JPS59164794A - フルオロアルキルシリルケテンアセタ−ル及びその製造方法 - Google Patents
フルオロアルキルシリルケテンアセタ−ル及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS59164794A JPS59164794A JP58038788A JP3878883A JPS59164794A JP S59164794 A JPS59164794 A JP S59164794A JP 58038788 A JP58038788 A JP 58038788A JP 3878883 A JP3878883 A JP 3878883A JP S59164794 A JPS59164794 A JP S59164794A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acetal
- group
- carbon atoms
- general formula
- page
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
１、産業上の利用分野
本発明は、フルオロアルキル基を有する生理活性物質の
合成中間体等として有用なフルオロアルキルシリルケテ
ンアセタール及びその製造方法に関するものである。
合成中間体等として有用なフルオロアルキルシリルケテ
ンアセタール及びその製造方法に関するものである。
２、従来技術
ＣＦ３基を有する化合物は生理活性の面から有用である
とされている。 このような含ＣＦｓ化合物を合成する
ための１つの一般的方法として、ＣＦ３基を有する合成
プ胃ツクに種々の炭素−炭素結合を形成せしめることが
考えられるが、そうした公知例は極めて少ない。
とされている。 このような含ＣＦｓ化合物を合成する
ための１つの一般的方法として、ＣＦ３基を有する合成
プ胃ツクに種々の炭素−炭素結合を形成せしめることが
考えられるが、そうした公知例は極めて少ない。
３、発明の目的
本発明者は、合成ブロックとして３ 、３ 、３−トリ
フルオロプロピオン酸エステル（Ｔ Ｆ Ｐ Ｅ）に注
目し、そのエステルエノラートの合成等側体と表るトリ
フルオロメチルシリルケテンアセタールを収率良く得る
ことに成功し、本発明に到達したものである。
フルオロプロピオン酸エステル（Ｔ Ｆ Ｐ Ｅ）に注
目し、そのエステルエノラートの合成等側体と表るトリ
フルオロメチルシリルケテンアセタールを収率良く得る
ことに成功し、本発明に到達したものである。
４、発明の構成
即ち、本発明は、
一般式：
（但、Ｒｆはフルオロアルキル基、Ｒ及びＲ′は同−又
は異なるアルキル基である。）で表わされることを特徴
とするフルオロアルキルシリルケテンアセタールに係る
ものである。
は異なるアルキル基である。）で表わされることを特徴
とするフルオロアルキルシリルケテンアセタールに係る
ものである。
また、本発明は、上記アセタールを収率良く得る方法と
して、 一般式： ％式％ （但、Ｒｆはフルオロアルキル基、Ｒ′はアルキル基で
ある。） で表わされるフルオロエステルと、 一般式： ％式％ （但、Ｒはアルキル基、Ｔｆはトリフルオロメタンスル
ホニル基である。） で表わされるシリル化剤とを反応させ、一般式： （但、Ｒｆ、ＲＳ：ａ’は前記したものと同じであシ、
Ｒ及びＲ′は同一であってよいし或いは異なりていても
よい。） で表わされるフルオロアルキルシリルケテンアセタール
を得ることを特徴とするフルオロアルキルシリルケテン
アセタールの製造方法も提供するものである。
して、 一般式： ％式％ （但、Ｒｆはフルオロアルキル基、Ｒ′はアルキル基で
ある。） で表わされるフルオロエステルと、 一般式： ％式％ （但、Ｒはアルキル基、Ｔｆはトリフルオロメタンスル
ホニル基である。） で表わされるシリル化剤とを反応させ、一般式： （但、Ｒｆ、ＲＳ：ａ’は前記したものと同じであシ、
Ｒ及びＲ′は同一であってよいし或いは異なりていても
よい。） で表わされるフルオロアルキルシリルケテンアセタール
を得ることを特徴とするフルオロアルキルシリルケテン
アセタールの製造方法も提供するものである。
本発明において、上記一般式中、Ｒｆは炭素原子数１〜
１０のフルオロアルキル基（例えば−ＣＦｓ、−Ｃ２Ｆ
ｓ、 −ＣａＦｓ ）であってよく、Ｒ，Ｒ’は炭素原
子数１〜１０のアルキル基（例えば−ＣＨｇ、−Ｃ！Ｈ
ｓ、 −ＣｓＨｓ ）でありてよい。
１０のフルオロアルキル基（例えば−ＣＦｓ、−Ｃ２Ｆ
ｓ、 −ＣａＦｓ ）であってよく、Ｒ，Ｒ’は炭素原
子数１〜１０のアルキル基（例えば−ＣＨｇ、−Ｃ！Ｈ
ｓ、 −ＣｓＨｓ ）でありてよい。
５、実施例
以下、本発明を具体的に説明する。
まず、下記の如＜、３＋ ３ ＊ ３ ）ＩＪフルオ
ロブーピオン酸エステル１に通常のエステルエノラート
発生法と同、ｍＫ、ＬＤＡ （リチウムＮ、Ｎ−ジイソ
プロピルアミド）を作用させたところ、脱ＨＦ反応が優
先して生じ、そのエノラートはトラップてきず、最終的
Ｋ ＣＦｓ基は消失してしまう。
ロブーピオン酸エステル１に通常のエステルエノラート
発生法と同、ｍＫ、ＬＤＡ （リチウムＮ、Ｎ−ジイソ
プロピルアミド）を作用させたところ、脱ＨＦ反応が優
先して生じ、そのエノラートはトラップてきず、最終的
Ｋ ＣＦｓ基は消失してしまう。
とζろが、エノラート等価体であるトリフルオロメチル
シリルケテンアセタール？の合成に際し、シリル化剤と
して（Ｍｅ）ｓｓｉｃｔを用いた場合、反応は進行しな
かったが、トリメチルシリル） リフラード（（Ｍｅ）
ｓｓｉＯＴｆ）を用いると、次のように目的とするシリ
ルケテンアセタール？を収率良く（例えば、１９Ｆ Ｎ
Ｍ Ｒ収率で９２チ）得るととができた。
シリルケテンアセタール？の合成に際し、シリル化剤と
して（Ｍｅ）ｓｓｉｃｔを用いた場合、反応は進行しな
かったが、トリメチルシリル） リフラード（（Ｍｅ）
ｓｓｉＯＴｆ）を用いると、次のように目的とするシリ
ルケテンアセタール？を収率良く（例えば、１９Ｆ Ｎ
Ｍ Ｒ収率で９２チ）得るととができた。
ＣＦ３ＣＨｚＣＯ２Ｍｅ
１
ヱ
このように、シリルケテンアセタール？を高収率で得ら
れたことは注目すべきである。 何故なら、普通のエス
テルを出発物質とする場合には（Ｍｅ）ａＳｉＯＴｆ／
（Ｅｔ）３Ｎ系を用いると、α−トリメチルシリルエス
テルが副生じてくるからである。 実際、プロピオン酸
メチルエステルを用いると、α−トリメチルシリルエス
テルが主生成物となることが確認されている。 しかし
、本発明の如く、出発物質のエステルのα位に電子吸引
性の強いＣＦ３基を有するものを用いると、上記のよう
に反応が進行することが分ったのである。
れたことは注目すべきである。 何故なら、普通のエス
テルを出発物質とする場合には（Ｍｅ）ａＳｉＯＴｆ／
（Ｅｔ）３Ｎ系を用いると、α−トリメチルシリルエス
テルが副生じてくるからである。 実際、プロピオン酸
メチルエステルを用いると、α−トリメチルシリルエス
テルが主生成物となることが確認されている。 しかし
、本発明の如く、出発物質のエステルのα位に電子吸引
性の強いＣＦ３基を有するものを用いると、上記のよう
に反応が進行することが分ったのである。
一方、分別蒸留によって、アセタールＺの単離を試みた
。 しかし、加熱すると、Ｚは次のよう □に
原料の１とジフルオロアクリル酸エステル旦に変化して
しまう。
。 しかし、加熱すると、Ｚは次のよう □に
原料の１とジフルオロアクリル酸エステル旦に変化して
しまう。
旦
そこで、熱をかけずに減圧下で蒸留を行なったところ、
塩化メチレン中に収率８６チと高収率でアセタール？を
得ることができた。
塩化メチレン中に収率８６チと高収率でアセタール？を
得ることができた。
によシ確認した。 また、その幾何異性体比はＥ／Ｚ＝
１：４であるととを確認した。
１：４であるととを確認した。
次に、上記の如くに得られたアセタールＺを、ＣＦ３基
の消失することのないルイス酸性条件下で、種々の炭素
来電子種（求電子試薬）と反応させることができ、α−
トリフルオロメチルエステル類等の有用な合成ブロック
となυ得るととが分った（但、Ｅは来電子種）。
の消失することのないルイス酸性条件下で、種々の炭素
来電子種（求電子試薬）と反応させることができ、α−
トリフルオロメチルエステル類等の有用な合成ブロック
となυ得るととが分った（但、Ｅは来電子種）。
／Ｉ／１スＹ
との反応は、上記ヱを得る反応系においてｉｎ ５ｉ
ｔｕ （溶媒をとシ出すことなくそのまま）に生成した
Ｚに対し引続いて行なわせることかできる。 例えば、
？に対し、プロピオン酸塩化物（ＣＨｓＣＨｚＣＯＣ２
） を作用させたところ、対応するα−トリフルオロ
メチル−β−ケトエステル盗が単離収率５４％で得られ
る。
ｔｕ （溶媒をとシ出すことなくそのまま）に生成した
Ｚに対し引続いて行なわせることかできる。 例えば、
？に対し、プロピオン酸塩化物（ＣＨｓＣＨｚＣＯＣ２
） を作用させたところ、対応するα−トリフルオロ
メチル−β−ケトエステル盗が単離収率５４％で得られ
る。
盗
また、アセタール２にアルドール型反応を適用すること
によって、α−トリフルオロメチル−カルボン酸エステ
ル旦が次の如くに合成できることが分った。
によって、α−トリフルオロメチル−カルボン酸エステ
ル旦が次の如くに合成できることが分った。
旦
即ち、？がＦ−を脱離し易いことを考慮して、トリメチ
ルシリルトリフラート（（Ｍｅ）３ＳｉＯＴｆ）を触媒
とするアセタール類とのアルドール型反応を行なうに際
し、１に対し１．２当量の（Ｍｅ）３ＳｉＯＴｆを作用
させ、？をｉｎ ５ｉｔｕに生成させた後、との系を一
７８℃にし、これに種々のアセタールを加えた。 反応
は数時間で完了し、高収率に対応するアルドール付加体
旦を得た。 得られたアルドール付加体を下記表−１に
まとめて示した。 これらの反応では、−例を除いて低
いジアステレオ選択性しかみられなかった。
ルシリルトリフラート（（Ｍｅ）３ＳｉＯＴｆ）を触媒
とするアセタール類とのアルドール型反応を行なうに際
し、１に対し１．２当量の（Ｍｅ）３ＳｉＯＴｆを作用
させ、？をｉｎ ５ｉｔｕに生成させた後、との系を一
７８℃にし、これに種々のアセタールを加えた。 反応
は数時間で完了し、高収率に対応するアルドール付加体
旦を得た。 得られたアルドール付加体を下記表−１に
まとめて示した。 これらの反応では、−例を除いて低
いジアステレオ選択性しかみられなかった。
（以下余白、次頁へ続く。）
なお、上記試料５のエリトロ体は、抗生物質オーデマン
シｙ （Ｏｎｄｅｍａｎｓｉｎ）合成の中間体のトリフ
ルオロ体であシ、従ってトリフルオロオーデマンシンの
合成が可能であると期待される。
シｙ （Ｏｎｄｅｍａｎｓｉｎ）合成の中間体のトリフ
ルオロ体であシ、従ってトリフルオロオーデマンシンの
合成が可能であると期待される。
これは、次式で表わせる。
Ｆ３
また、上記試料７でみられる如＜、２とベンズアルデヒ
ドとのアルドール反応で、対応するβ−ヒドロキシ−α
−トリフルオロメチルエステルが高収率で得られること
も確められている。
ドとのアルドール反応で、対応するβ−ヒドロキシ−α
−トリフルオロメチルエステルが高収率で得られること
も確められている。
上記した如く、アセタールヱは種々の反応中間体として
有用であるが、ここにそれらをまとめて示す。
有用であるが、ここにそれらをまとめて示す。
次に、具体的な実施例を説明する。
実施例
ＯＦＩＢ−ＭｅＯＨ付加体２３２ｆ （１，０ｍｏｔ）
にゆりくシと濃硫酸２００−を滴下し、室温で一晩攪拌
した。氷の上にあけ、油層を分離した後、水、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。蒸留によシ精製し、２−（トリフルオロメチ
ル）−３，３，３−）リフルオロプロピオン酸メチルを
得た。（１８３，９４＋Ｐ、８８％）この分析データを
次に示す。
にゆりくシと濃硫酸２００−を滴下し、室温で一晩攪拌
した。氷の上にあけ、油層を分離した後、水、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。蒸留によシ精製し、２−（トリフルオロメチ
ル）−３，３，３−）リフルオロプロピオン酸メチルを
得た。（１８３，９４＋Ｐ、８８％）この分析データを
次に示す。
ｂｐ ： ８９ 〜９０°Ｃ
Ｆ −ＮＭＲ（Ｔｌ ｅ ａ ｔ） ：δ−１２，５（
ｄ 、 Ｊ＝６．２Ｈｚ）３．３．３−１リフルオロプ
ロピオン酸メチルＴＦＰＥ上記で得た２−（）リフルオ
ロメチル）−３，３゜３−トリフルオロプロピオン酸メ
チル１０５ ｆ （０，５ｍｏｔ）、水２５０＋＋＋Ｊ
に、酢酸カリウム１５０ ？ （１，５ｍｏｔ）、水
５００＋＋＋／ を滴下し、５時間還流した。油層を分
離した後、水層を塩化メチレンで抽出し、両者をいっし
ょにして乾燥した。常圧で塩化メチレン留去後、蒸留に
よシ精製して、３ ｒ ３ ＋ ３ ） ！Ｊフルオ
ロプロピオン酸メチル（Ｔ Ｆ Ｐ Ｅ）を得た。
ｄ 、 Ｊ＝６．２Ｈｚ）３．３．３−１リフルオロプ
ロピオン酸メチルＴＦＰＥ上記で得た２−（）リフルオ
ロメチル）−３，３゜３−トリフルオロプロピオン酸メ
チル１０５ ｆ （０，５ｍｏｔ）、水２５０＋＋＋Ｊ
に、酢酸カリウム１５０ ？ （１，５ｍｏｔ）、水
５００＋＋＋／ を滴下し、５時間還流した。油層を分
離した後、水層を塩化メチレンで抽出し、両者をいっし
ょにして乾燥した。常圧で塩化メチレン留去後、蒸留に
よシ精製して、３ ｒ ３ ＋ ３ ） ！Ｊフルオ
ロプロピオン酸メチル（Ｔ Ｆ Ｐ Ｅ）を得た。
（５４，０７Ｆ、７６％）この分析データは次の如くで
あった。
あった。
ｂｐ ： ９５〜９５．５°Ｃ
ＩＲ（ｃａｐｉｌｌａｒｙ ｆｉｌｍ）： ２９７０，
１７６０，１４４０，１２３０．１１２（ｋＷ”ＨＮＭ
Ｒ（ＣＣ１４）：δ３．１３（Ｊ、Ｊ＝１０．３Ｈｚ、
２）（）、３．７７（Ｊ、３Ｈ）１９Ｆ −ＮＭＲ（ｎ
ｅａｔ） ：δ−１２，７（ｔ 、 Ｊ＝１０．
３ＨＫ）トリフルオロメチルシ】ルケーン セ −ル榔 トリメチルシリルトリフラート１．ＯＯｍ （５，５ｍ
ｍ ｏ ｔ）、トリエチルアミン０．７７ｆｎｌ（５，
５ｍｍｏｔ）、乾燥塩化メチレン３−中に、２２）で得
たＴＦＰＥｏ、７１？（５ｍｍｏｔ）、塩化メチレン３
’ｍｌを滴下し、室温で１８時間攪拌した。−９０℃の
トラップをつけ、室温／２ｍｍＨｒでフラッシュ蒸留を
行ない、塩化メチレン溶液の１− （）リメチルシロキ
シ）−１−メトキシ−３，３，３−トリフルオロ−１−
プロペンを得た。（Ｙ、８６％）この分析データは次の
通シであった。
１７６０，１４４０，１２３０．１１２（ｋＷ”ＨＮＭ
Ｒ（ＣＣ１４）：δ３．１３（Ｊ、Ｊ＝１０．３Ｈｚ、
２）（）、３．７７（Ｊ、３Ｈ）１９Ｆ −ＮＭＲ（ｎ
ｅａｔ） ：δ−１２，７（ｔ 、 Ｊ＝１０．
３ＨＫ）トリフルオロメチルシ】ルケーン セ −ル榔 トリメチルシリルトリフラート１．ＯＯｍ （５，５ｍ
ｍ ｏ ｔ）、トリエチルアミン０．７７ｆｎｌ（５，
５ｍｍｏｔ）、乾燥塩化メチレン３−中に、２２）で得
たＴＦＰＥｏ、７１？（５ｍｍｏｔ）、塩化メチレン３
’ｍｌを滴下し、室温で１８時間攪拌した。−９０℃の
トラップをつけ、室温／２ｍｍＨｒでフラッシュ蒸留を
行ない、塩化メチレン溶液の１− （）リメチルシロキ
シ）−１−メトキシ−３，３，３−トリフルオロ−１−
プロペンを得た。（Ｙ、８６％）この分析データは次の
通シであった。
旦生
”ＨＮＭＲ（ＣＤＣ４３）：δ０．３２（ｇ、 ９Ｈ）
、３．６７（友、３Ｈ）、３．９０ （＃、Ｊ＝７．６
Ｈ３，ＩＨ）１９Ｆ −ＮＭＲ（ＣＤＣ４ｓ） ：δ−
２３，９（ｄ 、 Ｊ＝７．６’Ｈｚ）Ｌ生 ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ４ｓ）：δ０．２４ （ｇ、９Ｈ
）、３．６１ （ｓ、 ３Ｈ）、３．９６ （ｙ、Ｊ＝
７．１Ｈｚ、ＩＨ）１９Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣ４３）
：δ−２４，２（ｄ 、 Ｊ＝７．１Ｈｚ）収率は、フ
ルオロベンゼンを標準物質とし、１９Ｆ−ＮＭＲによシ
測定した。
、３．６７（友、３Ｈ）、３．９０ （＃、Ｊ＝７．６
Ｈ３，ＩＨ）１９Ｆ −ＮＭＲ（ＣＤＣ４ｓ） ：δ−
２３，９（ｄ 、 Ｊ＝７．６’Ｈｚ）Ｌ生 ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ４ｓ）：δ０．２４ （ｇ、９Ｈ
）、３．６１ （ｓ、 ３Ｈ）、３．９６ （ｙ、Ｊ＝
７．１Ｈｚ、ＩＨ）１９Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣ４３）
：δ−２４，２（ｄ 、 Ｊ＝７．１Ｈｚ）収率は、フ
ルオロベンゼンを標準物質とし、１９Ｆ−ＮＭＲによシ
測定した。
Ｅ／Ｚ比は、”Ｆ−ＮＭＲによって決定した。
代理人 弁理士 逢 坂 宏（他１名）（ｔａ
−８６５−（命令） 手続？甫正書（方
式） ％式％ １、事件の表示 昭和５８年 特 許 廓第３８７８８号２、発明の名
称 フルオロアルキルシリルケテンアセタール及びその製造
方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府大阪市北区梅田１丁目１２番３９号新版
惣ビル 名 称 （２８５）ダイキン工業株式会社４、代理人 す。 −以上一
（自発）手Ｕ５ネ市ｊＥ」η： 特許庁長官 若杉和夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年 特 許 別箇３８７８８号２、発明の名
称 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 （２８５）ダイキン工業株式会社４、代理人 住 所 東京都立川市柴崎町３−９−１７鈴木ビル２階
６、補正により増加する発明の数 ７、補正の対象 ８、補正の内容 （１）、特許請求の範囲を別紙の通りに訂正します。
−８６５−（命令） 手続？甫正書（方
式） ％式％ １、事件の表示 昭和５８年 特 許 廓第３８７８８号２、発明の名
称 フルオロアルキルシリルケテンアセタール及びその製造
方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府大阪市北区梅田１丁目１２番３９号新版
惣ビル 名 称 （２８５）ダイキン工業株式会社４、代理人 す。 −以上一
（自発）手Ｕ５ネ市ｊＥ」η： 特許庁長官 若杉和夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年 特 許 別箇３８７８８号２、発明の名
称 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 （２８５）ダイキン工業株式会社４、代理人 住 所 東京都立川市柴崎町３−９−１７鈴木ビル２階
６、補正により増加する発明の数 ７、補正の対象 ８、補正の内容 （１）、特許請求の範囲を別紙の通りに訂正します。
（２）、明細書第３頁６行目の「１．産業上の利用分野
」を削除します。
」を削除します。
（３）、同第３頁１１行目の「２．従来技術」を削除し
ます。
ます。
（４）、同第３頁１４行目の「一般的」を削除します。
（５）、同第３頁下から３行目の「３９発明の目的」を
削除します。
削除します。
（６）、同第４頁５行目の「４０発明の構成」を削除し
ます。
ます。
（７）、同第５真下から３行目のｒ−Ｃ，Ｆ、Ｊをｒ−
Ｃ，Ｆ、Ｊと訂正します。
Ｃ，Ｆ、Ｊと訂正します。
（８）、同第５頁末行のｒ −Ｃ，Ｔ（、Ｊをｒ −Ｃ
，Ｈ，Ｊと訂正しまず。
，Ｈ，Ｊと訂正しまず。
（９）、同第５頁末行と第６頁１行目との間に下記の記
載を加入します。
載を加入します。
記
「本発明の製造方法においては、使用する溶媒は（２）
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の非プロトン
性極性溶媒とするのが望ましい。」（１０） 、同第６
頁１行目の「５．実施例」を削除します。
性極性溶媒とするのが望ましい。」（１０） 、同第６
頁１行目の「５．実施例」を削除します。
（１１） 、同第６頁３行目〜１４行目の［まず・・・
・・・進行しなかったが、」を「下記の如く、３． ３
． ３−トリフルオロプロピオン酸エステル工からエノ
ラート等価体であるトリフルオロメチルシリルケテンア
セタール１の合成に際し、」と訂正します。
・・・進行しなかったが、」を「下記の如く、３． ３
． ３−トリフルオロプロピオン酸エステル工からエノ
ラート等価体であるトリフルオロメチルシリルケテンア
セタール１の合成に際し、」と訂正します。
（１２） 、同第７頁下から４行目〜第８頁５行目の「
一方・・・・・・できた。」を削除します。
一方・・・・・・できた。」を削除します。
（１３） 、同第８頁１０行目のｒ ＣＦ、基の消失す
ることのない」を削除しまず。
ることのない」を削除しまず。
（１４） 、同第９頁２行目のｒｉｎｓＨｕ・・・・・
・そのまま」を［溶媒をとり出すことなくそのまま（ｉ
ｎ ５ｉｔｕ ） Ｊと訂正します。
・そのまま」を［溶媒をとり出すことなくそのまま（ｉ
ｎ ５ｉｔｕ ） Ｊと訂正します。
（１５） 、同第１２頁７行口の「＾ｒｎｓｔ−Ｅｉｓ
ｔｅｒｔ反応」を「アルントーアイシュテルト反応」と
訂正します。
ｔｅｒｔ反応」を「アルントーアイシュテルト反応」と
訂正します。
（１６）、同第１２頁８行口のｒＬ’Ｄ’ＡＪを「リチ
ウ（３） ムＮ、Ｎ−ジイソプロピルアミド」と訂正します。
ウ（３） ムＮ、Ｎ−ジイソプロピルアミド」と訂正します。
−以 上−
（４）
特許請求の範囲
■、一般式：
（但、Ｒ７はフルオロアルキル基、Ｒ及びＲ′は同−又
は異なるアルキル基である。） で表わされることを特徴とするフルオロアルキルシリル
ケテンアセクール。
は異なるアルキル基である。） で表わされることを特徴とするフルオロアルキルシリル
ケテンアセクール。
２、Ｒ１が炭素原子数１〜１０のフルオロアルキル基で
ある、特許請求の範囲第１項に記載したアセタール。
ある、特許請求の範囲第１項に記載したアセタール。
３、Ｒ，Ｉ’？’が炭素原子数１〜１ｏのアルキル基で
ある、特許請求の範囲第１項に記載したアセタール。
ある、特許請求の範囲第１項に記載したアセタール。
４、一般式：
％式％
（但、Ｒ１はフルオロアルキル基、Ｒ′はアルキル基で
ある。） で表わされるフルオロエステルと、 一般式： （１） ％式％ （但、Ｒはアルキル基、’Ｑはトリフルオロメタンスル
ホニル基である。） で表わされるシリル化剤とを反応させ、一般式： （但、Ｒ１、Ｒ，Ｒ’は前記したものと同じであり、Ｒ
及びＲ′は同一であってよいし或いは異なっていてもよ
い。） で表わされるフルオロアルキルシリルケテンアセクール
ヲ得ることを特徴とするフルオロアルキルシリルケテン
アセクールの製造方法。
ある。） で表わされるフルオロエステルと、 一般式： （１） ％式％ （但、Ｒはアルキル基、’Ｑはトリフルオロメタンスル
ホニル基である。） で表わされるシリル化剤とを反応させ、一般式： （但、Ｒ１、Ｒ，Ｒ’は前記したものと同じであり、Ｒ
及びＲ′は同一であってよいし或いは異なっていてもよ
い。） で表わされるフルオロアルキルシリルケテンアセクール
ヲ得ることを特徴とするフルオロアルキルシリルケテン
アセクールの製造方法。
５、Ｒ１を炭素原子数１〜１０のフルオロアルキル基、
Ｒ′を炭素原子数１〜１０のアルキル基とする、特許請
求の範囲第４項に記載した方法。
Ｒ′を炭素原子数１〜１０のアルキル基とする、特許請
求の範囲第４項に記載した方法。
６、Ｒを炭素原子数１〜１０のアルキル基とする、特許
請求の範囲第４項に記載した方法。
請求の範囲第４項に記載した方法。
（２）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式： （但、Ｒ７はフルオロアルキル基、Ｒ及びＲ′は同−又
は異なるアルキル基である。）で表わされることを特徴
とするフルオロアルキルシリルケテンアセタール。 ２、 Ｒ，が炭素原子数１〜１０のフルオロアルキル
基である、特許請求の範囲の第１項に記載したアセター
ル。 ３、 Ｒ，Ｒ’が炭素原子数１〜１０のアルキル基で
ある、特許請求の範囲の第１項又は第２項に記載したア
セタール。 ４、一般式： ％式％ （但、Ｒｆはフルオロアルキル基、Ｒ′はアルキル基で
ある。） で表わされるフルオロエステルと、 一般式： ％式％ （但、Ｒはアルキル基、Ｔｆはトリフルオロメタンスル
ホニル基でアル。） で表わされるシリル化剤とを反応させ、一般式： （但、Ｒ，Ｒ，Ｒ’は前記したものと同じであり、Ｒ及
びＲ′は同一であってよいし或いは異なっていてもよい
。） テ表ワサレるフルオロアルキルシリルケテンアセタール
を得ることを特徴とするフルオロアルキルシリルケテン
アセタールの製造方法。 ５、 Ｒｆを炭素原子数１〜１ｏのフルオロアルキル
基、Ｒ′を炭素原子数１〜１ｏのアルキル基とする、特
許請求の範囲の第４項に記載した方法。 ６． Ｒを炭素原子数１〜１０のアルキル基とする、
特許請求の範囲の第４項又は第５項に記載した方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58038788A JPS59164794A (ja) | 1983-03-09 | 1983-03-09 | フルオロアルキルシリルケテンアセタ−ル及びその製造方法 |
| EP84102513A EP0118889B1 (en) | 1983-03-09 | 1984-03-08 | Fluoroalkyl silyl ketene acetals and a process for preparing the same |
| DE8484102513T DE3474826D1 (en) | 1983-03-09 | 1984-03-08 | Fluoroalkyl silyl ketene acetals and a process for preparing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58038788A JPS59164794A (ja) | 1983-03-09 | 1983-03-09 | フルオロアルキルシリルケテンアセタ−ル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59164794A true JPS59164794A (ja) | 1984-09-17 |
| JPS6311356B2 JPS6311356B2 (ja) | 1988-03-14 |
Family
ID=12535039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58038788A Granted JPS59164794A (ja) | 1983-03-09 | 1983-03-09 | フルオロアルキルシリルケテンアセタ−ル及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0118889B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59164794A (ja) |
| DE (1) | DE3474826D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006069998A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Kanto Denka Kogyo Co Ltd | ケテンシリルアセタールの製造方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1224240A (en) * | 1984-12-24 | 1987-07-14 | Andrzej Maczuszenko | Ion generator structure |
| US4893438A (en) * | 1988-09-06 | 1990-01-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fan folded abrasive discs |
| JPH0329775A (ja) * | 1989-06-21 | 1991-02-07 | Marubeni Corp | 低温輸送用ボックス |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1668365A1 (de) * | 1967-07-15 | 1971-05-06 | Merck Patent Gmbh | Keten-trialkylsilyl-acetale und Verfahren zu ihrer Herstellung |
-
1983
- 1983-03-09 JP JP58038788A patent/JPS59164794A/ja active Granted
-
1984
- 1984-03-08 DE DE8484102513T patent/DE3474826D1/de not_active Expired
- 1984-03-08 EP EP84102513A patent/EP0118889B1/en not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006069998A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Kanto Denka Kogyo Co Ltd | ケテンシリルアセタールの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0118889B1 (en) | 1988-10-26 |
| EP0118889A3 (en) | 1985-09-11 |
| DE3474826D1 (en) | 1988-12-01 |
| EP0118889A2 (en) | 1984-09-19 |
| JPS6311356B2 (ja) | 1988-03-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4482729A (en) | Fluoroalkyl silyl ketene acetals and a process for preparing the same | |
| JPS6311356B2 (ja) | ||
| JP2667135B2 (ja) | ジイソピノカンフェイルクロロボランのインシトゥー製造 | |
| US4582924A (en) | α-Fluoroalkyl carboxylic acid esters and process for preparing the same | |
| JP7250738B2 (ja) | ３，３－ジメチル－１－ブテン－１，４－ジカルボキシレート化合物及び１，３，３－トリメチル－１－ブテン－１，４－ジカルボキシレート化合物、並びに、これらを用いた５，５－ジメチル－２－オキソ－３－シクロペンテン－１－カルボキシレート化合物及び３，５，５－トリメチル－２－オキソ－３－シクロペンテン－１－カルボキシレート化合物の製造方法 | |
| JPS631935B2 (ja) | ||
| JP7825591B2 (ja) | １－ハロ－２，６，１４－トリメチルオクタデカン化合物、並びにそれを用いた５，１３，１７－トリメチルアルカン化合物の製造方法 | |
| JPS6411620B2 (ja) | ||
| JPS59164754A (ja) | α−フルオロアルキルエステル及びその製造方法 | |
| JP4825947B2 (ja) | 不飽和アミノジオール類の製造方法 | |
| JP2860506B2 (ja) | ハロゲノアリルアルコール誘導体 | |
| JP2765575B2 (ja) | 置換シクロペンテノン及び置換シクロヘキセノン誘導体の製造法 | |
| JPH0347272B2 (ja) | ||
| JPS588372B2 (ja) | 光学活性β−置換アルデヒド化合物の製造方法 | |
| JPS59164753A (ja) | α−フルオロアルキル−β−アルコキシ（又はヒドロキシ）−エステル及びその製造方法 | |
| JPS6334143B2 (ja) | ||
| JP5170987B2 (ja) | 新規な含フッ素不飽和シリルエーテル化合物及び該化合物を中間体とする含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法 | |
| JP2003113189A (ja) | シクロペンタベンゾフラン誘導体の製造方法及びその製造原料となる新規化合物 | |
| JPH0465065B2 (ja) | ||
| JP4022413B2 (ja) | パーフルオロアルキルアクリル酸多量体および多量体組成物ならびにそれらの製造方法 | |
| JP2893883B2 (ja) | アセチレンジカルボン酸エステルの製造方法 | |
| CN101519353B (zh) | 一种合成E-α-乙炔基-α,β-不饱和羧酸甲酯的方法 | |
| JP2002114749A (ja) | 光学活性２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオニトリル誘導体の製造法 | |
| WO2006049211A1 (ja) | ２－アリール－２－フルオロアルカン酸及びそのエステル並びにそれらの製造方法 | |
| JPH0651676B2 (ja) | （５ｅ）−プロスタグランジンｅ▲下２▼類の製造法 |