JPS591465A - 4―シアノ―2―アゼチジノン誘導体の製造法 - Google Patents
4―シアノ―2―アゼチジノン誘導体の製造法Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
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- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
- C07F7/0812—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、4−置換−2−アゼチジノン誘導体の光学活
性体の合成に有利な中間体であり、抗菌作用及びβ−ラ
クタマーゼ阻害作用を有しているものもある新規な4−
¥アノー2−アゼチジノン誘導体およびその製造法、さ
らにその中間体としての利用方法に関するものである。
性体の合成に有利な中間体であり、抗菌作用及びβ−ラ
クタマーゼ阻害作用を有しているものもある新規な4−
¥アノー2−アゼチジノン誘導体およびその製造法、さ
らにその中間体としての利用方法に関するものである。
背景技術
最近、1位にスルホ基を有する新しい型のβ−ラクタム
系抗生物質が天然から発見され報告されている(ネイチ
ャー(Nature)+ 289巻、590頁(198
1)、291巻、489頁(1981))。
系抗生物質が天然から発見され報告されている(ネイチ
ャー(Nature)+ 289巻、590頁(198
1)、291巻、489頁(1981))。
また、類縁体の合成も報告されている(たとえば特開昭
55−164672号、特開昭56−125362号等
)。後者の報告中に、4位に置換基のある2−アゼチジ
ノン−1−スルホン酸類の合成法が記載されているが、
反応工程数が長く煩雑であシ、簡便な製造法は未だ知ら
れていない。
55−164672号、特開昭56−125362号等
)。後者の報告中に、4位に置換基のある2−アゼチジ
ノン−1−スルホン酸類の合成法が記載されているが、
反応工程数が長く煩雑であシ、簡便な製造法は未だ知ら
れていない。
発明の開示
本発明は、新規な式
〔式中、R1はアシル化されまたは保護されていてもよ
いアミノ基を、Xは水素またはメトキシ基を、Wは水素
またはスルホ基を示す〕で表わされる4−¥アノー2−
アゼチジノン誘導体およびその製造法、さらにそれを合
成中間体として利用する方法に関する。
いアミノ基を、Xは水素またはメトキシ基を、Wは水素
またはスルホ基を示す〕で表わされる4−¥アノー2−
アゼチジノン誘導体およびその製造法、さらにそれを合
成中間体として利用する方法に関する。
本発明者等は、種々研究した結果、式
〔式中、Rはアシル化されまたは保護され次ア前記と同
意義を示す〕で表わされる化合物とシアノ化合物を反応
させ、必要に応じて保護基を除去すると、4−シアノ−
2−アゼチジノン誘導体CI)が得られること、得られ
た化合物CI)が4−3置換−2−アゼチジノン誘導体
の合成特に光学活性体の合成に有利な中間体であシ、た
とえば化合物CI)を水利反応に付し、必要に応じて保
護基を除去すると、式 〔式中、R4はアV/I/化されまたは保護されていて
もよいアミノ基を、XおよびWは前記と同意義を糸す〕
で表わされる4−カルバモイlL/−2−アゼチジノン
誘導体が得られることを見出し、これらに基づいて本発
明を完成した。
意義を示す〕で表わされる化合物とシアノ化合物を反応
させ、必要に応じて保護基を除去すると、4−シアノ−
2−アゼチジノン誘導体CI)が得られること、得られ
た化合物CI)が4−3置換−2−アゼチジノン誘導体
の合成特に光学活性体の合成に有利な中間体であシ、た
とえば化合物CI)を水利反応に付し、必要に応じて保
護基を除去すると、式 〔式中、R4はアV/I/化されまたは保護されていて
もよいアミノ基を、XおよびWは前記と同意義を糸す〕
で表わされる4−カルバモイlL/−2−アゼチジノン
誘導体が得られることを見出し、これらに基づいて本発
明を完成した。
即ち、本発明は、
(1) 4−シアノ−2−アゼチジノン誘導体〔工〕
、(2)化合物CII)とシアノ化合物を反応させ、必
要に応じて保護基を除去することを特徴とする、4−シ
アノ−2−アゼチジノン誘導体CI)の製造法、 (3) 4−シアノ−2−アゼチジノンml導体CI
)を水利反応に付し、′必要に応じて保護基を除去する
ことを特徴とする、4−力μバモイyv−2−yゼチジ
ノン誘導体〔■〕の製造法、 (4)化合物CIr)とシアノ化合物を相聞移動触媒の
存在下に反応させる上記(2)項記載の製造法に関する
ものである。
、(2)化合物CII)とシアノ化合物を反応させ、必
要に応じて保護基を除去することを特徴とする、4−シ
アノ−2−アゼチジノン誘導体CI)の製造法、 (3) 4−シアノ−2−アゼチジノンml導体CI
)を水利反応に付し、′必要に応じて保護基を除去する
ことを特徴とする、4−力μバモイyv−2−yゼチジ
ノン誘導体〔■〕の製造法、 (4)化合物CIr)とシアノ化合物を相聞移動触媒の
存在下に反応させる上記(2)項記載の製造法に関する
ものである。
前記式中、R1,R2およびR4で表わされるアシル化
されたアミノ基におけるア¥ル基とじては、たとえば従
来知られているペニシリン誘導体の6位アミノ基に置換
しているアシy基、セファロスポリン誘導体の7位アミ
ノ基に置換しているアシル基等が用いられる。このよう
なアシル基の例としては、たとえば(1)式 %式%() 〔式中、R5は低級アルキμ、置換基を有していてもよ
いフェニルまたは置換基を有していてもよい複素環基を
示す〕で表わされる基、(2)式(式中、B6 は水素
、置換基を有していてもよいアミノ酸残基、アミノ基の
保護基1式 1− (ca、)rn−co−C式中、R8はアミノ基
、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有して
いてもよいフェニル、置換基を有していてもよい低級ア
ルキル基を、mは口ないし3の整数を、そしていてもよ
いフェニル、置換基を有していてもよい複素環基または
置換基を有していてもよいシクロアルグニル基をそれぞ
れ示す)で表わされる基、(3)式 %式%) は置換基を有していてもよい複素環基または置換基を有
していてもよいフェニル基を、B12は水素。
されたアミノ基におけるア¥ル基とじては、たとえば従
来知られているペニシリン誘導体の6位アミノ基に置換
しているアシy基、セファロスポリン誘導体の7位アミ
ノ基に置換しているアシル基等が用いられる。このよう
なアシル基の例としては、たとえば(1)式 %式%() 〔式中、R5は低級アルキμ、置換基を有していてもよ
いフェニルまたは置換基を有していてもよい複素環基を
示す〕で表わされる基、(2)式(式中、B6 は水素
、置換基を有していてもよいアミノ酸残基、アミノ基の
保護基1式 1− (ca、)rn−co−C式中、R8はアミノ基
、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有して
いてもよいフェニル、置換基を有していてもよい低級ア
ルキル基を、mは口ないし3の整数を、そしていてもよ
いフェニル、置換基を有していてもよい複素環基または
置換基を有していてもよいシクロアルグニル基をそれぞ
れ示す)で表わされる基、(3)式 %式%) は置換基を有していてもよい複素環基または置換基を有
していてもよいフェニル基を、B12は水素。
置換基を有していてもよいフェニル、低級アV)v。
低級アルキ/L’または式−R13−R14(式中、B
13は低級アルキレンまたは低級γμケニレンを、B1
4はカルボキシμ基またはそのエステルを、それぞれ示
す)で表わされる基を、それぞれ示す)で表わされる基
を、R10は単なる結合手1+は式置換基を有していて
もよい複素環基を示す)で表わされる基を、それぞれ示
す〕で表わされる基、〔式中、R16はヒドロキシlL
/lカルボキシル、ヌルホ、ホルミμオキシ、ハロゲン
またはアジド基を、R17は水素、低級アルキμ、低級
アルコキシ。
13は低級アルキレンまたは低級γμケニレンを、B1
4はカルボキシμ基またはそのエステルを、それぞれ示
す)で表わされる基を、それぞれ示す)で表わされる基
を、R10は単なる結合手1+は式置換基を有していて
もよい複素環基を示す)で表わされる基を、それぞれ示
す〕で表わされる基、〔式中、R16はヒドロキシlL
/lカルボキシル、ヌルホ、ホルミμオキシ、ハロゲン
またはアジド基を、R17は水素、低級アルキμ、低級
アルコキシ。
ハロゲンまたはヒドロキシル基を、それぞれ示す〕で表
わされる基、(5)式 %式%) 〔式中、Rはシアノ、置換基を有していてもよいフェニ
ル、置換基を有していてもよいフェノキシ、置換基を有
していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよ
いγμケ二μまたは置換基を有していてもよい複素環基
を、B19は単なる結合手または−8−を、それぞれ示
す〕で表わされる基などが用いられる。
わされる基、(5)式 %式%) 〔式中、Rはシアノ、置換基を有していてもよいフェニ
ル、置換基を有していてもよいフェノキシ、置換基を有
していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよ
いγμケ二μまたは置換基を有していてもよい複素環基
を、B19は単なる結合手または−8−を、それぞれ示
す〕で表わされる基などが用いられる。
上記式CA)〜CE )中のR5〜′R19において、
低級アルキμとしては、たとえばメチル、エチル。
低級アルキμとしては、たとえばメチル、エチル。
n−プロピル、イソプロピル、n−グチp、イソ、ブチ
ル、渡−グチ/’ + t e r t−グチρ、ペン
チル。
ル、渡−グチ/’ + t e r t−グチρ、ペン
チル。
イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシルなどの炭素数1
〜6のアルキルが用いられる。
〜6のアルキルが用いられる。
低級アルコキシとしては、たとえばメトキシ。
エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−グト
キシ、インブトキシ、5ee−ブトキシ+tert−グ
トキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキシルオキシ
、イソヘキシルオキシなどの炭素数1〜6のアルコキシ
が用いられる。アルケニルとしては、たとえばビニル、
アリル、イソプロペニル。
キシ、インブトキシ、5ee−ブトキシ+tert−グ
トキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキシルオキシ
、イソヘキシルオキシなどの炭素数1〜6のアルコキシ
が用いられる。アルケニルとしては、たとえばビニル、
アリル、イソプロペニル。
2−メタリル、2−グチニル、3−グチ二μなどが用い
られる。シクロアルケニルとしては5〜6員環のものが
好ましく、次とえばシクロヘキセニル、シクロヘキセニ
ル=μなどが用いられる。低級プルキレンとしては、炭
素数1〜3のものが好ましく、その例としては友とえは
メチレン、ジメチルメチレン、エチレン、メチルエチレ
ン、トリメチレンなどが用いられる。低級アルケニレン
としては炭素数1〜3のものが好ましく、その例として
はたとえばビニレン、グロペニVンなどが用いられる。
られる。シクロアルケニルとしては5〜6員環のものが
好ましく、次とえばシクロヘキセニル、シクロヘキセニ
ル=μなどが用いられる。低級プルキレンとしては、炭
素数1〜3のものが好ましく、その例としては友とえは
メチレン、ジメチルメチレン、エチレン、メチルエチレ
ン、トリメチレンなどが用いられる。低級アルケニレン
としては炭素数1〜3のものが好ましく、その例として
はたとえばビニレン、グロペニVンなどが用いられる。
ハロゲンの具体例としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ
素が用いられる。複素環基としては、たとえば窒素原子
(オキシド化されていてもよい)、酸素原子、硫黄原子
などのへテロ原子を1〜数個含む5〜8員環またはその
縮合環などで脚素原子に結合手を有するものが用いられ
、たとえば2−または3−ピロリル、2−1たは3−フ
リル、2−または3−チェニル、2−4たは3−ピロリ
ジニμ、2−.3−1たは4−ピリジル、N−オキシド
−2−13−または4−ピリジル、2−13−または4
−ピペリジニル、2−.3−または4−ビラ二μ、2−
13−または4−チオビラ二μ、ピフジニル、2−94
−または5−チアシリμ、2−14−または5−オキサ
シリμ、3−94−または5−イソチアゾリル、3−.
4−または5−インキサゾリル、2−.4−または5−
イミダゾリル、イミダゾリルニ/7,3−,4−または
5−ピラゾリμ、ピラゾリジニル、3−または4−ピリ
ダジニル、N−オキシド−3−または4−ピリダジニル
、2−14−または5−ピリミジニル、N−オキシド−
2−14−または5−ピリミジニμ、ピペリジニル、4
−tたti5−(+、2.3−チアシアシリ/l/)、
3−または5−(+、2.4−チアシアシリ/I/)、
1.3.4−チアシアシリ/L’、1,2.5−チアシ
アシリ〜、4−または5−(1,2,3−オキサシアシ
リμ)、3−または5−(+、2.4−オキサシアシリ
/L/)、1.3.4−オキサジアゾリル、1.2.5
−オキサジアゾリル、1,2.3−または1,2.4−
トリアゾリル、lHまたは2H−テトラシリμ、ピリド
C2,3−d)ピリミジル、ベンゾピラニル、1.8−
.1.5−.1.6−.1.7−。
素が用いられる。複素環基としては、たとえば窒素原子
(オキシド化されていてもよい)、酸素原子、硫黄原子
などのへテロ原子を1〜数個含む5〜8員環またはその
縮合環などで脚素原子に結合手を有するものが用いられ
、たとえば2−または3−ピロリル、2−1たは3−フ
リル、2−または3−チェニル、2−4たは3−ピロリ
ジニμ、2−.3−1たは4−ピリジル、N−オキシド
−2−13−または4−ピリジル、2−13−または4
−ピペリジニル、2−.3−または4−ビラ二μ、2−
13−または4−チオビラ二μ、ピフジニル、2−94
−または5−チアシリμ、2−14−または5−オキサ
シリμ、3−94−または5−イソチアゾリル、3−.
4−または5−インキサゾリル、2−.4−または5−
イミダゾリル、イミダゾリルニ/7,3−,4−または
5−ピラゾリμ、ピラゾリジニル、3−または4−ピリ
ダジニル、N−オキシド−3−または4−ピリダジニル
、2−14−または5−ピリミジニル、N−オキシド−
2−14−または5−ピリミジニμ、ピペリジニル、4
−tたti5−(+、2.3−チアシアシリ/l/)、
3−または5−(+、2.4−チアシアシリ/I/)、
1.3.4−チアシアシリ/L’、1,2.5−チアシ
アシリ〜、4−または5−(1,2,3−オキサシアシ
リμ)、3−または5−(+、2.4−オキサシアシリ
/L/)、1.3.4−オキサジアゾリル、1.2.5
−オキサジアゾリル、1,2.3−または1,2.4−
トリアゾリル、lHまたは2H−テトラシリμ、ピリド
C2,3−d)ピリミジル、ベンゾピラニル、1.8−
.1.5−.1.6−.1.7−。
2.7−または2.6−ナフチリジル、キノリμ、チェ
/C2,3−b:)ピリジルなどが繁用される。
/C2,3−b:)ピリジルなどが繁用される。
アミノ酸残基としては、たとえばグリシル、アラニル、
パリA/ 、 Pイシル、イソロイ¥ル、セリ/L/。
パリA/ 、 Pイシル、イソロイ¥ル、セリ/L/。
スレオニル、システイニル、シスチル、メチオニμ、α
−またはβ−アスバルチ〃、α−またはγ−グμタミμ
、リジル、アルギニル、フエ二μアラニ〜、フェニルグ
リシμ、チロ¥μ、ヒスチジμ、トリプトフイμ、プロ
リルなどが用いられる。
−またはβ−アスバルチ〃、α−またはγ−グμタミμ
、リジル、アルギニル、フエ二μアラニ〜、フェニルグ
リシμ、チロ¥μ、ヒスチジμ、トリプトフイμ、プロ
リルなどが用いられる。
アミノ基の保護基としては、後述のアミノ基の保護基と
同様のものが用いられる。低級アシμ基としては、炭素
数2〜4のものが好ましく、たとえばアセチA/、プロ
ピオニp、ブチリlvlイソブチ!J/L/などが用い
られる。また、置換基を有していてもよい低級アルキル
、置換基を有していてもよいγμケ二μの置換基として
は、たとえばフエ二μ、力μパモイ〜、メチルカpバモ
イμ、力μボキシル、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシ〜
などが用いられる。置換基を有していてもよいフェニル
、置換基を有していてもよいフェノキシ、置換基を有し
ていてもよいシクロアルケニルの置換基としては、たと
えば炭素数1〜3の低級アルキル、炭素数1〜3の低級
アμコキシ、ハロゲン、アミノ。
同様のものが用いられる。低級アシμ基としては、炭素
数2〜4のものが好ましく、たとえばアセチA/、プロ
ピオニp、ブチリlvlイソブチ!J/L/などが用い
られる。また、置換基を有していてもよい低級アルキル
、置換基を有していてもよいγμケ二μの置換基として
は、たとえばフエ二μ、力μパモイ〜、メチルカpバモ
イμ、力μボキシル、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシ〜
などが用いられる。置換基を有していてもよいフェニル
、置換基を有していてもよいフェノキシ、置換基を有し
ていてもよいシクロアルケニルの置換基としては、たと
えば炭素数1〜3の低級アルキル、炭素数1〜3の低級
アμコキシ、ハロゲン、アミノ。
ベンジルオキシ、ヒドロキン/I’、炭素数2〜10の
アシルオキシ、アミノメチ〜、カルバモイ〜アミノメチ
ル、3−アミノ−3−力A/$キシプロポキシなどが用
いられる。置換基を有していてもよい複素環基の置換基
としては、たとえば置換基を有していてもよい炭素数1
〜8のアルキル、炭素数1〜3の低級アルコキf 、ヒ
ドロキVA/、カルボキシル、オキソ、モノクロロアセ
トアミド、アルデヒド、トリフルオロメチル′、アミノ
、ハロゲン、上記のごとき置換基を有していてもよいフ
エニlv(例えば2,6−シクロロフエニμなど)。
アシルオキシ、アミノメチ〜、カルバモイ〜アミノメチ
ル、3−アミノ−3−力A/$キシプロポキシなどが用
いられる。置換基を有していてもよい複素環基の置換基
としては、たとえば置換基を有していてもよい炭素数1
〜8のアルキル、炭素数1〜3の低級アルコキf 、ヒ
ドロキVA/、カルボキシル、オキソ、モノクロロアセ
トアミド、アルデヒド、トリフルオロメチル′、アミノ
、ハロゲン、上記のごとき置換基を有していてもよいフ
エニlv(例えば2,6−シクロロフエニμなど)。
クマリン−3−カルボニル、4−ホルミ/L’−1−ピ
ベヲジニμ、ピロールアμトイミノ、フヲンアμトイミ
ノ、チオフェンアルドイミノ、メジ〜。
ベヲジニμ、ピロールアμトイミノ、フヲンアμトイミ
ノ、チオフェンアルドイミノ、メジ〜。
メS//L/アミノ、アミノ基の保護基、ハロゲンで置
換されていてもよい炭素数2〜4のアシμアミノなどが
用いられる。該アミノ基の保護基としては、後述のアミ
ノ基の保護基と同様のものが用いられる。置換基を有し
ていてもよいアミノ酸残基の置換基としては、たとえば
アミノ、アミノ基の体膜基、カルバモイ/l/、メチル
カμパモイ/L/、ベンジμなどが用いられる。該アミ
ノ基の保!!慕としては、後述のアミノ基の保護基と同
様のものが用いられる。R14で表わされるカルホキV
のエステルとしては、たとえばメチルエステル、エチル
エステル、プロピルエステ1vlt−ブチルエステル。
換されていてもよい炭素数2〜4のアシμアミノなどが
用いられる。該アミノ基の保護基としては、後述のアミ
ノ基の保護基と同様のものが用いられる。置換基を有し
ていてもよいアミノ酸残基の置換基としては、たとえば
アミノ、アミノ基の体膜基、カルバモイ/l/、メチル
カμパモイ/L/、ベンジμなどが用いられる。該アミ
ノ基の保!!慕としては、後述のアミノ基の保護基と同
様のものが用いられる。R14で表わされるカルホキV
のエステルとしては、たとえばメチルエステル、エチル
エステル、プロピルエステ1vlt−ブチルエステル。
パラニトロベンジルエステlv* 2− )リメチルシ
リルエチルエステルなどが用いられる。
リルエチルエステルなどが用いられる。
前記R5〜R19で示される置換基中にアミノ基。
カルボキシル基、ヒドロキシル基がある場合には保護さ
れていてもよい。アミノ基の保護基としては、たとえば
後記R1における「アミ7基の保護基」などが用いられ
る。カルボキシル基の保護基としては、β−ヲクタムお
よび有機化学の分野で通常力〜ホキシル基の保護基とし
て使用し得るものはすべて利用でき、たとえばメチル、
エチル。
れていてもよい。アミノ基の保護基としては、たとえば
後記R1における「アミ7基の保護基」などが用いられ
る。カルボキシル基の保護基としては、β−ヲクタムお
よび有機化学の分野で通常力〜ホキシル基の保護基とし
て使用し得るものはすべて利用でき、たとえばメチル、
エチル。
n−プロピμ、イソプロピ/’+ tert−ブチル。
tert−アミ〜、ベンジル、P−二10ベンジA/I
P−メトキシベンジル、ベンツヒトリール、フエナシμ
、フェニル、P−ニトロフエニμ、メトキVメチル、エ
トキシメチ/L’、ベンジルオキシメチ77.7セトキ
シメチル、ピバロイルオキシメチμ。
P−メトキシベンジル、ベンツヒトリール、フエナシμ
、フェニル、P−ニトロフエニμ、メトキVメチル、エ
トキシメチ/L’、ベンジルオキシメチ77.7セトキ
シメチル、ピバロイルオキシメチμ。
β−メチルヌμホニμエチル、メチルチオメチ1vlt
リチル、β、β、β−トリクロロエチル、β−ヨードエ
チ/L/ 、 ’l −’Lリメチルシリルエチ、TL
/、)リメチルシリル、ジメチルシリル、アセチルメチ
ル、P−ニトロベンゾイルメチル、P−メンルベンゾイ
ルメチ/L/Iフタμイミドメチル、プロピオニルオキ
シメチlvlメシルメチル、ベンゼンスpホニルメチ/
L’、フェニルチオメチ/L/lジメチルアミノエチル
等のエステル賎基、シリ〃基などが用いられる。なかで
も、β、β、β−トリクpロエチμ、P−ニトロベンジ
ル、第三級ブチル、2−トリメチルシリルエチ/l/、
P−メトキシベンジμが好ましい。ヒドロキシル基の保
護基としては、β−ヲクタムおよび有機化学の分野で通
常ヒドロキS/A/基の保護基として使用し得るものは
すべて利用でき、たとえばアセチル、クロロアセチルな
どのエステ)V残基、β、β、β−トリクロロエトキシ
カルボニ/l/、2−トリメチルシリルエトキシカルボ
ニルなどのエステル化された力μホキシル基* ter
t−ブチ/L/、ベンジル、P−ニトロベンジ/I/I
トリチル、メチルチオメチlv、β−メトキシエトキシ
メチルなどのエーテ/L/lA基、トリメチルシリ”+
je’rt−ブチルジメチルシリルなどのシリルエーテ
/L’残基、2−テ[ラヒドロピフニ/%/+4−メト
キシ−4−テトラヒドロピラニルなどのアセター/L’
残基などが用いられる。前記保護基の選択は、本発明に
おいてはアミノ基、力μホキシル基の保護基と同様、特
に限定されるものではない。
リチル、β、β、β−トリクロロエチル、β−ヨードエ
チ/L/ 、 ’l −’Lリメチルシリルエチ、TL
/、)リメチルシリル、ジメチルシリル、アセチルメチ
ル、P−ニトロベンゾイルメチル、P−メンルベンゾイ
ルメチ/L/Iフタμイミドメチル、プロピオニルオキ
シメチlvlメシルメチル、ベンゼンスpホニルメチ/
L’、フェニルチオメチ/L/lジメチルアミノエチル
等のエステル賎基、シリ〃基などが用いられる。なかで
も、β、β、β−トリクpロエチμ、P−ニトロベンジ
ル、第三級ブチル、2−トリメチルシリルエチ/l/、
P−メトキシベンジμが好ましい。ヒドロキシル基の保
護基としては、β−ヲクタムおよび有機化学の分野で通
常ヒドロキS/A/基の保護基として使用し得るものは
すべて利用でき、たとえばアセチル、クロロアセチルな
どのエステ)V残基、β、β、β−トリクロロエトキシ
カルボニ/l/、2−トリメチルシリルエトキシカルボ
ニルなどのエステル化された力μホキシル基* ter
t−ブチ/L/、ベンジル、P−ニトロベンジ/I/I
トリチル、メチルチオメチlv、β−メトキシエトキシ
メチルなどのエーテ/L/lA基、トリメチルシリ”+
je’rt−ブチルジメチルシリルなどのシリルエーテ
/L’残基、2−テ[ラヒドロピフニ/%/+4−メト
キシ−4−テトラヒドロピラニルなどのアセター/L’
残基などが用いられる。前記保護基の選択は、本発明に
おいてはアミノ基、力μホキシル基の保護基と同様、特
に限定されるものではない。
上記のアシμ基において、弐R5−Co−[A)で表わ
されるアシμ基の具体例としては、たとえば3−(2,
6−シクロロフエニlL/)−5−メチルイソキサシー
/L/−4−イルーカルボニ〜などが用フニμ、D−フ
ェニルアラニル、α−ベンジ/&−N−カルボベンゾキ
シ−γ−D−グルタミ7に−D−アフニ/l’、D−フ
ェニルグリV/L’−D−アヲニ/l/、N−カルボベ
ンゾキV−D−フェニルグリク/L/lD−アヲニルー
D−フェニルグリシル、T−D−グルタミμ−D−アラ
ニル、N−カルボベンゾキ&−D−1フニルーD−フェ
ニルグリシル。
されるアシμ基の具体例としては、たとえば3−(2,
6−シクロロフエニlL/)−5−メチルイソキサシー
/L/−4−イルーカルボニ〜などが用フニμ、D−フ
ェニルアラニル、α−ベンジ/&−N−カルボベンゾキ
シ−γ−D−グルタミ7に−D−アフニ/l’、D−フ
ェニルグリV/L’−D−アヲニ/l/、N−カルボベ
ンゾキV−D−フェニルグリク/L/lD−アヲニルー
D−フェニルグリシル、T−D−グルタミμ−D−アラ
ニル、N−カルボベンゾキ&−D−1フニルーD−フェ
ニルグリシル。
D−カルパモイルトリプトフイA/−D−フェニルグリ
5ytv+x−02−アミノ−3−(N−メチルカルバ
モイル)プロピオニル)−D−フェニルグリシμ、N−
カルボベンゾキシ−D−フェニ〜グリシμ−D−フェニ
μグリシル、D−アラニル−D−アラニル、2−C2−
アミノ−3−(N−メチルカルパモイ/L/)プロピオ
ンアミド〕アセチμ。
5ytv+x−02−アミノ−3−(N−メチルカルバ
モイル)プロピオニル)−D−フェニルグリシμ、N−
カルボベンゾキシ−D−フェニ〜グリシμ−D−フェニ
μグリシル、D−アラニル−D−アラニル、2−C2−
アミノ−3−(N−メチルカルパモイ/L/)プロピオ
ンアミド〕アセチμ。
D−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラ
ジノカルボキサミド)−2−(4−メトキシフェニル)
アセチlV、D−2−C2−(4−エチ/I/−2,3
−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセトア
ミドシー2−フエニ〜アセチμ、2−(2−アミノチア
ゾール−4−イfi/)−2−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセチA/
、D−2−(4−エチ1v−2.3−ジオキソー1−ピ
ペヲジノカμボキサミド)−2−チェニルアセチμ、D
−2−(4−n−ドブyyv−2,3−ジオキソ−1−
ピペラジノカルボキサミド)−2−フェニルアセチ/u
、D−2−(4,6−ジエ=yv−2、3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボキサミド)−2−フエ二Nlセチ
μ、D−2−(4−シクロヘキシ/L/−2,3−ジオ
キソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−チェニル
アセチv、D−2−C4−n−アミA/−6(S )−
メチA/−2,D−3−ジオキソ−1−ピペラジノカル
ボキサミド)−2−チェニルアセチル、D−2−(4−
エチル−5−メチ/I/−2+a−ジオキソ−1−ピペ
ラジノカルボキサミド)−2−チェニルアセチ/L/、
D−2−(8−ヒドロキシ−1,5−ナフチリジン−7
−カ〃ボキサミド)−2−フェニルアセチル、D−2−
(4−n−オクチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ノカルボキサミド)−2−フェニルアセチル、2−(4
−エチi’−2+ 3−ジオキソ−1−ピペラジノカル
ボキサミド)−2−(4−クロロフエニlv)アセチル
、α−IJ−(4−工+/l’−2.3−ジオキソ−1
−ピペラジニルボニ/l/)り/lz/ミニ=#、D−
N−(4−−r−チ/L’−2。
ジノカルボキサミド)−2−(4−メトキシフェニル)
アセチlV、D−2−C2−(4−エチ/I/−2,3
−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセトア
ミドシー2−フエニ〜アセチμ、2−(2−アミノチア
ゾール−4−イfi/)−2−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセチA/
、D−2−(4−エチ1v−2.3−ジオキソー1−ピ
ペヲジノカμボキサミド)−2−チェニルアセチμ、D
−2−(4−n−ドブyyv−2,3−ジオキソ−1−
ピペラジノカルボキサミド)−2−フェニルアセチ/u
、D−2−(4,6−ジエ=yv−2、3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボキサミド)−2−フエ二Nlセチ
μ、D−2−(4−シクロヘキシ/L/−2,3−ジオ
キソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−チェニル
アセチv、D−2−C4−n−アミA/−6(S )−
メチA/−2,D−3−ジオキソ−1−ピペラジノカル
ボキサミド)−2−チェニルアセチル、D−2−(4−
エチル−5−メチ/I/−2+a−ジオキソ−1−ピペ
ラジノカルボキサミド)−2−チェニルアセチ/L/、
D−2−(8−ヒドロキシ−1,5−ナフチリジン−7
−カ〃ボキサミド)−2−フェニルアセチル、D−2−
(4−n−オクチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ノカルボキサミド)−2−フェニルアセチル、2−(4
−エチi’−2+ 3−ジオキソ−1−ピペラジノカル
ボキサミド)−2−(4−クロロフエニlv)アセチル
、α−IJ−(4−工+/l’−2.3−ジオキソ−1
−ピペラジニルボニ/l/)り/lz/ミニ=#、D−
N−(4−−r−チ/L’−2。
3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボ=A/)フェニル
アラニル、D−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボキサミド)−2−(4−ヒドロキ
シフェニ)L/)アセチル、2−(4−エチ/I/−2
,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2
−(1−シクロヘキセン−1−イ/L/)アセチ/$’
、 D −2−(4−n −、t クチ1v−2,3
−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−チ
ェニルアセチ/9.2−(4−エチfi/−2,3−ジ
オキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−(2−
メチルチアゾ−A/−4−イ/L/)アセチ〜、2−(
4−n−オクチμm2゜3−ジオキソ−1−ピペラジノ
カルボキサミド)−2−(2−アミノチアゾ−A/−4
−イμ)アセチル、2−(4−エチfiJ−2,3−ジ
オキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−フリル
アセチル、D−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボキサミド’)−2−(2−ピロリ
/I/)アセチル、D−2−(4−エチル−2゜3−ジ
オキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−3−クロロ
プロピオニ/L、’、 D−2−C4−(2−ヒドロキ
Vエチ/l/)−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカ
ルボキサミド)−2−7エニルアセチル、D−2−[4
−(2−クロロx f N ) 2 。
アラニル、D−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボキサミド)−2−(4−ヒドロキ
シフェニ)L/)アセチル、2−(4−エチ/I/−2
,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2
−(1−シクロヘキセン−1−イ/L/)アセチ/$’
、 D −2−(4−n −、t クチ1v−2,3
−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−チ
ェニルアセチ/9.2−(4−エチfi/−2,3−ジ
オキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−(2−
メチルチアゾ−A/−4−イ/L/)アセチ〜、2−(
4−n−オクチμm2゜3−ジオキソ−1−ピペラジノ
カルボキサミド)−2−(2−アミノチアゾ−A/−4
−イμ)アセチル、2−(4−エチfiJ−2,3−ジ
オキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−フリル
アセチル、D−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボキサミド’)−2−(2−ピロリ
/I/)アセチル、D−2−(4−エチル−2゜3−ジ
オキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−3−クロロ
プロピオニ/L、’、 D−2−C4−(2−ヒドロキ
Vエチ/l/)−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカ
ルボキサミド)−2−7エニルアセチル、D−2−[4
−(2−クロロx f N ) 2 。
3−ジオキソ−1−ピペラジツカμボキサミド〕−2−
フェニルアセチル、D−2=C(3−)μアリリデンア
ミノ−2−オキソイミダゾリジン−1−イfi/)カル
ボキサミドクー2−フェニルアセチ〜、D−2−、C(
3−フルフリリデンアミノー2−オキソイミダゾリジン
−1−イμ)カルボキサミl−2−(4−ヒドロキシフ
エニμ)アセチル、D−2−CC2−オキソ−3−(チ
オフェン−2−アルドイミノ)イミダゾリジン−1−イ
μ〕力〃ボキサミド〕−2−フェニルアセチル。
フェニルアセチル、D−2=C(3−)μアリリデンア
ミノ−2−オキソイミダゾリジン−1−イfi/)カル
ボキサミドクー2−フェニルアセチ〜、D−2−、C(
3−フルフリリデンアミノー2−オキソイミダゾリジン
−1−イμ)カルボキサミl−2−(4−ヒドロキシフ
エニμ)アセチル、D−2−CC2−オキソ−3−(チ
オフェン−2−アルドイミノ)イミダゾリジン−1−イ
μ〕力〃ボキサミド〕−2−フェニルアセチル。
D−2−((3−フルプリリチンアミノ−2−オキソイ
ミダゾリジン−1−イ/I/)カルボキサミドクー2−
チエ二〜アセチμ、D−2−C(3−メチルスμホニl
L/−2−オキソイミダゾリジン−1−イ/L’)カル
ボキサミドクー2−フェニルアセチμ。
ミダゾリジン−1−イ/I/)カルボキサミドクー2−
チエ二〜アセチμ、D−2−C(3−メチルスμホニl
L/−2−オキソイミダゾリジン−1−イ/L’)カル
ボキサミドクー2−フェニルアセチμ。
2−4 (3−フルフリリチンアミノ−2−オキソイミ
ダゾリジン−1−イル)カルボキサミド〕−2−(2−
アミノチアゾ−A/−4−イル)アセチル、D−2−C
C2−オキソ−3−(チオフェン−2−アルドイミノ)
イミダゾリジン−1−イル〕カルボキサミド〕−2−チ
エ二μアセチ/L/、D−2−(4−ヒドロキシ−6−
メチルニコチンアミF )−2−(4−ヒドロキシフエ
ニ/V ) 7セチ〜。
ダゾリジン−1−イル)カルボキサミド〕−2−(2−
アミノチアゾ−A/−4−イル)アセチル、D−2−C
C2−オキソ−3−(チオフェン−2−アルドイミノ)
イミダゾリジン−1−イル〕カルボキサミド〕−2−チ
エ二μアセチ/L/、D−2−(4−ヒドロキシ−6−
メチルニコチンアミF )−2−(4−ヒドロキシフエ
ニ/V ) 7セチ〜。
D−2−C5,8−ジヒドロ−2−(4−ホルミ/l/
−1−ピペラジニル)−5−オキソピリド〔2゜3−d
〕ピリミジン−6−カ〜ボキサミド〕−2−フェニルア
セチfi/、n−2−(3,5−ジオキソ−1,2,4
−1−リアジン−6−カμボキサミド)−2−(4−ヒ
ドロキシフエニ/v)アセチル。
−1−ピペラジニル)−5−オキソピリド〔2゜3−d
〕ピリミジン−6−カ〜ボキサミド〕−2−フェニルア
セチfi/、n−2−(3,5−ジオキソ−1,2,4
−1−リアジン−6−カμボキサミド)−2−(4−ヒ
ドロキシフエニ/v)アセチル。
D−2−(クマリン−3−カルボキサミド)−2−フェ
ニルアセチル、2−(4−エチ、A/−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−(2−クロ
ロ−1−シクロヘキセン−1−イ/L/)アセチル、2
−(4−ヒドロキン−7−トリフルオロメチルキノリン
−3−カμボキサミド)−2−フェニルアセチル、N−
(2−(2−アミノチアゾ−A/−4−イ1v)7(!
チ/k)−D−7mニルグリシル、n−2−1:〔3−
(2,6−シクロロフエニ1v)−5−メチルイソキサ
ゾール−4−イ!〕カルボキサミド〕−2−チェニルア
セチμ、D−2−(カルバモイル)アミノ−2−チェニ
ルアセチル、N−カルパモイIL’−D−フェニルグリ
シμなどが用いられる。式R9−R10−CO−(C)
で表わされるアシル基の具体例としては、たとえばM−
C2−C2−アミノチアゾ−A/−4−イル)−2−メ
トキシイミノアセチy)−D−アラニA/。
ニルアセチル、2−(4−エチ、A/−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−2−(2−クロ
ロ−1−シクロヘキセン−1−イ/L/)アセチル、2
−(4−ヒドロキン−7−トリフルオロメチルキノリン
−3−カμボキサミド)−2−フェニルアセチル、N−
(2−(2−アミノチアゾ−A/−4−イ1v)7(!
チ/k)−D−7mニルグリシル、n−2−1:〔3−
(2,6−シクロロフエニ1v)−5−メチルイソキサ
ゾール−4−イ!〕カルボキサミド〕−2−チェニルア
セチμ、D−2−(カルバモイル)アミノ−2−チェニ
ルアセチル、N−カルパモイIL’−D−フェニルグリ
シμなどが用いられる。式R9−R10−CO−(C)
で表わされるアシル基の具体例としては、たとえばM−
C2−C2−アミノチアゾ−A/−4−イル)−2−メ
トキシイミノアセチy)−D−アラニA/。
2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−1v−4−イ/
L/)−2−メトキシイミノアセチ/L/、 2− (
2−アミノチアゾ−1v−4−イ/L’)−2−イソプ
ロポキシイミノアセチ#、2−(2−アミノチアゾ−A
/−4−イ/I/)−2−メトキシイミノアセチル。
L/)−2−メトキシイミノアセチ/L/、 2− (
2−アミノチアゾ−1v−4−イ/L’)−2−イソプ
ロポキシイミノアセチ#、2−(2−アミノチアゾ−A
/−4−イ/I/)−2−メトキシイミノアセチル。
2−(2−アミノチアゾ−fi/−4−イル)−2−オ
キシイミノアセチμ、2−チェニ/L’−2−メトキシ
イミノアセチ/L/12−フリ/I/−2−メトキシイ
ミノアセチμ、2−(4−ヒドロキシフエニ/I/)−
2−メトキシイミノアセチル、2−フェニル−2−メト
キシイミノアセチル、2−チェニ/L’−2−オキシイ
ミノアセチ〜、2−チェニA/−2−ジクロロアセチ!
オキシイミノアセチμ、2−[4−(3−アミノ−3−
カルボキジプロポキシ)フエ二μ〕−2−オキVイミノ
アセチyv、 2− (5−クロロ−2−アミノチアゾ
−/′v−4−イ/l’)−2−メトキシイミノアセチ
μ、2−(2−アミノチアゾ−/i/−4−イfi/)
−2−(1−カμボキシメトfrVイミノ)アセチμ、
2−(2−アミノチナゾー1v−4−イル)−2−(+
−カルボキシエトキシイミノ)アセチ/L/+ 2−
< 2−アミノチアゾ−A/−4−イA/)−2−(1
−カルホキy −1−メチルエトキシイミノ)アセチル
、2−(2−アミノチアゾ−1L/−4−イfi/)−
2−(1−メトキンカμボニA/−1−メチルエトキシ
イミノ)アセチlv、 2− (2−7fi /flソ
ーIV−4−イ/L/)−2−(1−力7kyj(キシ
−1−シクロプロピ!メトキシイミノ)アセチ/I/、
2−(2−アミノチアゾール−4−イ/L’)−2−(
1−カルボキシ−1−シクログチμメトキシイミノ)ア
セチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イ/I/)
−2−(1−カルパモイA/−1−メチμエトキシイミ
ノ)アセチμなどが用いられる。式 るアシル基の具体例としては、九とえば、α−スルホフ
エニ〜アセチμ、α−ヒドロキシフェニルアセチμ、α
−ホルミルオキシフェニルアセチ!。
キシイミノアセチμ、2−チェニ/L’−2−メトキシ
イミノアセチ/L/12−フリ/I/−2−メトキシイ
ミノアセチμ、2−(4−ヒドロキシフエニ/I/)−
2−メトキシイミノアセチル、2−フェニル−2−メト
キシイミノアセチル、2−チェニ/L’−2−オキシイ
ミノアセチ〜、2−チェニA/−2−ジクロロアセチ!
オキシイミノアセチμ、2−[4−(3−アミノ−3−
カルボキジプロポキシ)フエ二μ〕−2−オキVイミノ
アセチyv、 2− (5−クロロ−2−アミノチアゾ
−/′v−4−イ/l’)−2−メトキシイミノアセチ
μ、2−(2−アミノチアゾ−/i/−4−イfi/)
−2−(1−カμボキシメトfrVイミノ)アセチμ、
2−(2−アミノチナゾー1v−4−イル)−2−(+
−カルボキシエトキシイミノ)アセチ/L/+ 2−
< 2−アミノチアゾ−A/−4−イA/)−2−(1
−カルホキy −1−メチルエトキシイミノ)アセチル
、2−(2−アミノチアゾ−1L/−4−イfi/)−
2−(1−メトキンカμボニA/−1−メチルエトキシ
イミノ)アセチlv、 2− (2−7fi /flソ
ーIV−4−イ/L/)−2−(1−力7kyj(キシ
−1−シクロプロピ!メトキシイミノ)アセチ/I/、
2−(2−アミノチアゾール−4−イ/L’)−2−(
1−カルボキシ−1−シクログチμメトキシイミノ)ア
セチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イ/I/)
−2−(1−カルパモイA/−1−メチμエトキシイミ
ノ)アセチμなどが用いられる。式 るアシル基の具体例としては、九とえば、α−スルホフ
エニ〜アセチμ、α−ヒドロキシフェニルアセチμ、α
−ホルミルオキシフェニルアセチ!。
α−カルボキシフェニルアセチμ、2−プロモー2−フ
ェニルアセチμ、2−アジド−2−フェニルアセチμな
どが用いられる。式R18−Rl9−CH−CO−CE
)で表わされるアシル基の具体例としては、たとえば
、ンアノアセチ〜、フエニμアセチμ、フェノキシアセ
チ/l/、)リフpオロメチμチオアセチμ、シアノメ
チμチオアセチA/、lH−テトラゾイル−1−アセナ
ル。2−チェニμアセチ/L’ l ’2− (2−ア
ミノチアゾ−fi/−4−イル)アセチ#、2−(2−
クロロアセトアミドチアゾ−μm4−イ/I/)アセチ
/I/、4−ピリジpチオアセチμ、3.5−ジクロロ
−1,4−ジヒドロ−4−オキソピリジン−1−アセチ
μ、β−カルボキシビニルチオアセチ〜、2−(2−N
−カルボベンゾキシアミノメチルフェニル)アセチ/L
/、2−(2−ウレイドメチルフェニル)アセチルなど
が用いられる。
ェニルアセチμ、2−アジド−2−フェニルアセチμな
どが用いられる。式R18−Rl9−CH−CO−CE
)で表わされるアシル基の具体例としては、たとえば
、ンアノアセチ〜、フエニμアセチμ、フェノキシアセ
チ/l/、)リフpオロメチμチオアセチμ、シアノメ
チμチオアセチA/、lH−テトラゾイル−1−アセナ
ル。2−チェニμアセチ/L’ l ’2− (2−ア
ミノチアゾ−fi/−4−イル)アセチ#、2−(2−
クロロアセトアミドチアゾ−μm4−イ/I/)アセチ
/I/、4−ピリジpチオアセチμ、3.5−ジクロロ
−1,4−ジヒドロ−4−オキソピリジン−1−アセチ
μ、β−カルボキシビニルチオアセチ〜、2−(2−N
−カルボベンゾキシアミノメチルフェニル)アセチ/L
/、2−(2−ウレイドメチルフェニル)アセチルなど
が用いられる。
R、RおよびRで表わされる保護されたアミノ基の保護
基としては、β−ヲクタムおよびペプチド合成の分野で
この目的に用いられるものが便宜に採用される。たとえ
ばフタロイル、P−ニトロベンシイ/l/、P−tar
t−ブチルペンシイ/’* P tart−ブチルベ
ンゼンスμホニル、ベンゼンスルホニル、トルエンスル
ホニル等の芳香族アシル基、たとえばホμミ/I/、ア
セチ/l/、グロピオニル、モノクロロアセチμ、ジク
ロロアセチμ、トリクロロアセチμ、メタンスμホニル
、エタンス〃ホニル、トリフルオロアセチ/I/、フェ
ニルプセチル、マロイル、ヌクシニル等の脂肪族アシル
基、たとえばベンジルオキシカルボニル、P−ニトロベ
ンジルオキVカルボニ/l/ 、 P−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、2−トリメチルVすμエトキシカ
pボニ/I/、メトキシカルポニ〜基等のエステル化さ
れた力μポキV/I/基、さらに、例、tば)!Jチμ
、2−ニトロフェニルチオ、ベンジリデン、4−ニトロ
ベンジリデン、ジもしくはトリアルキルシリル、t−ブ
チルジメチルシリμ。
基としては、β−ヲクタムおよびペプチド合成の分野で
この目的に用いられるものが便宜に採用される。たとえ
ばフタロイル、P−ニトロベンシイ/l/、P−tar
t−ブチルペンシイ/’* P tart−ブチルベ
ンゼンスμホニル、ベンゼンスルホニル、トルエンスル
ホニル等の芳香族アシル基、たとえばホμミ/I/、ア
セチ/l/、グロピオニル、モノクロロアセチμ、ジク
ロロアセチμ、トリクロロアセチμ、メタンスμホニル
、エタンス〃ホニル、トリフルオロアセチ/I/、フェ
ニルプセチル、マロイル、ヌクシニル等の脂肪族アシル
基、たとえばベンジルオキシカルボニル、P−ニトロベ
ンジルオキVカルボニ/l/ 、 P−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、2−トリメチルVすμエトキシカ
pボニ/I/、メトキシカルポニ〜基等のエステル化さ
れた力μポキV/I/基、さらに、例、tば)!Jチμ
、2−ニトロフェニルチオ、ベンジリデン、4−ニトロ
ベンジリデン、ジもしくはトリアルキルシリル、t−ブ
チルジメチルシリμ。
t−ブチルジフェニルシリ/I/、ベンジlL/IP−
二トロベンジル等のアシy基以外のアミノ基の保護基が
用いられる。該保護基の選択ゆ本発明においては、カル
ボキシの保護基と同様、特に限定するものではないが、
特にモノクロロアセチル、トリチル、ベンジμオキVカ
ルボニ〜、P−メFキシベンジルオキシカμボニμ、2
−トリメチルシリルエトキン力μボニA/、P−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル Yは、ハロゲンまたは式−〇〇〇R3, −SCOIi
3またはよs−R3(P? は炭化水素基を、nは1
またはco)n 2を示す)で表わされる基を示す。ここにおいてハロゲ
ンとしては塩素,フッ素.ヨウ素,臭素が用いられる。
二トロベンジル等のアシy基以外のアミノ基の保護基が
用いられる。該保護基の選択ゆ本発明においては、カル
ボキシの保護基と同様、特に限定するものではないが、
特にモノクロロアセチル、トリチル、ベンジμオキVカ
ルボニ〜、P−メFキシベンジルオキシカμボニμ、2
−トリメチルシリルエトキン力μボニA/、P−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル Yは、ハロゲンまたは式−〇〇〇R3, −SCOIi
3またはよs−R3(P? は炭化水素基を、nは1
またはco)n 2を示す)で表わされる基を示す。ここにおいてハロゲ
ンとしては塩素,フッ素.ヨウ素,臭素が用いられる。
炭化水素基としては、たとえばR5−B19で述べたご
とき置換基を有していてもよい低級アルキル、アμケニ
/I/lシクロアμケニルなどの#丘か、たとえばVク
ロプロピA/,シクロブチ/1/.シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチμ.アダマンチルなど0脚
素数3〜10のシクロアルキル基,たとえばフエニ〜,
トリル、キシリμ,ビフエニ/I/,ナフチμ,アンt
リル.フエナントリルなどのアリーμ基、たとえばベン
ジル、フェネチル、フェニルプロピル、ナフチルメチル
などのアラルキμ基などが用いられる。これらのシクロ
アルキル、アリ−1vlアラルキル基は置換基を有して
いてもよく、このような置換基としては九とえばR5
〜B19に関して述べ九フェニルまたはフェノキシの置
換基と同じものが用いられる。特に、Yがたとえば低級
アシルオキシ(例エバアセトキシ、プロピオニルオキシ
など)、低級アルキルスルホニ/L’(例えばメチルス
ルホニ/L/。
とき置換基を有していてもよい低級アルキル、アμケニ
/I/lシクロアμケニルなどの#丘か、たとえばVク
ロプロピA/,シクロブチ/1/.シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチμ.アダマンチルなど0脚
素数3〜10のシクロアルキル基,たとえばフエニ〜,
トリル、キシリμ,ビフエニ/I/,ナフチμ,アンt
リル.フエナントリルなどのアリーμ基、たとえばベン
ジル、フェネチル、フェニルプロピル、ナフチルメチル
などのアラルキμ基などが用いられる。これらのシクロ
アルキル、アリ−1vlアラルキル基は置換基を有して
いてもよく、このような置換基としては九とえばR5
〜B19に関して述べ九フェニルまたはフェノキシの置
換基と同じものが用いられる。特に、Yがたとえば低級
アシルオキシ(例エバアセトキシ、プロピオニルオキシ
など)、低級アルキルスルホニ/L’(例えばメチルス
ルホニ/L/。
エチルスルホニルなど)などを示す時、好結果が得られ
る。Xは水素またはメトキシ基を示す。Wは水素または
スルホ基を示す。
る。Xは水素またはメトキシ基を示す。Wは水素または
スルホ基を示す。
本発明においては、化合物CII)とシアノ化合物を反
応させ、必要に応じて保護基を除去することによシ化合
物〔工〕が得られる。
応させ、必要に応じて保護基を除去することによシ化合
物〔工〕が得られる。
化合物CIO)は遊離のままであるいは種々の酸または
塩基との塩、エステル、シリル誘導体(W=)Iの場合
)等の形で本反応の原料として使用できる。また、化合
物( IF’ )は、3位と4位に置換基を有するので
、シス−トランス異性体が存在し、さらに3位と4位の
炭素が不斉炭素であるため理論上少くとも合計4種類の
立体異性体が存在するが、これら立体異性体を単独であ
るいは混合物のいずれの状態でも使用することができる
。R2で示される基に不斉炭素を有する場合も同様であ
り、その結果化ずる立体異性体は単独であるいは混合物
のいずれの状態でも使用することができる。
塩基との塩、エステル、シリル誘導体(W=)Iの場合
)等の形で本反応の原料として使用できる。また、化合
物( IF’ )は、3位と4位に置換基を有するので
、シス−トランス異性体が存在し、さらに3位と4位の
炭素が不斉炭素であるため理論上少くとも合計4種類の
立体異性体が存在するが、これら立体異性体を単独であ
るいは混合物のいずれの状態でも使用することができる
。R2で示される基に不斉炭素を有する場合も同様であ
り、その結果化ずる立体異性体は単独であるいは混合物
のいずれの状態でも使用することができる。
化合物CII)の塩としては、1位にスルホ基、R2に
カルボキシル基が存在する場合には、たとえばナトリウ
ム、カリウム等の無毒性カチオン。
カルボキシル基が存在する場合には、たとえばナトリウ
ム、カリウム等の無毒性カチオン。
アルギニン、オルニチン、リジン、ヒスチジン等の塩基
性アミノ酸.N−メチルグルタミン、ジェタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、トリスヒドロキシメチルア
ミノメタンなどのポリヒドロキシフルキルアミン等との
塩が用いられる。また、R2に塩基性基が含まれている
場合には、たとえば酢酸.酒石酸,メタンスルホン酸な
どの有機酸との塩、たとえば塩酸,臭化水素酸,硫酸.
リン酸など無機酸との塩、たとえばアルギニン、アスパ
ラギン酸,グルタミン酸などの酸性アミノ酸との塩など
が用いられる。さらに、R2がカルボキシル基を含む場
合には、エステル誘導体に変換して用いることもでき、
その場合のエステル基としては、九とえはメトキシメチ
ル、エトキシメチル。
性アミノ酸.N−メチルグルタミン、ジェタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、トリスヒドロキシメチルア
ミノメタンなどのポリヒドロキシフルキルアミン等との
塩が用いられる。また、R2に塩基性基が含まれている
場合には、たとえば酢酸.酒石酸,メタンスルホン酸な
どの有機酸との塩、たとえば塩酸,臭化水素酸,硫酸.
リン酸など無機酸との塩、たとえばアルギニン、アスパ
ラギン酸,グルタミン酸などの酸性アミノ酸との塩など
が用いられる。さらに、R2がカルボキシル基を含む場
合には、エステル誘導体に変換して用いることもでき、
その場合のエステル基としては、九とえはメトキシメチ
ル、エトキシメチル。
インプロポキシメチル、α−メトキシエチル、αーエト
キシエチμ等のアルコキシメチ/I/.αーアルコキシ
エチル等のα−アルコキシ−α−置換メチル基,メチル
チオメチル、エチルチオメチlvlイソプロピルチオメ
チμ等のアルキルチオメチル基、またピバロイルオキシ
メチル、α−アセトキシブチル等のアシμオキシメ千ル
基またはαーアシルオキンーαー置換メチル基1エトキ
シカルボニルオキシメチ/I/,αーエトキVカルボニ
ルオキシエチ〃等のα−アルコキシ炭酸−α−置換メチ
ル基等が用いられる。そして、化合物CII)はVリル
化剤でVviv化されたものも原料として用いラレる。
キシエチμ等のアルコキシメチ/I/.αーアルコキシ
エチル等のα−アルコキシ−α−置換メチル基,メチル
チオメチル、エチルチオメチlvlイソプロピルチオメ
チμ等のアルキルチオメチル基、またピバロイルオキシ
メチル、α−アセトキシブチル等のアシμオキシメ千ル
基またはαーアシルオキンーαー置換メチル基1エトキ
シカルボニルオキシメチ/I/,αーエトキVカルボニ
ルオキシエチ〃等のα−アルコキシ炭酸−α−置換メチ
ル基等が用いられる。そして、化合物CII)はVリル
化剤でVviv化されたものも原料として用いラレる。
シリ)し化剤としては、たとえば式が−7・R3・Si
−Hal〔式中、Pl,R2,R3 はそれぞれたと
えば炭素数1ないし4の低級アルキIVcたとえばメチ
ル、エチ/L/In−プロピル、1−プロピル+ n−
ブチルなど)、アリ−/1/(たとえばフエニlv、ト
リルなど)などの伏化水素基を、Halはハロゲン好ま
しくはクロル、ブロムを示し、そしてpi 、 p2
、 p3 のうち1つまたは2つはハロゲン好まし
くはクロμ、ブロムを pl 、 p2゜P3のうち
1つは水素原子であってもよい〕で表わされる化合物な
どが用いられる。さらに、たとえばヘキサアルキy(C
1,)yクロトリシフザン、オクタアルキル(C1−4
)シクロテトフシヲザン、トリアpキーVCCよ−4)
シリルアセタミド。
−Hal〔式中、Pl,R2,R3 はそれぞれたと
えば炭素数1ないし4の低級アルキIVcたとえばメチ
ル、エチ/L/In−プロピル、1−プロピル+ n−
ブチルなど)、アリ−/1/(たとえばフエニlv、ト
リルなど)などの伏化水素基を、Halはハロゲン好ま
しくはクロル、ブロムを示し、そしてpi 、 p2
、 p3 のうち1つまたは2つはハロゲン好まし
くはクロμ、ブロムを pl 、 p2゜P3のうち
1つは水素原子であってもよい〕で表わされる化合物な
どが用いられる。さらに、たとえばヘキサアルキy(C
1,)yクロトリシフザン、オクタアルキル(C1−4
)シクロテトフシヲザン、トリアpキーVCCよ−4)
シリルアセタミド。
ビス−トリアルキ/l/(Cニー4)シリルアセタミド
などもシリル化剤として用いられる。シリル化剤の好ま
しいものとしては、たとえば式 〔式中、yl およびY2はそれぞれ低級アルキル。
などもシリル化剤として用いられる。シリル化剤の好ま
しいものとしては、たとえば式 〔式中、yl およびY2はそれぞれ低級アルキル。
フェニル、ベンジlvまたは低級アルコキシ基を、Y3
はt−ブチルまたはイソプロピル基を y4はシリル
化剤から脱離する反応性の基をそれぞれ意味する〕で示
されるシリル化合物がある。上記の一般式で示されるシ
リル化剤においてyl 、y2で示される低級アルキ
ル基としては、たとえばメチ/I/lクロロメチル、エ
チ/L’+n−プpビfi71イソプロピル、n−ブチ
/L’+tert−ブチp等が、低級アルコキシ基とし
てはたとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ+n−グトキシ、t−ブトキシ等が用いら
れる。またシリル化剤から脱離する反応性の基Y4とし
ては、ハロゲン(たとえばクロ/I/、ブロム等)の他
たとえばN−(トリアルキルシリ/l’))リフ〜オロ
アセトイミドイμオキシ基+N−()リアルキルシリ/
I/)アセトイミドイμオキV基lホルミ〜アミノ、ア
セチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、
トリフルオロアセチルアミノ等のアシルアミノ基;(ト
リーt−ブチルジメチルシリル)アミノ、イソプロビル
ジメチ〜シリルアミムクロロメチルジメチルシリlv)
アミノ等の(トリアルキルシリ/I/)アミノ基;アミ
ノ;メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ等の
アルキルアミノ基iN、N−ジメチpアミノ、N−クロ
ロメチA/−N−メチルアミノ、N、N−ジエチルアミ
ノ、N、N−ジプロピルアミノ、N−メチル−イル等の
複素環式基が用いられる。これらY″で表わされる反応
性の基におけるアルキル基としては、炭素数1ないし4
のものがよく、メチル、エチ/l/ 、 n−プロピμ
、イソプロピ〜、n−ブチル。
はt−ブチルまたはイソプロピル基を y4はシリル
化剤から脱離する反応性の基をそれぞれ意味する〕で示
されるシリル化合物がある。上記の一般式で示されるシ
リル化剤においてyl 、y2で示される低級アルキ
ル基としては、たとえばメチ/I/lクロロメチル、エ
チ/L’+n−プpビfi71イソプロピル、n−ブチ
/L’+tert−ブチp等が、低級アルコキシ基とし
てはたとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ+n−グトキシ、t−ブトキシ等が用いら
れる。またシリル化剤から脱離する反応性の基Y4とし
ては、ハロゲン(たとえばクロ/I/、ブロム等)の他
たとえばN−(トリアルキルシリ/l’))リフ〜オロ
アセトイミドイμオキシ基+N−()リアルキルシリ/
I/)アセトイミドイμオキV基lホルミ〜アミノ、ア
セチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、
トリフルオロアセチルアミノ等のアシルアミノ基;(ト
リーt−ブチルジメチルシリル)アミノ、イソプロビル
ジメチ〜シリルアミムクロロメチルジメチルシリlv)
アミノ等の(トリアルキルシリ/I/)アミノ基;アミ
ノ;メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ等の
アルキルアミノ基iN、N−ジメチpアミノ、N−クロ
ロメチA/−N−メチルアミノ、N、N−ジエチルアミ
ノ、N、N−ジプロピルアミノ、N−メチル−イル等の
複素環式基が用いられる。これらY″で表わされる反応
性の基におけるアルキル基としては、炭素数1ないし4
のものがよく、メチル、エチ/l/ 、 n−プロピμ
、イソプロピ〜、n−ブチル。
t−グチルなどが用いられる。
このよりなシリアy化合物の具体的な例としては、N、
O−ビス(t−グチμジメチμシリlv)トリフμオロ
アセトアミド、N、O−ビス(イソプロピルジメチルシ
リμ)アセトアミド、ビス(ジメチルイソプロピルシリ
/I/)アセトアミド、イソプロヒルジメチルシリルア
セトアミド、ビス(ジメチル第3級ブチルシリIL/)
アセトアミド、N−メチ/k −N −t−プチルジメ
チμシリ〜アセトアミド、H−メチA/−N−イソプロ
ピルジメチルシリルトリフμオロアセトアミド、N−t
−ブチルジメチルシリルジエチルアミン、1.3−ビス
(クロロメチル)−1,1,3,3−テトラ−t−ブチ
ルジメチルジシラザン、N−イソプpビルジメチルシリ
〃イミダゾ−Iv、t−ブチルジフェニルクロロシラン
、イソプロピμジエチルクロロシフン、イソプロビルメ
チルジクロロシフン+ tart−グチルジメチルクロ
ロシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、t−ブ
チルジエチルクロロシラン等が用いられ、このうちte
rt−グチルジメチルクロロシラン、イソプロピルジメ
チルクロロタラン等を用いた場合にはシリル誘導体を安
定に単離しうる。シリル化合物の温度はθ〜50しの温
度、好ましくは38℃までの温度、通常室温(約20℃
)で行われ、反応時間は数分(約10分)ないし24時
間である。反応は例えば、酢酸エチル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランI N IN−ジメチルアセトアミド
、N、N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、べンゼン、トルエン、アセトン、メチルエ
チルケトン、アセトニトリル等、またはこれらの混合溶
媒、その他この反応に関与しない溶媒中で行なづ゛のが
便宜である。ま走この反応は、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム。
O−ビス(t−グチμジメチμシリlv)トリフμオロ
アセトアミド、N、O−ビス(イソプロピルジメチルシ
リμ)アセトアミド、ビス(ジメチルイソプロピルシリ
/I/)アセトアミド、イソプロヒルジメチルシリルア
セトアミド、ビス(ジメチル第3級ブチルシリIL/)
アセトアミド、N−メチ/k −N −t−プチルジメ
チμシリ〜アセトアミド、H−メチA/−N−イソプロ
ピルジメチルシリルトリフμオロアセトアミド、N−t
−ブチルジメチルシリルジエチルアミン、1.3−ビス
(クロロメチル)−1,1,3,3−テトラ−t−ブチ
ルジメチルジシラザン、N−イソプpビルジメチルシリ
〃イミダゾ−Iv、t−ブチルジフェニルクロロシラン
、イソプロピμジエチルクロロシフン、イソプロビルメ
チルジクロロシフン+ tart−グチルジメチルクロ
ロシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、t−ブ
チルジエチルクロロシラン等が用いられ、このうちte
rt−グチルジメチルクロロシラン、イソプロピルジメ
チルクロロタラン等を用いた場合にはシリル誘導体を安
定に単離しうる。シリル化合物の温度はθ〜50しの温
度、好ましくは38℃までの温度、通常室温(約20℃
)で行われ、反応時間は数分(約10分)ないし24時
間である。反応は例えば、酢酸エチル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランI N IN−ジメチルアセトアミド
、N、N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、べンゼン、トルエン、アセトン、メチルエ
チルケトン、アセトニトリル等、またはこれらの混合溶
媒、その他この反応に関与しない溶媒中で行なづ゛のが
便宜である。ま走この反応は、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム。
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基或いはたと
えばトリエチルアミン、トリエチルアミン等のトリアル
キルアミン、たとえばトリベンジルアミン等のトリアル
キルアミン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリ
ジン、N、N−ジアルキルアニリン、N、N−ジアルキ
ルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、Ivピリジン
の有機三級アミン、或いは1.5−ジアザビシフP C
4+ 3 。
えばトリエチルアミン、トリエチルアミン等のトリアル
キルアミン、たとえばトリベンジルアミン等のトリアル
キルアミン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリ
ジン、N、N−ジアルキルアニリン、N、N−ジアルキ
ルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、Ivピリジン
の有機三級アミン、或いは1.5−ジアザビシフP C
4+ 3 。
0〕ノン−5−エン、1.4−ジアザビシクロC2,2
+2.)オクタン、1.8−ジアザビシクロC5,4,
4)ウンデセン−7等の有機塩基の存在下に行なうこと
ができ、塩基が液体のものは溶媒を兼ねて使用すること
ができる。かくして得られる化合物CI)のシリル誘導
体は、反応混合物のままあるいは下記のごとき公知の手
段にょる単離、精製後に、シアノ化合物との反応の原料
として用いられる。
+2.)オクタン、1.8−ジアザビシクロC5,4,
4)ウンデセン−7等の有機塩基の存在下に行なうこと
ができ、塩基が液体のものは溶媒を兼ねて使用すること
ができる。かくして得られる化合物CI)のシリル誘導
体は、反応混合物のままあるいは下記のごとき公知の手
段にょる単離、精製後に、シアノ化合物との反応の原料
として用いられる。
このようにして得られる化合物CI[,11の1−シリ
ル誘導体において、上記R2が保護されているアミノ基
の場合、保護基を脱離してbら、さらにアシル化反応に
付し、所望の化合物〔■〕の1−シリル誘導体を製造す
ることもできる。この3位のアシル変換反応は収率良く
進行し操作も簡便なため賽易に行うことができ、所望の
アシル基で置換された種々の2−オキソアゼチジン誘導
体の合成にとって極めて有用であシ、さらにシアノ化合
物との反応を連続して行なうこともできる。
ル誘導体において、上記R2が保護されているアミノ基
の場合、保護基を脱離してbら、さらにアシル化反応に
付し、所望の化合物〔■〕の1−シリル誘導体を製造す
ることもできる。この3位のアシル変換反応は収率良く
進行し操作も簡便なため賽易に行うことができ、所望の
アシル基で置換された種々の2−オキソアゼチジン誘導
体の合成にとって極めて有用であシ、さらにシアノ化合
物との反応を連続して行なうこともできる。
また、シアノ化合物としては、たとえば式〔式中、Zは
アルカリ金属、アルカリ土類金属を示す〕で表わされる
化合物を用いることができる。
アルカリ金属、アルカリ土類金属を示す〕で表わされる
化合物を用いることができる。
具体的にはたとえばVアン化カリウム、シアン化ナトリ
ウム、シアン化カルシウムなどを用いることができる。
ウム、シアン化カルシウムなどを用いることができる。
本反応では、化合物〔■〕1七μに対してVアノ化合物
約1〜3七μ好ましくは1〜1.1モル反応させる。通
常、溶媒中で行なわれる。使用される溶媒としては、水
またはジオキサン、デトフヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類。
約1〜3七μ好ましくは1〜1.1モル反応させる。通
常、溶媒中で行なわれる。使用される溶媒としては、水
またはジオキサン、デトフヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類。
酢酸エチ〜、ギ酸エチルなどのエステル類、四塩化病素
、クロロホルム、ジクロルメタンなどのハロゲン化法化
水素類、ベンゼン、トルエン、n−ヘキサンなどの灰化
水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
などのアミド類、メタノール、エタノール、インプロパ
ノ−p、t−ゲタノーpなどのアルコール類、ジメチル
スルホキシド、スルホフン、ヘキサメチルホスホルアミ
ドなど通常の有機溶媒が、単独または混合して用いられ
る。なかでも、たとえば水、ジオキサン、テトフヒドロ
フラン、四塩化決素、ジクロμメタン。
、クロロホルム、ジクロルメタンなどのハロゲン化法化
水素類、ベンゼン、トルエン、n−ヘキサンなどの灰化
水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
などのアミド類、メタノール、エタノール、インプロパ
ノ−p、t−ゲタノーpなどのアルコール類、ジメチル
スルホキシド、スルホフン、ヘキサメチルホスホルアミ
ドなど通常の有機溶媒が、単独または混合して用いられ
る。なかでも、たとえば水、ジオキサン、テトフヒドロ
フラン、四塩化決素、ジクロμメタン。
クロロホルム、ベンゼン、ジメチルホルムアミド。
ジメチルアセトアミド、メタノール、インプロパノ−〜
、ジメチルスルホキシドなどの溶媒が好ましい。また、
本反応は、相聞移動触媒の存在下に行なうと、化合物〔
I〕においてR1とシス配位にCN基が導入された化合
物の製造が促進されより好ましい結果が得られる。ここ
に言う、相聞移動触媒とは、液−液の二相のそれぞれに
分離して存在する反応基質の一方を、イオン対の型で他
の液相に可溶化させることにより、反応を促進する物質
を意味する。このような相聞移動触媒としては、たとえ
ば窒素原子または燐原子にアルキμ基。
、ジメチルスルホキシドなどの溶媒が好ましい。また、
本反応は、相聞移動触媒の存在下に行なうと、化合物〔
I〕においてR1とシス配位にCN基が導入された化合
物の製造が促進されより好ましい結果が得られる。ここ
に言う、相聞移動触媒とは、液−液の二相のそれぞれに
分離して存在する反応基質の一方を、イオン対の型で他
の液相に可溶化させることにより、反応を促進する物質
を意味する。このような相聞移動触媒としては、たとえ
ば窒素原子または燐原子にアルキμ基。
アリール基、アルコル類から選ばれた同一または相異な
る4個の基が結合した陽イオン(アンモニウムイオンま
たはホスホニウムイオン)と酸基(陰イオン、たとえば
C17+ Br−+ I−、F’t010″4゜BF″
4.BH; 、 aso; 、 OH−、u2po;な
ど)からなるものなどであって、本反応の目的が達成さ
れるものが用いられる。
る4個の基が結合した陽イオン(アンモニウムイオンま
たはホスホニウムイオン)と酸基(陰イオン、たとえば
C17+ Br−+ I−、F’t010″4゜BF″
4.BH; 、 aso; 、 OH−、u2po;な
ど)からなるものなどであって、本反応の目的が達成さ
れるものが用いられる。
具体的には、たとえば塩化テトラメチルアンモニウム、
塩化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラ−n−ブチ
ルアンモニウム、塩化)jl−n −オクチルメチルア
ンモニウム、塩化トリメチルステアリルアンモニウム、
臭化テトラ−n−アミルアンモニウム、臭化n−ペキン
μトリメチルアンンモニウムなどのハロゲン化テトラア
ルキ/l/(i素数合計4〜50)アンモニウム、臭化
フェニルトリメチルアンモニウムなどのハロゲン化アリ
−μトリアルキlv(決素数合計9〜50)アンモニウ
ム、塩化ベンジ/L/ジメチルデシルアンモニウム。
塩化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラ−n−ブチ
ルアンモニウム、塩化)jl−n −オクチルメチルア
ンモニウム、塩化トリメチルステアリルアンモニウム、
臭化テトラ−n−アミルアンモニウム、臭化n−ペキン
μトリメチルアンンモニウムなどのハロゲン化テトラア
ルキ/l/(i素数合計4〜50)アンモニウム、臭化
フェニルトリメチルアンモニウムなどのハロゲン化アリ
−μトリアルキlv(決素数合計9〜50)アンモニウ
ム、塩化ベンジ/L/ジメチルデシルアンモニウム。
塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化セシμベン
ジルジメチルアンモニウムなどのハロゲン化アフルキル
トリプルキ/L/(次素数合計13〜50)アンモニウ
ムなどのアルキル基、アリール基、アラy?rμ基から
選ばれた同一または相異なる4個の基が置換したアンモ
ニウムイオンとハロゲンイオンからなるもの、たとえば
硫酸水素テトラ−n−グチルアンモニウム、硫酸水素テ
トラメチルアンモニウムなどの硫酸水素テトラアルキル
(侠素数合ti4〜50)アンモニウムなどのアルキル
基、アリール基、アラμキル基から選ばれた同一または
相異なる4個の基が置換したアンモニウムイオンとH8
0−(硫酸水素イオン)からなるもの、水酸化テトラ−
n−グチルアンモニウムなどの水酸化テトラアルキル(
戻素数合計16〜50)アンモニラふなどのアルキル基
、アリール基、アラルキμ基から選ばれた同一または相
異なる4個の基が置換したアンモニウムイオンと0H−
(水酸基イオン)からなるもの、たとえば臭化テトラ−
n−ブチルホスホニウムなどのハロゲン化テトラアルキ
ル(廣素数合lft4〜50)ホスホニウム、塩化ベン
ジルトリフェニルホスホニウムなどのハロゲン化アラル
キルトリアリ−/L/(決素数合計9〜50)ホスホニ
ウム、臭化n−ブチμトリフェニルホスホニウムなどの
ハロゲン化アルキ〜トリアリ−μ(戻素数合計19〜5
0)ホスホニウムなどのアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基から選ばれた同一または相異なる4個の基が置
換したホスホニウムイオンとハロゲンイオンからなるも
のなどが用いられる。とりわけ、たとえば塩化トリーn
−オクチルメチルアンモニウム、W酸水素テトラ−n−
グチルアンモニウム、臭化テトフーn−7ミルアンモニ
ウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化テト
ラ−n−1チルホスホニウムなどが用いられる。これら
相聞移動触媒は、化合物〔■〕1モルに対して、約0.
01〜1七μ、好ましくは0.05〜0.2モル反応に
用いられる。相聞移動触媒を用いる場合の溶媒としては
、水と上記のごとき有機溶媒の混合物がよく、混合割合
として水1部に対して有機溶媒0.5〜5部好ましくは
0.5〜1部混ぜたものが用いられる。反応温度は、通
常0〜2(lの範囲で行なわれるが、とくにこの条件に
限定されるものではなく必要に応じ、適宜加温、冷却を
行なってもよい。また、反応時間は用いられる溶媒、温
度などにより適宜決定されるが、通常短時間で終了する
。
ジルジメチルアンモニウムなどのハロゲン化アフルキル
トリプルキ/L/(次素数合計13〜50)アンモニウ
ムなどのアルキル基、アリール基、アラy?rμ基から
選ばれた同一または相異なる4個の基が置換したアンモ
ニウムイオンとハロゲンイオンからなるもの、たとえば
硫酸水素テトラ−n−グチルアンモニウム、硫酸水素テ
トラメチルアンモニウムなどの硫酸水素テトラアルキル
(侠素数合ti4〜50)アンモニウムなどのアルキル
基、アリール基、アラμキル基から選ばれた同一または
相異なる4個の基が置換したアンモニウムイオンとH8
0−(硫酸水素イオン)からなるもの、水酸化テトラ−
n−グチルアンモニウムなどの水酸化テトラアルキル(
戻素数合計16〜50)アンモニラふなどのアルキル基
、アリール基、アラルキμ基から選ばれた同一または相
異なる4個の基が置換したアンモニウムイオンと0H−
(水酸基イオン)からなるもの、たとえば臭化テトラ−
n−ブチルホスホニウムなどのハロゲン化テトラアルキ
ル(廣素数合lft4〜50)ホスホニウム、塩化ベン
ジルトリフェニルホスホニウムなどのハロゲン化アラル
キルトリアリ−/L/(決素数合計9〜50)ホスホニ
ウム、臭化n−ブチμトリフェニルホスホニウムなどの
ハロゲン化アルキ〜トリアリ−μ(戻素数合計19〜5
0)ホスホニウムなどのアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基から選ばれた同一または相異なる4個の基が置
換したホスホニウムイオンとハロゲンイオンからなるも
のなどが用いられる。とりわけ、たとえば塩化トリーn
−オクチルメチルアンモニウム、W酸水素テトラ−n−
グチルアンモニウム、臭化テトフーn−7ミルアンモニ
ウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化テト
ラ−n−1チルホスホニウムなどが用いられる。これら
相聞移動触媒は、化合物〔■〕1モルに対して、約0.
01〜1七μ、好ましくは0.05〜0.2モル反応に
用いられる。相聞移動触媒を用いる場合の溶媒としては
、水と上記のごとき有機溶媒の混合物がよく、混合割合
として水1部に対して有機溶媒0.5〜5部好ましくは
0.5〜1部混ぜたものが用いられる。反応温度は、通
常0〜2(lの範囲で行なわれるが、とくにこの条件に
限定されるものではなく必要に応じ、適宜加温、冷却を
行なってもよい。また、反応時間は用いられる溶媒、温
度などにより適宜決定されるが、通常短時間で終了する
。
反応終了後、生成した化合物CI)はたとえば溶媒抽出
、再結晶、クロマトグラフィー等、それ自体公知の分離
精製手段により任意純度のものとして得ることができる
が、反応混合物のまま次の反応の原料として用いてもよ
い。
、再結晶、クロマトグラフィー等、それ自体公知の分離
精製手段により任意純度のものとして得ることができる
が、反応混合物のまま次の反応の原料として用いてもよ
い。
かくして得られる化合物CI)において、保護基を有す
る場合には、必要に応じて保護基を除去することもでき
る。保護基を脱離する方法としては、その保護基の種類
に応じて、酸による方法。
る場合には、必要に応じて保護基を除去することもでき
る。保護基を脱離する方法としては、その保護基の種類
に応じて、酸による方法。
塩基による方法、還元による方法、チオ尿素またはN−
メチルジチオカルバミン酸す°トリウムによる方法等の
常用の方法を適宜選択して行うことができる。ここで酸
による方法の場合には、保護基の種類その他の条件によ
って異なるが、酸として例えば塩酸、硫酸、リン酸等の
無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸
、ベンゼンスルホン酸、P−)μエンスルホン酸等の有
機酸の他、酸性イオン交換樹脂等が使用される。塩基に
よる方法の場合には、保護基の種類その他の条件によっ
て異なるが、塩基として例えばナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属もしくはカルシウム、マグネシウム等の
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等の無機塩基、金
属アルコキサイド焼有機アミン類、第四級アンモニウム
塩等の有機塩基の他、塩基性イオン交換樹脂等が使用さ
れる。
メチルジチオカルバミン酸す°トリウムによる方法等の
常用の方法を適宜選択して行うことができる。ここで酸
による方法の場合には、保護基の種類その他の条件によ
って異なるが、酸として例えば塩酸、硫酸、リン酸等の
無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸
、ベンゼンスルホン酸、P−)μエンスルホン酸等の有
機酸の他、酸性イオン交換樹脂等が使用される。塩基に
よる方法の場合には、保護基の種類その他の条件によっ
て異なるが、塩基として例えばナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属もしくはカルシウム、マグネシウム等の
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等の無機塩基、金
属アルコキサイド焼有機アミン類、第四級アンモニウム
塩等の有機塩基の他、塩基性イオン交換樹脂等が使用さ
れる。
上記酸または塩基による方法の場合において溶媒を使用
する場合には親水性有機溶媒、水または混合溶媒が使用
されることが多い。還元による方法による場合には、保
護基の種類その他の条件により異なるが、例えばすす、
亜鉛等の金属あるいは2塩化クロム、酢酸クロム等の金
属化合物と、酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機および
無機酸等の酸を使用する方法、接触還元用金属触媒の存
在下に還元する方法等が用いられ、ここで接触還元によ
る方法で使用される触媒としては、例えば白金線、白金
海綿、白金黒、酸化白金、コロイド白金等の白金触媒、
パラジウム海綿、パラジウム黒。
する場合には親水性有機溶媒、水または混合溶媒が使用
されることが多い。還元による方法による場合には、保
護基の種類その他の条件により異なるが、例えばすす、
亜鉛等の金属あるいは2塩化クロム、酢酸クロム等の金
属化合物と、酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機および
無機酸等の酸を使用する方法、接触還元用金属触媒の存
在下に還元する方法等が用いられ、ここで接触還元によ
る方法で使用される触媒としては、例えば白金線、白金
海綿、白金黒、酸化白金、コロイド白金等の白金触媒、
パラジウム海綿、パラジウム黒。
酸化バヲジウム、バヲジウム硫酸バリウム、パラジウム
次酸バリウム、パラジウム択素、パラジウムシリカゲ/
L/、コロイドパラジウム等のバラジウAM[、還元ニ
ッケ/L/l酸化ニッケ/I/lラネーニッケル、漆原
ニッケル等が用いられる。また金属と酸による還元方法
の場合においては鉄、クロム等の金属化合物と塩酸等の
無機酸およびギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸が使
用される。還元による方法は通常溶媒中で行われ、例え
ば接触還元による方法においてはメタノール、エタノ−
/L/lプロピルアμコール、イソプロピルアルコール
等のアルコール類、酢酸エチル等が繁用される。また金
属と酸による方法においては水、アセトン等が繁用され
るが酸が液体のときは酸自身を溶媒として使用すること
もできる。反応温度は通常冷却下ないし加温程度で行わ
れる。得られる化合物CI)は、上記のごとき公知の手
段により単離精製することもできるが、反応混合物のま
ま次の反応の原料として用いることもできる。
次酸バリウム、パラジウム択素、パラジウムシリカゲ/
L/、コロイドパラジウム等のバラジウAM[、還元ニ
ッケ/L/l酸化ニッケ/I/lラネーニッケル、漆原
ニッケル等が用いられる。また金属と酸による還元方法
の場合においては鉄、クロム等の金属化合物と塩酸等の
無機酸およびギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸が使
用される。還元による方法は通常溶媒中で行われ、例え
ば接触還元による方法においてはメタノール、エタノ−
/L/lプロピルアμコール、イソプロピルアルコール
等のアルコール類、酢酸エチル等が繁用される。また金
属と酸による方法においては水、アセトン等が繁用され
るが酸が液体のときは酸自身を溶媒として使用すること
もできる。反応温度は通常冷却下ないし加温程度で行わ
れる。得られる化合物CI)は、上記のごとき公知の手
段により単離精製することもできるが、反応混合物のま
ま次の反応の原料として用いることもできる。
また、得られた化合物CI)において、R2がアミノ基
である場合には式 %式%) 〔式中、FloCOはR1、R2およびR4に関して述
べたごときアシμ基を水量〕で表わされるカルボン酸ま
たはその反応性誘導体と反応させて、適宜アV/I/化
することもできる。
である場合には式 %式%) 〔式中、FloCOはR1、R2およびR4に関して述
べたごときアシμ基を水量〕で表わされるカルボン酸ま
たはその反応性誘導体と反応させて、適宜アV/I/化
することもできる。
R2がアミノ基である化合物CI)は、遊離のままであ
るいは化合物CM〕で述べたごとき樵。
るいは化合物CM〕で述べたごとき樵。
エステル、シリル誘導体の形で用いられてもよい。
力pボン酸CIL)の反応性誘導体としては、例えば酸
ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド、活性エステル等
が用いられ、このような有機酸の反応性誘導体を具体的
に述べると次のとおりである。
ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド、活性エステル等
が用いられ、このような有機酸の反応性誘導体を具体的
に述べると次のとおりである。
1)酸無水物:
ここで酸無水物としては、例えばハロゲン化水素酸(例
えば塩酸、臭化水素酸等)混合酸無水物。
えば塩酸、臭化水素酸等)混合酸無水物。
七ノアルキμ炭酸混合酸無水物、脂肪族力μポン酸(例
えば酢酸、ピバル酸、吉草酸、インペンタン酸、トリク
ロル酢酸等)混合酸無水物、芳香族カルボン酸(例えば
安息香酸等)混合酸無水物。
えば酢酸、ピバル酸、吉草酸、インペンタン酸、トリク
ロル酢酸等)混合酸無水物、芳香族カルボン酸(例えば
安息香酸等)混合酸無水物。
対称型酸無水物等が用いられる。
2)活性アミド:
こむで活性アミドとしては例えば、イミダゾ−y’ +
4−置換イミダゾ−/L/ 、ジメチルピラゾール。
4−置換イミダゾ−/L/ 、ジメチルピラゾール。
ベンゾトリアゾール等とのアミドが用いられる。
3)活性エステル:
ここで活性エステルとしては、例えばメチルエステル、
エチルエステル、メトキシメチルニスチャ、プロパルギ
ルエステ/l/、4−二卜ロフェニルエステル、2.4
−ジニトロフェニルエステ)vlトリクロロフェニルエ
ステル、ペンタクロロフェニルエステル、メンルフェニ
ルエステル等のエステルの他、1−ヒドロキシ−IH−
2−ピリドン。
エチルエステル、メトキシメチルニスチャ、プロパルギ
ルエステ/l/、4−二卜ロフェニルエステル、2.4
−ジニトロフェニルエステ)vlトリクロロフェニルエ
ステル、ペンタクロロフェニルエステル、メンルフェニ
ルエステル等のエステルの他、1−ヒドロキシ−IH−
2−ピリドン。
N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシ−5−
ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド、N−ヒド
ロキシフタルイミド等と前記カルボン酸等の酸とのエス
テル等が用いられる。
ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド、N−ヒド
ロキシフタルイミド等と前記カルボン酸等の酸とのエス
テル等が用いられる。
このような有機酸の反応性誘導体は使用する酸の種類に
よって適宜選択され、さらにアシμ化剤として遊離の酸
を使用する場合には縮合剤の存在下に反応を行なうのが
好ましく、そのような縮合剤としては例えば、H、N’
−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シクロヘキシ
/L’N’−モルホリノエチルカルボジイミド、N−シ
クロヘキシル−1f’−(4−ジエチルアミノシクロヘ
キシル)カルボジイミド、N−エチル−N’−(3−ジ
メチルアミノプロピy)カルボジイミド等が用いられる
。
よって適宜選択され、さらにアシμ化剤として遊離の酸
を使用する場合には縮合剤の存在下に反応を行なうのが
好ましく、そのような縮合剤としては例えば、H、N’
−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シクロヘキシ
/L’N’−モルホリノエチルカルボジイミド、N−シ
クロヘキシル−1f’−(4−ジエチルアミノシクロヘ
キシル)カルボジイミド、N−エチル−N’−(3−ジ
メチルアミノプロピy)カルボジイミド等が用いられる
。
該アシル化反応は、通常溶媒中で行なわれる。
溶媒としては水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
/L/l塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン
、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルホルムア
ミド、ピリジンまたはその他の反応に関与しない一般有
機溶媒が用いられ、これらのうち親水性の溶媒は水と混
合して使用することもできる。
/L/l塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン
、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルホルムア
ミド、ピリジンまたはその他の反応に関与しない一般有
機溶媒が用いられ、これらのうち親水性の溶媒は水と混
合して使用することもできる。
またアシル化反応はたとえば、水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどの
無機塩基、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
エチルアミン、N−メチpモμホリン、N−メチルピペ
リジン等のトリアルキルアミン、N、N−シアルキルア
ニリン、N。
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどの
無機塩基、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
エチルアミン、N−メチpモμホリン、N−メチルピペ
リジン等のトリアルキルアミン、N、N−シアルキルア
ニリン、N。
N−シアルキルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、
ルチジン、有機三級アミン、1.5−ジアザビシクロC
4,3,0)ノン−5−エン、1゜4−ジアザビシクロ
C2,2,2)オクタン口。
ルチジン、有機三級アミン、1.5−ジアザビシクロC
4,3,0)ノン−5−エン、1゜4−ジアザビシクロ
C2,2,2)オクタン口。
8−ジアザビシクロ[5,4,4)ウンデセン−7等の
有′41に塩基の存在下に行なうことができ、塩基もし
くは前述の縮合剤のうち液体のものは溶媒を兼ねて使用
することができる。反応温度は特に限定されないが、通
常冷却下ないしは室温で行なわれることが多い。
有′41に塩基の存在下に行なうことができ、塩基もし
くは前述の縮合剤のうち液体のものは溶媒を兼ねて使用
することができる。反応温度は特に限定されないが、通
常冷却下ないしは室温で行なわれることが多い。
また、アシル化反応において、化合物CI)およびア¥
ル化剤CIV)においてそれらの化合物中に不%次素を
有する場合には、立体異性体を単独であるいは混合物の
いずれの状態でも使用することができる。また、この反
応でこれらの異性体が混在して生成する場合には必要に
応じて夫々をカラムクロマトグラフィ、再結晶等の常法
により単離することができる。かくして得られる化合物
〔工) (1’l 4NH3)に保護基がめる場合は必
要に応じて前記と同様にして除去することも可能である
。さらに、上記方法で得られる化合物CI)においせ、
Wが水素を示す場合には、スルホン化を行なうことも可
能である。
ル化剤CIV)においてそれらの化合物中に不%次素を
有する場合には、立体異性体を単独であるいは混合物の
いずれの状態でも使用することができる。また、この反
応でこれらの異性体が混在して生成する場合には必要に
応じて夫々をカラムクロマトグラフィ、再結晶等の常法
により単離することができる。かくして得られる化合物
〔工) (1’l 4NH3)に保護基がめる場合は必
要に応じて前記と同様にして除去することも可能である
。さらに、上記方法で得られる化合物CI)においせ、
Wが水素を示す場合には、スルホン化を行なうことも可
能である。
本反応のスルホン化とは、化合物CI)(W=H)の1
位にスルホ基を導入することをいい、化合物CI)(W
=H)とたとえば無水硫酸、あるいは無水硫酸の反応性
誘導体などとを反応させることによシ行なう。化合物〔
工) (W=H)は、遊離のままでおるいは化合物(I
I)に関して述べたごとき塩、エステル、シリル誘導体
の形で用いられ、さらに理論上存在し得る立体異性体単
独あるいは混合物の形で反応に供することもできる。
位にスルホ基を導入することをいい、化合物CI)(W
=H)とたとえば無水硫酸、あるいは無水硫酸の反応性
誘導体などとを反応させることによシ行なう。化合物〔
工) (W=H)は、遊離のままでおるいは化合物(I
I)に関して述べたごとき塩、エステル、シリル誘導体
の形で用いられ、さらに理論上存在し得る立体異性体単
独あるいは混合物の形で反応に供することもできる。
無水硫酸の反応性誘導体としては、たとえば無水硫酸−
塩基コンプレックス(たとえば無水硫酸−ピリジン、無
水硫酸−トリメチルアミン、無水硫酸−ピコリン、無水
硫酸−ルチジン、無水硫酸−N、N−ジメチルホルムア
ミドなど)、無水硫酸−ジオキサン、無水硫酸−クロロ
スルホン酸などの付加体などが用いられる。
塩基コンプレックス(たとえば無水硫酸−ピリジン、無
水硫酸−トリメチルアミン、無水硫酸−ピコリン、無水
硫酸−ルチジン、無水硫酸−N、N−ジメチルホルムア
ミドなど)、無水硫酸−ジオキサン、無水硫酸−クロロ
スルホン酸などの付加体などが用いられる。
上記スルホン化反応は、化合物(I)(W−H)1モル
に対し、無水硫酸またはその反応性誘導体を約1〜10
モ〜、好ましくは約1〜5モル使用する。反応温度は、
約−78〜約80℃、好ましくは約−20〜約60℃で
ある。上記反応にめたっては、溶媒を使用してもよく、
該溶媒としては、水、またはジオキサン、テ卜フヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチ
ル。
に対し、無水硫酸またはその反応性誘導体を約1〜10
モ〜、好ましくは約1〜5モル使用する。反応温度は、
約−78〜約80℃、好ましくは約−20〜約60℃で
ある。上記反応にめたっては、溶媒を使用してもよく、
該溶媒としては、水、またはジオキサン、テ卜フヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチ
ル。
ギ酸エチルなどのエステル類、クロロホルム、ジクロル
メタンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、n−ヘキサンなどの戻化水素類。
メタンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、n−ヘキサンなどの戻化水素類。
N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセ
トアミドなどのアミド類など通常の有機溶媒が単独また
は混合して用いられる。用いられる原料CI)(W=H
)、スルホン化剤、反応温度、溶媒の種類により異なる
が、通常数十分から数十時間で反応は終了するが、とき
に数十日間を要することもある。反応終了後、反応混合
物を溶媒抽出、再結晶、クロマトグラフィー等それ自体
公知の精製分離手段に付すことにより、化合物CII)
(W=SO3H)を任意純度のものとして得ることがで
きる。また、保護基が存在する場合には、前記のごとき
方法により除去することも可能である。
トアミドなどのアミド類など通常の有機溶媒が単独また
は混合して用いられる。用いられる原料CI)(W=H
)、スルホン化剤、反応温度、溶媒の種類により異なる
が、通常数十分から数十時間で反応は終了するが、とき
に数十日間を要することもある。反応終了後、反応混合
物を溶媒抽出、再結晶、クロマトグラフィー等それ自体
公知の精製分離手段に付すことにより、化合物CII)
(W=SO3H)を任意純度のものとして得ることがで
きる。また、保護基が存在する場合には、前記のごとき
方法により除去することも可能である。
かくして得られる化合物CI)が、遊離形である場合に
は、常法によシ化合物CII)で述べたごとき塩または
エステルに導いてもよく、逆に塩、エステルの形で得ら
れる場合には、常法により遊離形に導いてもよい。
は、常法によシ化合物CII)で述べたごとき塩または
エステルに導いてもよく、逆に塩、エステルの形で得ら
れる場合には、常法により遊離形に導いてもよい。
このようにして得られた4−vアノ−2−アゼチジノン
誘導体〔工〕は新規な化合物でるり、種々の4−置換−
2−アゼチジノン誘導体の有利な合成中間体として広範
囲な用途があるほか、W=5o3Hのものは抗菌作用及
びβ−ラクタマーゼ阻害作用を有している。
誘導体〔工〕は新規な化合物でるり、種々の4−置換−
2−アゼチジノン誘導体の有利な合成中間体として広範
囲な用途があるほか、W=5o3Hのものは抗菌作用及
びβ−ラクタマーゼ阻害作用を有している。
たとえば、化合物CI’)lを水利反応に付し、必要に
応じて保護基を除去することにより化合物CM、lが製
造される。本反応においては、化合物〔■〕のシアノ基
がカルバモイル基に変換される。
応じて保護基を除去することにより化合物CM、lが製
造される。本反応においては、化合物〔■〕のシアノ基
がカルバモイル基に変換される。
原料として用いられる化合物CI)は、遊離形でもよく
、また化合物CII)で述べたごとき塩、エステル、シ
リル誘導体に導いたものでもよい。また、化合物CI)
は、3位と4位に置換基を有するので、シス−トランス
異性体が存在し、さらに3位と4位の炭素が不斉病素で
あるため:m論上少くとも合計4種類の立体異性体が存
在するが、これら立体異性体を単独であるいは混合物の
いずれの状態でも使用することができる。Pl で示
される基に不斉病案を有する場合も同様であシ、その結
果生ずる立体異性体は単独でおるいは混合物のいずれの
状態でも使用することができる。
、また化合物CII)で述べたごとき塩、エステル、シ
リル誘導体に導いたものでもよい。また、化合物CI)
は、3位と4位に置換基を有するので、シス−トランス
異性体が存在し、さらに3位と4位の炭素が不斉病素で
あるため:m論上少くとも合計4種類の立体異性体が存
在するが、これら立体異性体を単独であるいは混合物の
いずれの状態でも使用することができる。Pl で示
される基に不斉病案を有する場合も同様であシ、その結
果生ずる立体異性体は単独でおるいは混合物のいずれの
状態でも使用することができる。
本水利反応は、化合物CI)の4位シアノ基をカルバモ
イμ基に変換しつるものであれば、いかなる方法であっ
てもよく、たとえば化合物〔工〕に酸または塩基を作用
させる方法、化合物CI、)と過酸化水素を塩基の存在
下に反応させる方法などが用いられる。このような塩基
としては、例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム等
のアルカリ金属または例えば力pシウム、マグネシウム
等のアルカリ土類金属の水酸化物(例えば水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カルン
ウム、水酸化マグネシウム等)又は炭酸塩(例えば択酸
ナトリウム、度酸カリウム、炭酸カルシウム等)等の無
機塩基、金属アルコキサイド類(例えばナトリウムメチ
ッート、ナトリウムエチフート等)、有機アミン類(例
えばトリエチルアミン、N−ジメチルアニリン、ジイソ
プロピルアミン等)、第4級アンモニウム塩(例えばテ
トラ−n−グチμアンモニウムヒドロキ¥牌0等の有機
塩基、塩基性イオン交換樹脂等が用いられる。なかでも
、好ましい塩基としては、たとえばアルカリ金属の水酸
化物(例えば水酸化ナトリウムなど)などが繁用される
。また、酸としては、たとえば塩酸、硫酸、リン酸、ポ
リリン酸、塩化第2鉄、塩化亜鉛、二酸化マンガン、三
フッ化ホウ素、塩化バフジウム、四塩化チタン等の無機
酸もしくはその塩、ギ酸、酢酸、1) −)/l/エン
スルホン酸、トリフ〜オロ酢酸等の有機酸、Vリカケル
、酸性イオン交換樹脂等が用いられる。特に、たとえば
、塩酸、硫酸、二酸化マンガン、塩化パラジウム、四塩
化チタンなどの酸が好ましい。このような塩基または酸
の使用量は、通常化合物〔131モルに対して0.1〜
4.0モル好ましくは0.1〜1.0モルである。また
、過酸化水素を用いる場合には化合物〔131モルに対
して塩基を0.05−4.Qモ/Lz1好ましくは0.
05−1.0モ/l’使用する。過酸化水素の使用量は
、通常化合物CI)1モルに対し1.0〜10モル好ま
しくは1.0〜4モルである。本反応は、通常溶媒中で
行なわれ、このような溶媒としては、たとえば水、エー
テp(たとえばテトラヒドロフヲン、ジオキサンなど)
、酸アミド(たとえばH,M−ジメチルホμムアミド、
N、M−ジメチμアセトアミドなど)、炭化水素類(た
とえばベンゼンなど)、ケトン(たとえばアセトンなど
)、アルコ−/L/(たとえばメタノ−/L/lエタノ
ール、プロパノ−p、ゲタノールなど)、ハロゲン化炭
化水素(たとえばクロロホルム、ジクロロメタンなど)
、脂肪酸(たとえばギ酸。酢酸など)、エステル(たと
えば酢酸エチルなど)、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン。
イμ基に変換しつるものであれば、いかなる方法であっ
てもよく、たとえば化合物〔工〕に酸または塩基を作用
させる方法、化合物CI、)と過酸化水素を塩基の存在
下に反応させる方法などが用いられる。このような塩基
としては、例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム等
のアルカリ金属または例えば力pシウム、マグネシウム
等のアルカリ土類金属の水酸化物(例えば水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カルン
ウム、水酸化マグネシウム等)又は炭酸塩(例えば択酸
ナトリウム、度酸カリウム、炭酸カルシウム等)等の無
機塩基、金属アルコキサイド類(例えばナトリウムメチ
ッート、ナトリウムエチフート等)、有機アミン類(例
えばトリエチルアミン、N−ジメチルアニリン、ジイソ
プロピルアミン等)、第4級アンモニウム塩(例えばテ
トラ−n−グチμアンモニウムヒドロキ¥牌0等の有機
塩基、塩基性イオン交換樹脂等が用いられる。なかでも
、好ましい塩基としては、たとえばアルカリ金属の水酸
化物(例えば水酸化ナトリウムなど)などが繁用される
。また、酸としては、たとえば塩酸、硫酸、リン酸、ポ
リリン酸、塩化第2鉄、塩化亜鉛、二酸化マンガン、三
フッ化ホウ素、塩化バフジウム、四塩化チタン等の無機
酸もしくはその塩、ギ酸、酢酸、1) −)/l/エン
スルホン酸、トリフ〜オロ酢酸等の有機酸、Vリカケル
、酸性イオン交換樹脂等が用いられる。特に、たとえば
、塩酸、硫酸、二酸化マンガン、塩化パラジウム、四塩
化チタンなどの酸が好ましい。このような塩基または酸
の使用量は、通常化合物〔131モルに対して0.1〜
4.0モル好ましくは0.1〜1.0モルである。また
、過酸化水素を用いる場合には化合物〔131モルに対
して塩基を0.05−4.Qモ/Lz1好ましくは0.
05−1.0モ/l’使用する。過酸化水素の使用量は
、通常化合物CI)1モルに対し1.0〜10モル好ま
しくは1.0〜4モルである。本反応は、通常溶媒中で
行なわれ、このような溶媒としては、たとえば水、エー
テp(たとえばテトラヒドロフヲン、ジオキサンなど)
、酸アミド(たとえばH,M−ジメチルホμムアミド、
N、M−ジメチμアセトアミドなど)、炭化水素類(た
とえばベンゼンなど)、ケトン(たとえばアセトンなど
)、アルコ−/L/(たとえばメタノ−/L/lエタノ
ール、プロパノ−p、ゲタノールなど)、ハロゲン化炭
化水素(たとえばクロロホルム、ジクロロメタンなど)
、脂肪酸(たとえばギ酸。酢酸など)、エステル(たと
えば酢酸エチルなど)、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン。
ヘキサメチルホスホルアミドあるいはこれらの混合物な
どが用いられ、なかでも、水、イソプロパノ−/L/、
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン。
どが用いられ、なかでも、水、イソプロパノ−/L/、
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン。
ジメチルスルホキシドなどが繁用される。また、溶媒と
して水と有機溶媒とを混合して用いる場合、相聞移動触
媒の存在下、反応を行なうこともできる。相聞移動触媒
としては、前述の、化合物CIDとシアノ化合物との反
応におけると同様のものが用いられる。これら相聞移動
触媒は、化合物CI)1モルに対して、約0.1〜2七
μ、好ましくは0.5〜1モル反応に用いられる。反応
温度は、通常0〜80′Cの範囲で行なわれるが、とく
にこの条件に限定されるものではなく、必要に応じ、適
宜加温、冷却を行なってもよい。反応時間は通常短時間
で終了する。
して水と有機溶媒とを混合して用いる場合、相聞移動触
媒の存在下、反応を行なうこともできる。相聞移動触媒
としては、前述の、化合物CIDとシアノ化合物との反
応におけると同様のものが用いられる。これら相聞移動
触媒は、化合物CI)1モルに対して、約0.1〜2七
μ、好ましくは0.5〜1モル反応に用いられる。反応
温度は、通常0〜80′Cの範囲で行なわれるが、とく
にこの条件に限定されるものではなく、必要に応じ、適
宜加温、冷却を行なってもよい。反応時間は通常短時間
で終了する。
反応終了後、反応混合物をたとえば溶媒抽出。
再結晶、クロマトグラフィー等それ自体公知の精製分離
手段に付すことにより、化合物〔■〕を任意純度のもの
とし得ることができるが、反応混合物のまま次の反応の
原料として用いることもできる。また、この反応で異性
体が混在して生成する場合には必要に応じて公知の手段
により単離してもよく、化合物CI[)の置換基に保護
基が存在する場合には必要に応じて前記と同様にして除
去することもできる。
手段に付すことにより、化合物〔■〕を任意純度のもの
とし得ることができるが、反応混合物のまま次の反応の
原料として用いることもできる。また、この反応で異性
体が混在して生成する場合には必要に応じて公知の手段
により単離してもよく、化合物CI[)の置換基に保護
基が存在する場合には必要に応じて前記と同様にして除
去することもできる。
このようにして得られる化合物Cm)のWが水素の場合
には、化合物〔工)(W=H)のスルホン化と同様にし
てスルホン化することにょシ、Wがスルホ基でめる化合
物[111)に導くことができるのは自明である。
には、化合物〔工)(W=H)のスルホン化と同様にし
てスルホン化することにょシ、Wがスルホ基でめる化合
物[111)に導くことができるのは自明である。
かくして得られる化合物CI[I)が遊離形の場合は、
常法によシ前記のごとき塩、エステルに変えてもよく、
化合物Cm)が塩またはエステルとして得られる場合に
は常法によシ遊離形に導いてもよい。
常法によシ前記のごとき塩、エステルに変えてもよく、
化合物Cm)が塩またはエステルとして得られる場合に
は常法によシ遊離形に導いてもよい。
得られる化合物Cm)の中でw = 803 Hのもの
は新規化合物であって優れた抗菌力およびβ−ラクタマ
ーゼ阻害作用を有している(ドイツ出願P314802
1、7号)。
は新規化合物であって優れた抗菌力およびβ−ラクタマ
ーゼ阻害作用を有している(ドイツ出願P314802
1、7号)。
また、化合物CI)と硫化水素を反応させると、化合物
〔工〕の4位シアノ基の代わシに−C8NH2を有する
化合物が製造される。この反応は化合物CI)またはそ
の塩、エステルま九はVリル誘導体1モルに対して硫化
水素を1.0〜3モル程度反応させるのがよい。反応は
室温またはそれ以下で進行させるのが有利でゐる。反応
はたとえば、クロロホルム、ジクロルメタン、ベンゼン
、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、H,
N−ジメチルホルムアミド、M、N−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、酢酸、水などの溶媒中で
行なうのが好ましい。反応は通常短時間で完了する。
〔工〕の4位シアノ基の代わシに−C8NH2を有する
化合物が製造される。この反応は化合物CI)またはそ
の塩、エステルま九はVリル誘導体1モルに対して硫化
水素を1.0〜3モル程度反応させるのがよい。反応は
室温またはそれ以下で進行させるのが有利でゐる。反応
はたとえば、クロロホルム、ジクロルメタン、ベンゼン
、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、H,
N−ジメチルホルムアミド、M、N−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、酢酸、水などの溶媒中で
行なうのが好ましい。反応は通常短時間で完了する。
また、化合物〔工〕と九とえはメタノール、エタノール
などのアμコーp類を反応させると、化合物CI)の4
位にシアノ基の代わりにア〜コキシカμポニμ基を有す
る化合物が製造される。化合物〔工〕と当モル以上のア
ルコ−μ類を反応させて行なうが、アルコ−μ類それ自
体を溶媒として用いる場合が多い。溶媒を使用する場合
は、たとえば、クロロホルム、ジクロロメタン、ベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド等の溶媒中で行なうのが好ましい。反
応温度は、通常0〜80℃の範囲で行なわれるが、とく
にこの条件に限定されるものではなく、必要に応じ適宜
加温、冷却を行なってもよい。反応時間、その他の条件
は、用いられる溶媒、温度などにより適宜決定されるが
、たとえば、硫酸、塩酸、リン酸などの無機酸、酢酸I
P−ト/レニンスルホン酸などの有機酸、たとえば、塩
化アルミニウム、塩化亜鉛、三フッ化ホウ素などのルイ
ス酸を共存させることにより反応時間を短縮することが
できる。
などのアμコーp類を反応させると、化合物CI)の4
位にシアノ基の代わりにア〜コキシカμポニμ基を有す
る化合物が製造される。化合物〔工〕と当モル以上のア
ルコ−μ類を反応させて行なうが、アルコ−μ類それ自
体を溶媒として用いる場合が多い。溶媒を使用する場合
は、たとえば、クロロホルム、ジクロロメタン、ベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド等の溶媒中で行なうのが好ましい。反
応温度は、通常0〜80℃の範囲で行なわれるが、とく
にこの条件に限定されるものではなく、必要に応じ適宜
加温、冷却を行なってもよい。反応時間、その他の条件
は、用いられる溶媒、温度などにより適宜決定されるが
、たとえば、硫酸、塩酸、リン酸などの無機酸、酢酸I
P−ト/レニンスルホン酸などの有機酸、たとえば、塩
化アルミニウム、塩化亜鉛、三フッ化ホウ素などのルイ
ス酸を共存させることにより反応時間を短縮することが
できる。
なお、本発明の原料化合物(It)は、たとえば以下に
示す方法によって製造することができる。
示す方法によって製造することができる。
本発明の原料化合物CI[)(W−H)は、Yがアシμ
オキシ基の場合、たとえば、テトラヘドロlレターズ(
Tetrahedron Letters ) +
405’9(1978)、わるいは特開昭54−765
70に記載されている方法、またはそれに準する方法に
より、あるいはたとえばアナーレン・デア・ヘミ−(A
nnalen der Chemie ) 19
74+ 539紀載の方法に従って次の1)、2)の経
路によシ合成しうる。
オキシ基の場合、たとえば、テトラヘドロlレターズ(
Tetrahedron Letters ) +
405’9(1978)、わるいは特開昭54−765
70に記載されている方法、またはそれに準する方法に
より、あるいはたとえばアナーレン・デア・ヘミ−(A
nnalen der Chemie ) 19
74+ 539紀載の方法に従って次の1)、2)の経
路によシ合成しうる。
1)
〔V〕
2)
〔■〕 〔■〕
上記各工程において、R2,Y、Xは前記と同意義を、
B20は保護されたアミノ基を、B21はア¥μ化され
たアミノ基をそれヤれ示す。
B20は保護されたアミノ基を、B21はア¥μ化され
たアミノ基をそれヤれ示す。
また、W=SO3Hである原料化合物〔■〕は、上記の
ごとくして得られたW=Hの化合物[II)をスルホン
化することにより合成できる。このスルホン化は、化合
物〔工) (W=H)のスルホン化と同様にして行なう
ことができる。
ごとくして得られたW=Hの化合物[II)をスルホン
化することにより合成できる。このスルホン化は、化合
物〔工) (W=H)のスルホン化と同様にして行なう
ことができる。
次に実施例および参考例をあげて本発明を具体的に説明
する。なお、IMEスペクトルはパリアンHA100型
(100MHz) で測定し、テトラメチルシランを
基準とし、δ値をppmで表わす。また8はシングレッ
ト+br、sは幅広いシングレット、dはダプレッ)
、ddはダグμダブレット 。
する。なお、IMEスペクトルはパリアンHA100型
(100MHz) で測定し、テトラメチルシランを
基準とし、δ値をppmで表わす。また8はシングレッ
ト+br、sは幅広いシングレット、dはダプレッ)
、ddはダグμダブレット 。
tはトリプレット、qはカルチット、mはマμチプレッ
ト、ABqFiAB型の力ρチット、Jは結合定数、’
I”HFはテトラヒドロフラン、 DM1i’はジメチ
ルホルムアミド、DMSOはジメチルスルホキシド+
br、あるいはbroadはブロード、 aromは芳
香族を意味する。
ト、ABqFiAB型の力ρチット、Jは結合定数、’
I”HFはテトラヒドロフラン、 DM1i’はジメチ
ルホルムアミド、DMSOはジメチルスルホキシド+
br、あるいはbroadはブロード、 aromは芳
香族を意味する。
以下の参考例、実施例において、特記しない場合はVリ
カゲμカッムクロマトグラフィーはArt。
カゲμカッムクロマトグラフィーはArt。
9185.230〜400メツシユ、キーゼル・ゲIW
(Kiesel Gel ) 60 (メμり社製
)を用い、クロマト精製される前の粗生成物のTLC分
析で、TLCプレートに新らしく出現したメインスポッ
トのRf−値と同一の値を示すフラクションを集める。
(Kiesel Gel ) 60 (メμり社製
)を用い、クロマト精製される前の粗生成物のTLC分
析で、TLCプレートに新らしく出現したメインスポッ
トのRf−値と同一の値を示すフラクションを集める。
TLCは、特記しない場合はArt 。
564−2 、 HPTLCキーゼル・ゲ/L’ (K
ieselGel ) ”F254 (メルク社製)の
プレート及びクロマトグラフィーで使用した溶媒と同一
の展開溶媒を用い、UV検出器で検出する。また、XA
D−II(100〜200メツVユ)カラムクロマトグ
ラフィーは、展開溶媒として水〜20%エタノール水を
用いて、254 nmの吸収(LKB UV工C0R
D 2 、 (スウェーデン製)使用)のあるフラクシ
ョンをそれぞれ集める。集めたフラクションは凍結乾燥
して精製品とする。
ieselGel ) ”F254 (メルク社製)の
プレート及びクロマトグラフィーで使用した溶媒と同一
の展開溶媒を用い、UV検出器で検出する。また、XA
D−II(100〜200メツVユ)カラムクロマトグ
ラフィーは、展開溶媒として水〜20%エタノール水を
用いて、254 nmの吸収(LKB UV工C0R
D 2 、 (スウェーデン製)使用)のあるフラクシ
ョンをそれぞれ集める。集めたフラクションは凍結乾燥
して精製品とする。
発明を実施する友めの最良の形順
参考例1
(38,48)−4−シアノ−3−CD−2−(4−エ
チIv−2.3−ジオキソー1−ピベフジンカルボキサ
ミド)−2−(チオフェン−2−イ/l/))アセトア
ミド−2−アゼチジノン0.488fをジメチルホルム
アミド2dに溶解し、これに無水硫酸−ジメチルホルム
アミドコンプレックス0.536Fを含むジメチルホル
ムアミド3.5 ml t−70℃で加え、OCで2日
間反応させた。反応液にピリジン0.5 mlを加えた
のち、減圧下に濃縮した。残留物に水を加え、不溶物を
p去し、炉液をDowex 50 W樹脂(ダウケミ
カル社製)ナトリウム型カッムを通したのち、アンバー
ライトxhD−TI樹BNcローム・アンド・ハース社
製)カラムで精製すると(38,4B)−4−シアノ−
3−CD−2−C4−xチtv−2,3−ジオキソ−1
−ピペラジンカルボキサミド)−2−(チオフェン−2
−イル)〕−〕アセトアミドー2−アゼチジノン1−ス
ルホン酸ナトリウム0.35Ofを得た。
チIv−2.3−ジオキソー1−ピベフジンカルボキサ
ミド)−2−(チオフェン−2−イ/l/))アセトア
ミド−2−アゼチジノン0.488fをジメチルホルム
アミド2dに溶解し、これに無水硫酸−ジメチルホルム
アミドコンプレックス0.536Fを含むジメチルホル
ムアミド3.5 ml t−70℃で加え、OCで2日
間反応させた。反応液にピリジン0.5 mlを加えた
のち、減圧下に濃縮した。残留物に水を加え、不溶物を
p去し、炉液をDowex 50 W樹脂(ダウケミ
カル社製)ナトリウム型カッムを通したのち、アンバー
ライトxhD−TI樹BNcローム・アンド・ハース社
製)カラムで精製すると(38,4B)−4−シアノ−
3−CD−2−C4−xチtv−2,3−ジオキソ−1
−ピペラジンカルボキサミド)−2−(チオフェン−2
−イル)〕−〕アセトアミドー2−アゼチジノン1−ス
ルホン酸ナトリウム0.35Ofを得た。
IRvKBrcm−’ : 1780. 1710.
1675゜ax +510.1280,1260.10105ON (D
MSO−d6.ppm): 1.10(t、J=5H2
゜CH3) 、3.41 (CL r J −5Hz
l−CH2−) 、a、 60(m 、−CHa )
、3.93(m、−an2−)、 4.90(d+
J−4Hz+ 04−H)、5.30(ddlJ−4
゜8Hz 、C3−H) 、5.83 (d 、J=4
Hz 、−CL)。
1675゜ax +510.1280,1260.10105ON (D
MSO−d6.ppm): 1.10(t、J=5H2
゜CH3) 、3.41 (CL r J −5Hz
l−CH2−) 、a、 60(m 、−CHa )
、3.93(m、−an2−)、 4.90(d+
J−4Hz+ 04−H)、5.30(ddlJ−4
゜8Hz 、C3−H) 、5.83 (d 、J=4
Hz 、−CL)。
6.90−7.60(m、aromH) 、9.76(
d 、J=4Hz、MH) 19.83(a 、J=8
H2,NH)参考例2 1)(38,48)−3−C2−(2−クリロアセトア
ミドチアゾー〜−4−イp)−2−メトキシイミノ〕ア
セトアミド−4−シアノ−2−アゼチジノン0.220
fをDMt’2dに溶解し、これに無水硫酸−DMli
’コンプレックス0.2751を含むnMFl、8m?
m液を−TO℃で加え、0℃で3日間反応させた。反応
液にピリジン0.5 mlを加え、参考例1と同様に処
理すると、+ (38,48)−3−C2−(2−クロ
ロアセトアミドチアゾ−μm4−イA/)−2−メトキ
シイミノ〕アセトアミド−4−シアノ−2−アゼチジノ
ン−1−スルホン酸ナトリウム0.170 fが得られ
た。
d 、J=4Hz、MH) 19.83(a 、J=8
H2,NH)参考例2 1)(38,48)−3−C2−(2−クリロアセトア
ミドチアゾー〜−4−イp)−2−メトキシイミノ〕ア
セトアミド−4−シアノ−2−アゼチジノン0.220
fをDMt’2dに溶解し、これに無水硫酸−DMli
’コンプレックス0.2751を含むnMFl、8m?
m液を−TO℃で加え、0℃で3日間反応させた。反応
液にピリジン0.5 mlを加え、参考例1と同様に処
理すると、+ (38,48)−3−C2−(2−クロ
ロアセトアミドチアゾ−μm4−イA/)−2−メトキ
シイミノ〕アセトアミド−4−シアノ−2−アゼチジノ
ン−1−スルホン酸ナトリウム0.170 fが得られ
た。
IRJ/KBrcIr1:17B0. 1670.15
40+aX 1260.1055 NMI1055N、外部基準、ppm)’ 4.04
(s +ocu3) 、4.44(s 、−Cn2−
) 、5.26(a 、、T=5Hz + C−H)
、5.46 (d 、J=5H2lC3−H) 、7.
50 (a 、8YH)2)上記1)で得たクロロアセ
トアミド誘導体0、1501/を水6IIdに溶解し、
ナトリウムモノメチルジチオカーバメート0.05(l
を水冷下に加え、室温(約25℃)で3時間かきまぜた
。反応液をXAD−I[カラムで精製すると、(38,
48)−3−C2−(2−7ミ/チアゾ−1v−4−イ
ルシー2−メトキシイミノ〕アセトアミド−4−シアノ
−2−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリウム0.0
67fが得られ念。
40+aX 1260.1055 NMI1055N、外部基準、ppm)’ 4.04
(s +ocu3) 、4.44(s 、−Cn2−
) 、5.26(a 、、T=5Hz + C−H)
、5.46 (d 、J=5H2lC3−H) 、7.
50 (a 、8YH)2)上記1)で得たクロロアセ
トアミド誘導体0、1501/を水6IIdに溶解し、
ナトリウムモノメチルジチオカーバメート0.05(l
を水冷下に加え、室温(約25℃)で3時間かきまぜた
。反応液をXAD−I[カラムで精製すると、(38,
48)−3−C2−(2−7ミ/チアゾ−1v−4−イ
ルシー2−メトキシイミノ〕アセトアミド−4−シアノ
−2−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリウム0.0
67fが得られ念。
IRvKBrax−’: 17B0,1665,161
0゜m&X 1520.1260.105O NM105ON、外部基準+ ppm): 4.00
(s +参考例3 1)(38,4B)−3−[2−(2−クロロアセトア
ミドチアゾール−4−イ1v)−2−メトキシイミノ〕
アセトアミド−4−¥アノー2−アゼチジノン0.48
2fをD M F 2 mlに溶解し、これに無水硫酸
−DMFコンプレックス0.597fを含むD M F
3.9 ml溶液を一70℃で加え、OCで2日間反
応させた。反応液にピリジン0.5 mlを加え、参考
例1と同様に処理すると、(38,4′B)−3−C2
−(2−クロロアセトアミドチアゾ−μm4−イ1v)
−2−メトキシイミノ〕アセトアミド−4−シアノ−2
−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリウム0.39(
lが得られた。
0゜m&X 1520.1260.105O NM105ON、外部基準+ ppm): 4.00
(s +参考例3 1)(38,4B)−3−[2−(2−クロロアセトア
ミドチアゾール−4−イ1v)−2−メトキシイミノ〕
アセトアミド−4−¥アノー2−アゼチジノン0.48
2fをD M F 2 mlに溶解し、これに無水硫酸
−DMFコンプレックス0.597fを含むD M F
3.9 ml溶液を一70℃で加え、OCで2日間反
応させた。反応液にピリジン0.5 mlを加え、参考
例1と同様に処理すると、(38,4′B)−3−C2
−(2−クロロアセトアミドチアゾ−μm4−イ1v)
−2−メトキシイミノ〕アセトアミド−4−シアノ−2
−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリウム0.39(
lが得られた。
IRvKBrW’ :17B5.16HT、1550゜
ax 1260、ぐ1055 NM1055N、外部基準、ppm) : 4,06
(s +0CH3)、 4.44(s 、−0M2−)
、 5.14(d 。
ax 1260、ぐ1055 NM1055N、外部基準、ppm) : 4,06
(s +0CH3)、 4.44(s 、−0M2−)
、 5.14(d 。
J=2Hz、C−H)、5.40(d、J=2Hz。
。3−H) 、7.43(s 、8YH)2)上記1)
で得たクロロアセトアミド誘導体0、190 fを6−
の水に溶解し、ナトリウムモノメチルジチオカーバメー
トの0.052Fを用い参考例2の2)と同様に処理す
ると、(38,4R)−342−(2−アミノチアゾ−
/l/−4−イ/L/)−2−メトキシイミノ〕アセト
アミド−2−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリウム
0.074Fが得られた。
で得たクロロアセトアミド誘導体0、190 fを6−
の水に溶解し、ナトリウムモノメチルジチオカーバメー
トの0.052Fを用い参考例2の2)と同様に処理す
ると、(38,4R)−342−(2−アミノチアゾ−
/l/−4−イ/L/)−2−メトキシイミノ〕アセト
アミド−2−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリウム
0.074Fが得られた。
KBr −4
工RνmaXc11 :1780. 1660. 16
15゜+520.1280.1250.105ONM1
05ON、外部基準、ppm):4.02 (s 。
15゜+520.1280.1250.105ONM1
05ON、外部基準、ppm):4.02 (s 。
(d、J=6Mz、 U3−M)+tj、9ti(1
3+ T )参考例4 D−2−(4−エチ/L’−2,3−ジオキソ−1−ビ
ベラジンカ〃ボキサミド)−2−(チオフェン−2−イ
ル)酢酸1.196f、塩化メチレン20厘/、)リエ
チルアミン0.530fの混合物を水冷下、かきまぜな
がら粉末化した五塩化リン0.775Fを加えた。水冷
下に1時間かきまぜたのち、減圧fに濃縮し、残留物に
n−へキサンを加え、数回デカンテーションして洗浄し
た。残留物に乾燥テトラヒドロフランを加え不溶物を炉
去した。
3+ T )参考例4 D−2−(4−エチ/L’−2,3−ジオキソ−1−ビ
ベラジンカ〃ボキサミド)−2−(チオフェン−2−イ
ル)酢酸1.196f、塩化メチレン20厘/、)リエ
チルアミン0.530fの混合物を水冷下、かきまぜな
がら粉末化した五塩化リン0.775Fを加えた。水冷
下に1時間かきまぜたのち、減圧fに濃縮し、残留物に
n−へキサンを加え、数回デカンテーションして洗浄し
た。残留物に乾燥テトラヒドロフランを加え不溶物を炉
去した。
一方、(38,48)−3−アミノ−4−シアノ−2−
アゼチジノンのp−トルエンスルホン酸塩0.992F
を乾燥テトラヒドロフラン15m/に溶解し、これに氷
冷下1.06011のトリエチルアミンを加えたのち、
上記で調整した酸クロリドのテトラヒドロフラン溶液を
加えた。室温(約25℃)で40分間か1!まぜたのち
減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲμカラムクロマトグ
フフイー〔酢酸エチ/I/:クロロホルム2メタノ−/
l/(313:1)で展開〕に付すと(38,4S)−
4−V7/−3CD−2−(4−工f)v−2+ 3−
ジオキソ−1−ピベヲジンカルボキサミド)−2−(チ
オフェン−2−イル)〕〕アセトアミドー2−アゼチジ
ノの0.56([が得られた。
アゼチジノンのp−トルエンスルホン酸塩0.992F
を乾燥テトラヒドロフラン15m/に溶解し、これに氷
冷下1.06011のトリエチルアミンを加えたのち、
上記で調整した酸クロリドのテトラヒドロフラン溶液を
加えた。室温(約25℃)で40分間か1!まぜたのち
減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲμカラムクロマトグ
フフイー〔酢酸エチ/I/:クロロホルム2メタノ−/
l/(313:1)で展開〕に付すと(38,4S)−
4−V7/−3CD−2−(4−工f)v−2+ 3−
ジオキソ−1−ピベヲジンカルボキサミド)−2−(チ
オフェン−2−イル)〕〕アセトアミドー2−アゼチジ
ノの0.56([が得られた。
KBr −1
1Rvmaxcm : 1785,1710.167
0゜50O N M R(D M80−da Ippm) : 1.
09 (t 、J = 5 Hz +CH3) 、3.
40 (q lJ =5Hz 、−CH2−) 13.
56(m、−CH2−)+3.90(m+−CH,()
、4.76(a。
0゜50O N M R(D M80−da Ippm) : 1.
09 (t 、J = 5 Hz +CH3) 、3.
40 (q lJ =5Hz 、−CH2−) 13.
56(m、−CH2−)+3.90(m+−CH,()
、4.76(a。
J”’4Hz、C,−H)、5.30(dd、J=8.
4Hz。
4Hz。
C3−H) 、5.83 (d 1J=4Hz 、−C
H−) 16.90〜160(nzaromH)+ 9
.03 (br、s+ NH)+ 9.70(d +
J =4Hz 、NH) 、9.80 (d lJ
=8H7,、NH)参考例5 (38,48)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチ
ジノンのp−)/l/エンス〃ホン酸塩の0.96 O
f ヲ乾mテトラヒドロフラン15g+/に%%濁し、
水冷下にトリエチルアミン1.40Of、ついで2−(
2−クロロアセトアミドチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノ酢酸クロリド塩am1.04Ofを乾燥
テトラヒドロフラフ10厘lに溶解した溶液を加えた。
H−) 16.90〜160(nzaromH)+ 9
.03 (br、s+ NH)+ 9.70(d +
J =4Hz 、NH) 、9.80 (d lJ
=8H7,、NH)参考例5 (38,48)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチ
ジノンのp−)/l/エンス〃ホン酸塩の0.96 O
f ヲ乾mテトラヒドロフラン15g+/に%%濁し、
水冷下にトリエチルアミン1.40Of、ついで2−(
2−クロロアセトアミドチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノ酢酸クロリド塩am1.04Ofを乾燥
テトラヒドロフラフ10厘lに溶解した溶液を加えた。
室温(約25℃)で30分間かきまぜ次のち、減圧下に
濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
〔酢酸xチ)v; 9qロホ#ム: )li’/−1v
(3: 3:1)で展開〕に付すと(38,48)−3
−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−μm4−イ
A/)−2−メトキシイミノ〕アセトアミド−4−シア
ノ−2−アゼチジノン、0゜910fが得られた。
濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
〔酢酸xチ)v; 9qロホ#ム: )li’/−1v
(3: 3:1)で展開〕に付すと(38,48)−3
−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−μm4−イ
A/)−2−メトキシイミノ〕アセトアミド−4−シア
ノ−2−アゼチジノン、0゜910fが得られた。
■Rv”ror’ :1790.tars、1540
゜aX 05O N M R(DMSO+D20 、 ppm) : 3
.93 (s + 0CH3) 。
゜aX 05O N M R(DMSO+D20 、 ppm) : 3
.93 (s + 0CH3) 。
4.33(s 、−CH2−) 、4.83 (d 、
J = 4 Hz 、C4−H)。
J = 4 Hz 、C4−H)。
H
5,40(d、J=4Hz、C3−H)、7.46(8
,Y)参考例6 (38,4B )−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼ
チジノンのp−)/l/エンスルホン酸塩0.54Of
を乾燥テトラヒドロフラン10m1に懸濁し、これに水
冷下トリエチルアミン0.787F。
,Y)参考例6 (38,4B )−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼ
チジノンのp−)/l/エンスルホン酸塩0.54Of
を乾燥テトラヒドロフラン10m1に懸濁し、これに水
冷下トリエチルアミン0.787F。
ついで2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4−
イ/l/)−2−メトキシイミノ酢酸クロリド・塩酸塩
0.600fを乾燥テトラヒ下ロフラン5鐸lに溶解し
た溶液を加えた。室m(約25℃)で30分間かきまぜ
たのち、反応液を濾過し、ろ液は減圧下に濃縮した。残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔酢酸エチ
/L/:クロロホルム:メタノール(3:3:l)で展
開〕に付すと(38゜4B)−3−[2−(2−クロロ
アセトアミドチアゾ−μm4−イ1v)−2−メトキシ
イミノ〕アセトアミド−2−アゼチジノン、0.52!
Mが得られた。
イ/l/)−2−メトキシイミノ酢酸クロリド・塩酸塩
0.600fを乾燥テトラヒ下ロフラン5鐸lに溶解し
た溶液を加えた。室m(約25℃)で30分間かきまぜ
たのち、反応液を濾過し、ろ液は減圧下に濃縮した。残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔酢酸エチ
/L/:クロロホルム:メタノール(3:3:l)で展
開〕に付すと(38゜4B)−3−[2−(2−クロロ
アセトアミドチアゾ−μm4−イ1v)−2−メトキシ
イミノ〕アセトアミド−2−アゼチジノン、0.52!
Mが得られた。
工Rシ写tym’ : 1780. 1670. 15
40゜04O N M R(DMSO−d6.ppm); 3.92
< s 、 ocH3+ 。
40゜04O N M R(DMSO−d6.ppm); 3.92
< s 、 ocH3+ 。
4.36 (s 、−CH2−) 、4.5j(d 、
J=2Hz 、C4−H) 。
J=2Hz 、C4−H) 。
旧り
参考例7
(38,4R8)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼ
チジノンのP−)#エンスルホンJ[i5f、ピリジン
+、2t、tjl化メチレン100dの水冷かくはん溶
液にフェニル酢酸クロリド3Fを加えた。室温的(25
℃)で10分間かきまぜたのち、水と振り混ぜ、有機層
を分離し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃
縮し、残留物をシリカゲルカラムで精製〔酢酸エチ/l
/ : n−ヘキサン(2:l))すると、(3S、4
B)−4−シアノ−3−フェニルアセトアミド−2−ア
ゼチジノン(蜀1. l 6 f、ついで対応する(3
B、4)1)−銹導体(B) 0.84 fが得られた
。
チジノンのP−)#エンスルホンJ[i5f、ピリジン
+、2t、tjl化メチレン100dの水冷かくはん溶
液にフェニル酢酸クロリド3Fを加えた。室温的(25
℃)で10分間かきまぜたのち、水と振り混ぜ、有機層
を分離し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃
縮し、残留物をシリカゲルカラムで精製〔酢酸エチ/l
/ : n−ヘキサン(2:l))すると、(3S、4
B)−4−シアノ−3−フェニルアセトアミド−2−ア
ゼチジノン(蜀1. l 6 f、ついで対応する(3
B、4)1)−銹導体(B) 0.84 fが得られた
。
(蜀
IRIJKBrWl: 2250,1770,1665
゜aX 1530.135O N M R(DMSO−d6.ppm) : 3.60
(a 、 −CH2−)。
゜aX 1530.135O N M R(DMSO−d6.ppm) : 3.60
(a 、 −CH2−)。
4.20 (d 、J=4Hz 、C4−H) 、4.
86 (dd + J=4 。
86 (dd + J=4 。
8Hz、C3H)、6.56(d、J−3Hz+NH)
+″r、26(8+ arom H) (Bl エRνfnaX3 :2250’+ 17801
tsso。
+″r、26(8+ arom H) (Bl エRνfnaX3 :2250’+ 17801
tsso。
1520. 135O
N MR(DMSO−d6.ppm): 3.60 (
s 、−CH2−) 。
s 、−CH2−) 。
4−10 (d 、J = 2 Hz 、C4−H)
、4.80 (d d 、J =2+8Hz、C3−H
)+6.60(d、J””8Hz、NH)+7.20
(s * arom H) 参考例8 (38,4R)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチ
ジノンのP−)/&エンスルホン酸塩1.66f 、ピ
リジン0.5f、塩化メチレン5s1!の混合物を室温
(約25Yc)で15分間かきまぜた。
、4.80 (d d 、J =2+8Hz、C3−H
)+6.60(d、J””8Hz、NH)+7.20
(s * arom H) 参考例8 (38,4R)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチ
ジノンのP−)/&エンスルホン酸塩1.66f 、ピ
リジン0.5f、塩化メチレン5s1!の混合物を室温
(約25Yc)で15分間かきまぜた。
これを、水冷下にかきまぜながら、プロピレンオキシド
10d1ついで2−トリメナ/L/Vすμ−エトキシカ
μボニpクロリド1,1fを加えた。室温で30分間か
きまぜたのち、減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲμカ
ラムクロマトグラフィー〔酢酸エチ/I/:n−ヘキサ
ン(1:1−)で展開〕に付すと、(38,4B)−4
−シアノ−3−(2−トリメチルシリ/I/)エトキシ
カルボキサミドー2−アゼチジノンの1.Ofが得られ
た。
10d1ついで2−トリメナ/L/Vすμ−エトキシカ
μボニpクロリド1,1fを加えた。室温で30分間か
きまぜたのち、減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲμカ
ラムクロマトグラフィー〔酢酸エチ/I/:n−ヘキサ
ン(1:1−)で展開〕に付すと、(38,4B)−4
−シアノ−3−(2−トリメチルシリ/I/)エトキシ
カルボキサミドー2−アゼチジノンの1.Ofが得られ
た。
1鮫fth1” 31:2950,1885.171
0゜ax +510. 1250. 860. 84ONMR(C
DCl2.ppm):0.03(s、CH3) 、 1
.00(t、J=8Hz、 −CH2)、4.20(
t、J=8Hz。
0゜ax +510. 1250. 860. 84ONMR(C
DCl2.ppm):0.03(s、CH3) 、 1
.00(t、J=8Hz、 −CH2)、4.20(
t、J=8Hz。
−CH2−)、+、5o(a、、T=2)(Z+04−
H)、5.33(dd、J−2+8Hz、C3−H)、
5.70(d 、J=8Hz。
H)、5.33(dd、J−2+8Hz、C3−H)、
5.70(d 、J=8Hz。
NH)、6.80(br、s、NH)
参考例9
(38,4R8)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼ
チジノンのP−)A/エンスルホン酸塩11.2fを5
Q mlのテトラヒドロフランに懸濁し、水冷下に5
1のトリエチルアミンを加え30分間かきまぜたのち、
減圧下に濃縮した。残留物に塩化メチレン20m1.プ
ロピレンオキシド8(1+7を加えて溶解し、この溶液
に6.81のカルボベンゾキシクロリドを水冷下に加え
た。25℃で30分間かきまぜたのち、減圧下に濃縮し
た。残留物に酢酸エチルと水を加えて振シまぜ、有機層
をとシ水洗、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に
濃縮した。残留物を15ofのシリカゲルを用いたカラ
ムで精製〔酢酸エチル:n−ヘキサン(1:1)で展開
〕すると(38,4R)−3−ベンジルオキシカルボキ
サミド−4−シアノ−2−アゼチジノンの2.1fを油
状物として、さらに(3B 、 48 )−4−3/ア
ノ−3−ベンジルオキシカルボキサミド−2−アゼチジ
ノンの3.21fを結晶として得た。
チジノンのP−)A/エンスルホン酸塩11.2fを5
Q mlのテトラヒドロフランに懸濁し、水冷下に5
1のトリエチルアミンを加え30分間かきまぜたのち、
減圧下に濃縮した。残留物に塩化メチレン20m1.プ
ロピレンオキシド8(1+7を加えて溶解し、この溶液
に6.81のカルボベンゾキシクロリドを水冷下に加え
た。25℃で30分間かきまぜたのち、減圧下に濃縮し
た。残留物に酢酸エチルと水を加えて振シまぜ、有機層
をとシ水洗、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に
濃縮した。残留物を15ofのシリカゲルを用いたカラ
ムで精製〔酢酸エチル:n−ヘキサン(1:1)で展開
〕すると(38,4R)−3−ベンジルオキシカルボキ
サミド−4−シアノ−2−アゼチジノンの2.1fを油
状物として、さらに(3B 、 48 )−4−3/ア
ノ−3−ベンジルオキシカルボキサミド−2−アゼチジ
ノンの3.21fを結晶として得た。
(38、4B ”)一体
mp 167−170℃(dec、)+805.17
65.1675.1525N M R(DMSO−d6
.ppm): 4.50 (d 、 J= 5)Iz
。
65.1675.1525N M R(DMSO−d6
.ppm): 4.50 (d 、 J= 5)Iz
。
C4−H)、5.lo(8,−CH2−)、5.16(
dd。
dd。
J=5 + 8Hz + 03−H) + 7.26
(s +arOIIIK)+8.16 (d 、 J=
8Hz 、 NH) 、8.56(broad s。
(s +arOIIIK)+8.16 (d 、 J=
8Hz 、 NH) 、8.56(broad s。
NH)
参考例10
+)(3R,4B)−3−ベンジルオキシカルボキサミ
ド−4−メチルスルホニ/L’−2−アゼチジノ:zo
、298ft−Tur15mK溶かし、これにパラジウ
ム黒0.25Fを加え、水素気流中2時間かきまぜた。
ド−4−メチルスルホニ/L’−2−アゼチジノ:zo
、298ft−Tur15mK溶かし、これにパラジウ
ム黒0.25Fを加え、水素気流中2時間かきまぜた。
触媒を沖去し、炉液を約3dになるまで減圧下に濃縮し
た。
た。
一方、2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−/L’−
4−イ1v)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体)
0.555Fを10dO塩化メチレンに加え、これに氷
冷下、トリエチルアミン0.25yついで、五塩化リン
0.42Fを加え5分間かきまぜた。室温で30分間か
きまぜた後、減圧下に濃縮し、残留物をn−ヘキサンで
洗い、これにTHF5dを加えて不溶物を炉去した。こ
の炉液を、水冷下、−先に調製した溶液とプロピレンオ
キシド1mlの混合溶液に加えた。減圧下に溶媒を留去
後、残渣の酢酸エチル溶液を水洗し、減圧下に濃縮した
。残留物をシリカゲルカラムでlFIMcn−ヘキサン
−酢酸エチル(1:l’))すると、(3R14R)−
3−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−A/−4
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−4−メ
チルヌルホニA/−2−アゼチジノン0.13Fが得ら
れ念。
4−イ1v)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体)
0.555Fを10dO塩化メチレンに加え、これに氷
冷下、トリエチルアミン0.25yついで、五塩化リン
0.42Fを加え5分間かきまぜた。室温で30分間か
きまぜた後、減圧下に濃縮し、残留物をn−ヘキサンで
洗い、これにTHF5dを加えて不溶物を炉去した。こ
の炉液を、水冷下、−先に調製した溶液とプロピレンオ
キシド1mlの混合溶液に加えた。減圧下に溶媒を留去
後、残渣の酢酸エチル溶液を水洗し、減圧下に濃縮した
。残留物をシリカゲルカラムでlFIMcn−ヘキサン
−酢酸エチル(1:l’))すると、(3R14R)−
3−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−A/−4
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−4−メ
チルヌルホニA/−2−アゼチジノン0.13Fが得ら
れ念。
エRJ’ cIl :3370. 3270.
1790゜max 1680、 154O N M R(DMSO−da+ppm): ′3.oo
< s 、 CH3)。
1790゜max 1680、 154O N M R(DMSO−da+ppm): ′3.oo
< s 、 CH3)。
3.93(s、CH3)、4.33(e、 CH2−)
、4.93(d * J −5Hz + C4−H)
、5.57 (d d 、J = 5 。
、4.93(d * J −5Hz + C4−H)
、5.57 (d d 、J = 5 。
9 Hz 、C3−H) 、I 5 ’j−(s 、>
H) +8−30(d 、J=9Hz 、NH) 、
9.40(s 、NH) 、12.73(s、NH) 2)上記1)で得られた(3R,,4R)−3−C2−
(2−りpロアセトアミドチアゾ−A/−4−イ/L’
)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−4−メチルス
ルホニA/−2−アゼチジノン0.46ftDMF3d
に溶かし、これに無水硫酸−ピリジンコンプレックス0
.36fを加え12日間反応させた。エーテ〜を加えて
分離する油状物をエーテルで洗った。油状物を水に溶か
し、Dowex50W樹脂(ダウケミカル社製)ナトリ
ウム型10m/を加え、30分間かきまぜた。樹脂を沖
去し、r液をXAD−n樹脂(ローム・アンド・ハース
社製)を充てんしたカラムで精製すると(3R14R)
−3−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−4−メ
チルスルホニ/l/−2−アゼチジノン−1−スルホン
酸ナトリウム0.023Fが得られた。
H) +8−30(d 、J=9Hz 、NH) 、
9.40(s 、NH) 、12.73(s、NH) 2)上記1)で得られた(3R,,4R)−3−C2−
(2−りpロアセトアミドチアゾ−A/−4−イ/L’
)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−4−メチルス
ルホニA/−2−アゼチジノン0.46ftDMF3d
に溶かし、これに無水硫酸−ピリジンコンプレックス0
.36fを加え12日間反応させた。エーテ〜を加えて
分離する油状物をエーテルで洗った。油状物を水に溶か
し、Dowex50W樹脂(ダウケミカル社製)ナトリ
ウム型10m/を加え、30分間かきまぜた。樹脂を沖
去し、r液をXAD−n樹脂(ローム・アンド・ハース
社製)を充てんしたカラムで精製すると(3R14R)
−3−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−4−メ
チルスルホニ/l/−2−アゼチジノン−1−スルホン
酸ナトリウム0.023Fが得られた。
KBr −1
1R&、aXff :3450−3400.1785
゜16B5.1672.1280,1260,1052
N M R(DMSO−d6.ppm): 3.84
(s 、 CH3)+4.33(s 、−CH2−)
、5.15(a、J−5Hz 。
゜16B5.1672.1280,1260,1052
N M R(DMSO−d6.ppm): 3.84
(s 、 CH3)+4.33(s 、−CH2−)
、5.15(a、J−5Hz 。
C4−H)、5.71(ddlJ−5,9H2,C3−
H)17.53(s、 〉−H)、9.45(d、J
−9Hz。
H)17.53(s、 〉−H)、9.45(d、J
−9Hz。
NIII) 、 12.88(s 、NH)参考例11
(31’l 、 4R)−3−アミノ−4−シアノ−2
−アゼチジノン・P−)ルエンスμホン酸塩0.3Of
をテトラヒドロフラン12#tに溶かし、これに水冷下
0.12Nのトリエチルアミン、ついで2−(2−クロ
ロアセトアミドチアゾ−A/−4−イ/I/)−2−’
(1−p−二トロベンジルオキシヵルボニル−1−メチ
ルエトキシイミノ)酢酸クロリド・塩酸塩0.60 f
を加えた。室温で40分間かきまぜ、減圧上濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムで精製〔酢酸エチルmクロロホ
ルム−メタノール(3:3:1))すると、(38,4
8)−3−C2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−1
V−4一イ/%/)−2−(+−p−二トロペンジルオ
キシカルボニル−1−メチルエトキンイミノ)アセトア
ミド)−4−シアノ−2−アゼチジノン0.271が得
られた。
−アゼチジノン・P−)ルエンスμホン酸塩0.3Of
をテトラヒドロフラン12#tに溶かし、これに水冷下
0.12Nのトリエチルアミン、ついで2−(2−クロ
ロアセトアミドチアゾ−A/−4−イ/I/)−2−’
(1−p−二トロベンジルオキシヵルボニル−1−メチ
ルエトキシイミノ)酢酸クロリド・塩酸塩0.60 f
を加えた。室温で40分間かきまぜ、減圧上濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムで精製〔酢酸エチルmクロロホ
ルム−メタノール(3:3:1))すると、(38,4
8)−3−C2−(2−クロロアセトアミドチアゾ−1
V−4一イ/%/)−2−(+−p−二トロペンジルオ
キシカルボニル−1−メチルエトキンイミノ)アセトア
ミド)−4−シアノ−2−アゼチジノン0.271が得
られた。
IRvKBrcml: 1785.1740,1675
+aX 530 参考例12 (38,48)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチ
ジノンのP−)〜エンスルホン酸41001を、テトラ
ヒドロ7ヲンー水<1:1)溶液850 mlに溶かし
、かきまぜながら、10℃以下で廣酸水素ナトリウム7
4.1 fを徐々に加えた。
+aX 530 参考例12 (38,48)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチ
ジノンのP−)〜エンスルホン酸41001を、テトラ
ヒドロ7ヲンー水<1:1)溶液850 mlに溶かし
、かきまぜながら、10℃以下で廣酸水素ナトリウム7
4.1 fを徐々に加えた。
ついで、3〜5℃で、力μボペンゾキシクロリドを40
分間で加え、さらに同温度で30分間かきまぜた。反応
液に酢酸エチ/’300m1を加えて振り混ぜ、酢酸エ
チル層を分取した。水層は、酢酸エチルで抽出し、有機
層を合わせ、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。減圧上濃縮し、析出した結晶を枦取すると(38,4
8)−4−シアノ−3−ベンジルオキシカルボキサミド
−2−アゼチジノン34Fが得られた。
分間で加え、さらに同温度で30分間かきまぜた。反応
液に酢酸エチ/’300m1を加えて振り混ぜ、酢酸エ
チル層を分取した。水層は、酢酸エチルで抽出し、有機
層を合わせ、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。減圧上濃縮し、析出した結晶を枦取すると(38,4
8)−4−シアノ−3−ベンジルオキシカルボキサミド
−2−アゼチジノン34Fが得られた。
本化合物の工R、NMRヌベクトルは参考例9で得られ
た化合物のそれらと一致した。
た化合物のそれらと一致した。
実施例1
1)(3R,4R)−4−メチルスルホニA/−3−ト
リチルアミノ−2−アゼチジノン12.3fをDMF1
50gtに溶解した溶液に、シアン化カリウム1,6f
を水24mに溶かした溶液を水冷下に加えたのち、室温
(約25℃)で30分間かきまぜた。反応液に氷水、酢
酸エチルを加え、酢酸エチル層をと9、水洗後無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残留
物をシリカゲルカラムで精製〔酢酸エチル:n−ヘキサ
ン(1;l)で展開〕すると、(3S、4BS)−4−
シアノ−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン(4R
:48=1:’1)の6.7Fが得られた。
リチルアミノ−2−アゼチジノン12.3fをDMF1
50gtに溶解した溶液に、シアン化カリウム1,6f
を水24mに溶かした溶液を水冷下に加えたのち、室温
(約25℃)で30分間かきまぜた。反応液に氷水、酢
酸エチルを加え、酢酸エチル層をと9、水洗後無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残留
物をシリカゲルカラムで精製〔酢酸エチル:n−ヘキサ
ン(1;l)で展開〕すると、(3S、4BS)−4−
シアノ−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン(4R
:48=1:’1)の6.7Fが得られた。
KBr −1
1RνrnaXcII :2230. 17702)上
記1)で得た(38.4R8)−4−シアノ−3−トリ
チルアミノ−2−アゼチジノン+0.6Fをアセトン2
0耐に溶解した溶液に、p−トルエンスルホン酸七ツバ
イドレート6.3Fを加えて均一溶液としたのち、析出
する結晶を炉取、少量のアセトンついでエーテルで洗浄
した。F3液は減圧下に濃縮し、残留物にアセトンを加
え析出する結晶を炉取した。炉液を濃縮し、上記と同様
な操作を′i3iない結晶として合計3.4fの(38
゜4F)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチジノン
・p−)ルエンスμホン酸塩c〜を得た。炉液は減圧下
に濃縮後残留物にエーテルを加え、得られる不溶物を枦
取しエーテルで洗浄すると(3S。
記1)で得た(38.4R8)−4−シアノ−3−トリ
チルアミノ−2−アゼチジノン+0.6Fをアセトン2
0耐に溶解した溶液に、p−トルエンスルホン酸七ツバ
イドレート6.3Fを加えて均一溶液としたのち、析出
する結晶を炉取、少量のアセトンついでエーテルで洗浄
した。F3液は減圧下に濃縮し、残留物にアセトンを加
え析出する結晶を炉取した。炉液を濃縮し、上記と同様
な操作を′i3iない結晶として合計3.4fの(38
゜4F)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチジノン
・p−)ルエンスμホン酸塩c〜を得た。炉液は減圧下
に濃縮後残留物にエーテルを加え、得られる不溶物を枦
取しエーテルで洗浄すると(3S。
48)−3−アミノ−4−シアノ−2−アゼチジノン・
p−)/7エンスルホン酸塩(B) 4. l fが得
られた。このものはC3B、4B>一体を約10%含有
していた。
p−)/7エンスルホン酸塩(B) 4. l fが得
られた。このものはC3B、4B>一体を約10%含有
していた。
(入
KBr =1
工ην 3 :1770. 1200aX
N M R(DM80−d6.ppm): 2.30
(s 、 CH3)。
(s 、 CH3)。
4.55(a、J=2Hz、C4−H) 、4.95(
d、J−2Hz。
d、J−2Hz。
C3−H) + 7.03 (d + J = 8Hz
+ arom H)+7.46 (d 、J−8H
z+aromH)+ 8.30−9.00(broa
d+ NH2L 9.46−(broad 81
NH)(B) 実施例2 1)(38,4R8)−4−シアノ−3−トリチルアミ
ノ−2−アゼチジノン1.10f、ト!Jエチルアミン
0.50f、塩化メチレフ20m1の混合物に、水冷下
、かきまぜながらtert−ブチルジメチルシリルクロ
リド0.56Fを加えた。室温(約25℃)で30分間
かきまぜたのち、反応液を減圧下に濃縮し残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー〔酢酸エチlN/:n
−ヘキサン(1:3)で展開〕に付すと(3B、4R8
) 1−tert−ブチルジメチルシリIv−4−シ
アノ−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン、0.6
4Fが得られた。
+ arom H)+7.46 (d 、J−8H
z+aromH)+ 8.30−9.00(broa
d+ NH2L 9.46−(broad 81
NH)(B) 実施例2 1)(38,4R8)−4−シアノ−3−トリチルアミ
ノ−2−アゼチジノン1.10f、ト!Jエチルアミン
0.50f、塩化メチレフ20m1の混合物に、水冷下
、かきまぜながらtert−ブチルジメチルシリルクロ
リド0.56Fを加えた。室温(約25℃)で30分間
かきまぜたのち、反応液を減圧下に濃縮し残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー〔酢酸エチlN/:n
−ヘキサン(1:3)で展開〕に付すと(3B、4R8
) 1−tert−ブチルジメチルシリIv−4−シ
アノ−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン、0.6
4Fが得られた。
IRtiKBraii”’ :2950,2240.1
760゜ax 26O NM’B (CDCI 、ppm):0.13(s 、
CH3)、 0.80(s + t−B u ) 、3
−03 (d 、J ミ2 Hz 、C4−H) +3
、’l0(d、J=8Hz、NH) 、3.43(d、
J=5Hz。
760゜ax 26O NM’B (CDCI 、ppm):0.13(s 、
CH3)、 0.80(s + t−B u ) 、3
−03 (d 、J ミ2 Hz 、C4−H) +3
、’l0(d、J=8Hz、NH) 、3.43(d、
J=5Hz。
C−H)、4.46(dd、J=2.8Hz、C−H)
。
。
4
34.50 (cid +、r=5.8H
z 、c3−]() 、]7.0Q−7.50 m r
aromH) 2)上記1)で得られた4−S/アノ化合物0.469
V、メタノール5厘t、30%過酸化水素水0.33−
およびIN−水酸化ナトリウム溶液1 dの混合物を室
温(約25し)で4時間かきまぜた。反応面を減圧下に
濃縮後、残留物に酢酸エチルおよび飽和食塩水を加え、
有機層を分離し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下に濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチルで展開)に付すと(38,4R8)−
4−カルパモイ/l/−3−)ジチルアミノ−2−アゼ
チジノン(4R:48−1: to混合物)0.557
Fが得られた。
34.50 (cid +、r=5.8H
z 、c3−]() 、]7.0Q−7.50 m r
aromH) 2)上記1)で得られた4−S/アノ化合物0.469
V、メタノール5厘t、30%過酸化水素水0.33−
およびIN−水酸化ナトリウム溶液1 dの混合物を室
温(約25し)で4時間かきまぜた。反応面を減圧下に
濃縮後、残留物に酢酸エチルおよび飽和食塩水を加え、
有機層を分離し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下に濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチルで展開)に付すと(38,4R8)−
4−カルパモイ/l/−3−)ジチルアミノ−2−アゼ
チジノン(4R:48−1: to混合物)0.557
Fが得られた。
KBr −1
■pv cm : 1750,1670maχ
N M R(DM80−d、+ D20. ppm):
3.46 (d 、 J−4’Hz+C4−H)、3
.56(d、J=2Hz。
3.46 (d 、 J−4’Hz+C4−H)、3
.56(d、J=2Hz。
C4−H) 、4.03 (d 、J=2Hz 、C3
−H) + 4.26(d + J = 4 Hz +
03− H) + 72〜7−7 (m + ar
om H)実施例3 1)(38,48)−4−アセトキシ−3−ベンジルオ
キシカルボキサミド−2−アゼチジノン6Vをジメチル
ホルムアミド30耐に溶解した溶液に、シアン化カリウ
ム1.5fを水511に溶解した溶液を水冷下加え、室
温(約25℃)で30分間かきまぜた。氷水にあけ酢酸
エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥したのち減圧下に濃縮した。残留物を塩
化メチレン30−に溶解し、トリエチルアミン2.21
を加え、水冷下にtert−ブチルシリルクロリド3.
2gを加えた。室温で30分間かきまぜたのち、減圧上
濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
〔酢酸エチ/L/ ; 11−ヘキサン(1+1)で展
開〕に付すと、(38,4R)−3−ベンジルオキシカ
ルボキサミド−1−tert−ブチルジメチルシリル−
4−シアノ−2−アゼチジノン、0.300fが得られ
た。
−H) + 4.26(d + J = 4 Hz +
03− H) + 72〜7−7 (m + ar
om H)実施例3 1)(38,48)−4−アセトキシ−3−ベンジルオ
キシカルボキサミド−2−アゼチジノン6Vをジメチル
ホルムアミド30耐に溶解した溶液に、シアン化カリウ
ム1.5fを水511に溶解した溶液を水冷下加え、室
温(約25℃)で30分間かきまぜた。氷水にあけ酢酸
エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥したのち減圧下に濃縮した。残留物を塩
化メチレン30−に溶解し、トリエチルアミン2.21
を加え、水冷下にtert−ブチルシリルクロリド3.
2gを加えた。室温で30分間かきまぜたのち、減圧上
濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
〔酢酸エチ/L/ ; 11−ヘキサン(1+1)で展
開〕に付すと、(38,4R)−3−ベンジルオキシカ
ルボキサミド−1−tert−ブチルジメチルシリル−
4−シアノ−2−アゼチジノン、0.300fが得られ
た。
工Rν”Ill 41: 29501 2920.21
40゜aX 1γ45.1720.125O N M R(CDCl2.ppm): 0.06 (s
、CH,、)、 0.90(s、t−Bu)+4.3
6(a、J=2Hz、C4−H)+4.70(dd、J
−2,8H2,C3−■)、5.02(8゜−CH2−
)、5.46(d、J−3Hz 、NH) 、7.23
(s 、 arom H) 2)上記1)で得られた4−シアノ化合物o、ao。
40゜aX 1γ45.1720.125O N M R(CDCl2.ppm): 0.06 (s
、CH,、)、 0.90(s、t−Bu)+4.3
6(a、J=2Hz、C4−H)+4.70(dd、J
−2,8H2,C3−■)、5.02(8゜−CH2−
)、5.46(d、J−3Hz 、NH) 、7.23
(s 、 arom H) 2)上記1)で得られた4−シアノ化合物o、ao。
fをエタノール5 mlに溶解し、水冷下に30%過酸
化水素水0.3g/、iN−水酸化ナトリウム水溶液0
.15 mlを加え室温(約25℃)で1時間かきまぜ
た。減圧下に濃縮後、残留物に酢酸エチル。
化水素水0.3g/、iN−水酸化ナトリウム水溶液0
.15 mlを加え室温(約25℃)で1時間かきまぜ
た。減圧下に濃縮後、残留物に酢酸エチル。
水を加えて振り混ぜ、酢酸エチル層を分離し無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮しシリカゲルカラ
ムクロマトグブフイー(酢酸エチルで展開)に付すと(
38,41’?)−3−ベンジルオキシカルボキサミド
−4−カルバモイIV−2−アゼチジノン0.041が
得られた。
グネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮しシリカゲルカラ
ムクロマトグブフイー(酢酸エチルで展開)に付すと(
38,41’?)−3−ベンジルオキシカルボキサミド
−4−カルバモイIV−2−アゼチジノン0.041が
得られた。
mp153−155″O(dec、)
KBr −1
1RLIrlIELXcI11 :1770.1705
.169011665.1520.125O N M R(DMSO−d6 、ppm) : 3.9
1 (d 、 J −2Hz 。
.169011665.1520.125O N M R(DMSO−d6 、ppm) : 3.9
1 (d 、 J −2Hz 。
c、−H)、4.42(aa、J=2.8Hz、C3−
H)。
H)。
5.06 (8、−CH2−) 、7.1 B 、7.
60 (各々brs。
60 (各々brs。
C0NH2)+ 7.36(s、aromH) + 8
.04(a 、J+8Hz 、 NH) 、 8.3
0(br、 s、 NH)実施例4 (38,4S)−3−ベンジルオキシカルボキサミド−
4−シアノ−2−アゼチジノン12211vをジメチル
スルホキシド111/に溶かし、20℃でかきまぜなが
ら30%過酸化水素水0.1 ml 、ついでIN−水
酸化ナトリウム溶液0.1 g/を加えた。
.04(a 、J+8Hz 、 NH) 、 8.3
0(br、 s、 NH)実施例4 (38,4S)−3−ベンジルオキシカルボキサミド−
4−シアノ−2−アゼチジノン12211vをジメチル
スルホキシド111/に溶かし、20℃でかきまぜなが
ら30%過酸化水素水0.1 ml 、ついでIN−水
酸化ナトリウム溶液0.1 g/を加えた。
10分後析出した結晶を枦取し、少量の99%エタノー
ルで洗浄、乾燥して(38,48)−3−ベンジルオキ
シカルボキサミド−4−カルバモイル−2−アゼチジノ
ン4211vを得た。p液1XAD−■カラムクロマト
グラブイーに付しく30%エタノ−μ水で展開)さらに
、(38,48)−3、−ベンジルオキシカ、A/vキ
サミド−4−カルバモイ/l/−2−アゼチジノン37
〜を得た。
ルで洗浄、乾燥して(38,48)−3−ベンジルオキ
シカルボキサミド−4−カルバモイル−2−アゼチジノ
ン4211vを得た。p液1XAD−■カラムクロマト
グラブイーに付しく30%エタノ−μ水で展開)さらに
、(38,48)−3、−ベンジルオキシカ、A/vキ
サミド−4−カルバモイ/l/−2−アゼチジノン37
〜を得た。
mp236−240℃(dec、)
〔α〕M” I O,43< DMSo、 8=1)工
RJ/KBrax−1: 3400.3310,177
5゜aX 1740.1675.1545 NMR(DMSO,ppm): 4.14(d、、T=
5Hz。
RJ/KBrax−1: 3400.3310,177
5゜aX 1740.1675.1545 NMR(DMSO,ppm): 4.14(d、、T=
5Hz。
C4−H)+ 5.06(s 、−CH2−) 、5
.08(dd+J=5.8Hz + 03−H) 、
7.30(broad 81 NH2)+7.35 (
s * arom H) + 752 (d + J
= 8 Tl z +NH) 、8.33(broad
s、 NU)実施例5 (38−74R、S )−4−シアノ−3−トリフェニ
ルメチルアミノ−2−アゼチジノン1.Oiをジクロロ
メタン12厘lに溶かし、硫酸水素テトラ−n−ブチル
アンモニウム1.02 fを加え水冷かきまぜながら3
0%過酸化水素水0.68 mlと1規定水酸化ナトリ
ウム水溶l&4.5 mlを加え、5゜分間激しくカ1
きまぜた。、1規定塩酸1.3 mlを含む氷水中に反
応液を注入し、分液後水層をクロロホルムで2回抽出す
る。有機層を合わせてチオ硫酸ナトリウムと食塩を溶か
した水溶液で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
上濃縮後、残留物をシリカゲルカラムクpマトグヲフィ
ーでlR製する〔クロロホルム:酢酸エチA/:メタノ
ーlL/(50:50:5)で溶出〕と、(3S、4S
)−4−カルバモイル−3−トリフェニルメチルアミノ
−2−アゼチジノン0.2239が得られた。
.08(dd+J=5.8Hz + 03−H) 、
7.30(broad 81 NH2)+7.35 (
s * arom H) + 752 (d + J
= 8 Tl z +NH) 、8.33(broad
s、 NU)実施例5 (38−74R、S )−4−シアノ−3−トリフェニ
ルメチルアミノ−2−アゼチジノン1.Oiをジクロロ
メタン12厘lに溶かし、硫酸水素テトラ−n−ブチル
アンモニウム1.02 fを加え水冷かきまぜながら3
0%過酸化水素水0.68 mlと1規定水酸化ナトリ
ウム水溶l&4.5 mlを加え、5゜分間激しくカ1
きまぜた。、1規定塩酸1.3 mlを含む氷水中に反
応液を注入し、分液後水層をクロロホルムで2回抽出す
る。有機層を合わせてチオ硫酸ナトリウムと食塩を溶か
した水溶液で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
上濃縮後、残留物をシリカゲルカラムクpマトグヲフィ
ーでlR製する〔クロロホルム:酢酸エチA/:メタノ
ーlL/(50:50:5)で溶出〕と、(3S、4S
)−4−カルバモイル−3−トリフェニルメチルアミノ
−2−アゼチジノン0.2239が得られた。
KBr −1
工Rvmax3 :3370.+750.1675゜
05 N M R(DMSO−d6.ppm): 3.44(
a +J−5Hz 。
05 N M R(DMSO−d6.ppm): 3.44(
a +J−5Hz 。
C4−H) 、3−55 (d 、J = l OHz
、NH) 。
、NH) 。
4.10 ((id、J−5,10Hz、C3−H)
、6.90(broad IIL NH2L 7.0−
7.6(m +aromHL7.89(s、NH) 実施例6 (38,48)−3−[2−(2−りpロアセトアミド
チアゾー/l/−4−イ/L−)−2ム(1−p−二ト
ロベンジルオキシカルボニ1v−1−メチルエトキシイ
ミノ・)アセトアミドシー4−シアノ−2−アゼチジノ
ン0.38fをジメチルスルホキシト2 mlに溶かし
、これに30%過酸化水素水0.1yzlとIN−水酸
化ナトリウム水溶液0.1dを加え、約25℃で30分
間かきまぜる。反応液をXAD−■カフムに付加し、精
製〔30%エタノールで溶出〕すると(3B、48)−
4−カルバモイル−3−C2−(2−クロロアセトアミ
ドチアゾ−μm4−イA/)−2−(1−p−ニトロベ
ンジルオキシ力μボニfi7−1−メチルエトキシイミ
ノ)アセトアミドクー2−アゼチジノン0.12 f!
が得られる。
、6.90(broad IIL NH2L 7.0−
7.6(m +aromHL7.89(s、NH) 実施例6 (38,48)−3−[2−(2−りpロアセトアミド
チアゾー/l/−4−イ/L−)−2ム(1−p−二ト
ロベンジルオキシカルボニ1v−1−メチルエトキシイ
ミノ・)アセトアミドシー4−シアノ−2−アゼチジノ
ン0.38fをジメチルスルホキシト2 mlに溶かし
、これに30%過酸化水素水0.1yzlとIN−水酸
化ナトリウム水溶液0.1dを加え、約25℃で30分
間かきまぜる。反応液をXAD−■カフムに付加し、精
製〔30%エタノールで溶出〕すると(3B、48)−
4−カルバモイル−3−C2−(2−クロロアセトアミ
ドチアゾ−μm4−イA/)−2−(1−p−ニトロベ
ンジルオキシ力μボニfi7−1−メチルエトキシイミ
ノ)アセトアミドクー2−アゼチジノン0.12 f!
が得られる。
1520、 135O
N M R(DM80−d6.ppm): i、52
(8,aa3)+4.27(d、J=6H2,C4−
H)、4.34 (s 、c1cH2−) 。
(8,aa3)+4.27(d、J=6H2,C4−
H)、4.34 (s 、c1cH2−) 。
5.32 (s 、CH2) 、5.46 (dd 1
J=6.9Hz 。
J=6.9Hz 。
C3−H)、7.41(a、 8>H)、7.60゜
8.08(各々d + J = 9 Hz + aro
m H) + 8.47(slNH)、8.86(d、
J=9Hz、NH)実施例7 (38,48)−4−シアノ−3−トリフェニルメチル
アミノ−2−アゼチジノン160ダをジクロロメタン2
厘lに溶かし、硫酸水素テトラ−n−グチルアンモニウ
ム154qを加え、水冷下かきまぜながら30%過酸化
水素水0.103 mlと1規定水酸化ナトリウム水溶
液0.68IIlを加え、30分間激しくかきまぜた。
8.08(各々d + J = 9 Hz + aro
m H) + 8.47(slNH)、8.86(d、
J=9Hz、NH)実施例7 (38,48)−4−シアノ−3−トリフェニルメチル
アミノ−2−アゼチジノン160ダをジクロロメタン2
厘lに溶かし、硫酸水素テトラ−n−グチルアンモニウ
ム154qを加え、水冷下かきまぜながら30%過酸化
水素水0.103 mlと1規定水酸化ナトリウム水溶
液0.68IIlを加え、30分間激しくかきまぜた。
1規定塩酸0.22 mlを含む氷水中に反応液を注入
し、分液抜水層をクロロホルムで2回抽出した。有機層
を合わせて、食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧上濃縮後、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製する〔クロロホルム:酢酸エチ/I/
:メタノー/L/(50:50:5)で溶出〕と、(3
8,48)−4−カルバモイ)V−3−ト7リフェニル
メチルアミノー2−アゼチジノン75wvが得られた。
し、分液抜水層をクロロホルムで2回抽出した。有機層
を合わせて、食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧上濃縮後、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製する〔クロロホルム:酢酸エチ/I/
:メタノー/L/(50:50:5)で溶出〕と、(3
8,48)−4−カルバモイ)V−3−ト7リフェニル
メチルアミノー2−アゼチジノン75wvが得られた。
本化合物の工R、NMRスペクト/L’は実施例5で得
られた化合物のそれらと一致した。
られた化合物のそれらと一致した。
実施例8
(3F、4R)−4−メチルスルホニル−3−トリチル
アミノ−2−アゼチジノン12.2f、m化トリーn−
オクチルメチルアンモニウム2.441を四塩化炭素1
20m/に溶かし、かきまぜながら、シアン化カリウム
2.15Fを水30m1に溶かした溶液を水冷下に加え
た。15分間同温度で激しくかきまぜた後、有機層を分
取し、水層はクロロホルムで抽出し友。有機層を合わせ
、水洗後実施例1の1)と同様に処理すると、(38,
4R8)−4−シアノ−3−トリチルアミノ−2−アゼ
チジノン7、66 fが得られた。
アミノ−2−アゼチジノン12.2f、m化トリーn−
オクチルメチルアンモニウム2.441を四塩化炭素1
20m/に溶かし、かきまぜながら、シアン化カリウム
2.15Fを水30m1に溶かした溶液を水冷下に加え
た。15分間同温度で激しくかきまぜた後、有機層を分
取し、水層はクロロホルムで抽出し友。有機層を合わせ
、水洗後実施例1の1)と同様に処理すると、(38,
4R8)−4−シアノ−3−トリチルアミノ−2−アゼ
チジノン7、66 fが得られた。
本化合物は、(38,4B):(38,48)−1:5
の混合物であった。
の混合物であった。
0(38,4F)体
NMR(CDCl2.ppm); 2.94(d 、、
T=I IHz 、Tr(トリチμ)NH−)、3.0
0 (d、J=2H2,C4−H)1 4.64(aa +J=2 、 l lHz。
T=I IHz 、Tr(トリチμ)NH−)、3.0
0 (d、J=2H2,C4−H)1 4.64(aa +J=2 、 l lHz。
C3−H)16.40(slNH) 。
7゜l−7,7(m+aromH)
o(38,48)体
NMR(CDCI31ppm): 3.17(d、7J
=llHz。
=llHz。
TrN旦−)、3.56(a、J−
51(Z I C4−a )、4.64(aa。
J” 5.11 Hz + C3−H) 。
6.30(s、NH)、7.1−7.7(m + ar
om H) 実施例9 実施例8で得られた、(3R,4R8)−4−シアノ−
3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン3、54 Fを
クロロホルム40yttに溶かし、硫酸水素テトフーn
・グチルアンモニウム3.4vを加工、水冷下かきまぜ
ながら30%過酸化水素2.3fと1規定水酸化ナトリ
ウム水溶液i5*Jを加え、30分間激しくかきまぜた
。有機層を分取し、水層をクロロホルムで2回抽出した
。有機層を合わせ、水洗後、実施例7と同様に処理する
とく38゜48)−4−カルパモイ1V−3−)ジチル
アミノ−2−アゼチジノン0.76 fが得られた。本
化合物の工R,NMRスペクトμは実施例5で得られた
化合物のそれらと一致した。
om H) 実施例9 実施例8で得られた、(3R,4R8)−4−シアノ−
3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン3、54 Fを
クロロホルム40yttに溶かし、硫酸水素テトフーn
・グチルアンモニウム3.4vを加工、水冷下かきまぜ
ながら30%過酸化水素2.3fと1規定水酸化ナトリ
ウム水溶液i5*Jを加え、30分間激しくかきまぜた
。有機層を分取し、水層をクロロホルムで2回抽出した
。有機層を合わせ、水洗後、実施例7と同様に処理する
とく38゜48)−4−カルパモイ1V−3−)ジチル
アミノ−2−アゼチジノン0.76 fが得られた。本
化合物の工R,NMRスペクトμは実施例5で得られた
化合物のそれらと一致した。
実施例10
(3R,4R)−4−メチルスルホニル−3−トリチル
アミノ−2−アゼチジノン0.5 mmol 。
アミノ−2−アゼチジノン0.5 mmol 。
臭化テトラ−n−アミルアンモニウム0. l m1n
olをベンゼン2 mlに溶かし、これにシアン化カリ
ウムQ、 55 mmol を水0.55s/に溶かし
た溶液を、15℃で加えた。15分間激しくか@まぜた
後、実施例8と同様に処理すると、(38,4R8)−
4−シアノ−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノンの
(38,4R):(3S、4S)=l:4混合物が得ら
れた。
olをベンゼン2 mlに溶かし、これにシアン化カリ
ウムQ、 55 mmol を水0.55s/に溶かし
た溶液を、15℃で加えた。15分間激しくか@まぜた
後、実施例8と同様に処理すると、(38,4R8)−
4−シアノ−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノンの
(38,4R):(3S、4S)=l:4混合物が得ら
れた。
実施例11
実施例10において、臭化テトラ−n−アミルアンモニ
ウムの代夛に、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムを
用い反応を行なうと、(38,4R8)−4−シアノ−
3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン(4R:4S=
1:3.5)が得られた。
ウムの代夛に、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムを
用い反応を行なうと、(38,4R8)−4−シアノ−
3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン(4R:4S=
1:3.5)が得られた。
実施例12
実施例10において、臭化テトラ−n−アミルアンモニ
ウムの代りに、臭化テトラ−n−ブチルホスホニウムを
用い反応を行なうと、(38,4)?5)−4−シアノ
−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン(4R:3S
=1:3.5)が得られた。
ウムの代りに、臭化テトラ−n−ブチルホスホニウムを
用い反応を行なうと、(38,4)?5)−4−シアノ
−3−トリチルアミノ−2−アゼチジノン(4R:3S
=1:3.5)が得られた。
産業上の利用可能性
4−シアノ−2−アゼチジノン誘導体CI)は、優れた
抗菌活性およびβ−ラクタマーゼ阻害作用を有している
4−置換−2−アゼチジノン誘導体の光学活性体を合成
するにあたり、有利な合成中間体として利用され、かつ
Wがスルホ基であるCI)はそれ自体抗菌活性およびβ
−ラクタマーゼ阻害作用を有しており、人および犬、猫
、牛。
抗菌活性およびβ−ラクタマーゼ阻害作用を有している
4−置換−2−アゼチジノン誘導体の光学活性体を合成
するにあたり、有利な合成中間体として利用され、かつ
Wがスルホ基であるCI)はそれ自体抗菌活性およびβ
−ラクタマーゼ阻害作用を有しており、人および犬、猫
、牛。
馬、マウス、モルモット等を含む哺乳動物のグラム−陽
性または陰性細菌によって引起される感染症の治療剤と
して、動物用飼料、工業用水の防腐剤としであるいは衛
生用具の消毒剤として、さらにβ−ラクタム系抗生物質
と併用することにょシ該抗生物質の分解防止剤として利
用される。
性または陰性細菌によって引起される感染症の治療剤と
して、動物用飼料、工業用水の防腐剤としであるいは衛
生用具の消毒剤として、さらにβ−ラクタム系抗生物質
と併用することにょシ該抗生物質の分解防止剤として利
用される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)式 〔式中、R1はアシ/I/化されまたは保護されていて
もよいアミノ基を、Xは水素またはメトキシ基を、Wは
水素またはスルホ基を示す〕で表わされる4 −シアノ
−2−アゼチジノン誘導体。 (2)式 〔式中、R2はアシル化されまたは保護されたアミノ基
を、Xは水素またはメトキシ基を、Wは水素またはスル
ホ基を、Yはハロゲンまたは式水素基を、nは1または
2を示す)で表わされる基を示す〕で表わされる化合物
とシアノ化合物を反応させ、必要に応じて保護基を除去
することを特徴とする、式 〔式中、Bl はアシμ化されまたは保護されていても
よいアミノ基を、XおよびWは前記と同意義を示す〕で
表わされる4−シアノ−2−アゼチジノン誘導体の製造
法。 〔式中、Rはアシμ化されまたは保護されていてもよい
アミノ基を、Xは水素またはメトキシ基を、Wは水素ま
たはスルホ基を示す〕で表わされる4−シアノ−2−ア
ゼチジノン誘導体を水和反応に付し、必要に応じて保護
基を除去することを特徴とする、式 〔式中、R4はアシル化されまたは保護されていてもよ
いアミノ基を、XおよびWは前記と同意義を示す〕で表
わされる4−カルバモイtv−2−アゼチジノン誘導体
の製造法。 (4)反応を相関移動触媒の存在下に行なうことを特徴
とする請求の範囲第2項記載の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MC82/00141 | 1982-04-27 | ||
| PCT/JP1982/000141 WO1983003827A1 (fr) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | Derives de 4-cyano-2-azetidinone et leur procede de preparation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS591465A true JPS591465A (ja) | 1984-01-06 |
| JPH0425264B2 JPH0425264B2 (ja) | 1992-04-30 |
Family
ID=13762237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58073470A Granted JPS591465A (ja) | 1982-04-27 | 1983-04-25 | 4―シアノ―2―アゼチジノン誘導体の製造法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS591465A (ja) |
| NZ (1) | NZ202907A (ja) |
| WO (1) | WO1983003827A1 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5846066A (ja) * | 1981-08-27 | 1983-03-17 | エフ・ホフマン・ラ・ロシユ・ウント・コンパニ−・アクチエンゲゼルシヤフト | β−ラクタム類 |
-
1982
- 1982-04-27 WO PCT/JP1982/000141 patent/WO1983003827A1/ja not_active Ceased
- 1982-12-23 NZ NZ202907A patent/NZ202907A/en unknown
-
1983
- 1983-04-25 JP JP58073470A patent/JPS591465A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5846066A (ja) * | 1981-08-27 | 1983-03-17 | エフ・ホフマン・ラ・ロシユ・ウント・コンパニ−・アクチエンゲゼルシヤフト | β−ラクタム類 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1983003827A1 (fr) | 1983-11-10 |
| JPH0425264B2 (ja) | 1992-04-30 |
| NZ202907A (en) | 1986-01-24 |
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