JPS5930248A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS5930248A JPS5930248A JP13973882A JP13973882A JPS5930248A JP S5930248 A JPS5930248 A JP S5930248A JP 13973882 A JP13973882 A JP 13973882A JP 13973882 A JP13973882 A JP 13973882A JP S5930248 A JPS5930248 A JP S5930248A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空蒸着又はイオンプレティングの如き、所謂
非塗布型の磁気記録媒体の製造方法に関する。特に本発
明は強磁性材料と非磁性材料を用いる2元共蒸着による
非塗布型磁気記録媒体の11造方法に関する。
非塗布型の磁気記録媒体の製造方法に関する。特に本発
明は強磁性材料と非磁性材料を用いる2元共蒸着による
非塗布型磁気記録媒体の11造方法に関する。
従来の磁気記録媒体の多くは、一般に塗布型と称されて
いるものに属し、通常、非磁性支持体上に、γ−Fe2
03.GOをドープしたγ−F e 203 #Fe3
O4,C○をドープしたFe3O4,γ−B′e203
とFe Oのベルトライド化合物、Co をド−プ
し4 たベルトライド化合物、G ro 2等の酸化物磁性粉
末あるいはF、’e、 Ni、 Co等を主成分とする
合金磁性粉末等から成る磁性体粉末;を塩化ビニル酢酸
ビニル共重合体、スチレンブタジェン共重合体、エポキ
シ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バインダー中に分散
して成る塗液な塗着、乾燥して磁性膜を形成する製造方
法及び装置によって生産されたものである。
いるものに属し、通常、非磁性支持体上に、γ−Fe2
03.GOをドープしたγ−F e 203 #Fe3
O4,C○をドープしたFe3O4,γ−B′e203
とFe Oのベルトライド化合物、Co をド−プ
し4 たベルトライド化合物、G ro 2等の酸化物磁性粉
末あるいはF、’e、 Ni、 Co等を主成分とする
合金磁性粉末等から成る磁性体粉末;を塩化ビニル酢酸
ビニル共重合体、スチレンブタジェン共重合体、エポキ
シ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バインダー中に分散
して成る塗液な塗着、乾燥して磁性膜を形成する製造方
法及び装置によって生産されたものである。
近年、記録すべき情報量の増加に伴い、高密度記録に適
する磁気記録媒体の実用化が一層強く望まれるに至り、
前述したバインダーを使用せずに、真空蒸着、スパッタ
リング、イオンブレーティング、等の方法により強磁性
金属薄膜を前記支持体上に形成した、所謂、非塗布型磁
気記録媒体が着目され、その開発、研究の推進に伴って
、実用化のための諸提案がなされつつある。
する磁気記録媒体の実用化が一層強く望まれるに至り、
前述したバインダーを使用せずに、真空蒸着、スパッタ
リング、イオンブレーティング、等の方法により強磁性
金属薄膜を前記支持体上に形成した、所謂、非塗布型磁
気記録媒体が着目され、その開発、研究の推進に伴って
、実用化のための諸提案がなされつつある。
非塗布型磁気記録体の強磁性金属薄膜の材料としてはG
o−Or系合金及びFe−0r系合金が主として用いら
れ、特にGo−Or系合金は最近、高密度記録の点で注
目され始めている垂直磁化型磁気記録媒体の材料として
用いられている。
o−Or系合金及びFe−0r系合金が主として用いら
れ、特にGo−Or系合金は最近、高密度記録の点で注
目され始めている垂直磁化型磁気記録媒体の材料として
用いられている。
−このようなGo−(3r系又はFe−0r系の磁性合
金簿膜層の形成は、Go−Car系合金又はFe−0r
系合金を蒸発源とするか、強磁性材料であるCOと非磁
性材料であるOr か、同Fe とOr を蒸発源と
しく2元共蒸着)、上記の真空蒸着、スパッタリング又
はイオンブレーティング等によって行っている。
金簿膜層の形成は、Go−Car系合金又はFe−0r
系合金を蒸発源とするか、強磁性材料であるCOと非磁
性材料であるOr か、同Fe とOr を蒸発源と
しく2元共蒸着)、上記の真空蒸着、スパッタリング又
はイオンブレーティング等によって行っている。
上記の中でスパッタリング法によるときは形成される磁
性合金薄膜の組成がほぼ一定しているが、膜形成速度が
小であり、真空蒸着法やイオンブレーティング法による
ときは膜形成速度は犬であるが、以下に述べるように形
成される膜の組成ずれが犬となる欠点がある。
性合金薄膜の組成がほぼ一定しているが、膜形成速度が
小であり、真空蒸着法やイオンブレーティング法による
ときは膜形成速度は犬であるが、以下に述べるように形
成される膜の組成ずれが犬となる欠点がある。
すなわち、真空蒸着やイオンブレーティングにおいては
、蒸着源を真空中で例えば電子ビーム加熱方式によって
加熱、蒸発させるのであるが、この場合、例えばGo−
Or系合金薄膜を形成するのにGo−Car合金を蒸発
源に用いると、GOに較べてOrの蒸発速度が早いので
、形成される金属薄膜の組成が次第に変化して(る。従
って、このような系で組成を一定に保つには、適量のO
r を當時補給する等の面倒な操作を必要とする。また
、COとOr を別々の蒸発源として用いる場合(2元
共蒸着)にはGoは融解して蒸発するがcrは昇華性を
示し、蒸着中に蒸発面の形状が変化し、Grの蒸着速度
が変り、形成される金属膜のGo とOrの組成が変
ってくる。上記の問題はFe−Cr系蒸着膜を形成する
場合にも全(同様である。
、蒸着源を真空中で例えば電子ビーム加熱方式によって
加熱、蒸発させるのであるが、この場合、例えばGo−
Or系合金薄膜を形成するのにGo−Car合金を蒸発
源に用いると、GOに較べてOrの蒸発速度が早いので
、形成される金属薄膜の組成が次第に変化して(る。従
って、このような系で組成を一定に保つには、適量のO
r を當時補給する等の面倒な操作を必要とする。また
、COとOr を別々の蒸発源として用いる場合(2元
共蒸着)にはGoは融解して蒸発するがcrは昇華性を
示し、蒸着中に蒸発面の形状が変化し、Grの蒸着速度
が変り、形成される金属膜のGo とOrの組成が変
ってくる。上記の問題はFe−Cr系蒸着膜を形成する
場合にも全(同様である。
すなわち、従来の2元蒸着方式には次のような方式が用
いられている。
いられている。
第1図は従来法による2元共蒸着合金薄膜製造方式の1
例を示す略図であって、10〜110−6To程度の真
空に保たれたケーシングS内で円筒状ドラム1に支持搬
送されている可撓性非磁性支持体2の下方に配設された
高融点材料のハース又はるつぼ内に収められた蒸発源6
を、自己加速型電子銃5かもの電子ビームにより加熱蒸
発させ、蒸気流をマスク16.16間を通って支持体2
上に蒸着させる。この方式において、第2図に正面図と
して示すように、GOの如き強磁性材料6とOr の如
き非磁性側斜4をるつぼ内で支持体の幅方向に交互に隔
離して並べ一台の電子銃からの電子ビームをるつぼ上で
往復するように走査しつつ、各材料を加熱蒸発させてい
る。
例を示す略図であって、10〜110−6To程度の真
空に保たれたケーシングS内で円筒状ドラム1に支持搬
送されている可撓性非磁性支持体2の下方に配設された
高融点材料のハース又はるつぼ内に収められた蒸発源6
を、自己加速型電子銃5かもの電子ビームにより加熱蒸
発させ、蒸気流をマスク16.16間を通って支持体2
上に蒸着させる。この方式において、第2図に正面図と
して示すように、GOの如き強磁性材料6とOr の如
き非磁性側斜4をるつぼ内で支持体の幅方向に交互に隔
離して並べ一台の電子銃からの電子ビームをるつぼ上で
往復するように走査しつつ、各材料を加熱蒸発させてい
る。
この方法では、薄膜の深さ方向で一様な元素分布が得ら
れるが、前記したように、強磁性材料と非磁性材料の蒸
発速度の差があるために、両者の組成が時間と共に変り
、支持体の長手方向において均質な薄膜を作り難い欠点
がある。又、電子ビームの走査によりるつぼの損傷が避
けられない。
れるが、前記したように、強磁性材料と非磁性材料の蒸
発速度の差があるために、両者の組成が時間と共に変り
、支持体の長手方向において均質な薄膜を作り難い欠点
がある。又、電子ビームの走査によりるつぼの損傷が避
けられない。
第6図は従来法による2元共蒸着合金薄膜製造方式の他
の例を示す略図であって、前記と同様に高真璧に保たれ
たケーシングS1 内で円筒状ドラム11に支持搬送
されている支持体12の下方に強磁性側斜16を収容し
たるつぼと非磁性材料14を収容したるつぼを支持体の
搬送方向に対して前後して配置しである。るつぼは第4
図に示すように支持体の巾方向に伸びる舟形をなしてい
る。
の例を示す略図であって、前記と同様に高真璧に保たれ
たケーシングS1 内で円筒状ドラム11に支持搬送
されている支持体12の下方に強磁性側斜16を収容し
たるつぼと非磁性材料14を収容したるつぼを支持体の
搬送方向に対して前後して配置しである。るつぼは第4
図に示すように支持体の巾方向に伸びる舟形をなしてい
る。
一台の自己加速型電子銃15かもの電子ビームによって
画然発源を交互に走査し、各材料を加熱蒸発させ各蒸気
流をマスク16,160間を通って支持体に蒸着させて
いる。この方式においても電子ビームが走査時にるつぼ
に当たるのでるつばの損傷を生じ又、前記したと同様に
強磁性材料と非磁性材料の蒸発速度の差があるために長
手方向に均一な組成の合金薄膜が得られない欠点がある
。
画然発源を交互に走査し、各材料を加熱蒸発させ各蒸気
流をマスク16,160間を通って支持体に蒸着させて
いる。この方式においても電子ビームが走査時にるつぼ
に当たるのでるつばの損傷を生じ又、前記したと同様に
強磁性材料と非磁性材料の蒸発速度の差があるために長
手方向に均一な組成の合金薄膜が得られない欠点がある
。
従って、本発明の目的は膜形成速度が大きい真空蒸着法
又はイオンブレーティング法により安定した組成のco
、 Fe、 Ni等の如き強磁性材料とOr、 Si、
On、 Ti等の非磁性材料を主成分とする磁性合金
薄膜を形成できる磁気記録媒体の製造方法を提供するに
ある。
又はイオンブレーティング法により安定した組成のco
、 Fe、 Ni等の如き強磁性材料とOr、 Si、
On、 Ti等の非磁性材料を主成分とする磁性合金
薄膜を形成できる磁気記録媒体の製造方法を提供するに
ある。
本発明の他の目的は二元共蒸着法によって長手方向に均
一な特性を有し、厚さ方向で強磁性材料と非磁性材料と
分布を異にするような合金薄膜型磁気記録媒体の製造方
法を提供するにある。
一な特性を有し、厚さ方向で強磁性材料と非磁性材料と
分布を異にするような合金薄膜型磁気記録媒体の製造方
法を提供するにある。
本発明の目的は以下にのべる本発明によって達成される
。
。
すなわち本発明は、可撓性非磁性支持体を円筒状ドラム
に沿って搬送させつつ、該ドラムの下方に配置した強磁
性材料の蒸発源及び非磁性材料の蒸発源から強磁性材料
と非磁性材料を同時に加熱蒸発させ、それらの蒸気流を
該支持体に差し向けて合金薄膜を形成させることからな
る磁気記録媒体の製造方法において、上記2種の蒸発源
を支持体の搬送方向に対して前後になるように配置し、
それぞれの蒸発源に対して別々に設けられた自己加速型
電子銃によって各蒸発源を加熱蒸発させ、それぞれの蒸
気流を該支持体に差し向けることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法である。
に沿って搬送させつつ、該ドラムの下方に配置した強磁
性材料の蒸発源及び非磁性材料の蒸発源から強磁性材料
と非磁性材料を同時に加熱蒸発させ、それらの蒸気流を
該支持体に差し向けて合金薄膜を形成させることからな
る磁気記録媒体の製造方法において、上記2種の蒸発源
を支持体の搬送方向に対して前後になるように配置し、
それぞれの蒸発源に対して別々に設けられた自己加速型
電子銃によって各蒸発源を加熱蒸発させ、それぞれの蒸
気流を該支持体に差し向けることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法である。
以下、本発明を図面を参照しつつ説明する。
第5図は本発明方法を実施するに珀いる真空蒸着装置の
1例を示すもので、10〜10 程度の真空に保持され
たケーシングS2 内で円筒状ドラム21によって可撓
性非磁性支持体22が支持搬送されている。
1例を示すもので、10〜10 程度の真空に保持され
たケーシングS2 内で円筒状ドラム21によって可撓
性非磁性支持体22が支持搬送されている。
本発明で用いられる非磁性支持体としては、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化
ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエ
チレンナフタレート等の如きプラスチンクベースが好ま
しいが、All、 On。
ンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化
ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエ
チレンナフタレート等の如きプラスチンクベースが好ま
しいが、All、 On。
SUS等の如き非磁性金属シートも用いることができる
。
。
円筒状ドラム21の下方に、支持体22の搬送方向に対
して強磁性材料23を収容したるつぼと非磁性材料24
をこの順序(又は逆の順序)K配置しである。るつぼは
第6図に平面図に示したように支持体の巾方向に伸びた
間型をしている。
して強磁性材料23を収容したるつぼと非磁性材料24
をこの順序(又は逆の順序)K配置しである。るつぼは
第6図に平面図に示したように支持体の巾方向に伸びた
間型をしている。
本発明で用いられる強磁性材料としてはGo。
Fe、 Ni及びこれらの合金が用いられ、非磁性材料
としてはOr+ si、 On、 v、 Ti、 リ
ン化ニッケル等が用いられる。これらの拐料の中で強磁
性材料としてはCoo 又はGo を75qb以上含む
合金、非磁性相別としてはOr 又はOr金合金特に好
ましく、これらの利料を用いろ場合には配向性の良い垂
直磁化型磁気記録媒体を得ることかできる。
としてはOr+ si、 On、 v、 Ti、 リ
ン化ニッケル等が用いられる。これらの拐料の中で強磁
性材料としてはCoo 又はGo を75qb以上含む
合金、非磁性相別としてはOr 又はOr金合金特に好
ましく、これらの利料を用いろ場合には配向性の良い垂
直磁化型磁気記録媒体を得ることかできる。
′:5.26は夫々の蒸発源に対に設けられた自己加速
型電子銃であって、円筒状ドラム21の中心軸を含む垂
直面に対して互いに対立する位置に配置されている。こ
の例においては、強磁性蒸発源26を電子銃25からの
電子ビーム、非磁性蒸発源24を電子銃26からの電子
ビームによって走査し加熱蒸発させる。この場合、各電
子銃を同一側壁に設置することも考えられるが、電子銃
自体が大きく場所的に不便であることと、同一方向かう
二つの電子ビームで走査すると電子ビームが相互に干渉
することもあり実用上不適当である。
型電子銃であって、円筒状ドラム21の中心軸を含む垂
直面に対して互いに対立する位置に配置されている。こ
の例においては、強磁性蒸発源26を電子銃25からの
電子ビーム、非磁性蒸発源24を電子銃26からの電子
ビームによって走査し加熱蒸発させる。この場合、各電
子銃を同一側壁に設置することも考えられるが、電子銃
自体が大きく場所的に不便であることと、同一方向かう
二つの電子ビームで走査すると電子ビームが相互に干渉
することもあり実用上不適当である。
なお、27は蒸気流が所望域以外に行(のを防止するた
めのマスクである。
めのマスクである。
本発明によるときは図示の如(、強磁性材料
。
。
26と非磁性材料24を支持体の搬送方向に対してこの
順序に配置しておく場合には、支持体側に例えばCo
の如き強磁性材料の分布が多く、表面側で例えはGr
の如き非磁性材料の分布が多い合金薄膜が形成され、耐
候性、耐久性に優れた磁性膜を得ることができる。又、
画然発源の鹸僅を入れ替えて、支持体の搬送方向に対し
て非磁性材料と強磁性相料との順序に配置すれば、表面
で強磁性材料の分布が多い合金薄膜が形成され、磁気特
性の優れた磁性層を得ることができる。
順序に配置しておく場合には、支持体側に例えばCo
の如き強磁性材料の分布が多く、表面側で例えはGr
の如き非磁性材料の分布が多い合金薄膜が形成され、耐
候性、耐久性に優れた磁性膜を得ることができる。又、
画然発源の鹸僅を入れ替えて、支持体の搬送方向に対し
て非磁性材料と強磁性相料との順序に配置すれば、表面
で強磁性材料の分布が多い合金薄膜が形成され、磁気特
性の優れた磁性層を得ることができる。
また、本発明によるときは、電子銃を夫々の蒸発源に対
して少(とも1個用いているので、各蒸発源の蒸発速度
を独立してコントロールすることができ、例えばGo
とOr とを別々の蒸発源として用い、Go −Cr
合金の垂直磁化型磁性層を形成する場合、両者の蒸発
速度の差に基づく不均質蒸着膜の形成と防止することが
できる。
して少(とも1個用いているので、各蒸発源の蒸発速度
を独立してコントロールすることができ、例えばGo
とOr とを別々の蒸発源として用い、Go −Cr
合金の垂直磁化型磁性層を形成する場合、両者の蒸発
速度の差に基づく不均質蒸着膜の形成と防止することが
できる。
更に、また、別々の電子銃を用いているので、従来の如
(電子ビームによるるつぼの損傷を防止することができ
る。
(電子ビームによるるつぼの損傷を防止することができ
る。
以上、本発明を真空蒸着を行う場合についてのべたが、
蒸発系中にRFコイルやDCコイルを配置してイオンプ
レートを行う場合にも本発明を適用することができ、又
、蒸着時に磁場を印加することもできる。
蒸発系中にRFコイルやDCコイルを配置してイオンプ
レートを行う場合にも本発明を適用することができ、又
、蒸着時に磁場を印加することもできる。
第1図〜第4図は従来の2元共蒸着による磁気記録媒体
の製造方法を説明する略図、第5図は本発明による磁気
記録媒体製造方法の1例を示す説明図である。 1.11.21・−・円筒状ドラム、 2.12. 〆々・・・支持体 3.13. 酉・・・強磁性材料 4.14.24・・・非磁性材料 代理人 弁理士(8107) 佐々木 清 隆(ほか
6名) 第 1 図 第 31!l 第 5 図 第 6 図 2ム 手続補正書(方却 昭和57年 12月28日 昭和57年特許願第 1i738号 2、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係:特許出願人 名称(520) 富士写真フィルム株式会社霞が関ビ
ル内郵便局 私書箱第49号 4図」に、1第6図J’t+第5図」にそれぞれ補正す
る。 第 2 図 第3図 第 今 図 第 5 図 6 手続補正書 昭和57年12月28日 昭和57年特許願第1697i 号 2、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係°特許出願人 名称 (520) 富士写真フィルム株式会社霞が関
ビル内郵便局 私書箱第49号 「近年、記録すべき情報量の増加に伴い、高密度記録に
適する磁気記録媒体の実用化が強く望まれている。従来
のように媒体の面内に記録する方式では、記録密度を上
げるためには、媒体の)νさを減少させると共に抗磁力
を増加させればよいことが理論的に明らかにされており
、実験的にも確認されている。しかしながら、媒体を薄
くシていくことは再生出力に寄与する媒体の残留磁束を
下げることであシ、まだ、実用的な耐久性、耐候性がと
れなくなるという欠陥も生じ、おのずとそこには限昇が
ある。一方、返電上記面内記録によらずとも、高記録照
度化が図れる方法として媒体の膜面に垂直な方向に記録
するという、いわゆる垂直記録方式が注目を浴びている
。 垂直記録型媒体としては、特にCo −Cr系合金が有
望視されており、主としてスパッタリング法による製造
が検討されている。しかじながIらスパッタリング法は
、膜形成速度が遅いという致命的欠点を有しており、よ
り効率の良い真空蒸着法あるいはイオンブレーティング
法の実現が望まれていた。ところが、これらの方法をC
o−Cr合金のような蒸気圧の異なる金属からなる合金
に適用することは、形成さiする膜の投手方向の組成ず
れが犬となる欠点がある。」に補正する。 b) b)第5頁12行目の「T OWJを[’l’ 014
則に補正する。 C)第5頁12行目の「ケーシング」を「チャンバー」
に補正する。 d)m5.@14行目の「高融点羽村のハース又は」を
削除する。 e)第5貞15行目の1蒸発源6」を「蒸発源6゜4」
に補正する。 f)第5頁17行目の「、16間」を削除する。 g)第6頁12行目の「ケーシング」を「チャンノ々−
」に補正する。 h)第6頁20行目の「、16の間」を削除する。 l)第7頁6行目の「損傷を・・・・・・」から同頁5
行目の「・・・・・・がある。」器で を「損傷を生じる。又、1台の電子銃からの電子ビーム
の滞留時間及びパンー田度を変えることにより、長手方
向の組成を均一にコントロールすることは難しい。」に
補正する。 j)第7貞16行目の「本発明によって」を「方法によ
って」に補正する。 k)第8貞7行目の「蒸発源」を「蒸発材料」に補正す
る。 l)第8貞16行目の「ケーシング」を「チャンノ々−
」に補正する。 m)−第10貞13行目の1例えは」を「例えば」に補
正する。 n)第11JM12行目の「イオンプレート」を「イオ
ンブレーティング」に補正する。
の製造方法を説明する略図、第5図は本発明による磁気
記録媒体製造方法の1例を示す説明図である。 1.11.21・−・円筒状ドラム、 2.12. 〆々・・・支持体 3.13. 酉・・・強磁性材料 4.14.24・・・非磁性材料 代理人 弁理士(8107) 佐々木 清 隆(ほか
6名) 第 1 図 第 31!l 第 5 図 第 6 図 2ム 手続補正書(方却 昭和57年 12月28日 昭和57年特許願第 1i738号 2、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係:特許出願人 名称(520) 富士写真フィルム株式会社霞が関ビ
ル内郵便局 私書箱第49号 4図」に、1第6図J’t+第5図」にそれぞれ補正す
る。 第 2 図 第3図 第 今 図 第 5 図 6 手続補正書 昭和57年12月28日 昭和57年特許願第1697i 号 2、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係°特許出願人 名称 (520) 富士写真フィルム株式会社霞が関
ビル内郵便局 私書箱第49号 「近年、記録すべき情報量の増加に伴い、高密度記録に
適する磁気記録媒体の実用化が強く望まれている。従来
のように媒体の面内に記録する方式では、記録密度を上
げるためには、媒体の)νさを減少させると共に抗磁力
を増加させればよいことが理論的に明らかにされており
、実験的にも確認されている。しかしながら、媒体を薄
くシていくことは再生出力に寄与する媒体の残留磁束を
下げることであシ、まだ、実用的な耐久性、耐候性がと
れなくなるという欠陥も生じ、おのずとそこには限昇が
ある。一方、返電上記面内記録によらずとも、高記録照
度化が図れる方法として媒体の膜面に垂直な方向に記録
するという、いわゆる垂直記録方式が注目を浴びている
。 垂直記録型媒体としては、特にCo −Cr系合金が有
望視されており、主としてスパッタリング法による製造
が検討されている。しかじながIらスパッタリング法は
、膜形成速度が遅いという致命的欠点を有しており、よ
り効率の良い真空蒸着法あるいはイオンブレーティング
法の実現が望まれていた。ところが、これらの方法をC
o−Cr合金のような蒸気圧の異なる金属からなる合金
に適用することは、形成さiする膜の投手方向の組成ず
れが犬となる欠点がある。」に補正する。 b) b)第5頁12行目の「T OWJを[’l’ 014
則に補正する。 C)第5頁12行目の「ケーシング」を「チャンバー」
に補正する。 d)m5.@14行目の「高融点羽村のハース又は」を
削除する。 e)第5貞15行目の1蒸発源6」を「蒸発源6゜4」
に補正する。 f)第5頁17行目の「、16間」を削除する。 g)第6頁12行目の「ケーシング」を「チャンノ々−
」に補正する。 h)第6頁20行目の「、16の間」を削除する。 l)第7頁6行目の「損傷を・・・・・・」から同頁5
行目の「・・・・・・がある。」器で を「損傷を生じる。又、1台の電子銃からの電子ビーム
の滞留時間及びパンー田度を変えることにより、長手方
向の組成を均一にコントロールすることは難しい。」に
補正する。 j)第7貞16行目の「本発明によって」を「方法によ
って」に補正する。 k)第8貞7行目の「蒸発源」を「蒸発材料」に補正す
る。 l)第8貞16行目の「ケーシング」を「チャンノ々−
」に補正する。 m)−第10貞13行目の1例えは」を「例えば」に補
正する。 n)第11JM12行目の「イオンプレート」を「イオ
ンブレーティング」に補正する。
Claims (4)
- (1)可撓性非磁性支持体を円筒状ドラムに沿って搬送
させつつ、該ドラムの下方に配置した強磁性材料の蒸発
源及び非磁性材料の蒸発源から強磁性材料と非磁性材料
を同時に加熱蒸発させ、それらの蒸気流を該支持体に差
し向けて合金薄膜を形成させることからなる磁気記録媒
体の製造方法において、上記2種の蒸発源を支持体の搬
送方向に対して前後になるように配置し、それぞれの蒸
発源に対して別々に設けられた自己加速型電子銃によっ
て各蒸発源を加熱蒸発させ、それぞれの蒸気流を該支持
体に差し向けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。 - (2)該支持体の搬送方向に対して強磁性材料よりなる
蒸発源と非磁性材料よりなる蒸発源がこの順序にて配置
されている特許請求の範囲第(【)項に記載の磁気記録
媒体の製造方法。 - (3)該支持体の搬送方向に対して非磁性材料よりなる
蒸発源と強磁性材料よりブ工ろ蒸発源がこの順序に配置
されている4?¥jr請求の範囲第(1)項に記載の磁
気記録媒体の製造方法。 - (4)強磁性利料用の電子銃と非磁性材料用電子銃が円
筒状ドラムの中心軸を含む垂直面に対して互いに対立す
る位置に配置されている磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13973882A JPS5930248A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13973882A JPS5930248A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5930248A true JPS5930248A (ja) | 1984-02-17 |
Family
ID=15252220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13973882A Pending JPS5930248A (ja) | 1982-08-13 | 1982-08-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5930248A (ja) |
-
1982
- 1982-08-13 JP JP13973882A patent/JPS5930248A/ja active Pending
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