JPH07258234A - 1,3,4−オキサジアゾール−2(3h)−チオン類の製造法 - Google Patents
1,3,4−オキサジアゾール−2(3h)−チオン類の製造法Info
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- JPH07258234A JPH07258234A JP6047180A JP4718094A JPH07258234A JP H07258234 A JPH07258234 A JP H07258234A JP 6047180 A JP6047180 A JP 6047180A JP 4718094 A JP4718094 A JP 4718094A JP H07258234 A JPH07258234 A JP H07258234A
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Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 モノアシルヒドラジン類に、塩基の存在下、
二硫化炭素を反応せしめ、次いで、次の一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なってそれぞれ低級
アルキル基を示し、Xはハロゲン原子を、nは2又は3
の整数を示す〕で表わされるハロイミニウム塩を反応さ
せることを特徴とする1,3,4−オキサジアゾール−
2(3H)−チオン類の製造法。 【効果】 この製造方法によれば短時間、高収率で1,
3,4−オキサジアゾール−2(3H)−チオン類が製
造でき、しかも毒性ガスの発生がないため工業的に有利
である。
二硫化炭素を反応せしめ、次いで、次の一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なってそれぞれ低級
アルキル基を示し、Xはハロゲン原子を、nは2又は3
の整数を示す〕で表わされるハロイミニウム塩を反応さ
せることを特徴とする1,3,4−オキサジアゾール−
2(3H)−チオン類の製造法。 【効果】 この製造方法によれば短時間、高収率で1,
3,4−オキサジアゾール−2(3H)−チオン類が製
造でき、しかも毒性ガスの発生がないため工業的に有利
である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、1,3,4−オキサジ
アゾール−2(3H)−チオン類の製造法に関し、更に
詳細にはモノアシルヒドラジン類から安全かつ工業的に
有利に1,3,4−オキサジアゾール−2(3H)−チ
オン類を製造する方法に関する。
アゾール−2(3H)−チオン類の製造法に関し、更に
詳細にはモノアシルヒドラジン類から安全かつ工業的に
有利に1,3,4−オキサジアゾール−2(3H)−チ
オン類を製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】1,3,4−オキサジアゾール−2(3
H)−チオン類は抗結核作用、鎮痛作用、解熱作用等の
作用を有するため医薬品や医薬品合成中間体として用い
られている。また、このものはテトラサイクリン合成に
おけるクロル化阻止剤としても用いられることもあり、
応用範囲の広い有用な化合物である〔Adv. Hetero. Che
m., 7,183(1966)〕。
H)−チオン類は抗結核作用、鎮痛作用、解熱作用等の
作用を有するため医薬品や医薬品合成中間体として用い
られている。また、このものはテトラサイクリン合成に
おけるクロル化阻止剤としても用いられることもあり、
応用範囲の広い有用な化合物である〔Adv. Hetero. Che
m., 7,183(1966)〕。
【0003】この1,3,4−オキサジアゾール−2
(3H)−チオン類の製造法としては、すでにいくつか
の方法が報告されている。このうち常法として用いられ
ている方法としては、モノアシルヒドラジン類に、アル
カリ存在下二硫化炭素を反応せしめ、次いでエタノール
中にて加熱閉環する方法が挙げられる。
(3H)−チオン類の製造法としては、すでにいくつか
の方法が報告されている。このうち常法として用いられ
ている方法としては、モノアシルヒドラジン類に、アル
カリ存在下二硫化炭素を反応せしめ、次いでエタノール
中にて加熱閉環する方法が挙げられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
加熱閉環による方法は一般に反応に長時間を要する。例
えば5−(2−フリル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル−2(3H)−チオンの製造法〔Syntheses of Heter
ocyclic Compounds, Vol. 1,Consultants Bureau(195
9) p54〕ではエタノール中で30〜32時間加熱還流す
る必要があり、5−メチル−1,3,4−オキサジアゾ
ール−2(3H)−チオンの製造にあっては、1週間以
上加熱還流が必要であり、たとえジメチルスルホキシド
を加えて反応を加速したとしても36時間の加熱還流が
必要である〔J. Am. Chem. Soc.,78,4475(1956)〕。
加熱閉環による方法は一般に反応に長時間を要する。例
えば5−(2−フリル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル−2(3H)−チオンの製造法〔Syntheses of Heter
ocyclic Compounds, Vol. 1,Consultants Bureau(195
9) p54〕ではエタノール中で30〜32時間加熱還流す
る必要があり、5−メチル−1,3,4−オキサジアゾ
ール−2(3H)−チオンの製造にあっては、1週間以
上加熱還流が必要であり、たとえジメチルスルホキシド
を加えて反応を加速したとしても36時間の加熱還流が
必要である〔J. Am. Chem. Soc.,78,4475(1956)〕。
【0005】このような、反応に長時間を要する方法は
効率が悪く経済的でないばかりでなく、1,3,4−オ
キサジアゾール−2(3H)−チオン類のうち熱に不安
定なものについては適用できないか、収率が低いという
欠点があった。また、上記の方法では反応中に極めて毒
性の強い硫化水素ガスが発生するため、工業的規模の実
施に際しては細心の注意が必要であり、更にガス吸収塔
等の設備を備えなければならない。
効率が悪く経済的でないばかりでなく、1,3,4−オ
キサジアゾール−2(3H)−チオン類のうち熱に不安
定なものについては適用できないか、収率が低いという
欠点があった。また、上記の方法では反応中に極めて毒
性の強い硫化水素ガスが発生するため、工業的規模の実
施に際しては細心の注意が必要であり、更にガス吸収塔
等の設備を備えなければならない。
【0006】従って、本発明の目的は短時間の反応で高
収率で、しかも硫化水素ガスを発生しない1,3,4−
オキサジアゾール−2(3H)−チオン類の製造法を提
供することにある。
収率で、しかも硫化水素ガスを発生しない1,3,4−
オキサジアゾール−2(3H)−チオン類の製造法を提
供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】斯かる実状に鑑み本発明
者は鋭意研究を行なった結果、モノアシルヒドラジン類
に、塩基の存在下、二硫化炭素を反応させた後、後記一
般式(1)で表わされるハロイミニウム塩を反応せしめ
れば、硫化水素の発生がなく、短時間で高収率でしかも
中性かつ穏やかな条件で1,3,4−オキサジアゾール
−2(3H)−チオン類が製造できることを見出し本発
明を完成した。
者は鋭意研究を行なった結果、モノアシルヒドラジン類
に、塩基の存在下、二硫化炭素を反応させた後、後記一
般式(1)で表わされるハロイミニウム塩を反応せしめ
れば、硫化水素の発生がなく、短時間で高収率でしかも
中性かつ穏やかな条件で1,3,4−オキサジアゾール
−2(3H)−チオン類が製造できることを見出し本発
明を完成した。
【0008】本発明は、次の反応式によって示される。
【0009】
【化2】
【0010】〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なっ
て、それぞれ低級アルキル基を示し、Xはハロゲン原子
を示し、nは2又は3の整数を示し、R3 は有機基を示
し、B及びB′は塩基を示す〕
て、それぞれ低級アルキル基を示し、Xはハロゲン原子
を示し、nは2又は3の整数を示し、R3 は有機基を示
し、B及びB′は塩基を示す〕
【0011】すなわち本発明は、モノアシルヒドラジン
類(2)に、塩基(4)の存在下、二硫化炭素(3)を
反応せしめ、次いでハロイミニウム塩(1)を反応させ
ることを特徴とする1,3,4−オキサジアゾール−2
(3H)−チオン類の製造法を提供するものである。
類(2)に、塩基(4)の存在下、二硫化炭素(3)を
反応せしめ、次いでハロイミニウム塩(1)を反応させ
ることを特徴とする1,3,4−オキサジアゾール−2
(3H)−チオン類の製造法を提供するものである。
【0012】本発明に用いるハロイミニウム塩は一般式
(1)で表わされるものであり、式中、R1 及びR2 で
示される低級アルキル基としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基等の炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖のアル
キル基が挙げられる。また、Xで示されるハロゲン原子
としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子が挙げられるが、就中、塩素原子が特に好ましい。ハ
ロイミニウム塩(1)の好ましい具体例としては、2−
クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロライ
ド、2−クロロ−1,3−ジメチル−3,4,5,6−
テトラヒドロピリミジニウムクロライド等を挙げること
ができる。
(1)で表わされるものであり、式中、R1 及びR2 で
示される低級アルキル基としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基等の炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖のアル
キル基が挙げられる。また、Xで示されるハロゲン原子
としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子が挙げられるが、就中、塩素原子が特に好ましい。ハ
ロイミニウム塩(1)の好ましい具体例としては、2−
クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロライ
ド、2−クロロ−1,3−ジメチル−3,4,5,6−
テトラヒドロピリミジニウムクロライド等を挙げること
ができる。
【0013】このハロイミニウム塩(1)は、例えば入
手容易な溶剤として知られている前記一般式(12)
手容易な溶剤として知られている前記一般式(12)
【0014】
【化3】
【0015】〔式中、R1、R2 及びnは前記と同じも
のを示す〕で表わされる化合物に、オキザリルハロゲニ
ド、三ハロゲン化リン、五ハロゲン化リン、オキシハロ
ゲン化リン、ホスゲン、トリクロロメチルクロロホルメ
ート等の自体公知のハロゲン化剤を反応せしめることに
より容易に得られる。この反応は、化合物(12)又は
ハロゲン化剤の何れか一方を四塩化炭素等の適当な溶媒
に溶かしておき、これに他方を少量ずつ添加し、更に室
温〜70℃で数時間〜十数時間反応させることによって
行なわれる。斯くして得られたハロイミニウム塩(1)
は単離することもできるが、単離することなく、その反
応液を本発明の反応に使用することもできる。
のを示す〕で表わされる化合物に、オキザリルハロゲニ
ド、三ハロゲン化リン、五ハロゲン化リン、オキシハロ
ゲン化リン、ホスゲン、トリクロロメチルクロロホルメ
ート等の自体公知のハロゲン化剤を反応せしめることに
より容易に得られる。この反応は、化合物(12)又は
ハロゲン化剤の何れか一方を四塩化炭素等の適当な溶媒
に溶かしておき、これに他方を少量ずつ添加し、更に室
温〜70℃で数時間〜十数時間反応させることによって
行なわれる。斯くして得られたハロイミニウム塩(1)
は単離することもできるが、単離することなく、その反
応液を本発明の反応に使用することもできる。
【0016】本発明方法の原料化合物であるモノアシル
ヒドラジン類は一般式(2)で表わされるものが好まし
いが、式中、R3 で示される基としては、置換基を有し
ていてもよいアルキル、シクロアルキル、アルケニル、
芳香族又は複素環式基が挙げられる。ここで、アルキル
基としては、直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜20のアルキ
ル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデ
シル基、エイコシル基等が例示される。アルケニル基と
しては、直鎖又は分岐鎖の炭素数2〜20のアルケニル
基、例えばビニル、プロペニル、アリル、ブテニル、ペ
ンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネ
ニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセ
ニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニ
ル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニル、
エイコセニル基等が挙げられる。芳香族基としては、フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニリル、ナフ
チル等が挙げられる。また複素環式基としては、フリ
ル、フルフリル、チエニル、ピロリル、ピリジル、ピペ
リジノ、ピペリジル、キノリル基等が挙げられる。シク
ロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
ヒドラジン類は一般式(2)で表わされるものが好まし
いが、式中、R3 で示される基としては、置換基を有し
ていてもよいアルキル、シクロアルキル、アルケニル、
芳香族又は複素環式基が挙げられる。ここで、アルキル
基としては、直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜20のアルキ
ル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデ
シル基、エイコシル基等が例示される。アルケニル基と
しては、直鎖又は分岐鎖の炭素数2〜20のアルケニル
基、例えばビニル、プロペニル、アリル、ブテニル、ペ
ンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネ
ニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセ
ニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニ
ル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニル、
エイコセニル基等が挙げられる。芳香族基としては、フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニリル、ナフ
チル等が挙げられる。また複素環式基としては、フリ
ル、フルフリル、チエニル、ピロリル、ピリジル、ピペ
リジノ、ピペリジル、キノリル基等が挙げられる。シク
ロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
【0017】また、これらの基の置換基は、特に限定さ
れず、水酸基、アミノ基、アルコキシ基、アルキルアミ
ノ基、アルコキシアミノ基、アルコキシカルボニルアミ
ノ基、アルキル基、アルケニル基、複素環式基等が挙げ
られ、更にエーテル結合や二重結合を含むものであって
もよい。
れず、水酸基、アミノ基、アルコキシ基、アルキルアミ
ノ基、アルコキシアミノ基、アルコキシカルボニルアミ
ノ基、アルキル基、アルケニル基、複素環式基等が挙げ
られ、更にエーテル結合や二重結合を含むものであって
もよい。
【0018】一方、B又はB′で示される塩基は、同一
でも異なっていてもよく、有機塩基、無機塩基を問わな
い。塩基の具体例としては、例えばトリエチルアミン、
トリブチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジ
ン等のアミン類;水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸カルシウム等が挙げられる。また、Xで示されるハロ
ゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が例示される。
でも異なっていてもよく、有機塩基、無機塩基を問わな
い。塩基の具体例としては、例えばトリエチルアミン、
トリブチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジ
ン等のアミン類;水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸カルシウム等が挙げられる。また、Xで示されるハロ
ゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が例示される。
【0019】本発明の製造法を実施するには、例えばモ
ノアシルヒドラジン類(2)1モルに対して二硫化炭素
(3)1モル、塩基(4)1モルを加えて反応させた
後、ハロイミニウム塩(1)約1モル及び塩基(7)を
約1モル加え室温付近で反応させればよい。なお、原料
の添加モル比は理論量であり、適宜増減できることはい
うまでもない。反応時間は2〜20時間程度で充分であ
る。
ノアシルヒドラジン類(2)1モルに対して二硫化炭素
(3)1モル、塩基(4)1モルを加えて反応させた
後、ハロイミニウム塩(1)約1モル及び塩基(7)を
約1モル加え室温付近で反応させればよい。なお、原料
の添加モル比は理論量であり、適宜増減できることはい
うまでもない。反応時間は2〜20時間程度で充分であ
る。
【0020】また、反応溶媒は、用いなくともよいが、
ジクロルメタン、ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水
素、炭化水素、エーテル類、芳香族炭化水素等の反応に
関与しない溶媒を用いることもできる。更に反応装置は
工業的規模で行なう場合であっても、グラスライニング
等の特殊な反応釜でなく、通常のステンレス反応釜を用
いることができる。
ジクロルメタン、ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水
素、炭化水素、エーテル類、芳香族炭化水素等の反応に
関与しない溶媒を用いることもできる。更に反応装置は
工業的規模で行なう場合であっても、グラスライニング
等の特殊な反応釜でなく、通常のステンレス反応釜を用
いることができる。
【0021】
【発明の効果】本発明の製造法によれば、短時間の反応
で高収率で1,3,4−オキサジアゾール−2(3H)
−チオン類を製造することができる。また有毒な硫化水
素の発生がなく安全であり、反応が穏やかな条件で進む
ので特殊な装置類を必要としないため工業的に極めて有
利である。
で高収率で1,3,4−オキサジアゾール−2(3H)
−チオン類を製造することができる。また有毒な硫化水
素の発生がなく安全であり、反応が穏やかな条件で進む
ので特殊な装置類を必要としないため工業的に極めて有
利である。
【0022】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれらによって何ら限定されるものではな
い。
が、本発明はこれらによって何ら限定されるものではな
い。
【0023】実施例1 5−フェニル−1,3,4−オキサジアゾール−2(3
H)−チオンの製造:ベンゼン100ml及びアセトニト
リル150mlの混液中にベンゾヒドラジド5.0g(3
7mmol)及びトリエチルアミン5.6g(55mmol)を
加え、この中に二硫化炭素2.8g(37mmol)を滴下
した。終了後室温で5.5時間攪拌を続けた後、反応液
中に2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムク
ロライド7.4g(44mmol)の塩化メチレン25ml溶
液をゆっくりと滴下した。終了後室温で3時間攪拌を続
け、次いで、反応液に水を加え塩化メチレンで抽出し
た。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶
媒を留去して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
(溶媒 クロロホルム−メタノール)にて精製し標記化
合物を6.2g(収率95%)得た。
H)−チオンの製造:ベンゼン100ml及びアセトニト
リル150mlの混液中にベンゾヒドラジド5.0g(3
7mmol)及びトリエチルアミン5.6g(55mmol)を
加え、この中に二硫化炭素2.8g(37mmol)を滴下
した。終了後室温で5.5時間攪拌を続けた後、反応液
中に2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムク
ロライド7.4g(44mmol)の塩化メチレン25ml溶
液をゆっくりと滴下した。終了後室温で3時間攪拌を続
け、次いで、反応液に水を加え塩化メチレンで抽出し
た。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶
媒を留去して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
(溶媒 クロロホルム−メタノール)にて精製し標記化
合物を6.2g(収率95%)得た。
【0024】mp 218.9〜220.8℃ IRνmax KBrcm-1:3090, 1615, 1575, 1510, 1450, 135
0, 1185, 970
0, 1185, 970
【0025】実施例2 5−(2−ピリジルメチル)−1,3,4−オキサジア
ゾール−2(3H)−チオンの製造:塩化メチレン10
0ml及びアセトニトリル100mlの混液中に2−ピリジ
ルアセトヒドラジド5.0g(33mmol)、トリエチル
アミン10.0g(99mmol)及び二硫化炭素2.5g
(33mmol)を加え、室温で4時間攪拌した後、反応液
中に2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムク
ロライド6.7g(40mmol)の塩化メチレン20ml溶
液をゆっくりと滴下した。終了後室温で3時間攪拌を続
け、次いで、減圧下溶媒を留去して得た残渣にアセトニ
トリルを加え不溶晶を濾別した。不溶晶はアセトニトリ
ルで洗浄し、洗液と濾液を合せて減圧下溶媒を留去し1
8.0gの残渣を得た。この残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー(溶媒 クロロホルム−メタノール)にて精
製し標記化合物を3.7g(収率58%)得た。
ゾール−2(3H)−チオンの製造:塩化メチレン10
0ml及びアセトニトリル100mlの混液中に2−ピリジ
ルアセトヒドラジド5.0g(33mmol)、トリエチル
アミン10.0g(99mmol)及び二硫化炭素2.5g
(33mmol)を加え、室温で4時間攪拌した後、反応液
中に2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムク
ロライド6.7g(40mmol)の塩化メチレン20ml溶
液をゆっくりと滴下した。終了後室温で3時間攪拌を続
け、次いで、減圧下溶媒を留去して得た残渣にアセトニ
トリルを加え不溶晶を濾別した。不溶晶はアセトニトリ
ルで洗浄し、洗液と濾液を合せて減圧下溶媒を留去し1
8.0gの残渣を得た。この残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー(溶媒 クロロホルム−メタノール)にて精
製し標記化合物を3.7g(収率58%)得た。
【0026】mp 163.0〜163.7℃ IRνmax KBrcm-1:2700, 2530, 1630, 1600, 1500, 136
0, 1320, 1145,1060
0, 1320, 1145,1060
【0027】実施例3 5−(2−ヒドロキシ−1−プロピル)−1,3,4−
オキサジアゾール−2(3H)−チオンの製造:ジメチ
ルホルムアミド50ml中に、3−ヒドロキシブチロヒド
ラジド5.0g(42mmol)、トリエチルアミン12.
8g(127mmol)及び二硫化炭素3.2g(42mmo
l)を加え室温で3時間攪拌した。次いで、反応液中に
2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロラ
イド8.6g(51mmol)の塩化メチレン30ml溶液を
水冷下ゆっくりと滴下し、終了後室温で更に3時間攪拌
を続けた後、減圧下溶媒を留去して残渣を得た。この残
渣にアセトンを加え不溶晶を濾別し、不溶晶はアセトン
で洗浄し、濾液と洗液を合せて減圧下溶媒を留去し、赤
色油状物23.3gを得た。この油状物をシリカゲルク
ロマトグラフィー(溶媒 クロロホルム−メタノール)
にて精製し、標記化合物を6.3g(収率93%)得
た。
オキサジアゾール−2(3H)−チオンの製造:ジメチ
ルホルムアミド50ml中に、3−ヒドロキシブチロヒド
ラジド5.0g(42mmol)、トリエチルアミン12.
8g(127mmol)及び二硫化炭素3.2g(42mmo
l)を加え室温で3時間攪拌した。次いで、反応液中に
2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロラ
イド8.6g(51mmol)の塩化メチレン30ml溶液を
水冷下ゆっくりと滴下し、終了後室温で更に3時間攪拌
を続けた後、減圧下溶媒を留去して残渣を得た。この残
渣にアセトンを加え不溶晶を濾別し、不溶晶はアセトン
で洗浄し、濾液と洗液を合せて減圧下溶媒を留去し、赤
色油状物23.3gを得た。この油状物をシリカゲルク
ロマトグラフィー(溶媒 クロロホルム−メタノール)
にて精製し、標記化合物を6.3g(収率93%)得
た。
【0028】mp 108.4〜109.2℃ IRνmax KBrcm-1:3290, 3040, 1625, 1505, 1340, 115
5, 945
5, 945
【0029】実施例4 5−(1−t−ブトキシカルボニルアミノ−2−ヒドロ
キシエチル)−1,3,4−オキサジアゾール−2(3
H)−チオンの製造:ジメチルホルムアミド60ml中
に、2−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−ヒドロキ
シプロピオノヒドラジド5.0g(23mmol)、トリエ
チルアミン6.9g(68mmol)及び二硫化炭素1.7
g(23mmol)を加え室温で4時間攪拌した。次いで、
反応液中に2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニ
ウムクロライド4.6g(27mmol)の塩化メチレン1
6ml溶液をゆっくりと滴下し、終了後室温で更に1時間
攪拌を続けた。反応液にメタノール10mlを加え室温で
放置した後、減圧下溶媒を留去して残渣を得た。以下実
施例3と同様の操作を行ない、標記化合物を4.5g
(収率75%)得た。
キシエチル)−1,3,4−オキサジアゾール−2(3
H)−チオンの製造:ジメチルホルムアミド60ml中
に、2−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−ヒドロキ
シプロピオノヒドラジド5.0g(23mmol)、トリエ
チルアミン6.9g(68mmol)及び二硫化炭素1.7
g(23mmol)を加え室温で4時間攪拌した。次いで、
反応液中に2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニ
ウムクロライド4.6g(27mmol)の塩化メチレン1
6ml溶液をゆっくりと滴下し、終了後室温で更に1時間
攪拌を続けた。反応液にメタノール10mlを加え室温で
放置した後、減圧下溶媒を留去して残渣を得た。以下実
施例3と同様の操作を行ない、標記化合物を4.5g
(収率75%)得た。
【0030】アモルファス IRνmax KBrcm-1:3300, 1690, 1620, 1500, 1370, 115
5, 1055, 940
5, 1055, 940
【0031】実施例5 5−シクロヘキシル−1,3,4−オキサジアゾール−
2(3H)−チオンの製造:塩化メチレン100ml中に
シクロヘキサンカルボヒドラジド0.78g(5.5mm
ol)、トリエチルアミン1.64g(16.2mmol)及
び二硫化炭素0.42g(5.4mmol)を加え室温で
4.5時間攪拌した。次いで、反応液中に2−クロロ−
1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロライド1.10
g(6.5mmol)の塩化メチレン7ml溶液をゆっくりと
滴下し、室温で更に3時間攪拌を続けた。以下実施例1
と同様の処理を行ない。標記化合物を0.59g(収率
58%)得た。
2(3H)−チオンの製造:塩化メチレン100ml中に
シクロヘキサンカルボヒドラジド0.78g(5.5mm
ol)、トリエチルアミン1.64g(16.2mmol)及
び二硫化炭素0.42g(5.4mmol)を加え室温で
4.5時間攪拌した。次いで、反応液中に2−クロロ−
1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロライド1.10
g(6.5mmol)の塩化メチレン7ml溶液をゆっくりと
滴下し、室温で更に3時間攪拌を続けた。以下実施例1
と同様の処理を行ない。標記化合物を0.59g(収率
58%)得た。
【0032】粘稠油状物 IRνmax neatcm-1:3120, 1615, 1575, 1490, 1450, 116
0, 945
0, 945
Claims (1)
- 【請求項1】 モノアシルヒドラジン類に、塩基の存在
下、二硫化炭素を反応せしめ、次いで、次の一般式
(1) 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なってそれぞれ低級
アルキル基を示し、Xはハロゲン原子を、nは2又は3
の整数を示す〕で表わされるハロイミニウム塩を反応さ
せることを特徴とする1,3,4−オキサジアゾール−
2(3H)−チオン類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6047180A JPH07258234A (ja) | 1994-03-17 | 1994-03-17 | 1,3,4−オキサジアゾール−2(3h)−チオン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6047180A JPH07258234A (ja) | 1994-03-17 | 1994-03-17 | 1,3,4−オキサジアゾール−2(3h)−チオン類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07258234A true JPH07258234A (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=12767891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6047180A Pending JPH07258234A (ja) | 1994-03-17 | 1994-03-17 | 1,3,4−オキサジアゾール−2(3h)−チオン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07258234A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD4118C1 (ro) * | 2010-09-02 | 2012-02-29 | Институт Химии Академии Наук Молдовы | Compuşi 1,3,4-oxadiazolici conţinând tiouree disubstituită, ce manifestă proprietăţi antituberculoase |
| MD4125C1 (ro) * | 2010-09-17 | 2012-03-31 | Inst De Chimie Al Academiei De Stiinte A Moldovei | Compuşi 1,3,4-oxadiazolici cu proprietăţi antituberculoase conţinând tiouree monosubstituită |
-
1994
- 1994-03-17 JP JP6047180A patent/JPH07258234A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD4118C1 (ro) * | 2010-09-02 | 2012-02-29 | Институт Химии Академии Наук Молдовы | Compuşi 1,3,4-oxadiazolici conţinând tiouree disubstituită, ce manifestă proprietăţi antituberculoase |
| MD4125C1 (ro) * | 2010-09-17 | 2012-03-31 | Inst De Chimie Al Academiei De Stiinte A Moldovei | Compuşi 1,3,4-oxadiazolici cu proprietăţi antituberculoase conţinând tiouree monosubstituită |
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