JPS591465A - 4―シアノ―2―アゼチジノン誘導体の製造法 - Google Patents

4―シアノ―2―アゼチジノン誘導体の製造法

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JPS591465A
JPS591465A JP58073470A JP7347083A JPS591465A JP S591465 A JPS591465 A JP S591465A JP 58073470 A JP58073470 A JP 58073470A JP 7347083 A JP7347083 A JP 7347083A JP S591465 A JPS591465 A JP S591465A
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cyano
acid
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Michihiko Ochiai
落合 道彦
Taisuke Matsuo
松尾 泰介
Shoji Kishimoto
岸本 彰二
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Takeda Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、4−置換−2−アゼチジノン誘導体の光学活
性体の合成に有利な中間体であり、抗菌作用及びβ−ラ
クタマーゼ阻害作用を有しているものもある新規な4−
¥アノー2−アゼチジノン誘導体およびその製造法、さ
らにその中間体としての利用方法に関するものである。
背景技術 最近、1位にスルホ基を有する新しい型のβ−ラクタム
系抗生物質が天然から発見され報告されている(ネイチ
ャー(Nature)+ 289巻、590頁(198
1)、291巻、489頁(1981))。
また、類縁体の合成も報告されている(たとえば特開昭
55−164672号、特開昭56−125362号等
)。後者の報告中に、4位に置換基のある2−アゼチジ
ノン−1−スルホン酸類の合成法が記載されているが、
反応工程数が長く煩雑であシ、簡便な製造法は未だ知ら
れていない。
発明の開示 本発明は、新規な式 〔式中、R1はアシル化されまたは保護されていてもよ
いアミノ基を、Xは水素またはメトキシ基を、Wは水素
またはスルホ基を示す〕で表わされる4−¥アノー2−
アゼチジノン誘導体およびその製造法、さらにそれを合
成中間体として利用する方法に関する。
本発明者等は、種々研究した結果、式 〔式中、Rはアシル化されまたは保護され次ア前記と同
意義を示す〕で表わされる化合物とシアノ化合物を反応
させ、必要に応じて保護基を除去すると、4−シアノ−
2−アゼチジノン誘導体CI)が得られること、得られ
た化合物CI)が4−3置換−2−アゼチジノン誘導体
の合成特に光学活性体の合成に有利な中間体であシ、た
とえば化合物CI)を水利反応に付し、必要に応じて保
護基を除去すると、式 〔式中、R4はアV/I/化されまたは保護されていて
もよいアミノ基を、XおよびWは前記と同意義を糸す〕
で表わされる4−カルバモイlL/−2−アゼチジノン
誘導体が得られることを見出し、これらに基づいて本発
明を完成した。
即ち、本発明は、 (1)  4−シアノ−2−アゼチジノン誘導体〔工〕
、(2)化合物CII)とシアノ化合物を反応させ、必
要に応じて保護基を除去することを特徴とする、4−シ
アノ−2−アゼチジノン誘導体CI)の製造法、 (3)  4−シアノ−2−アゼチジノンml導体CI
)を水利反応に付し、′必要に応じて保護基を除去する
ことを特徴とする、4−力μバモイyv−2−yゼチジ
ノン誘導体〔■〕の製造法、 (4)化合物CIr)とシアノ化合物を相聞移動触媒の
存在下に反応させる上記(2)項記載の製造法に関する
ものである。
前記式中、R1,R2およびR4で表わされるアシル化
されたアミノ基におけるア¥ル基とじては、たとえば従
来知られているペニシリン誘導体の6位アミノ基に置換
しているアシy基、セファロスポリン誘導体の7位アミ
ノ基に置換しているアシル基等が用いられる。このよう
なアシル基の例としては、たとえば(1)式 %式%() 〔式中、R5は低級アルキμ、置換基を有していてもよ
いフェニルまたは置換基を有していてもよい複素環基を
示す〕で表わされる基、(2)式(式中、B6 は水素
、置換基を有していてもよいアミノ酸残基、アミノ基の
保護基1式 1− (ca、)rn−co−C式中、R8はアミノ基
、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有して
いてもよいフェニル、置換基を有していてもよい低級ア
ルキル基を、mは口ないし3の整数を、そしていてもよ
いフェニル、置換基を有していてもよい複素環基または
置換基を有していてもよいシクロアルグニル基をそれぞ
れ示す)で表わされる基、(3)式 %式%) は置換基を有していてもよい複素環基または置換基を有
していてもよいフェニル基を、B12は水素。
置換基を有していてもよいフェニル、低級アV)v。
低級アルキ/L’または式−R13−R14(式中、B
13は低級アルキレンまたは低級γμケニレンを、B1
4はカルボキシμ基またはそのエステルを、それぞれ示
す)で表わされる基を、それぞれ示す)で表わされる基
を、R10は単なる結合手1+は式置換基を有していて
もよい複素環基を示す)で表わされる基を、それぞれ示
す〕で表わされる基、〔式中、R16はヒドロキシlL
/lカルボキシル、ヌルホ、ホルミμオキシ、ハロゲン
またはアジド基を、R17は水素、低級アルキμ、低級
アルコキシ。
ハロゲンまたはヒドロキシル基を、それぞれ示す〕で表
わされる基、(5)式 %式%) 〔式中、Rはシアノ、置換基を有していてもよいフェニ
ル、置換基を有していてもよいフェノキシ、置換基を有
していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよ
いγμケ二μまたは置換基を有していてもよい複素環基
を、B19は単なる結合手または−8−を、それぞれ示
す〕で表わされる基などが用いられる。
上記式CA)〜CE )中のR5〜′R19において、
低級アルキμとしては、たとえばメチル、エチル。
n−プロピル、イソプロピル、n−グチp、イソ、ブチ
ル、渡−グチ/’ + t e r t−グチρ、ペン
チル。
イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシルなどの炭素数1
〜6のアルキルが用いられる。
低級アルコキシとしては、たとえばメトキシ。
エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−グト
キシ、インブトキシ、5ee−ブトキシ+tert−グ
トキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキシルオキシ
、イソヘキシルオキシなどの炭素数1〜6のアルコキシ
が用いられる。アルケニルとしては、たとえばビニル、
アリル、イソプロペニル。
2−メタリル、2−グチニル、3−グチ二μなどが用い
られる。シクロアルケニルとしては5〜6員環のものが
好ましく、次とえばシクロヘキセニル、シクロヘキセニ
ル=μなどが用いられる。低級プルキレンとしては、炭
素数1〜3のものが好ましく、その例としては友とえは
メチレン、ジメチルメチレン、エチレン、メチルエチレ
ン、トリメチレンなどが用いられる。低級アルケニレン
としては炭素数1〜3のものが好ましく、その例として
はたとえばビニレン、グロペニVンなどが用いられる。
ハロゲンの具体例としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ
素が用いられる。複素環基としては、たとえば窒素原子
(オキシド化されていてもよい)、酸素原子、硫黄原子
などのへテロ原子を1〜数個含む5〜8員環またはその
縮合環などで脚素原子に結合手を有するものが用いられ
、たとえば2−または3−ピロリル、2−1たは3−フ
リル、2−または3−チェニル、2−4たは3−ピロリ
ジニμ、2−.3−1たは4−ピリジル、N−オキシド
−2−13−または4−ピリジル、2−13−または4
−ピペリジニル、2−.3−または4−ビラ二μ、2−
13−または4−チオビラ二μ、ピフジニル、2−94
−または5−チアシリμ、2−14−または5−オキサ
シリμ、3−94−または5−イソチアゾリル、3−.
4−または5−インキサゾリル、2−.4−または5−
イミダゾリル、イミダゾリルニ/7,3−,4−または
5−ピラゾリμ、ピラゾリジニル、3−または4−ピリ
ダジニル、N−オキシド−3−または4−ピリダジニル
、2−14−または5−ピリミジニル、N−オキシド−
2−14−または5−ピリミジニμ、ピペリジニル、4
−tたti5−(+、2.3−チアシアシリ/l/)、
3−または5−(+、2.4−チアシアシリ/I/)、
1.3.4−チアシアシリ/L’、1,2.5−チアシ
アシリ〜、4−または5−(1,2,3−オキサシアシ
リμ)、3−または5−(+、2.4−オキサシアシリ
/L/)、1.3.4−オキサジアゾリル、1.2.5
−オキサジアゾリル、1,2.3−または1,2.4−
トリアゾリル、lHまたは2H−テトラシリμ、ピリド
C2,3−d)ピリミジル、ベンゾピラニル、1.8−
.1.5−.1.6−.1.7−。
2.7−または2.6−ナフチリジル、キノリμ、チェ
/C2,3−b:)ピリジルなどが繁用される。
アミノ酸残基としては、たとえばグリシル、アラニル、
パリA/ 、 Pイシル、イソロイ¥ル、セリ/L/。
スレオニル、システイニル、シスチル、メチオニμ、α
−またはβ−アスバルチ〃、α−またはγ−グμタミμ
、リジル、アルギニル、フエ二μアラニ〜、フェニルグ
リシμ、チロ¥μ、ヒスチジμ、トリプトフイμ、プロ
リルなどが用いられる。
アミノ基の保護基としては、後述のアミノ基の保護基と
同様のものが用いられる。低級アシμ基としては、炭素
数2〜4のものが好ましく、たとえばアセチA/、プロ
ピオニp、ブチリlvlイソブチ!J/L/などが用い
られる。また、置換基を有していてもよい低級アルキル
、置換基を有していてもよいγμケ二μの置換基として
は、たとえばフエ二μ、力μパモイ〜、メチルカpバモ
イμ、力μボキシル、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシ〜
などが用いられる。置換基を有していてもよいフェニル
、置換基を有していてもよいフェノキシ、置換基を有し
ていてもよいシクロアルケニルの置換基としては、たと
えば炭素数1〜3の低級アルキル、炭素数1〜3の低級
アμコキシ、ハロゲン、アミノ。
ベンジルオキシ、ヒドロキン/I’、炭素数2〜10の
アシルオキシ、アミノメチ〜、カルバモイ〜アミノメチ
ル、3−アミノ−3−力A/$キシプロポキシなどが用
いられる。置換基を有していてもよい複素環基の置換基
としては、たとえば置換基を有していてもよい炭素数1
〜8のアルキル、炭素数1〜3の低級アルコキf 、ヒ
ドロキVA/、カルボキシル、オキソ、モノクロロアセ
トアミド、アルデヒド、トリフルオロメチル′、アミノ
、ハロゲン、上記のごとき置換基を有していてもよいフ
エニlv(例えば2,6−シクロロフエニμなど)。
クマリン−3−カルボニル、4−ホルミ/L’−1−ピ
ベヲジニμ、ピロールアμトイミノ、フヲンアμトイミ
ノ、チオフェンアルドイミノ、メジ〜。
メS//L/アミノ、アミノ基の保護基、ハロゲンで置
換されていてもよい炭素数2〜4のアシμアミノなどが
用いられる。該アミノ基の保護基としては、後述のアミ
ノ基の保護基と同様のものが用いられる。置換基を有し
ていてもよいアミノ酸残基の置換基としては、たとえば
アミノ、アミノ基の体膜基、カルバモイ/l/、メチル
カμパモイ/L/、ベンジμなどが用いられる。該アミ
ノ基の保!!慕としては、後述のアミノ基の保護基と同
様のものが用いられる。R14で表わされるカルホキV
のエステルとしては、たとえばメチルエステル、エチル
エステル、プロピルエステ1vlt−ブチルエステル。
パラニトロベンジルエステlv* 2− )リメチルシ
リルエチルエステルなどが用いられる。
前記R5〜R19で示される置換基中にアミノ基。
カルボキシル基、ヒドロキシル基がある場合には保護さ
れていてもよい。アミノ基の保護基としては、たとえば
後記R1における「アミ7基の保護基」などが用いられ
る。カルボキシル基の保護基としては、β−ヲクタムお
よび有機化学の分野で通常力〜ホキシル基の保護基とし
て使用し得るものはすべて利用でき、たとえばメチル、
エチル。
n−プロピμ、イソプロピ/’+ tert−ブチル。
tert−アミ〜、ベンジル、P−二10ベンジA/I
P−メトキシベンジル、ベンツヒトリール、フエナシμ
、フェニル、P−ニトロフエニμ、メトキVメチル、エ
トキシメチ/L’、ベンジルオキシメチ77.7セトキ
シメチル、ピバロイルオキシメチμ。
β−メチルヌμホニμエチル、メチルチオメチ1vlt
リチル、β、β、β−トリクロロエチル、β−ヨードエ
チ/L/ 、 ’l −’Lリメチルシリルエチ、TL
/、)リメチルシリル、ジメチルシリル、アセチルメチ
ル、P−ニトロベンゾイルメチル、P−メンルベンゾイ
ルメチ/L/Iフタμイミドメチル、プロピオニルオキ
シメチlvlメシルメチル、ベンゼンスpホニルメチ/
L’、フェニルチオメチ/L/lジメチルアミノエチル
等のエステル賎基、シリ〃基などが用いられる。なかで
も、β、β、β−トリクpロエチμ、P−ニトロベンジ
ル、第三級ブチル、2−トリメチルシリルエチ/l/、
P−メトキシベンジμが好ましい。ヒドロキシル基の保
護基としては、β−ヲクタムおよび有機化学の分野で通
常ヒドロキS/A/基の保護基として使用し得るものは
すべて利用でき、たとえばアセチル、クロロアセチルな
どのエステ)V残基、β、β、β−トリクロロエトキシ
カルボニ/l/、2−トリメチルシリルエトキシカルボ
ニルなどのエステル化された力μホキシル基* ter
t−ブチ/L/、ベンジル、P−ニトロベンジ/I/I
トリチル、メチルチオメチlv、β−メトキシエトキシ
メチルなどのエーテ/L/lA基、トリメチルシリ”+
je’rt−ブチルジメチルシリルなどのシリルエーテ
/L’残基、2−テ[ラヒドロピフニ/%/+4−メト
キシ−4−テトラヒドロピラニルなどのアセター/L’
残基などが用いられる。前記保護基の選択は、本発明に
おいてはアミノ基、力μホキシル基の保護基と同様、特
に限定されるものではない。
上記のアシμ基において、弐R5−Co−[A)で表わ
されるアシμ基の具体例としては、たとえば3−(2,
6−シクロロフエニlL/)−5−メチルイソキサシー
/L/−4−イルーカルボニ〜などが用フニμ、D−フ
ェニルアラニル、α−ベンジ/&−N−カルボベンゾキ
シ−γ−D−グルタミ7に−D−アフニ/l’、D−フ
ェニルグリV/L’−D−アヲニ/l/、N−カルボベ
ンゾキV−D−フェニルグリク/L/lD−アヲニルー
D−フェニルグリシル、T−D−グルタミμ−D−アラ
ニル、N−カルボベンゾキ&−D−1フニルーD−フェ
ニルグリシル。
D−カルパモイルトリプトフイA/−D−フェニルグリ
5ytv+x−02−アミノ−3−(N−メチルカルバ
モイル)プロピオニル)−D−フェニルグリシμ、N−
カルボベンゾキシ−D−フェニ〜グリシμ−D−フェニ
μグリシル、D−アラニル−D−アラニル、2−C2−
アミノ−3−(N−メチルカルパモイ/L/)プロピオ
ンアミド〕アセチμ。
D−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラ
ジノカルボキサミド)−2−(4−メトキシフェニル)
アセチlV、D−2−C2−(4−エチ/I/−2,3
−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセトア
ミドシー2−フエニ〜アセチμ、2−(2−アミノチア
ゾール−4−イfi/)−2−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセチA/
、D−2−(4−エチ1v−2.3−ジオキソー1−ピ
ペヲジノカμボキサミド)−2−チェニルアセチμ、D
−2−(4−n−ドブyyv−2,3−ジオキソ−1−
ピペラジノカルボキサミド)−2−フェニルアセチ/u
、D−2−(4,6−ジエ=yv−2、3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボキサミド)−2−フエ二Nlセチ
μ、D−2−(4−シクロヘキシ/L/−2,3−ジオ
キソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−チェニル
アセチv、D−2−C4−n−アミA/−6(S )−
メチA/−2,D−3−ジオキソ−1−ピペラジノカル
ボキサミド)−2−チェニルアセチル、D−2−(4−
エチル−5−メチ/I/−2+a−ジオキソ−1−ピペ
ラジノカルボキサミド)−2−チェニルアセチ/L/、
D−2−(8−ヒドロキシ−1,5−ナフチリジン−7
−カ〃ボキサミド)−2−フェニルアセチル、D−2−
(4−n−オクチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ノカルボキサミド)−2−フェニルアセチル、2−(4
−エチi’−2+ 3−ジオキソ−1−ピペラジノカル
ボキサミド)−2−(4−クロロフエニlv)アセチル
、α−IJ−(4−工+/l’−2.3−ジオキソ−1
−ピペラジニルボニ/l/)り/lz/ミニ=#、D−
N−(4−−r−チ/L’−2。
3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボ=A/)フェニル
アラニル、D−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボキサミド)−2−(4−ヒドロキ
シフェニ)L/)アセチル、2−(4−エチ/I/−2
,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2
−(1−シクロヘキセン−1−イ/L/)アセチ/$’
 、 D −2−(4−n −、t クチ1v−2,3
−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−チ
ェニルアセチ/9.2−(4−エチfi/−2,3−ジ
オキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−(2−
メチルチアゾ−A/−4−イ/L/)アセチ〜、2−(
4−n−オクチμm2゜3−ジオキソ−1−ピペラジノ
カルボキサミド)−2−(2−アミノチアゾ−A/−4
−イμ)アセチル、2−(4−エチfiJ−2,3−ジ
オキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−フリル
アセチル、D−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボキサミド’)−2−(2−ピロリ
/I/)アセチル、D−2−(4−エチル−2゜3−ジ
オキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−3−クロロ
プロピオニ/L、’、 D−2−C4−(2−ヒドロキ
Vエチ/l/)−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカ
ルボキサミド)−2−7エニルアセチル、D−2−[4
−(2−クロロx f N )  2 。
3−ジオキソ−1−ピペラジツカμボキサミド〕−2−
フェニルアセチル、D−2=C(3−)μアリリデンア
ミノ−2−オキソイミダゾリジン−1−イfi/)カル
ボキサミドクー2−フェニルアセチ〜、D−2−、C(
3−フルフリリデンアミノー2−オキソイミダゾリジン
−1−イμ)カルボキサミl−2−(4−ヒドロキシフ
エニμ)アセチル、D−2−CC2−オキソ−3−(チ
オフェン−2−アルドイミノ)イミダゾリジン−1−イ
μ〕力〃ボキサミド〕−2−フェニルアセチル。
D−2−((3−フルプリリチンアミノ−2−オキソイ
ミダゾリジン−1−イ/I/)カルボキサミドクー2−
チエ二〜アセチμ、D−2−C(3−メチルスμホニl
L/−2−オキソイミダゾリジン−1−イ/L’)カル
ボキサミドクー2−フェニルアセチμ。
2−4 (3−フルフリリチンアミノ−2−オキソイミ
ダゾリジン−1−イル)カルボキサミド〕−2−(2−
アミノチアゾ−A/−4−イル)アセチル、D−2−C
C2−オキソ−3−(チオフェン−2−アルドイミノ)
イミダゾリジン−1−イル〕カルボキサミド〕−2−チ
エ二μアセチ/L/、D−2−(4−ヒドロキシ−6−
メチルニコチンアミF )−2−(4−ヒドロキシフエ
ニ/V ) 7セチ〜。
D−2−C5,8−ジヒドロ−2−(4−ホルミ/l/
−1−ピペラジニル)−5−オキソピリド〔2゜3−d
〕ピリミジン−6−カ〜ボキサミド〕−2−フェニルア
セチfi/、n−2−(3,5−ジオキソ−1,2,4
−1−リアジン−6−カμボキサミド)−2−(4−ヒ
ドロキシフエニ/v)アセチル。
D−2−(クマリン−3−カルボキサミド)−2−フェ
ニルアセチル、2−(4−エチ、A/−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−(2−クロ
ロ−1−シクロヘキセン−1−イ/L/)アセチル、2
−(4−ヒドロキン−7−トリフルオロメチルキノリン
−3−カμボキサミド)−2−フェニルアセチル、N−
(2−(2−アミノチアゾ−A/−4−イ1v)7(!
チ/k)−D−7mニルグリシル、n−2−1:〔3−
(2,6−シクロロフエニ1v)−5−メチルイソキサ
ゾール−4−イ!〕カルボキサミド〕−2−チェニルア
セチμ、D−2−(カルバモイル)アミノ−2−チェニ
ルアセチル、N−カルパモイIL’−D−フェニルグリ
シμなどが用いられる。式R9−R10−CO−(C)
で表わされるアシル基の具体例としては、たとえばM−
C2−C2−アミノチアゾ−A/−4−イル)−2−メ
トキシイミノアセチy)−D−アラニA/。
2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−1v−4−イ/
L/)−2−メトキシイミノアセチ/L/、 2− (
2−アミノチアゾ−1v−4−イ/L’)−2−イソプ
ロポキシイミノアセチ#、2−(2−アミノチアゾ−A
/−4−イ/I/)−2−メトキシイミノアセチル。
2−(2−アミノチアゾ−fi/−4−イル)−2−オ
キシイミノアセチμ、2−チェニ/L’−2−メトキシ
イミノアセチ/L/12−フリ/I/−2−メトキシイ
ミノアセチμ、2−(4−ヒドロキシフエニ/I/)−
2−メトキシイミノアセチル、2−フェニル−2−メト
キシイミノアセチル、2−チェニ/L’−2−オキシイ
ミノアセチ〜、2−チェニA/−2−ジクロロアセチ!
オキシイミノアセチμ、2−[4−(3−アミノ−3−
カルボキジプロポキシ)フエ二μ〕−2−オキVイミノ
アセチyv、 2− (5−クロロ−2−アミノチアゾ
−/′v−4−イ/l’)−2−メトキシイミノアセチ
μ、2−(2−アミノチアゾ−/i/−4−イfi/)
−2−(1−カμボキシメトfrVイミノ)アセチμ、
2−(2−アミノチナゾー1v−4−イル)−2−(+
−カルボキシエトキシイミノ)アセチ/L/+ 2− 
< 2−アミノチアゾ−A/−4−イA/)−2−(1
−カルホキy −1−メチルエトキシイミノ)アセチル
、2−(2−アミノチアゾ−1L/−4−イfi/)−
2−(1−メトキンカμボニA/−1−メチルエトキシ
イミノ)アセチlv、 2− (2−7fi /flソ
ーIV−4−イ/L/)−2−(1−力7kyj(キシ
−1−シクロプロピ!メトキシイミノ)アセチ/I/、
2−(2−アミノチアゾール−4−イ/L’)−2−(
1−カルボキシ−1−シクログチμメトキシイミノ)ア
セチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イ/I/)
−2−(1−カルパモイA/−1−メチμエトキシイミ
ノ)アセチμなどが用いられる。式 るアシル基の具体例としては、九とえば、α−スルホフ
エニ〜アセチμ、α−ヒドロキシフェニルアセチμ、α
−ホルミルオキシフェニルアセチ!。
α−カルボキシフェニルアセチμ、2−プロモー2−フ
ェニルアセチμ、2−アジド−2−フェニルアセチμな
どが用いられる。式R18−Rl9−CH−CO−CE
 )で表わされるアシル基の具体例としては、たとえば
、ンアノアセチ〜、フエニμアセチμ、フェノキシアセ
チ/l/、)リフpオロメチμチオアセチμ、シアノメ
チμチオアセチA/、lH−テトラゾイル−1−アセナ
ル。2−チェニμアセチ/L’ l ’2− (2−ア
ミノチアゾ−fi/−4−イル)アセチ#、2−(2−
クロロアセトアミドチアゾ−μm4−イ/I/)アセチ
/I/、4−ピリジpチオアセチμ、3.5−ジクロロ
−1,4−ジヒドロ−4−オキソピリジン−1−アセチ
μ、β−カルボキシビニルチオアセチ〜、2−(2−N
−カルボベンゾキシアミノメチルフェニル)アセチ/L
/、2−(2−ウレイドメチルフェニル)アセチルなど
が用いられる。
R、RおよびRで表わされる保護されたアミノ基の保護
基としては、β−ヲクタムおよびペプチド合成の分野で
この目的に用いられるものが便宜に採用される。たとえ
ばフタロイル、P−ニトロベンシイ/l/、P−tar
t−ブチルペンシイ/’* P  tart−ブチルベ
ンゼンスμホニル、ベンゼンスルホニル、トルエンスル
ホニル等の芳香族アシル基、たとえばホμミ/I/、ア
セチ/l/、グロピオニル、モノクロロアセチμ、ジク
ロロアセチμ、トリクロロアセチμ、メタンスμホニル
、エタンス〃ホニル、トリフルオロアセチ/I/、フェ
ニルプセチル、マロイル、ヌクシニル等の脂肪族アシル
基、たとえばベンジルオキシカルボニル、P−ニトロベ
ンジルオキVカルボニ/l/ 、 P−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、2−トリメチルVすμエトキシカ
pボニ/I/、メトキシカルポニ〜基等のエステル化さ
れた力μポキV/I/基、さらに、例、tば)!Jチμ
、2−ニトロフェニルチオ、ベンジリデン、4−ニトロ
ベンジリデン、ジもしくはトリアルキルシリル、t−ブ
チルジメチルシリμ。
t−ブチルジフェニルシリ/I/、ベンジlL/IP−
二トロベンジル等のアシy基以外のアミノ基の保護基が
用いられる。該保護基の選択ゆ本発明においては、カル
ボキシの保護基と同様、特に限定するものではないが、
特にモノクロロアセチル、トリチル、ベンジμオキVカ
ルボニ〜、P−メFキシベンジルオキシカμボニμ、2
−トリメチルシリルエトキン力μボニA/、P−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル Yは、ハロゲンまたは式−〇〇〇R3, −SCOIi
3またはよs−R3(P?  は炭化水素基を、nは1
またはco)n 2を示す)で表わされる基を示す。ここにおいてハロゲ
ンとしては塩素,フッ素.ヨウ素,臭素が用いられる。
炭化水素基としては、たとえばR5−B19で述べたご
とき置換基を有していてもよい低級アルキル、アμケニ
/I/lシクロアμケニルなどの#丘か、たとえばVク
ロプロピA/,シクロブチ/1/.シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチμ.アダマンチルなど0脚
素数3〜10のシクロアルキル基,たとえばフエニ〜,
トリル、キシリμ,ビフエニ/I/,ナフチμ,アンt
リル.フエナントリルなどのアリーμ基、たとえばベン
ジル、フェネチル、フェニルプロピル、ナフチルメチル
などのアラルキμ基などが用いられる。これらのシクロ
アルキル、アリ−1vlアラルキル基は置換基を有して
いてもよく、このような置換基としては九とえばR5 
〜B19に関して述べ九フェニルまたはフェノキシの置
換基と同じものが用いられる。特に、Yがたとえば低級
アシルオキシ(例エバアセトキシ、プロピオニルオキシ
など)、低級アルキルスルホニ/L’(例えばメチルス
ルホニ/L/。
エチルスルホニルなど)などを示す時、好結果が得られ
る。Xは水素またはメトキシ基を示す。Wは水素または
スルホ基を示す。
本発明においては、化合物CII)とシアノ化合物を反
応させ、必要に応じて保護基を除去することによシ化合
物〔工〕が得られる。
化合物CIO)は遊離のままであるいは種々の酸または
塩基との塩、エステル、シリル誘導体(W=)Iの場合
)等の形で本反応の原料として使用できる。また、化合
物( IF’ )は、3位と4位に置換基を有するので
、シス−トランス異性体が存在し、さらに3位と4位の
炭素が不斉炭素であるため理論上少くとも合計4種類の
立体異性体が存在するが、これら立体異性体を単独であ
るいは混合物のいずれの状態でも使用することができる
。R2で示される基に不斉炭素を有する場合も同様であ
り、その結果化ずる立体異性体は単独であるいは混合物
のいずれの状態でも使用することができる。
化合物CII)の塩としては、1位にスルホ基、R2に
カルボキシル基が存在する場合には、たとえばナトリウ
ム、カリウム等の無毒性カチオン。
アルギニン、オルニチン、リジン、ヒスチジン等の塩基
性アミノ酸.N−メチルグルタミン、ジェタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、トリスヒドロキシメチルア
ミノメタンなどのポリヒドロキシフルキルアミン等との
塩が用いられる。また、R2に塩基性基が含まれている
場合には、たとえば酢酸.酒石酸,メタンスルホン酸な
どの有機酸との塩、たとえば塩酸,臭化水素酸,硫酸.
リン酸など無機酸との塩、たとえばアルギニン、アスパ
ラギン酸,グルタミン酸などの酸性アミノ酸との塩など
が用いられる。さらに、R2がカルボキシル基を含む場
合には、エステル誘導体に変換して用いることもでき、
その場合のエステル基としては、九とえはメトキシメチ
ル、エトキシメチル。
インプロポキシメチル、α−メトキシエチル、αーエト
キシエチμ等のアルコキシメチ/I/.αーアルコキシ
エチル等のα−アルコキシ−α−置換メチル基,メチル
チオメチル、エチルチオメチlvlイソプロピルチオメ
チμ等のアルキルチオメチル基、またピバロイルオキシ
メチル、α−アセトキシブチル等のアシμオキシメ千ル
基またはαーアシルオキンーαー置換メチル基1エトキ
シカルボニルオキシメチ/I/,αーエトキVカルボニ
ルオキシエチ〃等のα−アルコキシ炭酸−α−置換メチ
ル基等が用いられる。そして、化合物CII)はVリル
化剤でVviv化されたものも原料として用いラレる。
シリ)し化剤としては、たとえば式が−7・R3・Si
−Hal〔式中、Pl,R2,R3  はそれぞれたと
えば炭素数1ないし4の低級アルキIVcたとえばメチ
ル、エチ/L/In−プロピル、1−プロピル+ n−
ブチルなど)、アリ−/1/(たとえばフエニlv、ト
リルなど)などの伏化水素基を、Halはハロゲン好ま
しくはクロル、ブロムを示し、そしてpi  、 p2
  、 p3 のうち1つまたは2つはハロゲン好まし
くはクロμ、ブロムを pl  、 p2゜P3のうち
1つは水素原子であってもよい〕で表わされる化合物な
どが用いられる。さらに、たとえばヘキサアルキy(C
1,)yクロトリシフザン、オクタアルキル(C1−4
)シクロテトフシヲザン、トリアpキーVCCよ−4)
シリルアセタミド。
ビス−トリアルキ/l/(Cニー4)シリルアセタミド
などもシリル化剤として用いられる。シリル化剤の好ま
しいものとしては、たとえば式 〔式中、yl およびY2はそれぞれ低級アルキル。
フェニル、ベンジlvまたは低級アルコキシ基を、Y3
 はt−ブチルまたはイソプロピル基を y4はシリル
化剤から脱離する反応性の基をそれぞれ意味する〕で示
されるシリル化合物がある。上記の一般式で示されるシ
リル化剤においてyl  、y2で示される低級アルキ
ル基としては、たとえばメチ/I/lクロロメチル、エ
チ/L’+n−プpビfi71イソプロピル、n−ブチ
/L’+tert−ブチp等が、低級アルコキシ基とし
てはたとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ+n−グトキシ、t−ブトキシ等が用いら
れる。またシリル化剤から脱離する反応性の基Y4とし
ては、ハロゲン(たとえばクロ/I/、ブロム等)の他
たとえばN−(トリアルキルシリ/l’))リフ〜オロ
アセトイミドイμオキシ基+N−()リアルキルシリ/
I/)アセトイミドイμオキV基lホルミ〜アミノ、ア
セチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、
トリフルオロアセチルアミノ等のアシルアミノ基;(ト
リーt−ブチルジメチルシリル)アミノ、イソプロビル
ジメチ〜シリルアミムクロロメチルジメチルシリlv)
アミノ等の(トリアルキルシリ/I/)アミノ基;アミ
ノ;メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ等の
アルキルアミノ基iN、N−ジメチpアミノ、N−クロ
ロメチA/−N−メチルアミノ、N、N−ジエチルアミ
ノ、N、N−ジプロピルアミノ、N−メチル−イル等の
複素環式基が用いられる。これらY″で表わされる反応
性の基におけるアルキル基としては、炭素数1ないし4
のものがよく、メチル、エチ/l/ 、 n−プロピμ
、イソプロピ〜、n−ブチル。
t−グチルなどが用いられる。
このよりなシリアy化合物の具体的な例としては、N、
O−ビス(t−グチμジメチμシリlv)トリフμオロ
アセトアミド、N、O−ビス(イソプロピルジメチルシ
リμ)アセトアミド、ビス(ジメチルイソプロピルシリ
/I/)アセトアミド、イソプロヒルジメチルシリルア
セトアミド、ビス(ジメチル第3級ブチルシリIL/)
アセトアミド、N−メチ/k −N −t−プチルジメ
チμシリ〜アセトアミド、H−メチA/−N−イソプロ
ピルジメチルシリルトリフμオロアセトアミド、N−t
−ブチルジメチルシリルジエチルアミン、1.3−ビス
(クロロメチル)−1,1,3,3−テトラ−t−ブチ
ルジメチルジシラザン、N−イソプpビルジメチルシリ
〃イミダゾ−Iv、t−ブチルジフェニルクロロシラン
、イソプロピμジエチルクロロシフン、イソプロビルメ
チルジクロロシフン+ tart−グチルジメチルクロ
ロシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、t−ブ
チルジエチルクロロシラン等が用いられ、このうちte
rt−グチルジメチルクロロシラン、イソプロピルジメ
チルクロロタラン等を用いた場合にはシリル誘導体を安
定に単離しうる。シリル化合物の温度はθ〜50しの温
度、好ましくは38℃までの温度、通常室温(約20℃
)で行われ、反応時間は数分(約10分)ないし24時
間である。反応は例えば、酢酸エチル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランI N IN−ジメチルアセトアミド
、N、N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、べンゼン、トルエン、アセトン、メチルエ
チルケトン、アセトニトリル等、またはこれらの混合溶
媒、その他この反応に関与しない溶媒中で行なづ゛のが
便宜である。ま走この反応は、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム。
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基或いはたと
えばトリエチルアミン、トリエチルアミン等のトリアル
キルアミン、たとえばトリベンジルアミン等のトリアル
キルアミン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリ
ジン、N、N−ジアルキルアニリン、N、N−ジアルキ
ルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、Ivピリジン
の有機三級アミン、或いは1.5−ジアザビシフP C
4+ 3 。
0〕ノン−5−エン、1.4−ジアザビシクロC2,2
+2.)オクタン、1.8−ジアザビシクロC5,4,
4)ウンデセン−7等の有機塩基の存在下に行なうこと
ができ、塩基が液体のものは溶媒を兼ねて使用すること
ができる。かくして得られる化合物CI)のシリル誘導
体は、反応混合物のままあるいは下記のごとき公知の手
段にょる単離、精製後に、シアノ化合物との反応の原料
として用いられる。
このようにして得られる化合物CI[,11の1−シリ
ル誘導体において、上記R2が保護されているアミノ基
の場合、保護基を脱離してbら、さらにアシル化反応に
付し、所望の化合物〔■〕の1−シリル誘導体を製造す
ることもできる。この3位のアシル変換反応は収率良く
進行し操作も簡便なため賽易に行うことができ、所望の
アシル基で置換された種々の2−オキソアゼチジン誘導
体の合成にとって極めて有用であシ、さらにシアノ化合
物との反応を連続して行なうこともできる。
また、シアノ化合物としては、たとえば式〔式中、Zは
アルカリ金属、アルカリ土類金属を示す〕で表わされる
化合物を用いることができる。
具体的にはたとえばVアン化カリウム、シアン化ナトリ
ウム、シアン化カルシウムなどを用いることができる。
本反応では、化合物〔■〕1七μに対してVアノ化合物
約1〜3七μ好ましくは1〜1.1モル反応させる。通
常、溶媒中で行なわれる。使用される溶媒としては、水
またはジオキサン、デトフヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類。
酢酸エチ〜、ギ酸エチルなどのエステル類、四塩化病素
、クロロホルム、ジクロルメタンなどのハロゲン化法化
水素類、ベンゼン、トルエン、n−ヘキサンなどの灰化
水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
などのアミド類、メタノール、エタノール、インプロパ
ノ−p、t−ゲタノーpなどのアルコール類、ジメチル
スルホキシド、スルホフン、ヘキサメチルホスホルアミ
ドなど通常の有機溶媒が、単独または混合して用いられ
る。なかでも、たとえば水、ジオキサン、テトフヒドロ
フラン、四塩化決素、ジクロμメタン。
クロロホルム、ベンゼン、ジメチルホルムアミド。
ジメチルアセトアミド、メタノール、インプロパノ−〜
、ジメチルスルホキシドなどの溶媒が好ましい。また、
本反応は、相聞移動触媒の存在下に行なうと、化合物〔
I〕においてR1とシス配位にCN基が導入された化合
物の製造が促進されより好ましい結果が得られる。ここ
に言う、相聞移動触媒とは、液−液の二相のそれぞれに
分離して存在する反応基質の一方を、イオン対の型で他
の液相に可溶化させることにより、反応を促進する物質
を意味する。このような相聞移動触媒としては、たとえ
ば窒素原子または燐原子にアルキμ基。
アリール基、アルコル類から選ばれた同一または相異な
る4個の基が結合した陽イオン(アンモニウムイオンま
たはホスホニウムイオン)と酸基(陰イオン、たとえば
C17+ Br−+ I−、F’t010″4゜BF″
4.BH; 、 aso; 、 OH−、u2po;な
ど)からなるものなどであって、本反応の目的が達成さ
れるものが用いられる。
具体的には、たとえば塩化テトラメチルアンモニウム、
塩化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラ−n−ブチ
ルアンモニウム、塩化)jl−n −オクチルメチルア
ンモニウム、塩化トリメチルステアリルアンモニウム、
臭化テトラ−n−アミルアンモニウム、臭化n−ペキン
μトリメチルアンンモニウムなどのハロゲン化テトラア
ルキ/l/(i素数合計4〜50)アンモニウム、臭化
フェニルトリメチルアンモニウムなどのハロゲン化アリ
−μトリアルキlv(決素数合計9〜50)アンモニウ
ム、塩化ベンジ/L/ジメチルデシルアンモニウム。
塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化セシμベン
ジルジメチルアンモニウムなどのハロゲン化アフルキル
トリプルキ/L/(次素数合計13〜50)アンモニウ
ムなどのアルキル基、アリール基、アラy?rμ基から
選ばれた同一または相異なる4個の基が置換したアンモ
ニウムイオンとハロゲンイオンからなるもの、たとえば
硫酸水素テトラ−n−グチルアンモニウム、硫酸水素テ
トラメチルアンモニウムなどの硫酸水素テトラアルキル
(侠素数合ti4〜50)アンモニウムなどのアルキル
基、アリール基、アラμキル基から選ばれた同一または
相異なる4個の基が置換したアンモニウムイオンとH8
0−(硫酸水素イオン)からなるもの、水酸化テトラ−
n−グチルアンモニウムなどの水酸化テトラアルキル(
戻素数合計16〜50)アンモニラふなどのアルキル基
、アリール基、アラルキμ基から選ばれた同一または相
異なる4個の基が置換したアンモニウムイオンと0H−
(水酸基イオン)からなるもの、たとえば臭化テトラ−
n−ブチルホスホニウムなどのハロゲン化テトラアルキ
ル(廣素数合lft4〜50)ホスホニウム、塩化ベン
ジルトリフェニルホスホニウムなどのハロゲン化アラル
キルトリアリ−/L/(決素数合計9〜50)ホスホニ
ウム、臭化n−ブチμトリフェニルホスホニウムなどの
ハロゲン化アルキ〜トリアリ−μ(戻素数合計19〜5
0)ホスホニウムなどのアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基から選ばれた同一または相異なる4個の基が置
換したホスホニウムイオンとハロゲンイオンからなるも
のなどが用いられる。とりわけ、たとえば塩化トリーn
−オクチルメチルアンモニウム、W酸水素テトラ−n−
グチルアンモニウム、臭化テトフーn−7ミルアンモニ
ウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化テト
ラ−n−1チルホスホニウムなどが用いられる。これら
相聞移動触媒は、化合物〔■〕1モルに対して、約0.
01〜1七μ、好ましくは0.05〜0.2モル反応に
用いられる。相聞移動触媒を用いる場合の溶媒としては
、水と上記のごとき有機溶媒の混合物がよく、混合割合
として水1部に対して有機溶媒0.5〜5部好ましくは
0.5〜1部混ぜたものが用いられる。反応温度は、通
常0〜2(lの範囲で行なわれるが、とくにこの条件に
限定されるものではなく必要に応じ、適宜加温、冷却を
行なってもよい。また、反応時間は用いられる溶媒、温
度などにより適宜決定されるが、通常短時間で終了する
反応終了後、生成した化合物CI)はたとえば溶媒抽出
、再結晶、クロマトグラフィー等、それ自体公知の分離
精製手段により任意純度のものとして得ることができる
が、反応混合物のまま次の反応の原料として用いてもよ
い。
かくして得られる化合物CI)において、保護基を有す
る場合には、必要に応じて保護基を除去することもでき
る。保護基を脱離する方法としては、その保護基の種類
に応じて、酸による方法。
塩基による方法、還元による方法、チオ尿素またはN−
メチルジチオカルバミン酸す°トリウムによる方法等の
常用の方法を適宜選択して行うことができる。ここで酸
による方法の場合には、保護基の種類その他の条件によ
って異なるが、酸として例えば塩酸、硫酸、リン酸等の
無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸
、ベンゼンスルホン酸、P−)μエンスルホン酸等の有
機酸の他、酸性イオン交換樹脂等が使用される。塩基に
よる方法の場合には、保護基の種類その他の条件によっ
て異なるが、塩基として例えばナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属もしくはカルシウム、マグネシウム等の
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等の無機塩基、金
属アルコキサイド焼有機アミン類、第四級アンモニウム
塩等の有機塩基の他、塩基性イオン交換樹脂等が使用さ
れる。
上記酸または塩基による方法の場合において溶媒を使用
する場合には親水性有機溶媒、水または混合溶媒が使用
されることが多い。還元による方法による場合には、保
護基の種類その他の条件により異なるが、例えばすす、
亜鉛等の金属あるいは2塩化クロム、酢酸クロム等の金
属化合物と、酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機および
無機酸等の酸を使用する方法、接触還元用金属触媒の存
在下に還元する方法等が用いられ、ここで接触還元によ
る方法で使用される触媒としては、例えば白金線、白金
海綿、白金黒、酸化白金、コロイド白金等の白金触媒、
パラジウム海綿、パラジウム黒。
酸化バヲジウム、バヲジウム硫酸バリウム、パラジウム
次酸バリウム、パラジウム択素、パラジウムシリカゲ/
L/、コロイドパラジウム等のバラジウAM[、還元ニ
ッケ/L/l酸化ニッケ/I/lラネーニッケル、漆原
ニッケル等が用いられる。また金属と酸による還元方法
の場合においては鉄、クロム等の金属化合物と塩酸等の
無機酸およびギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸が使
用される。還元による方法は通常溶媒中で行われ、例え
ば接触還元による方法においてはメタノール、エタノ−
/L/lプロピルアμコール、イソプロピルアルコール
等のアルコール類、酢酸エチル等が繁用される。また金
属と酸による方法においては水、アセトン等が繁用され
るが酸が液体のときは酸自身を溶媒として使用すること
もできる。反応温度は通常冷却下ないし加温程度で行わ
れる。得られる化合物CI)は、上記のごとき公知の手
段により単離精製することもできるが、反応混合物のま
ま次の反応の原料として用いることもできる。
また、得られた化合物CI)において、R2がアミノ基
である場合には式 %式%) 〔式中、FloCOはR1、R2およびR4に関して述
べたごときアシμ基を水量〕で表わされるカルボン酸ま
たはその反応性誘導体と反応させて、適宜アV/I/化
することもできる。
R2がアミノ基である化合物CI)は、遊離のままであ
るいは化合物CM〕で述べたごとき樵。
エステル、シリル誘導体の形で用いられてもよい。
力pボン酸CIL)の反応性誘導体としては、例えば酸
ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド、活性エステル等
が用いられ、このような有機酸の反応性誘導体を具体的
に述べると次のとおりである。
1)酸無水物: ここで酸無水物としては、例えばハロゲン化水素酸(例
えば塩酸、臭化水素酸等)混合酸無水物。
七ノアルキμ炭酸混合酸無水物、脂肪族力μポン酸(例
えば酢酸、ピバル酸、吉草酸、インペンタン酸、トリク
ロル酢酸等)混合酸無水物、芳香族カルボン酸(例えば
安息香酸等)混合酸無水物。
対称型酸無水物等が用いられる。
2)活性アミド: こむで活性アミドとしては例えば、イミダゾ−y’ +
 4−置換イミダゾ−/L/ 、ジメチルピラゾール。
ベンゾトリアゾール等とのアミドが用いられる。
3)活性エステル: ここで活性エステルとしては、例えばメチルエステル、
エチルエステル、メトキシメチルニスチャ、プロパルギ
ルエステ/l/、4−二卜ロフェニルエステル、2.4
−ジニトロフェニルエステ)vlトリクロロフェニルエ
ステル、ペンタクロロフェニルエステル、メンルフェニ
ルエステル等のエステルの他、1−ヒドロキシ−IH−
2−ピリドン。
N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシ−5−
ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド、N−ヒド
ロキシフタルイミド等と前記カルボン酸等の酸とのエス
テル等が用いられる。
このような有機酸の反応性誘導体は使用する酸の種類に
よって適宜選択され、さらにアシμ化剤として遊離の酸
を使用する場合には縮合剤の存在下に反応を行なうのが
好ましく、そのような縮合剤としては例えば、H、N’
−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シクロヘキシ
/L’N’−モルホリノエチルカルボジイミド、N−シ
クロヘキシル−1f’−(4−ジエチルアミノシクロヘ
キシル)カルボジイミド、N−エチル−N’−(3−ジ
メチルアミノプロピy)カルボジイミド等が用いられる
該アシル化反応は、通常溶媒中で行なわれる。
溶媒としては水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
/L/l塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン
、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルホルムア
ミド、ピリジンまたはその他の反応に関与しない一般有
機溶媒が用いられ、これらのうち親水性の溶媒は水と混
合して使用することもできる。
またアシル化反応はたとえば、水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどの
無機塩基、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
エチルアミン、N−メチpモμホリン、N−メチルピペ
リジン等のトリアルキルアミン、N、N−シアルキルア
ニリン、N。
N−シアルキルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、
ルチジン、有機三級アミン、1.5−ジアザビシクロC
4,3,0)ノン−5−エン、1゜4−ジアザビシクロ
C2,2,2)オクタン口。
8−ジアザビシクロ[5,4,4)ウンデセン−7等の
有′41に塩基の存在下に行なうことができ、塩基もし
くは前述の縮合剤のうち液体のものは溶媒を兼ねて使用
することができる。反応温度は特に限定されないが、通
常冷却下ないしは室温で行なわれることが多い。
また、アシル化反応において、化合物CI)およびア¥
ル化剤CIV)においてそれらの化合物中に不%次素を
有する場合には、立体異性体を単独であるいは混合物の
いずれの状態でも使用することができる。また、この反
応でこれらの異性体が混在して生成する場合には必要に
応じて夫々をカラムクロマトグラフィ、再結晶等の常法
により単離することができる。かくして得られる化合物
〔工) (1’l 4NH3)に保護基がめる場合は必
要に応じて前記と同様にして除去することも可能である
。さらに、上記方法で得られる化合物CI)においせ、
Wが水素を示す場合には、スルホン化を行なうことも可
能である。
本反応のスルホン化とは、化合物CI)(W=H)の1
位にスルホ基を導入することをいい、化合物CI)(W
=H)とたとえば無水硫酸、あるいは無水硫酸の反応性
誘導体などとを反応させることによシ行なう。化合物〔
工) (W=H)は、遊離のままでおるいは化合物(I
I)に関して述べたごとき塩、エステル、シリル誘導体
の形で用いられ、さらに理論上存在し得る立体異性体単
独あるいは混合物の形で反応に供することもできる。
無水硫酸の反応性誘導体としては、たとえば無水硫酸−
塩基コンプレックス(たとえば無水硫酸−ピリジン、無
水硫酸−トリメチルアミン、無水硫酸−ピコリン、無水
硫酸−ルチジン、無水硫酸−N、N−ジメチルホルムア
ミドなど)、無水硫酸−ジオキサン、無水硫酸−クロロ
スルホン酸などの付加体などが用いられる。
上記スルホン化反応は、化合物(I)(W−H)1モル
に対し、無水硫酸またはその反応性誘導体を約1〜10
モ〜、好ましくは約1〜5モル使用する。反応温度は、
約−78〜約80℃、好ましくは約−20〜約60℃で
ある。上記反応にめたっては、溶媒を使用してもよく、
該溶媒としては、水、またはジオキサン、テ卜フヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチ
ル。
ギ酸エチルなどのエステル類、クロロホルム、ジクロル
メタンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、n−ヘキサンなどの戻化水素類。
N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセ
トアミドなどのアミド類など通常の有機溶媒が単独また
は混合して用いられる。用いられる原料CI)(W=H
)、スルホン化剤、反応温度、溶媒の種類により異なる
が、通常数十分から数十時間で反応は終了するが、とき
に数十日間を要することもある。反応終了後、反応混合
物を溶媒抽出、再結晶、クロマトグラフィー等それ自体
公知の精製分離手段に付すことにより、化合物CII)
(W=SO3H)を任意純度のものとして得ることがで
きる。また、保護基が存在する場合には、前記のごとき
方法により除去することも可能である。
かくして得られる化合物CI)が、遊離形である場合に
は、常法によシ化合物CII)で述べたごとき塩または
エステルに導いてもよく、逆に塩、エステルの形で得ら
れる場合には、常法により遊離形に導いてもよい。
このようにして得られた4−vアノ−2−アゼチジノン
誘導体〔工〕は新規な化合物でるり、種々の4−置換−
2−アゼチジノン誘導体の有利な合成中間体として広範
囲な用途があるほか、W=5o3Hのものは抗菌作用及
びβ−ラクタマーゼ阻害作用を有している。
たとえば、化合物CI’)lを水利反応に付し、必要に
応じて保護基を除去することにより化合物CM、lが製
造される。本反応においては、化合物〔■〕のシアノ基
がカルバモイル基に変換される。
原料として用いられる化合物CI)は、遊離形でもよく
、また化合物CII)で述べたごとき塩、エステル、シ
リル誘導体に導いたものでもよい。また、化合物CI)
は、3位と4位に置換基を有するので、シス−トランス
異性体が存在し、さらに3位と4位の炭素が不斉病素で
あるため:m論上少くとも合計4種類の立体異性体が存
在するが、これら立体異性体を単独であるいは混合物の
いずれの状態でも使用することができる。Pl  で示
される基に不斉病案を有する場合も同様であシ、その結
果生ずる立体異性体は単独でおるいは混合物のいずれの
状態でも使用することができる。
本水利反応は、化合物CI)の4位シアノ基をカルバモ
イμ基に変換しつるものであれば、いかなる方法であっ
てもよく、たとえば化合物〔工〕に酸または塩基を作用
させる方法、化合物CI、)と過酸化水素を塩基の存在
下に反応させる方法などが用いられる。このような塩基
としては、例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム等
のアルカリ金属または例えば力pシウム、マグネシウム
等のアルカリ土類金属の水酸化物(例えば水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カルン
ウム、水酸化マグネシウム等)又は炭酸塩(例えば択酸
ナトリウム、度酸カリウム、炭酸カルシウム等)等の無
機塩基、金属アルコキサイド類(例えばナトリウムメチ
ッート、ナトリウムエチフート等)、有機アミン類(例
えばトリエチルアミン、N−ジメチルアニリン、ジイソ
プロピルアミン等)、第4級アンモニウム塩(例えばテ
トラ−n−グチμアンモニウムヒドロキ¥牌0等の有機
塩基、塩基性イオン交換樹脂等が用いられる。なかでも
、好ましい塩基としては、たとえばアルカリ金属の水酸
化物(例えば水酸化ナトリウムなど)などが繁用される
。また、酸としては、たとえば塩酸、硫酸、リン酸、ポ
リリン酸、塩化第2鉄、塩化亜鉛、二酸化マンガン、三
フッ化ホウ素、塩化バフジウム、四塩化チタン等の無機
酸もしくはその塩、ギ酸、酢酸、1) −)/l/エン
スルホン酸、トリフ〜オロ酢酸等の有機酸、Vリカケル
、酸性イオン交換樹脂等が用いられる。特に、たとえば
、塩酸、硫酸、二酸化マンガン、塩化パラジウム、四塩
化チタンなどの酸が好ましい。このような塩基または酸
の使用量は、通常化合物〔131モルに対して0.1〜
4.0モル好ましくは0.1〜1.0モルである。また
、過酸化水素を用いる場合には化合物〔131モルに対
して塩基を0.05−4.Qモ/Lz1好ましくは0.
05−1.0モ/l’使用する。過酸化水素の使用量は
、通常化合物CI)1モルに対し1.0〜10モル好ま
しくは1.0〜4モルである。本反応は、通常溶媒中で
行なわれ、このような溶媒としては、たとえば水、エー
テp(たとえばテトラヒドロフヲン、ジオキサンなど)
、酸アミド(たとえばH,M−ジメチルホμムアミド、
N、M−ジメチμアセトアミドなど)、炭化水素類(た
とえばベンゼンなど)、ケトン(たとえばアセトンなど
)、アルコ−/L/(たとえばメタノ−/L/lエタノ
ール、プロパノ−p、ゲタノールなど)、ハロゲン化炭
化水素(たとえばクロロホルム、ジクロロメタンなど)
、脂肪酸(たとえばギ酸。酢酸など)、エステル(たと
えば酢酸エチルなど)、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン。
ヘキサメチルホスホルアミドあるいはこれらの混合物な
どが用いられ、なかでも、水、イソプロパノ−/L/、
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン。
ジメチルスルホキシドなどが繁用される。また、溶媒と
して水と有機溶媒とを混合して用いる場合、相聞移動触
媒の存在下、反応を行なうこともできる。相聞移動触媒
としては、前述の、化合物CIDとシアノ化合物との反
応におけると同様のものが用いられる。これら相聞移動
触媒は、化合物CI)1モルに対して、約0.1〜2七
μ、好ましくは0.5〜1モル反応に用いられる。反応
温度は、通常0〜80′Cの範囲で行なわれるが、とく
にこの条件に限定されるものではなく、必要に応じ、適
宜加温、冷却を行なってもよい。反応時間は通常短時間
で終了する。
反応終了後、反応混合物をたとえば溶媒抽出。
再結晶、クロマトグラフィー等それ自体公知の精製分離
手段に付すことにより、化合物〔■〕を任意純度のもの
とし得ることができるが、反応混合物のまま次の反応の
原料として用いることもできる。また、この反応で異性
体が混在して生成する場合には必要に応じて公知の手段
により単離してもよく、化合物CI[)の置換基に保護
基が存在する場合には必要に応じて前記と同様にして除
去することもできる。
このようにして得られる化合物Cm)のWが水素の場合
には、化合物〔工)(W=H)のスルホン化と同様にし
てスルホン化することにょシ、Wがスルホ基でめる化合
物[111)に導くことができるのは自明である。
かくして得られる化合物CI[I)が遊離形の場合は、
常法によシ前記のごとき塩、エステルに変えてもよく、
化合物Cm)が塩またはエステルとして得られる場合に
は常法によシ遊離形に導いてもよい。
得られる化合物Cm)の中でw = 803 Hのもの
は新規化合物であって優れた抗菌力およびβ−ラクタマ
ーゼ阻害作用を有している(ドイツ出願P314802
1、7号)。
また、化合物CI)と硫化水素を反応させると、化合物
〔工〕の4位シアノ基の代わシに−C8NH2を有する
化合物が製造される。この反応は化合物CI)またはそ
の塩、エステルま九はVリル誘導体1モルに対して硫化
水素を1.0〜3モル程度反応させるのがよい。反応は
室温またはそれ以下で進行させるのが有利でゐる。反応
はたとえば、クロロホルム、ジクロルメタン、ベンゼン
、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、H,
N−ジメチルホルムアミド、M、N−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、酢酸、水などの溶媒中で
行なうのが好ましい。反応は通常短時間で完了する。
また、化合物〔工〕と九とえはメタノール、エタノール
などのアμコーp類を反応させると、化合物CI)の4
位にシアノ基の代わりにア〜コキシカμポニμ基を有す
る化合物が製造される。化合物〔工〕と当モル以上のア
ルコ−μ類を反応させて行なうが、アルコ−μ類それ自
体を溶媒として用いる場合が多い。溶媒を使用する場合
は、たとえば、クロロホルム、ジクロロメタン、ベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド等の溶媒中で行なうのが好ましい。反
応温度は、通常0〜80℃の範囲で行なわれるが、とく
にこの条件に限定されるものではなく、必要に応じ適宜
加温、冷却を行なってもよい。反応時間、その他の条件
は、用いられる溶媒、温度などにより適宜決定されるが
、たとえば、硫酸、塩酸、リン酸などの無機酸、酢酸I
P−ト/レニンスルホン酸などの有機酸、たとえば、塩
化アルミニウム、塩化亜鉛、三フッ化ホウ素などのルイ
ス酸を共存させることにより反応時間を短縮することが
できる。
なお、本発明の原料化合物(It)は、たとえば以下に
示す方法によって製造することができる。
本発明の原料化合物CI[)(W−H)は、Yがアシμ
オキシ基の場合、たとえば、テトラヘドロlレターズ(
Tetrahedron  Letters ) + 
405’9(1978)、わるいは特開昭54−765
70に記載されている方法、またはそれに準する方法に
より、あるいはたとえばアナーレン・デア・ヘミ−(A
nnalen  der  Chemie )  19
74+ 539紀載の方法に従って次の1)、2)の経
路によシ合成しうる。
1) 〔V〕 2) 〔■〕           〔■〕 上記各工程において、R2,Y、Xは前記と同意義を、
B20は保護されたアミノ基を、B21はア¥μ化され
たアミノ基をそれヤれ示す。
また、W=SO3Hである原料化合物〔■〕は、上記の
ごとくして得られたW=Hの化合物[II)をスルホン
化することにより合成できる。このスルホン化は、化合
物〔工) (W=H)のスルホン化と同様にして行なう
ことができる。
次に実施例および参考例をあげて本発明を具体的に説明
する。なお、IMEスペクトルはパリアンHA100型
(100MHz)  で測定し、テトラメチルシランを
基準とし、δ値をppmで表わす。また8はシングレッ
ト+br、sは幅広いシングレット、dはダプレッ) 
、ddはダグμダブレット 。
tはトリプレット、qはカルチット、mはマμチプレッ
ト、ABqFiAB型の力ρチット、Jは結合定数、’
I”HFはテトラヒドロフラン、 DM1i’はジメチ
ルホルムアミド、DMSOはジメチルスルホキシド+ 
br、あるいはbroadはブロード、 aromは芳
香族を意味する。
以下の参考例、実施例において、特記しない場合はVリ
カゲμカッムクロマトグラフィーはArt。
9185.230〜400メツシユ、キーゼル・ゲIW
 (Kiesel  Gel ) 60 (メμり社製
)を用い、クロマト精製される前の粗生成物のTLC分
析で、TLCプレートに新らしく出現したメインスポッ
トのRf−値と同一の値を示すフラクションを集める。
TLCは、特記しない場合はArt 。
564−2 、 HPTLCキーゼル・ゲ/L’ (K
ieselGel ) ”F254 (メルク社製)の
プレート及びクロマトグラフィーで使用した溶媒と同一
の展開溶媒を用い、UV検出器で検出する。また、XA
D−II(100〜200メツVユ)カラムクロマトグ
ラフィーは、展開溶媒として水〜20%エタノール水を
用いて、254 nmの吸収(LKB  UV工C0R
D 2 、 (スウェーデン製)使用)のあるフラクシ
ョンをそれぞれ集める。集めたフラクションは凍結乾燥
して精製品とする。
発明を実施する友めの最良の形順 参考例1 (38,48)−4−シアノ−3−CD−2−(4−エ
チIv−2.3−ジオキソー1−ピベフジンカルボキサ
ミド)−2−(チオフェン−2−イ/l/))アセトア
ミド−2−アゼチジノン0.488fをジメチルホルム
アミド2dに溶解し、これに無水硫酸−ジメチルホルム
アミドコンプレックス0.536Fを含むジメチルホル
ムアミド3.5 ml t−70℃で加え、OCで2日
間反応させた。反応液にピリジン0.5 mlを加えた
のち、減圧下に濃縮した。残留物に水を加え、不溶物を
p去し、炉液をDowex  50 W樹脂(ダウケミ
カル社製)ナトリウム型カッムを通したのち、アンバー
ライトxhD−TI樹BNcローム・アンド・ハース社
製)カラムで精製すると(38,4B)−4−シアノ−
3−CD−2−C4−xチtv−2,3−ジオキソ−1
−ピペラジンカルボキサミド)−2−(チオフェン−2
−イル)〕−〕アセトアミドー2−アゼチジノン1−ス
ルホン酸ナトリウム0.35Ofを得た。
IRvKBrcm−’ : 1780. 1710. 
1675゜ax +510.1280,1260.10105ON (D
MSO−d6.ppm): 1.10(t、J=5H2
゜CH3) 、3.41 (CL r J −5Hz 
l−CH2−) 、a、 60(m 、−CHa  )
 、3.93(m、−an2−)、  4.90(d+
J−4Hz+  04−H)、5.30(ddlJ−4
゜8Hz 、C3−H) 、5.83 (d 、J=4
Hz 、−CL)。
6.90−7.60(m、aromH) 、9.76(
d 、J=4Hz、MH) 19.83(a 、J=8
H2,NH)参考例2 1)(38,48)−3−C2−(2−クリロアセトア
ミドチアゾー〜−4−イp)−2−メトキシイミノ〕ア
セトアミド−4−シアノ−2−アゼチジノン0.220
fをDMt’2dに溶解し、これに無水硫酸−DMli
’コンプレックス0.2751を含むnMFl、8m?
m液を−TO℃で加え、0℃で3日間反応させた。反応
液にピリジン0.5 mlを加え、参考例1と同様に処
理すると、+ (38,48)−3−C2−(2−クロ
ロアセトアミドチアゾ−μm4−イA/)−2−メトキ
シイミノ〕アセトアミド−4−シアノ−2−アゼチジノ
ン−1−スルホン酸ナトリウム0.170 fが得られ
た。
IRJ/KBrcIr1:17B0. 1670.15
40+aX 1260.1055 NMI1055N、外部基準、ppm)’ 4.04 
(s +ocu3) 、4.44(s 、−Cn2− 
) 、5.26(a 、、T=5Hz + C−H) 
、5.46 (d 、J=5H2lC3−H) 、7.
50 (a 、8YH)2)上記1)で得たクロロアセ
トアミド誘導体0、1501/を水6IIdに溶解し、
ナトリウムモノメチルジチオカーバメート0.05(l
を水冷下に加え、室温(約25℃)で3時間かきまぜた
。反応液をXAD−I[カラムで精製すると、(38,
48)−3−C2−(2−7ミ/チアゾ−1v−4−イ
ルシー2−メトキシイミノ〕アセトアミド−4−シアノ
−2−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリウム0.0
67fが得られ念。
IRvKBrax−’: 17B0,1665,161
0゜m&X 1520.1260.105O NM105ON、外部基準+ ppm): 4.00 
(s +参考例3 1)(38,4B)−3−[2−(2−クロロアセトア
ミドチアゾール−4−イ1v)−2−メトキシイミノ〕
アセトアミド−4−¥アノー2−アゼチジノン0.48
2fをD M F 2 mlに溶解し、これに無水硫酸
−DMFコンプレックス0.597fを含むD M F
 3.9 ml溶液を一70℃で加え、OCで2日間反
応させた。反応液にピリジン0.5 mlを加え、参考
例1と同様に処理すると、(38,4′B)−3−C2
−(2−クロロアセトアミドチアゾ−μm4−イ1v)
−2−メトキシイミノ〕アセトアミド−4−シアノ−2
−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリウム0.39(
lが得られた。
IRvKBrW’ :17B5.16HT、1550゜
ax 1260、ぐ1055 NM1055N、外部基準、ppm) : 4,06 
(s +0CH3)、 4.44(s 、−0M2−)
、 5.14(d 。
J=2Hz、C−H)、5.40(d、J=2Hz。
。3−H) 、7.43(s 、8YH)2)上記1)
で得たクロロアセトアミド誘導体0、190 fを6−
の水に溶解し、ナトリウムモノメチルジチオカーバメー
トの0.052Fを用い参考例2の2)と同様に処理す
ると、(38,4R)−342−(2−アミノチアゾ−
/l/−4−イ/L/)−2−メトキシイミノ〕アセト
アミド−2−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリウム
0.074Fが得られた。
KBr  −4 工RνmaXc11 :1780. 1660. 16
15゜+520.1280.1250.105ONM1
05ON、外部基準、ppm):4.02  (s 。
(d、J=6Mz、  U3−M)+tj、9ti(1
3+   T   )参考例4 D−2−(4−エチ/L’−2,3−ジオキソ−1−ビ
ベラジンカ〃ボキサミド)−2−(チオフェン−2−イ
ル)酢酸1.196f、塩化メチレン20厘/、)リエ
チルアミン0.530fの混合物を水冷下、かきまぜな
がら粉末化した五塩化リン0.775Fを加えた。水冷
下に1時間かきまぜたのち、減圧fに濃縮し、残留物に
n−へキサンを加え、数回デカンテーションして洗浄し
た。残留物に乾燥テトラヒドロフランを加え不溶物を炉
去した。
一方、(38,48)−3−アミノ−4−シアノ−2−
アゼチジノンのp−トルエンスルホン酸塩0.992F
を乾燥テトラヒドロフラン15m/に溶解し、これに氷
冷下1.06011のトリエチルアミンを加えたのち、
上記で調整した酸クロリドのテトラヒドロフラン溶液を
加えた。室温(約25℃)で40分間か1!まぜたのち
減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲμカラムクロマトグ
フフイー〔酢酸エチ/I/:クロロホルム2メタノ−/
l/(313:1)で展開〕に付すと(38,4S)−
4−V7/−3CD−2−(4−工f)v−2+ 3−
ジオキソ−1−ピベヲジンカルボキサミド)−2−(チ
オフェン−2−イル)〕〕アセトアミドー2−アゼチジ
ノの0.56([が得られた。
KBr   −1 1Rvmaxcm  : 1785,1710.167
0゜50O N M R(D M80−da Ippm) : 1.
09 (t 、J = 5 Hz +CH3) 、3.
40 (q lJ =5Hz 、−CH2−) 13.
56(m、−CH2−)+3.90(m+−CH,()
、4.76(a。
J”’4Hz、C,−H)、5.30(dd、J=8.
4Hz。
C3−H) 、5.83 (d 1J=4Hz 、−C
H−) 16.90〜160(nzaromH)+ 9
.03 (br、s+  NH)+ 9.70(d +
 J =4Hz 、NH) 、9.80 (d lJ 
=8H7,、NH)参考例5 (38,48)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチ
ジノンのp−)/l/エンス〃ホン酸塩の0.96 O
f ヲ乾mテトラヒドロフラン15g+/に%%濁し、
水冷下にトリエチルアミン1.40Of、ついで2−(
2−クロロアセトアミドチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノ酢酸クロリド塩am1.04Ofを乾燥
テトラヒドロフラフ10厘lに溶解した溶液を加えた。
室温(約25℃)で30分間かきまぜ次のち、減圧下に
濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
〔酢酸xチ)v; 9qロホ#ム: )li’/−1v
(3: 3:1)で展開〕に付すと(38,48)−3
−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−μm4−イ
A/)−2−メトキシイミノ〕アセトアミド−4−シア
ノ−2−アゼチジノン、0゜910fが得られた。
■Rv”ror’  :1790.tars、1540
゜aX 05O N M R(DMSO+D20 、 ppm) : 3
.93 (s + 0CH3) 。
4.33(s 、−CH2−) 、4.83 (d 、
J = 4 Hz 、C4−H)。
H 5,40(d、J=4Hz、C3−H)、7.46(8
,Y)参考例6 (38,4B )−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼ
チジノンのp−)/l/エンスルホン酸塩0.54Of
を乾燥テトラヒドロフラン10m1に懸濁し、これに水
冷下トリエチルアミン0.787F。
ついで2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4−
イ/l/)−2−メトキシイミノ酢酸クロリド・塩酸塩
0.600fを乾燥テトラヒ下ロフラン5鐸lに溶解し
た溶液を加えた。室m(約25℃)で30分間かきまぜ
たのち、反応液を濾過し、ろ液は減圧下に濃縮した。残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔酢酸エチ
/L/:クロロホルム:メタノール(3:3:l)で展
開〕に付すと(38゜4B)−3−[2−(2−クロロ
アセトアミドチアゾ−μm4−イ1v)−2−メトキシ
イミノ〕アセトアミド−2−アゼチジノン、0.52!
Mが得られた。
工Rシ写tym’ : 1780. 1670. 15
40゜04O N M R(DMSO−d6.ppm); 3.92 
< s 、 ocH3+ 。
4.36 (s 、−CH2−) 、4.5j(d 、
J=2Hz 、C4−H) 。
旧り 参考例7 (38,4R8)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼ
チジノンのP−)#エンスルホンJ[i5f、ピリジン
+、2t、tjl化メチレン100dの水冷かくはん溶
液にフェニル酢酸クロリド3Fを加えた。室温的(25
℃)で10分間かきまぜたのち、水と振り混ぜ、有機層
を分離し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃
縮し、残留物をシリカゲルカラムで精製〔酢酸エチ/l
/ : n−ヘキサン(2:l))すると、(3S、4
B)−4−シアノ−3−フェニルアセトアミド−2−ア
ゼチジノン(蜀1. l 6 f、ついで対応する(3
B、4)1)−銹導体(B) 0.84 fが得られた
(蜀 IRIJKBrWl: 2250,1770,1665
゜aX 1530.135O N M R(DMSO−d6.ppm) : 3.60
 (a 、  −CH2−)。
4.20 (d 、J=4Hz 、C4−H) 、4.
86 (dd + J=4 。
8Hz、C3H)、6.56(d、J−3Hz+NH)
+″r、26(8+ arom H) (Bl エRνfnaX3  :2250’+  17801 
 tsso。
1520. 135O N MR(DMSO−d6.ppm): 3.60 (
s 、−CH2−) 。
4−10 (d 、J = 2 Hz 、C4−H) 
、4.80 (d d 、J =2+8Hz、C3−H
)+6.60(d、J””8Hz、NH)+7.20 
(s * arom H) 参考例8 (38,4R)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチ
ジノンのP−)/&エンスルホン酸塩1.66f 、ピ
リジン0.5f、塩化メチレン5s1!の混合物を室温
(約25Yc)で15分間かきまぜた。
これを、水冷下にかきまぜながら、プロピレンオキシド
10d1ついで2−トリメナ/L/Vすμ−エトキシカ
μボニpクロリド1,1fを加えた。室温で30分間か
きまぜたのち、減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲμカ
ラムクロマトグラフィー〔酢酸エチ/I/:n−ヘキサ
ン(1:1−)で展開〕に付すと、(38,4B)−4
−シアノ−3−(2−トリメチルシリ/I/)エトキシ
カルボキサミドー2−アゼチジノンの1.Ofが得られ
た。
1鮫fth1”  31:2950,1885.171
0゜ax +510. 1250. 860. 84ONMR(C
DCl2.ppm):0.03(s、CH3) 、 1
.00(t、J=8Hz、  −CH2)、4.20(
t、J=8Hz。
−CH2−)、+、5o(a、、T=2)(Z+04−
H)、5.33(dd、J−2+8Hz、C3−H)、
5.70(d 、J=8Hz。
NH)、6.80(br、s、NH) 参考例9 (38,4R8)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼ
チジノンのP−)A/エンスルホン酸塩11.2fを5
 Q mlのテトラヒドロフランに懸濁し、水冷下に5
1のトリエチルアミンを加え30分間かきまぜたのち、
減圧下に濃縮した。残留物に塩化メチレン20m1.プ
ロピレンオキシド8(1+7を加えて溶解し、この溶液
に6.81のカルボベンゾキシクロリドを水冷下に加え
た。25℃で30分間かきまぜたのち、減圧下に濃縮し
た。残留物に酢酸エチルと水を加えて振シまぜ、有機層
をとシ水洗、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に
濃縮した。残留物を15ofのシリカゲルを用いたカラ
ムで精製〔酢酸エチル:n−ヘキサン(1:1)で展開
〕すると(38,4R)−3−ベンジルオキシカルボキ
サミド−4−シアノ−2−アゼチジノンの2.1fを油
状物として、さらに(3B 、 48 )−4−3/ア
ノ−3−ベンジルオキシカルボキサミド−2−アゼチジ
ノンの3.21fを結晶として得た。
(38、4B ”)一体 mp  167−170℃(dec、)+805.17
65.1675.1525N M R(DMSO−d6
.ppm): 4.50 (d 、 J= 5)Iz 
C4−H)、5.lo(8,−CH2−)、5.16(
dd。
J=5 + 8Hz + 03−H) + 7.26 
(s +arOIIIK)+8.16 (d 、 J=
 8Hz 、 NH) 、8.56(broad s。
NH) 参考例10 +)(3R,4B)−3−ベンジルオキシカルボキサミ
ド−4−メチルスルホニ/L’−2−アゼチジノ:zo
、298ft−Tur15mK溶かし、これにパラジウ
ム黒0.25Fを加え、水素気流中2時間かきまぜた。
触媒を沖去し、炉液を約3dになるまで減圧下に濃縮し
た。
一方、2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−/L’−
4−イ1v)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体)
0.555Fを10dO塩化メチレンに加え、これに氷
冷下、トリエチルアミン0.25yついで、五塩化リン
0.42Fを加え5分間かきまぜた。室温で30分間か
きまぜた後、減圧下に濃縮し、残留物をn−ヘキサンで
洗い、これにTHF5dを加えて不溶物を炉去した。こ
の炉液を、水冷下、−先に調製した溶液とプロピレンオ
キシド1mlの混合溶液に加えた。減圧下に溶媒を留去
後、残渣の酢酸エチル溶液を水洗し、減圧下に濃縮した
。残留物をシリカゲルカラムでlFIMcn−ヘキサン
−酢酸エチル(1:l’))すると、(3R14R)−
3−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−A/−4
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−4−メ
チルヌルホニA/−2−アゼチジノン0.13Fが得ら
れ念。
エRJ’    cIl  :3370. 3270.
 1790゜max 1680、 154O N M R(DMSO−da+ppm): ′3.oo
 < s 、 CH3)。
3.93(s、CH3)、4.33(e、 CH2−)
、4.93(d * J −5Hz + C4−H) 
、5.57 (d d 、J = 5 。
9 Hz 、C3−H) 、I 5 ’j−(s 、>
 H) +8−30(d 、J=9Hz 、NH) 、
9.40(s 、NH) 、12.73(s、NH) 2)上記1)で得られた(3R,,4R)−3−C2−
(2−りpロアセトアミドチアゾ−A/−4−イ/L’
)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−4−メチルス
ルホニA/−2−アゼチジノン0.46ftDMF3d
に溶かし、これに無水硫酸−ピリジンコンプレックス0
.36fを加え12日間反応させた。エーテ〜を加えて
分離する油状物をエーテルで洗った。油状物を水に溶か
し、Dowex50W樹脂(ダウケミカル社製)ナトリ
ウム型10m/を加え、30分間かきまぜた。樹脂を沖
去し、r液をXAD−n樹脂(ローム・アンド・ハース
社製)を充てんしたカラムで精製すると(3R14R)
−3−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−4−メ
チルスルホニ/l/−2−アゼチジノン−1−スルホン
酸ナトリウム0.023Fが得られた。
KBr   −1 1R&、aXff  :3450−3400.1785
゜16B5.1672.1280,1260,1052
N M R(DMSO−d6.ppm): 3.84 
(s 、 CH3)+4.33(s 、−CH2−) 
、5.15(a、J−5Hz 。
C4−H)、5.71(ddlJ−5,9H2,C3−
H)17.53(s、  〉−H)、9.45(d、J
−9Hz。
NIII) 、 12.88(s 、NH)参考例11 (31’l 、 4R)−3−アミノ−4−シアノ−2
−アゼチジノン・P−)ルエンスμホン酸塩0.3Of
をテトラヒドロフラン12#tに溶かし、これに水冷下
0.12Nのトリエチルアミン、ついで2−(2−クロ
ロアセトアミドチアゾ−A/−4−イ/I/)−2−’
(1−p−二トロベンジルオキシヵルボニル−1−メチ
ルエトキシイミノ)酢酸クロリド・塩酸塩0.60 f
を加えた。室温で40分間かきまぜ、減圧上濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムで精製〔酢酸エチルmクロロホ
ルム−メタノール(3:3:1))すると、(38,4
8)−3−C2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−1
V−4一イ/%/)−2−(+−p−二トロペンジルオ
キシカルボニル−1−メチルエトキンイミノ)アセトア
ミド)−4−シアノ−2−アゼチジノン0.271が得
られた。
IRvKBrcml: 1785.1740,1675
+aX 530 参考例12 (38,48)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチ
ジノンのP−)〜エンスルホン酸41001を、テトラ
ヒドロ7ヲンー水<1:1)溶液850 mlに溶かし
、かきまぜながら、10℃以下で廣酸水素ナトリウム7
4.1 fを徐々に加えた。
ついで、3〜5℃で、力μボペンゾキシクロリドを40
分間で加え、さらに同温度で30分間かきまぜた。反応
液に酢酸エチ/’300m1を加えて振り混ぜ、酢酸エ
チル層を分取した。水層は、酢酸エチルで抽出し、有機
層を合わせ、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。減圧上濃縮し、析出した結晶を枦取すると(38,4
8)−4−シアノ−3−ベンジルオキシカルボキサミド
−2−アゼチジノン34Fが得られた。
本化合物の工R、NMRヌベクトルは参考例9で得られ
た化合物のそれらと一致した。
実施例1 1)(3R,4R)−4−メチルスルホニA/−3−ト
リチルアミノ−2−アゼチジノン12.3fをDMF1
50gtに溶解した溶液に、シアン化カリウム1,6f
を水24mに溶かした溶液を水冷下に加えたのち、室温
(約25℃)で30分間かきまぜた。反応液に氷水、酢
酸エチルを加え、酢酸エチル層をと9、水洗後無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残留
物をシリカゲルカラムで精製〔酢酸エチル:n−ヘキサ
ン(1;l)で展開〕すると、(3S、4BS)−4−
シアノ−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン(4R
:48=1:’1)の6.7Fが得られた。
KBr   −1 1RνrnaXcII :2230. 17702)上
記1)で得た(38.4R8)−4−シアノ−3−トリ
チルアミノ−2−アゼチジノン+0.6Fをアセトン2
0耐に溶解した溶液に、p−トルエンスルホン酸七ツバ
イドレート6.3Fを加えて均一溶液としたのち、析出
する結晶を炉取、少量のアセトンついでエーテルで洗浄
した。F3液は減圧下に濃縮し、残留物にアセトンを加
え析出する結晶を炉取した。炉液を濃縮し、上記と同様
な操作を′i3iない結晶として合計3.4fの(38
゜4F)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチジノン
・p−)ルエンスμホン酸塩c〜を得た。炉液は減圧下
に濃縮後残留物にエーテルを加え、得られる不溶物を枦
取しエーテルで洗浄すると(3S。
48)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチジノン・
p−)/7エンスルホン酸塩(B) 4. l fが得
られた。このものはC3B、4B>一体を約10%含有
していた。
(入 KBr   =1 工ην   3   :1770. 1200aX N M R(DM80−d6.ppm):  2.30
 (s 、 CH3)。
4.55(a、J=2Hz、C4−H) 、4.95(
d、J−2Hz。
C3−H) + 7.03 (d + J = 8Hz
 +  arom H)+7.46 (d 、J−8H
z+aromH)+  8.30−9.00(broa
d+ NH2L  9.46−(broad 81  
NH)(B) 実施例2 1)(38,4R8)−4−シアノ−3−トリチルアミ
ノ−2−アゼチジノン1.10f、ト!Jエチルアミン
0.50f、塩化メチレフ20m1の混合物に、水冷下
、かきまぜながらtert−ブチルジメチルシリルクロ
リド0.56Fを加えた。室温(約25℃)で30分間
かきまぜたのち、反応液を減圧下に濃縮し残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー〔酢酸エチlN/:n
−ヘキサン(1:3)で展開〕に付すと(3B、4R8
)  1−tert−ブチルジメチルシリIv−4−シ
アノ−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン、0.6
4Fが得られた。
IRtiKBraii”’ :2950,2240.1
760゜ax 26O NM’B (CDCI 、ppm):0.13(s 、
CH3)、 0.80(s + t−B u ) 、3
−03 (d 、J ミ2 Hz 、C4−H) +3
、’l0(d、J=8Hz、NH) 、3.43(d、
J=5Hz。
C−H)、4.46(dd、J=2.8Hz、C−H)
4                        
      34.50 (cid +、r=5.8H
z 、c3−]() 、]7.0Q−7.50 m r
 aromH) 2)上記1)で得られた4−S/アノ化合物0.469
V、メタノール5厘t、30%過酸化水素水0.33−
およびIN−水酸化ナトリウム溶液1 dの混合物を室
温(約25し)で4時間かきまぜた。反応面を減圧下に
濃縮後、残留物に酢酸エチルおよび飽和食塩水を加え、
有機層を分離し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下に濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチルで展開)に付すと(38,4R8)−
4−カルパモイ/l/−3−)ジチルアミノ−2−アゼ
チジノン(4R:48−1: to混合物)0.557
Fが得られた。
KBr   −1 ■pv   cm  : 1750,1670maχ N M R(DM80−d、+ D20. ppm):
 3.46 (d 、 J−4’Hz+C4−H)、3
.56(d、J=2Hz。
C4−H) 、4.03 (d 、J=2Hz 、C3
−H) + 4.26(d + J = 4 Hz +
 03− H) +  72〜7−7 (m + ar
om H)実施例3 1)(38,48)−4−アセトキシ−3−ベンジルオ
キシカルボキサミド−2−アゼチジノン6Vをジメチル
ホルムアミド30耐に溶解した溶液に、シアン化カリウ
ム1.5fを水511に溶解した溶液を水冷下加え、室
温(約25℃)で30分間かきまぜた。氷水にあけ酢酸
エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥したのち減圧下に濃縮した。残留物を塩
化メチレン30−に溶解し、トリエチルアミン2.21
を加え、水冷下にtert−ブチルシリルクロリド3.
2gを加えた。室温で30分間かきまぜたのち、減圧上
濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
〔酢酸エチ/L/ ; 11−ヘキサン(1+1)で展
開〕に付すと、(38,4R)−3−ベンジルオキシカ
ルボキサミド−1−tert−ブチルジメチルシリル−
4−シアノ−2−アゼチジノン、0.300fが得られ
た。
工Rν”Ill 41: 29501 2920.21
40゜aX 1γ45.1720.125O N M R(CDCl2.ppm): 0.06 (s
 、CH,、)、 0.90(s、t−Bu)+4.3
6(a、J=2Hz、C4−H)+4.70(dd、J
−2,8H2,C3−■)、5.02(8゜−CH2−
)、5.46(d、J−3Hz 、NH) 、7.23
(s 、 arom H) 2)上記1)で得られた4−シアノ化合物o、ao。
fをエタノール5 mlに溶解し、水冷下に30%過酸
化水素水0.3g/、iN−水酸化ナトリウム水溶液0
.15 mlを加え室温(約25℃)で1時間かきまぜ
た。減圧下に濃縮後、残留物に酢酸エチル。
水を加えて振り混ぜ、酢酸エチル層を分離し無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮しシリカゲルカラ
ムクロマトグブフイー(酢酸エチルで展開)に付すと(
38,41’?)−3−ベンジルオキシカルボキサミド
−4−カルバモイIV−2−アゼチジノン0.041が
得られた。
mp153−155″O(dec、) KBr   −1 1RLIrlIELXcI11 :1770.1705
.169011665.1520.125O N M R(DMSO−d6 、ppm) : 3.9
1 (d 、 J −2Hz 。
c、−H)、4.42(aa、J=2.8Hz、C3−
H)。
5.06 (8、−CH2−) 、7.1 B 、7.
60 (各々brs。
C0NH2)+ 7.36(s、aromH) + 8
.04(a 、J+8Hz 、 NH) 、  8.3
0(br、 s、 NH)実施例4 (38,4S)−3−ベンジルオキシカルボキサミド−
4−シアノ−2−アゼチジノン12211vをジメチル
スルホキシド111/に溶かし、20℃でかきまぜなが
ら30%過酸化水素水0.1 ml 、ついでIN−水
酸化ナトリウム溶液0.1 g/を加えた。
10分後析出した結晶を枦取し、少量の99%エタノー
ルで洗浄、乾燥して(38,48)−3−ベンジルオキ
シカルボキサミド−4−カルバモイル−2−アゼチジノ
ン4211vを得た。p液1XAD−■カラムクロマト
グラブイーに付しく30%エタノ−μ水で展開)さらに
、(38,48)−3、−ベンジルオキシカ、A/vキ
サミド−4−カルバモイ/l/−2−アゼチジノン37
〜を得た。
mp236−240℃(dec、) 〔α〕M” I O,43< DMSo、 8=1)工
RJ/KBrax−1: 3400.3310,177
5゜aX 1740.1675.1545 NMR(DMSO,ppm): 4.14(d、、T=
5Hz。
C4−H)+  5.06(s 、−CH2−) 、5
.08(dd+J=5.8Hz +  03−H) 、
7.30(broad 81 NH2)+7.35 (
s * arom H) + 752 (d + J 
= 8 Tl z +NH) 、8.33(broad
 s、 NU)実施例5 (38−74R、S )−4−シアノ−3−トリフェニ
ルメチルアミノ−2−アゼチジノン1.Oiをジクロロ
メタン12厘lに溶かし、硫酸水素テトラ−n−ブチル
アンモニウム1.02 fを加え水冷かきまぜながら3
0%過酸化水素水0.68 mlと1規定水酸化ナトリ
ウム水溶l&4.5 mlを加え、5゜分間激しくカ1
きまぜた。、1規定塩酸1.3 mlを含む氷水中に反
応液を注入し、分液後水層をクロロホルムで2回抽出す
る。有機層を合わせてチオ硫酸ナトリウムと食塩を溶か
した水溶液で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
上濃縮後、残留物をシリカゲルカラムクpマトグヲフィ
ーでlR製する〔クロロホルム:酢酸エチA/:メタノ
ーlL/(50:50:5)で溶出〕と、(3S、4S
)−4−カルバモイル−3−トリフェニルメチルアミノ
−2−アゼチジノン0.2239が得られた。
KBr   −1 工Rvmax3  :3370.+750.1675゜
05 N M R(DMSO−d6.ppm): 3.44(
a +J−5Hz 。
C4−H) 、3−55 (d 、J = l OHz
 、NH) 。
4.10 ((id、J−5,10Hz、C3−H) 
、6.90(broad IIL NH2L 7.0−
7.6(m +aromHL7.89(s、NH) 実施例6 (38,48)−3−[2−(2−りpロアセトアミド
チアゾー/l/−4−イ/L−)−2ム(1−p−二ト
ロベンジルオキシカルボニ1v−1−メチルエトキシイ
ミノ・)アセトアミドシー4−シアノ−2−アゼチジノ
ン0.38fをジメチルスルホキシト2 mlに溶かし
、これに30%過酸化水素水0.1yzlとIN−水酸
化ナトリウム水溶液0.1dを加え、約25℃で30分
間かきまぜる。反応液をXAD−■カフムに付加し、精
製〔30%エタノールで溶出〕すると(3B、48)−
4−カルバモイル−3−C2−(2−クロロアセトアミ
ドチアゾ−μm4−イA/)−2−(1−p−ニトロベ
ンジルオキシ力μボニfi7−1−メチルエトキシイミ
ノ)アセトアミドクー2−アゼチジノン0.12 f!
が得られる。
1520、 135O N M R(DM80−d6.ppm):  i、52
 (8,aa3)+4.27(d、J=6H2,C4−
H)、4.34 (s 、c1cH2−) 。
5.32 (s 、CH2) 、5.46 (dd 1
J=6.9Hz 。
C3−H)、7.41(a、  8>H)、7.60゜
8.08(各々d + J = 9 Hz + aro
m H) + 8.47(slNH)、8.86(d、
J=9Hz、NH)実施例7 (38,48)−4−シアノ−3−トリフェニルメチル
アミノ−2−アゼチジノン160ダをジクロロメタン2
厘lに溶かし、硫酸水素テトラ−n−グチルアンモニウ
ム154qを加え、水冷下かきまぜながら30%過酸化
水素水0.103 mlと1規定水酸化ナトリウム水溶
液0.68IIlを加え、30分間激しくかきまぜた。
1規定塩酸0.22 mlを含む氷水中に反応液を注入
し、分液抜水層をクロロホルムで2回抽出した。有機層
を合わせて、食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧上濃縮後、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製する〔クロロホルム:酢酸エチ/I/
:メタノー/L/(50:50:5)で溶出〕と、(3
8,48)−4−カルバモイ)V−3−ト7リフェニル
メチルアミノー2−アゼチジノン75wvが得られた。
本化合物の工R、NMRスペクト/L’は実施例5で得
られた化合物のそれらと一致した。
実施例8 (3F、4R)−4−メチルスルホニル−3−トリチル
アミノ−2−アゼチジノン12.2f、m化トリーn−
オクチルメチルアンモニウム2.441を四塩化炭素1
20m/に溶かし、かきまぜながら、シアン化カリウム
2.15Fを水30m1に溶かした溶液を水冷下に加え
た。15分間同温度で激しくかきまぜた後、有機層を分
取し、水層はクロロホルムで抽出し友。有機層を合わせ
、水洗後実施例1の1)と同様に処理すると、(38,
4R8)−4−シアノ−3−トリチルアミノ−2−アゼ
チジノン7、66 fが得られた。
本化合物は、(38,4B):(38,48)−1:5
の混合物であった。
0(38,4F)体 NMR(CDCl2.ppm); 2.94(d 、、
T=I IHz 、Tr(トリチμ)NH−)、3.0
0 (d、J=2H2,C4−H)1 4.64(aa +J=2 、 l lHz。
C3−H)16.40(slNH) 。
7゜l−7,7(m+aromH) o(38,48)体 NMR(CDCI31ppm): 3.17(d、7J
=llHz。
TrN旦−)、3.56(a、J− 51(Z I C4−a )、4.64(aa。
J” 5.11 Hz + C3−H) 。
6.30(s、NH)、7.1−7.7(m + ar
om H) 実施例9 実施例8で得られた、(3R,4R8)−4−シアノ−
3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン3、54 Fを
クロロホルム40yttに溶かし、硫酸水素テトフーn
・グチルアンモニウム3.4vを加工、水冷下かきまぜ
ながら30%過酸化水素2.3fと1規定水酸化ナトリ
ウム水溶液i5*Jを加え、30分間激しくかきまぜた
。有機層を分取し、水層をクロロホルムで2回抽出した
。有機層を合わせ、水洗後、実施例7と同様に処理する
とく38゜48)−4−カルパモイ1V−3−)ジチル
アミノ−2−アゼチジノン0.76 fが得られた。本
化合物の工R,NMRスペクトμは実施例5で得られた
化合物のそれらと一致した。
実施例10 (3R,4R)−4−メチルスルホニル−3−トリチル
アミノ−2−アゼチジノン0.5 mmol 。
臭化テトラ−n−アミルアンモニウム0. l m1n
olをベンゼン2 mlに溶かし、これにシアン化カリ
ウムQ、 55 mmol を水0.55s/に溶かし
た溶液を、15℃で加えた。15分間激しくか@まぜた
後、実施例8と同様に処理すると、(38,4R8)−
4−シアノ−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノンの
(38,4R):(3S、4S)=l:4混合物が得ら
れた。
実施例11 実施例10において、臭化テトラ−n−アミルアンモニ
ウムの代夛に、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムを
用い反応を行なうと、(38,4R8)−4−シアノ−
3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン(4R:4S=
1:3.5)が得られた。
実施例12 実施例10において、臭化テトラ−n−アミルアンモニ
ウムの代りに、臭化テトラ−n−ブチルホスホニウムを
用い反応を行なうと、(38,4)?5)−4−シアノ
−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン(4R:3S
=1:3.5)が得られた。
産業上の利用可能性 4−シアノ−2−アゼチジノン誘導体CI)は、優れた
抗菌活性およびβ−ラクタマーゼ阻害作用を有している
4−置換−2−アゼチジノン誘導体の光学活性体を合成
するにあたり、有利な合成中間体として利用され、かつ
Wがスルホ基であるCI)はそれ自体抗菌活性およびβ
−ラクタマーゼ阻害作用を有しており、人および犬、猫
、牛。
馬、マウス、モルモット等を含む哺乳動物のグラム−陽
性または陰性細菌によって引起される感染症の治療剤と
して、動物用飼料、工業用水の防腐剤としであるいは衛
生用具の消毒剤として、さらにβ−ラクタム系抗生物質
と併用することにょシ該抗生物質の分解防止剤として利
用される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)式 〔式中、R1はアシ/I/化されまたは保護されていて
    もよいアミノ基を、Xは水素またはメトキシ基を、Wは
    水素またはスルホ基を示す〕で表わされる4 −シアノ
    −2−アゼチジノン誘導体。 (2)式 〔式中、R2はアシル化されまたは保護されたアミノ基
    を、Xは水素またはメトキシ基を、Wは水素またはスル
    ホ基を、Yはハロゲンまたは式水素基を、nは1または
    2を示す)で表わされる基を示す〕で表わされる化合物
    とシアノ化合物を反応させ、必要に応じて保護基を除去
    することを特徴とする、式 〔式中、Bl はアシμ化されまたは保護されていても
    よいアミノ基を、XおよびWは前記と同意義を示す〕で
    表わされる4−シアノ−2−アゼチジノン誘導体の製造
    法。 〔式中、Rはアシμ化されまたは保護されていてもよい
    アミノ基を、Xは水素またはメトキシ基を、Wは水素ま
    たはスルホ基を示す〕で表わされる4−シアノ−2−ア
    ゼチジノン誘導体を水和反応に付し、必要に応じて保護
    基を除去することを特徴とする、式 〔式中、R4はアシル化されまたは保護されていてもよ
    いアミノ基を、XおよびWは前記と同意義を示す〕で表
    わされる4−カルバモイtv−2−アゼチジノン誘導体
    の製造法。 (4)反応を相関移動触媒の存在下に行なうことを特徴
    とする請求の範囲第2項記載の製造法。
JP58073470A 1982-04-27 1983-04-25 4―シアノ―2―アゼチジノン誘導体の製造法 Granted JPS591465A (ja)

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MC82/00141 1982-04-27
PCT/JP1982/000141 WO1983003827A1 (fr) 1982-04-27 1982-04-27 Derives de 4-cyano-2-azetidinone et leur procede de preparation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS591465A true JPS591465A (ja) 1984-01-06
JPH0425264B2 JPH0425264B2 (ja) 1992-04-30

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JP58073470A Granted JPS591465A (ja) 1982-04-27 1983-04-25 4―シアノ―2―アゼチジノン誘導体の製造法

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5846066A (ja) * 1981-08-27 1983-03-17 エフ・ホフマン・ラ・ロシユ・ウント・コンパニ−・アクチエンゲゼルシヤフト β−ラクタム類

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5846066A (ja) * 1981-08-27 1983-03-17 エフ・ホフマン・ラ・ロシユ・ウント・コンパニ−・アクチエンゲゼルシヤフト β−ラクタム類

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WO1983003827A1 (fr) 1983-11-10
JPH0425264B2 (ja) 1992-04-30
NZ202907A (en) 1986-01-24

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