流効率によりメッキ浴室で
発生するOH量が異なるためメ キ浴ツ のpHが変動することが起り得る。この場合には、メッ
キ浴のpH?調整するために、微量のアルカリあるいは
酸をメッキ浴建槽1oに添加する。メッキ浴pHが所定
値より高めの場合に酸を添加して調整を行うについては
問題はないが、メッキ浴pHが低めであってアルカリの
添加を必要とする場合には、Fe系メッキでは、アルカ
リ全添加した箇所において局部的にpHが極端に高くな
りFe2+1l−Fe に酸化してしまう現象が起る。
したがって、後者の場合には極く薄いアルカリ水溶液の
形でアルカリ全添加し、急激に撹拌することによって極
端な局部的pH上昇を避けることが好°しい。
この第2図に示す例においては、メッキ浴室で生成さ扛
た余剰804”″″イオン隔膜を介して陽極室に除去し
そnによってメッキ浴のpHt一定に保つと共に、80
.2−の移動によシ陽極室で生成さnるH2SO4を陽
極室から抜き出してアルカリによ て中和し、一部を塩
溶液のつ 形で系外に除去しながら当初のH2SO4濃度に調整さ
扛た陽極室液を陽極室に返送する構成としているので、
陽極室におけるH2 S 04濃度を一定にすることが
でき、そnによってHの輸率の変化を防ぎ、H+の輸率
の変化によるメッキ浴pHの変動を防止することができ
る。またこの構成では、陽極室中のH2S04m度の調
整をアルカリ添加によるpH管理の形で実行することが
できるので、管理方法が非常に簡単である。さらに、隔
膜を介してメッキ浴中のFe2+イオンが一部陽極室へ
漏洩してFe3+に酸化さnるような場合にも、塩溶液
と共に系外に除去さn1メツキ液の供給系の中に再び混
入することがないので、メッキにおけるp e 3  
の悪影響を避けることができる。
第3図は、アルカリとしてCaO’e用いる場合k、F
eメッキの例をとって示したものである。CaOは等2
図の例において使用さnたNaOH。
KOH等のアルカリに比べ廉価であるので、こnt−使
用することができnば経済的に有利であるが、CaOT
h添加するとH2SO4と反応してCaSO4が生成さ
n陽極室液として再使用することができない。そこで、
生成H2S04t”含む陽極室液を陽極室4から順次抜
き出して陽極室液循環槽12に戻し、循環槽12におい
てH2SO4の抜き出しと水(H2O)の添加によりH
2SO4濃度を調整する。当初のHzSO4m度に調整
さnた陽極室液は陽極室4へ返送さnる。陽極室液循環
槽12から抜き出さf′したH2SO4液は中和槽14
に導かn1中和槽14においてCaO等のアルカリの添
加を受けて中和さ3. CaSO4等の塩として系外に
除去さnる。中和槽14において添加さnるアルカリは
CaOに限らnず、Ca (OH) xや第2図の例に
おいて使用したNaOH。
KOH等であってもよいことは勿論である。この例にお
いても上記した第2図の例と同様に、Fe3+のメッキ
液への混入系路が断たnると同時に、陽極室でのH2S
O4濃度が常に一定に維持さ扛るのでH+の輸率を一定
に保ち生成H2SO4によるメッキ浴pHへの影響を防
ぐことができる。
さらに、本例では廉価な゛Ca0ffi使用することが
できるので、ランニングコストの低下を図ることもでき
る。なお、本例では、陽極室液としてはH2SO4液が
用いらnる。
上記した例においては、メ キ装置が1メツツ キ浴室と1.陽極室から構成さnる場合を示したが、こ
扛らのメ キ浴室および陽極室をそ扛ぞツ 扛複数個備えたメッキ装置全構成することもできる。
次に不発明の効果全実施例によって説明する。
実施例1 メッキ装置として第2図に示す構成のものを用いた。Z
nSO4” 7)tz O150g/ Ls FeSO
4・7H20250g/1XNaz SO’41009
/l 。
pH:2のメッキ浴全用い、陰イオン交換膜(徳山曹達
(株)製rAcH−45TJ)を隔てて陽極室にはNa
2 SO41009/l、 pH:1.5に満し、Pt
を陽極として、20 A / d Iiで連続メッキを
行 た。不溶性陽極と被メッキ物(鋼板)とつ の間にメッキ電圧が印加さnると、メッキ浴室において
、5042−と共に解離しているZn2 、Fe2 の
放電が生じ、Zn80%、Fe2O%の合金メッキが得
らnた。
また、不溶性陽極の表面では、水の電解が生じ、02ガ
スが発生すると共にHが生じた。
一方、被メッキ物の表面では金属イオンの析出と共に水
の電解によシH2およびOH−が生じた。
本実施例においては、メッキの電流効率が85チであっ
たため、通電電気量の15%が水の電解に使用さn1電
気量の15チに相当するOH’−が生成した。
本実施例に使用した陰イオン交換膜隔膜の特性から、上
記の陽極室液の組成におけるH の輸率は10チであシ
、SO4”−の輸率は90チであった。
したがって、陽極室には電気量の90チに相当するHg
SO4が生成さn1メツキ浴には電気量の5チのOH″
″が残存した。このため、メッキ浴室の出口におけるメ
ッキ浴のpHは2.1とやや上昇したが、メッキ浴循環
槽に微量の濃硫酸を添加することによりpHを常に−2
に保つことができた。
また、陽極室で生成さnたH2SO4は陽極室液循環槽
において10mol/lのNaOH’を添加して中和し
、陽極室OpHを常に1.5に制御した。陽極液循環槽
からは、NaOHの溶液量にほぼ相当するNazSO4
溶液を除去することによて陽極室の液量とNa2SO4
濃度を一定に保つこ、とができた。
実施例2 メッキ装置として第3図に示すものを用いた。
浴組成FeSO4@ 7H20250g/l、 Na2
804100 g/L、 pH: 2のメッキ浴を用い
、陰イオン交換膜(徳山曹達(株)製rAcLE−5P
j)を隔てて、陽極室には、0.1mol/lのH2S
O4k満し、pt’を陽極として、20A/dmの電流
密度で連続メッキを行った。
なお、不実施例に用いた陰イオン交換膜の特性として、
上記した陽極室のH2SO4濃度ではH+の輸率は20
チであり、8042″″の輸率は80チであった。また
、本実施例のFeメッキの電流効率は75%であった。
その結果、メッキ浴室の出口でのメッキ浴pHは2.2
とやや上昇したため、メ キ浴循猥槽にン 濃硫酸を添加することにより、メ キ浴のpHツ を常に2.0にコントロールすることができた。
また、建浴槽には、メッキとして系外に持ち出さ扛たF
e2+イオンに相当する量’rFes04・7H20と
して供給した。このようにしてメッキを行ったところ、
メッキ浴のp Hs F e 2  イオン濃度は常に
安定して訃り、組織が一定で色調ムラのないFeメッキ
皮膜が得らnた。
陽極室におけるH2SO4濃度の調整は、陽極室液循環
槽から、生成したH2SO4分に相当する液全回収し、
回収した液量に相当する量のH2Oを添加することによ
り、H2SO4濃度と陽極室液量金一定に保つことがで
きた。
回収したH2S0J液は中和槽に導き、中和槽にCaO
を添加して中和し、CaSO4として回収した。
【図面の簡単な説明】
第1図はある条件下である隔膜を用いた場合におけるH
2SO4濃度とH2SO4生成効率の関係を示す図、第
2図は本発明によるF e −Z nメッキの一例を示
す系統図、第2図は本発明によるFeメ キの一例を示
す系統図である。 ツ 1・・・メッキ槽  2・・・陰イオン交換膜隔膜  
3・・・メッキ浴室  4・・・陽極室  5・・・不
溶性陽極  6・・・被メッキ物  8・・・メ キ浴
循環槽  10・ツ ・・建浴槽  12・・・陽極室液循環槽14・・・中
和槽 特許出願人 住友金属工業株式会社 徳山曹達株式会社 代理人弁理士 永井義久 第1図 第2図 第3図 (4SQ4 第1頁の続き 0発 明 者 寺田雄二 徳山市御影町1番1号徳山曹達 株式会社内 0発 明 者 谷善雄 徳山市御影町1番1号徳山曹達 株式会社内 ■出 願 人 徳山曹達株式会社 徳山市御影町1番1号 手続補正書(方式) %式% ) 1、事件の表示 昭和56年 特許 願第19261F+2、発明の名称
  電気メッキ方法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所    (211)住友金属工業株式会社(31
8)徳山曹達株式会社 氏  名(名称) 4、 代  理  人  〒136

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  陰イオン交換膜隔膜によりメッキ浴室から分
    離形成さtた陽極室中に不溶性陽極を設置して行うFe
    系電気メツキ方法において、陽極室で生°成さn 7:
    IH2S 04 ”tアルカリによって中和し、塩とし
    て系外に取り出すことにより、陽極室内のH2SO4濃
    度を一定に維持し、そnによって陽極室からメッキ浴室
    へのH+の移動度の変化によるメッキ浴pHの変動を防
    ぐことを特徴とする電気メツキ方法。
JP19261181A 1981-11-30 1981-11-30 電気メツキ方法 Pending JPS5893889A (ja)

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JP19261181A JPS5893889A (ja) 1981-11-30 1981-11-30 電気メツキ方法

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