JPS5932858A - 電極素子 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 45
- -1 hydroxy aromatic compound Chemical class 0.000 claims abstract description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims abstract description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 15
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 230000004044 response Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 6
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 2-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CC=N1 ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SHULEACXTONYPS-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 SHULEACXTONYPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000009936 Pteridium aquilinum Nutrition 0.000 claims 1
- 240000005893 Pteridium aquilinum Species 0.000 claims 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 claims 1
- ZZYXNRREDYWPLN-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,3-diamine Chemical compound NC1=CC=CN=C1N ZZYXNRREDYWPLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 35
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 33
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 7
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 abstract description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 abstract description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 abstract description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 abstract description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 abstract description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 5
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 5
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 5
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- IMXXCDGKNKXXCG-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1(6),2,4-triene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C1=C2OC2=CC=C1C1=CC=CC=C1 IMXXCDGKNKXXCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Natural products C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- VBLXCTYLWZJBKA-UHFFFAOYSA-N 2-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VBLXCTYLWZJBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKVJCVWFVRATSG-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybenzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC(O)=C1 OKVJCVWFVRATSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-triene Chemical compound C1=CC=C2OC2=C1 OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- IAVREABSGIHHMO-UHFFFAOYSA-N meta-hydroxybenzaldehyde Natural products OC1=CC=CC(C=O)=C1 IAVREABSGIHHMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- JEFSTMHERNSDBC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical compound CC1=CC=CCC1(C)O JEFSTMHERNSDBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUJMEECXHPYQOF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC(O)=C1 LUJMEECXHPYQOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWLQHMWZJVYCFM-UHFFFAOYSA-N 4,5-dimethyl-7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1(6),2,4-triene Chemical compound CC1=CC=C2OC2=C1C YWLQHMWZJVYCFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000016623 Fragaria vesca Nutrition 0.000 description 1
- 240000009088 Fragaria x ananassa Species 0.000 description 1
- 235000011363 Fragaria x ananassa Nutrition 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZGWFCGJZKJUFP-UHFFFAOYSA-N Tyramine Natural products NCCC1=CC=C(O)C=C1 DZGWFCGJZKJUFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000008430 aromatic amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical class Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- RECVMTHOQWMYFX-UHFFFAOYSA-N oxygen(1+) dihydride Chemical compound [OH2+] RECVMTHOQWMYFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000008055 phosphate buffer solution Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M sodium perchlorate Chemical compound [Na+].[O-]Cl(=O)(=O)=O BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001488 sodium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229960003732 tyramine Drugs 0.000 description 1
- DZGWFCGJZKJUFP-UHFFFAOYSA-O tyraminium Chemical compound [NH3+]CCC1=CC=C(O)C=C1 DZGWFCGJZKJUFP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
10発明の背景
〔技術分野〕
この発明は溶液中の水素イオン濃度を■、極電位応答で
検出するために用いられるII′1.極素子に関する。
検出するために用いられるII′1.極素子に関する。
溶液中のイオン例えは水素イオンの濃度に感応してこれ
を測定するイオン電極(イオンセンサー)として現在知
られているものは、その感応膜が固体電解質であるか、
イオン交換液を主体とするかによって固体膜型電接と液
体模型電極とに大別される。溶液中のイオン濃度の測定
は、これら電極および基準電極(参照電極)を当該溶液
に浸漬し、両電極間の、゛電位差を求めることからなる
。
を測定するイオン電極(イオンセンサー)として現在知
られているものは、その感応膜が固体電解質であるか、
イオン交換液を主体とするかによって固体膜型電接と液
体模型電極とに大別される。溶液中のイオン濃度の測定
は、これら電極および基準電極(参照電極)を当該溶液
に浸漬し、両電極間の、゛電位差を求めることからなる
。
しかしながら、上記従来のイオン電極はいずわも、ガラ
ス電極と同様、内部基準液室を必要とする。したがって
、これら′電極には、内部基準液が漏れたυ、測定温度
の彩管を受けやすい等の欠点がありた。また、内部基準
液室を設ける必要があるため、その微小化には限度があ
った。
ス電極と同様、内部基準液室を必要とする。したがって
、これら′電極には、内部基準液が漏れたυ、測定温度
の彩管を受けやすい等の欠点がありた。また、内部基準
液室を設ける必要があるため、その微小化には限度があ
った。
このような従来のイオン相極の欠点を解決するものとし
て、本出願人は、導電、体(特に白金)表面に窒素含有
芳香族化合物あるいはヒドロキシ芳香族化合物から誘導
された重合体膜を直接被着してなるイオンセンサーある
いはpHセンサーを先に出願した(特願昭56−429
5号、同F16−129750号および同56−150
895号)。これら特許出願に開示したイオンセンサー
あるいはP11センザーは、従来のイオン電極の考え方
とは全く異なり、導電体表面を重合体で化学修飾すると
いうこれまでほとんどおこなわり、ていなかった技術を
利用している。この化学修飾の技術によって導電体被覆
膜は溶存イオン種に対し選択的な透堝性を持ち、寸た表
面の腐食や溶解を防止し、導電体は溶液中のイオン濃度
に対して選択的にI[電位または電流変化で応答すると
いう全く新しい機能を発揮する。このイオンセンサーは
重合体で化学修飾した導電体の機能のうち特に、イオン
濃度に対する応答性を利用したものである。これらイオ
ンセンサーは、内部基準液室を設ける必要がないので、
導出、体の加工限度1で微小化でき、広範囲のP11領
域でネルンストの式を満足する等種々の利点を有する。
て、本出願人は、導電、体(特に白金)表面に窒素含有
芳香族化合物あるいはヒドロキシ芳香族化合物から誘導
された重合体膜を直接被着してなるイオンセンサーある
いはpHセンサーを先に出願した(特願昭56−429
5号、同F16−129750号および同56−150
895号)。これら特許出願に開示したイオンセンサー
あるいはP11センザーは、従来のイオン電極の考え方
とは全く異なり、導電体表面を重合体で化学修飾すると
いうこれまでほとんどおこなわり、ていなかった技術を
利用している。この化学修飾の技術によって導電体被覆
膜は溶存イオン種に対し選択的な透堝性を持ち、寸た表
面の腐食や溶解を防止し、導電体は溶液中のイオン濃度
に対して選択的にI[電位または電流変化で応答すると
いう全く新しい機能を発揮する。このイオンセンサーは
重合体で化学修飾した導電体の機能のうち特に、イオン
濃度に対する応答性を利用したものである。これらイオ
ンセンサーは、内部基準液室を設ける必要がないので、
導出、体の加工限度1で微小化でき、広範囲のP11領
域でネルンストの式を満足する等種々の利点を有する。
しかしながら、上記イオンセンザーは、測定溶液中に水
素イオン以外のイオン特に塩素イオン、臭素イオン、ヨ
ウ素イオン等のハロヶ゛ンイオンが共存すると、平衡宙
1位値がこれらイメン稀の影響を受け、水素イオンを正
確に測定できないことがあることがわかった。
素イオン以外のイオン特に塩素イオン、臭素イオン、ヨ
ウ素イオン等のハロヶ゛ンイオンが共存すると、平衡宙
1位値がこれらイメン稀の影響を受け、水素イオンを正
確に測定できないことがあることがわかった。
凍/ヒ、上記化学修飾電極と同様の考え方で本出願人は
特願昭56−206095号に基準電極を出願した。し
かし、この基準電極も上ハ己イオンセンザーと同様ハロ
ヶ゛ンイオン等妨害イオンの影響を受ける。
特願昭56−206095号に基準電極を出願した。し
かし、この基準電極も上ハ己イオンセンザーと同様ハロ
ヶ゛ンイオン等妨害イオンの影響を受ける。
11、発明の目的
したがって、この発明の目的は測定溶液中に水素イオン
以外の妨害イオンが共存していてもこれに影響を受けな
い電極素子すなわち、水素イオン濃度に感応するpi1
電極および基準電極を提供することにある。
以外の妨害イオンが共存していてもこれに影響を受けな
い電極素子すなわち、水素イオン濃度に感応するpi1
電極および基準電極を提供することにある。
この発明(′(丁よれば、溶液中の水素イオン【;”1
型度を市極電位応答で検出するために用いらhる電極素
子であって、導電体で形成された電極基体ヒドロキシ芳
香族化合物もし2くは窒素含有芳香族化合物から誘導さ
れた重合体の膜であって該電極基体の表面に直接被着さ
h f’r−もの、および該溶液中の妨害イ]ンの透過
を防止する膜として)該重合体膜の表面に真空蓄積によ
って被着されたケイ酸系ガラス膜からなるととをノ14
徴とする市、極素子が提供される。
型度を市極電位応答で検出するために用いらhる電極素
子であって、導電体で形成された電極基体ヒドロキシ芳
香族化合物もし2くは窒素含有芳香族化合物から誘導さ
れた重合体の膜であって該電極基体の表面に直接被着さ
h f’r−もの、および該溶液中の妨害イ]ンの透過
を防止する膜として)該重合体膜の表面に真空蓄積によ
って被着されたケイ酸系ガラス膜からなるととをノ14
徴とする市、極素子が提供される。
上記り一イ酸系ガラスとしては5io2ガラス、Na2
0−A7203−5i02がラス、I−+ 70− A
A205−8i02がラス、Na20−B2O3−8j
02ガラス、N1120− TiO2−5402ガラス
、Nn70−へL203−P205−8102ガラス捷
だは5102− L120− La2O3−BaO−T
102ガラスかある。また、このガラス膜のJすさは、
一般に、10mないし1μmである。
0−A7203−5i02がラス、I−+ 70− A
A205−8i02がラス、Na20−B2O3−8j
02ガラス、N1120− TiO2−5402ガラス
、Nn70−へL203−P205−8102ガラス捷
だは5102− L120− La2O3−BaO−T
102ガラスかある。また、このガラス膜のJすさは、
一般に、10mないし1μmである。
上記重合体膜は電解酸化重合膜であることが好ましい。
ヒドロキシ芳香族化合物は式
()
%式%()
(とこで、Ar幻芳香核、名Rはボを操糸、nは1以上
の整数、mi、、io−また+a i以上の整数であっ
てn 1mはArの有効原子価数越えない)で示i−仁
とができる。このようなヒドロ率シ芳香族化合物として
フェノール、2,6−および:3,5−キシレノール、
o−、m−およびP−ヒドロキシベンゾフェノン、0−
およびm−ヒドロキシベンジルアルコール、2.2’、
4.4’−テ1゛ラヒドロキシベンゾフェノン、o−
、m−およびp−ヒドロキシ/40ビオフエ、メン、o
−、m−おtひp−ヒドロキシベンズアルデヒド、0−
lm−およびp−ペンシフ5ノール、o−、m−および
p−ヒドロキンアセトフェノン、4−(p−ヒドロフェ
ニル)12−ブタツノ、並ヒにビスフェノールAよりな
る群の中から選はノt/こものがある。
の整数、mi、、io−また+a i以上の整数であっ
てn 1mはArの有効原子価数越えない)で示i−仁
とができる。このようなヒドロ率シ芳香族化合物として
フェノール、2,6−および:3,5−キシレノール、
o−、m−およびP−ヒドロキシベンゾフェノン、0−
およびm−ヒドロキシベンジルアルコール、2.2’、
4.4’−テ1゛ラヒドロキシベンゾフェノン、o−
、m−およびp−ヒドロキシ/40ビオフエ、メン、o
−、m−おtひp−ヒドロキシベンズアルデヒド、0−
lm−およびp−ペンシフ5ノール、o−、m−および
p−ヒドロキンアセトフェノン、4−(p−ヒドロフェ
ニル)12−ブタツノ、並ヒにビスフェノールAよりな
る群の中から選はノt/こものがある。
また、窒素含有芳香族イ(−合物は式
%式%)
()
(ここで、Arは芳香核、Rは置換基、p id、 0
1叩1以上の整数およびqは1以上の整数てあっでP+
qi、jArの有効原子価数を越えない。
1叩1以上の整数およびqは1以上の整数てあっでP+
qi、jArの有効原子価数を越えない。
/ζだし、Arが含窒素抜素環の場合qは0であっても
よい)で示゛すことができる。このような窒素a有芳香
族化合物として1.2−−、’アミノベンゼン、アニリ
ン、2−アミノベンゾトリフルオリド、2−アミノピリ
シン、2,3−シアミノピリジン、4,4′−ノーアミ
ノジフェニルエーテル、4.4′−メチl/ンソアニリ
ン、ヂラミン、N−(o−ヒドロギンベンシル)アニリ
ンおよびカルバ・ブールよ(りなる群の中から選はわだ
ものがある。
よい)で示゛すことができる。このような窒素a有芳香
族化合物として1.2−−、’アミノベンゼン、アニリ
ン、2−アミノベンゾトリフルオリド、2−アミノピリ
シン、2,3−シアミノピリジン、4,4′−ノーアミ
ノジフェニルエーテル、4.4′−メチl/ンソアニリ
ン、ヂラミン、N−(o−ヒドロギンベンシル)アニリ
ンおよびカルバ・ブールよ(りなる群の中から選はわだ
ものがある。
上記市、極素了が水素イ刈ン濃度に感応するPH1(7
,極である相合、電極基体は少なくともその表面が白金
で構成・されていることが好11〜い。
,極である相合、電極基体は少なくともその表面が白金
で構成・されていることが好11〜い。
件た、上記1ij、’、極素子が基準電極である場合、
7()極基体d少なくともその表面が銀寸たは銀に41
!持された塩イ、ヒ銀ア構率さ些ているこ、とが好オし
い。
7()極基体d少なくともその表面が銀寸たは銀に41
!持された塩イ、ヒ銀ア構率さ些ているこ、とが好オし
い。
■1発明の具体的胆、、明 。
本発明者らは重合体膜化学修飾電極に対するハワダンイ
オン等平衡電位値に影響を与える妨害イオンの影響を防
止すべく種り検討し次結果、重合体膜をガラス膜で被覆
することによって、妨害イオンの透過が防止され、優れ
たp(1市極および基準電極が提供できることを見い出
し、本発明を完成するに至った。。
オン等平衡電位値に影響を与える妨害イオンの影響を防
止すべく種り検討し次結果、重合体膜をガラス膜で被覆
することによって、妨害イオンの透過が防止され、優れ
たp(1市極および基準電極が提供できることを見い出
し、本発明を完成するに至った。。
以下、この発明を添付の図面に沿って詳しく説明する。
第1図に示すように、この発明の電5極素子10fJ、
、白金、銀、タングステン、チタン、銅、鋼等導電体で
形成された任意形状の1@、極基体11にの周囲がポリ
オレフィンやテフロン等の電気絶縁体I2で被覆してお
シ、、そのh高表面に白金族金属膜11B、銀又は/さ
らに塩化銀を担持し、更にその表面にヒドロキシ芳香族
化合物または窒素含有芳香族化合物から誘導されへ重合
体(単独重含体および相互重合体の双方を含む)の膜1
3が直接被着されている。
、白金、銀、タングステン、チタン、銅、鋼等導電体で
形成された任意形状の1@、極基体11にの周囲がポリ
オレフィンやテフロン等の電気絶縁体I2で被覆してお
シ、、そのh高表面に白金族金属膜11B、銀又は/さ
らに塩化銀を担持し、更にその表面にヒドロキシ芳香族
化合物または窒素含有芳香族化合物から誘導されへ重合
体(単独重含体および相互重合体の双方を含む)の膜1
3が直接被着されている。
ヒドロキシ芳香族化合物は芳香核に直接結合したヒドロ
キシル基を少なくとも1つ有する芳 :香族化自物
であシ1.例えば式 () %式%() (ここで、Arは芳香核、各Rは置換基、nは1上以の
整数、mはOまたは1以上の整数であってn −1−m
ld Arの有効原子価数越えない)で示すことがで
きる。芳香核Arはベンゼン核、g IJジン核等の単
環式のものであっても、多核式のものであってもよい。
キシル基を少なくとも1つ有する芳 :香族化自物
であシ1.例えば式 () %式%() (ここで、Arは芳香核、各Rは置換基、nは1上以の
整数、mはOまたは1以上の整数であってn −1−m
ld Arの有効原子価数越えない)で示すことがで
きる。芳香核Arはベンゼン核、g IJジン核等の単
環式のものであっても、多核式のものであってもよい。
多核式芳香核にはナフタレン核、アントラセン核等の縮
合環タイプのもの、および芳香核同志がアルキレン、1 −C−1−O−等の架橋基によらて結合した架橋タイプ
のものが含まれる。置換基Rの例を挙げると、アルキル
基例えばメチル基、アリール基例えばフェニル基、アル
キルカル日?ニル基およびアリールカルがニル基(−d
R′)、ヒドロキシアルキル基(−R”OH)等である
。
合環タイプのもの、および芳香核同志がアルキレン、1 −C−1−O−等の架橋基によらて結合した架橋タイプ
のものが含まれる。置換基Rの例を挙げると、アルキル
基例えばメチル基、アリール基例えばフェニル基、アル
キルカル日?ニル基およびアリールカルがニル基(−d
R′)、ヒドロキシアルキル基(−R”OH)等である
。
このようなヒドロキシ芳香族化合物の具体例を挙げると
、フェノール、2,6−および3,5−−、m−および
p−ヒドロキ シベンゾフェノン、0−およびm−ヒドロキシペンシル
アルコール、2.2’、4.4’−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノン、Q−、m−およびp−ヒドロキシグロビ
メフェノン、Q−、m−およびp−ヒドロキシベンズア
ルデヒド、O−2m−およびp−ベンゾフェノール、Q
−、m−およびp−ヒドロキシアセトフェノン、4−(
p−ヒドロフェニル)−2−ゲタノン、ビスフェノール
Δおよびこれら2種以上の混合物である。
、フェノール、2,6−および3,5−−、m−および
p−ヒドロキ シベンゾフェノン、0−およびm−ヒドロキシペンシル
アルコール、2.2’、4.4’−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノン、Q−、m−およびp−ヒドロキシグロビ
メフェノン、Q−、m−およびp−ヒドロキシベンズア
ルデヒド、O−2m−およびp−ベンゾフェノール、Q
−、m−およびp−ヒドロキシアセトフェノン、4−(
p−ヒドロフェニル)−2−ゲタノン、ビスフェノール
Δおよびこれら2種以上の混合物である。
あらかじめ重合して得た重合体としでは4?す(フェニ
レンオキシド)、ポリ(フェニレンオキシド)誘導体、
ぼり(ジフェニルフェニレンオキシド)、ホリ辷ジメチ
ルフェニレンオキシド)、ポリカーブネート等がある。
レンオキシド)、ポリ(フェニレンオキシド)誘導体、
ぼり(ジフェニルフェニレンオキシド)、ホリ辷ジメチ
ルフェニレンオキシド)、ポリカーブネート等がある。
窒素含有芳香族化合物は少ガくとも1つの窒素原子を含
有する芳香族化合物であり、例えば、一般式 %式%) () (ここで、Arは芳香核、Rは置換基、pは0または1
以上の整数およびqは1以上の整数であってp +、q
はArの有効原子価数を越えない。
有する芳香族化合物であり、例えば、一般式 %式%) () (ここで、Arは芳香核、Rは置換基、pは0または1
以上の整数およびqは1以上の整数であってp +、q
はArの有効原子価数を越えない。
ただし、Arが含窒素複素環の場合qは0であってもよ
い)で示すことができる。芳香核Atおよび置換基Rは
ヒドロキシ芳香族化合物に関して述べたものと同じであ
る。これら化合物のN−置換誘導体も用いられる。
い)で示すことができる。芳香核Atおよび置換基Rは
ヒドロキシ芳香族化合物に関して述べたものと同じであ
る。これら化合物のN−置換誘導体も用いられる。
このような窒素含有芳香族化合物の具体例を挙ケると、
1,2−シアミンベンゼン、アニリン、2−アミノベン
ゾトリフルオリド、2−アミノピリジン、2,3−ノア
ミノピリジン、4.4’−ノアミノジフェニルニー“−
i′ル、4.4’−メチレンジアニリン、チラミン、N
−(0−ヒドロキシベンジル)アニリンおよびカルzZ
ゾール等である。
1,2−シアミンベンゼン、アニリン、2−アミノベン
ゾトリフルオリド、2−アミノピリジン、2,3−ノア
ミノピリジン、4.4’−ノアミノジフェニルニー“−
i′ル、4.4’−メチレンジアニリン、チラミン、N
−(0−ヒドロキシベンジル)アニリンおよびカルzZ
ゾール等である。
あらかじめ重合して得た重合体としてh:i +j51
J芳香族アミドおよびイミドかある。
J芳香族アミドおよびイミドかある。
以J−述べたヒドロキシ芳香族化合物井だは窒鷹・包有
芳香族化合物から誘導さ第1.た重合体膜を電極基体1
1Bの露出表面上に被着するためには、窒素含有芳香族
化合物−またはヒドロキシ芳香族化合物な電)n酸化重
合法によって電極基体11B表面上で重合させる方法、
予め合成された重合体を溶媒に溶かし、この溶液を浸漬
・塗布および乾燥により’FJj極基体IIB表曲に固
定する方法、さらには重合体膜を化学的処1p、物理的
処理もしくは照射処理によって電極基体11B表面に直
接固定する方法を採ることができる。
芳香族化合物から誘導さ第1.た重合体膜を電極基体1
1Bの露出表面上に被着するためには、窒素含有芳香族
化合物−またはヒドロキシ芳香族化合物な電)n酸化重
合法によって電極基体11B表面上で重合させる方法、
予め合成された重合体を溶媒に溶かし、この溶液を浸漬
・塗布および乾燥により’FJj極基体IIB表曲に固
定する方法、さらには重合体膜を化学的処1p、物理的
処理もしくは照射処理によって電極基体11B表面に直
接固定する方法を採ることができる。
上記被着方法のうち最も好都合な方法に1山解酸化重合
法による方法である。この電解に化重合は適当な溶媒中
で窒素含有芳香族化合物才だはヒドロキシ芳香族化合物
を電解酸化重合させ、動作電極としての所望基体の表面
に重合体膜を被着するものである。例えば、1,2−シ
アミンよび4,4′−シアミン・ジフェニルメタンの電
解酸化重合fipH7のリン酸緩衝溶液中で、アニリン
の重合しjビ゛リソンおよび過塩素酸プトリウムを含む
アセトニトリル溶液中で、4.4’−ノアミノジフェニ
ルエーテルの重合は過塩素酸ナトリウムを含41rアセ
にトリル リウムを含むメタノール溶液中でお?Cfzう。ヒドロ
キシ力香族化合物の電解酸化重合しl,アルカリ性のメ
タノール等の溶媒中でおこなう。
法による方法である。この電解に化重合は適当な溶媒中
で窒素含有芳香族化合物才だはヒドロキシ芳香族化合物
を電解酸化重合させ、動作電極としての所望基体の表面
に重合体膜を被着するものである。例えば、1,2−シ
アミンよび4,4′−シアミン・ジフェニルメタンの電
解酸化重合fipH7のリン酸緩衝溶液中で、アニリン
の重合しjビ゛リソンおよび過塩素酸プトリウムを含む
アセトニトリル溶液中で、4.4’−ノアミノジフェニ
ルエーテルの重合は過塩素酸ナトリウムを含41rアセ
にトリル リウムを含むメタノール溶液中でお?Cfzう。ヒドロ
キシ力香族化合物の電解酸化重合しl,アルカリ性のメ
タノール等の溶媒中でおこなう。
市、解酸化重合によって被着した重合体膜は被着安定性
が極めてよく、−また膜表面も滑らかである。
が極めてよく、−また膜表面も滑らかである。
小合体膜j3の厚べに特にilill限はないが0.0
1μないし71μ程度が適当である。
1μないし71μ程度が適当である。
このように形成された重合体膜13を祷って二酸□化ケ
イ素系ガラスの膜14が形成されている。二酸化り゛イ
素系ガラスとしては別02ガラス、並びにS102を一
成分とする混合ガラス例えは、Na20 − At20
3 − S102ガラス、I,120−At20,5
−sio2ガラス、Na20 − B203 − Si
02 :tfガラスNa20 − TiO2 − Si
02ガラス、NII2o − At205 −p2o5
− S102ガラス、およびSi02 − Li20
−La205− BnO − T102ガラスがある。
イ素系ガラスの膜14が形成されている。二酸化り゛イ
素系ガラスとしては別02ガラス、並びにS102を一
成分とする混合ガラス例えは、Na20 − At20
3 − S102ガラス、I,120−At20,5
−sio2ガラス、Na20 − B203 − Si
02 :tfガラスNa20 − TiO2 − Si
02ガラス、NII2o − At205 −p2o5
− S102ガラス、およびSi02 − Li20
−La205− BnO − T102ガラスがある。
この発明の市,他素子を生体分野に適用する場合、応答
速度、平衡′11.位値の安定性、再現性等の点から、
混合ガラスを用いることが望ましい。
速度、平衡′11.位値の安定性、再現性等の点から、
混合ガラスを用いることが望ましい。
に)
このようなガラス普通には重合体膜第3上に強固に被着
することが卸しい。そこで、この発明でケ91、既述の
ように、ガラス膜Z4は重合体膜1 3):に7<空蓄
積によって形成さitでいる。
することが卸しい。そこで、この発明でケ91、既述の
ように、ガラス膜Z4は重合体膜1 3):に7<空蓄
積によって形成さitでいる。
ζこで、「真空蓄積」とはjカポの被養源(ここでニ(
−、8102系ガラス)を減yL下で気化あるいはイオ
ン化し、所定の目標物(ここでは、基体11B上の重合
体膜13)表面上に蓄積・被着する技術をいい、よく知
らfまた真空蒸着,イオングレーティング、イオンスパ
.,夕等が含プオしる.、特にイオンス・やツタが好ヰ
しい。このイオンス・ぐツタは第2図に示すような高周
波ス・ぐツタ装置匠を用いてお仁なうと一Lい。このス
パッタ装置20は不活性ガス例えd:アルコンカスの2
冴入口21aおよび排気[:、1 2 l bを1−下
に備メ。た真空室21内にカソード+lL22としての
金属板およびアノード極としての基体支持台23を所定
間隔(例えば40覗)隔てて対向配置してなるものであ
り、カソード極22,上ぐ(−はガラス膜22Aが設け
ら)1,、一方アノード極2 3−1−に、ガス導入日
218からアルゴンガスを涌1人しつつ排気114 2
l bから真空,I?ンプ(図示せず)等により排気
[7ながら真空室2)内を例メは約I F5Torrに
1呆1.!l(、アルコンカス(Ar)全白金系金属板
22に指向さl±−る。この状態でカソード極22とア
ノード44i 23との間に、市、分■から高周波重用
を加乏ると、アルコンカスがイオン化して加速され、高
エネルギー粒子としてガラス(偉2.2A表面にイ荀突
し、ガラス朕22A表面の原子゛井/トは分イをはじき
出し、基体11上の申合体膜表面上にガラス膜として抗
Aへさ)7る。また、大電力量で生成する金属イオンを
磁力で制御してアノード極に衝突さぜるマグネトロン放
電方式による方法も利用できる。この方法によれば、屯
らに低温でス・やッ)がおこなえるので、熱変性が生じ
にくく、薄膜□形成ができる。
−、8102系ガラス)を減yL下で気化あるいはイオ
ン化し、所定の目標物(ここでは、基体11B上の重合
体膜13)表面上に蓄積・被着する技術をいい、よく知
らfまた真空蒸着,イオングレーティング、イオンスパ
.,夕等が含プオしる.、特にイオンス・やツタが好ヰ
しい。このイオンス・ぐツタは第2図に示すような高周
波ス・ぐツタ装置匠を用いてお仁なうと一Lい。このス
パッタ装置20は不活性ガス例えd:アルコンカスの2
冴入口21aおよび排気[:、1 2 l bを1−下
に備メ。た真空室21内にカソード+lL22としての
金属板およびアノード極としての基体支持台23を所定
間隔(例えば40覗)隔てて対向配置してなるものであ
り、カソード極22,上ぐ(−はガラス膜22Aが設け
ら)1,、一方アノード極2 3−1−に、ガス導入日
218からアルゴンガスを涌1人しつつ排気114 2
l bから真空,I?ンプ(図示せず)等により排気
[7ながら真空室2)内を例メは約I F5Torrに
1呆1.!l(、アルコンカス(Ar)全白金系金属板
22に指向さl±−る。この状態でカソード極22とア
ノード44i 23との間に、市、分■から高周波重用
を加乏ると、アルコンカスがイオン化して加速され、高
エネルギー粒子としてガラス(偉2.2A表面にイ荀突
し、ガラス朕22A表面の原子゛井/トは分イをはじき
出し、基体11上の申合体膜表面上にガラス膜として抗
Aへさ)7る。また、大電力量で生成する金属イオンを
磁力で制御してアノード極に衝突さぜるマグネトロン放
電方式による方法も利用できる。この方法によれば、屯
らに低温でス・やッ)がおこなえるので、熱変性が生じ
にくく、薄膜□形成ができる。
こうして形成さすするガラス膜I4の厚さはあまシ厚い
と不導体となり、薄すぎると妨害イオン透過防止機能が
なくなる。一般に、l’nmないし1μmの厚さ、好甘
しくfqlo、o’65μm雇いしくL 1μmの厘さ
が適当である。
と不導体となり、薄すぎると妨害イオン透過防止機能が
なくなる。一般に、l’nmないし1μmの厚さ、好甘
しくfqlo、o’65μm雇いしくL 1μmの厘さ
が適当である。
このガラス膜ゴ4は、−8i02−の網目構括を形成し
、測定試料水溶液中に浸漬するとこの構造中に水が浸入
して水和し、水和層を形成してガラス膜表面でケ゛ル化
が生じる。水素イオンはこの水和層中を透過してゆくと
考えらノ′する。このノfラス膜中には5IO4−イオ
ンも存在し、これによってハロケ゛ンイオン、ハロゲン
化Qfaイオン(例えばcto4− )等の負イメンの
透過が静電反撥によって、防止されるものと考えられる
。さらに、このガラス膜はNg”、K+□等のイオンの
透過も防止する機能を持つ。
1□なお、□この発明の電極素子10をPH組電極して
用いる場合、その基体11は少なくともその表面が白金
で構成されていることが望ましい。
、測定試料水溶液中に浸漬するとこの構造中に水が浸入
して水和し、水和層を形成してガラス膜表面でケ゛ル化
が生じる。水素イオンはこの水和層中を透過してゆくと
考えらノ′する。このノfラス膜中には5IO4−イオ
ンも存在し、これによってハロケ゛ンイオン、ハロゲン
化Qfaイオン(例えばcto4− )等の負イメンの
透過が静電反撥によって、防止されるものと考えられる
。さらに、このガラス膜はNg”、K+□等のイオンの
透過も防止する機能を持つ。
1□なお、□この発明の電極素子10をPH組電極して
用いる場合、その基体11は少なくともその表面が白金
で構成されていることが望ましい。
また、この発明の@4門素子1′0を基準苺、極とし
□て用いる場合、その基体11Aは少なくともその
表面が銀、捷たは銀に担持されたハロゲン化銀(特に塩
化銀)では成されていることが望ましい。−一担持され
苑・・・ケ・ン化物層を形成するためには、7Ji定の
ハロケ゛ンイオンを含有する :水溶液部に銀また
は少な□くとも表面に銀層を有 □する基体11
を浸漬して甫1極をおこなう。例えば、涛電体としての
銀を0.1. M塩化ナトリウム水溶液に浸漬し、02
5・A/−2の市、−密度で30分間電解すると、ハロ
グし化物層として塩 □化銀層が得られる。
□て用いる場合、その基体11Aは少なくともその
表面が銀、捷たは銀に担持されたハロゲン化銀(特に塩
化銀)では成されていることが望ましい。−一担持され
苑・・・ケ・ン化物層を形成するためには、7Ji定の
ハロケ゛ンイオンを含有する :水溶液部に銀また
は少な□くとも表面に銀層を有 □する基体11
を浸漬して甫1極をおこなう。例えば、涛電体としての
銀を0.1. M塩化ナトリウム水溶液に浸漬し、02
5・A/−2の市、−密度で30分間電解すると、ハロ
グし化物層として塩 □化銀層が得られる。
以下、この発明の実施例を記す。
実施例 1
直径1−の白金線(の周囲をテフロンで絶縁し、その露
出先端をシリコンカーバイド(粒径8.0μm)紙およ
びアルミナ粉末(粒径0.3μm)で研磨し平滑にした
後、水洗およびメタノール洗浄し乾燥した。こうして処
理した白金線の露出先端面にフェノールの電解酸化重合
膜を被着した。この電解酸化重合は、辿常の3電極式セ
ルを使用し、対極として白金網、基準電極として市販の
飽和カロメル電極(SSCFJ)、そして動作電極とし
て上記白金線を用いてお・こ々っだ。電解液としてlQ
mMフェノールおよび30 mM水酸化ナトリウムを含
むメタノール溶液を用い、電解前にこれをアルゴンガス
で十分に脱酸素した。印加電圧を走査し、フェノール里
方j一体の酸化反応が白金表面で生起していることを確
認した後、印加電圧を1.0ボルト(対5SCE)で止
め、3分間定電解した。こうして、基体の白金線露出先
端面にフェノールの電解酸化重合膜(以下ppo膜とい
う)が被着され、こノ1.を蒸留水で洗浄した。
出先端をシリコンカーバイド(粒径8.0μm)紙およ
びアルミナ粉末(粒径0.3μm)で研磨し平滑にした
後、水洗およびメタノール洗浄し乾燥した。こうして処
理した白金線の露出先端面にフェノールの電解酸化重合
膜を被着した。この電解酸化重合は、辿常の3電極式セ
ルを使用し、対極として白金網、基準電極として市販の
飽和カロメル電極(SSCFJ)、そして動作電極とし
て上記白金線を用いてお・こ々っだ。電解液としてlQ
mMフェノールおよび30 mM水酸化ナトリウムを含
むメタノール溶液を用い、電解前にこれをアルゴンガス
で十分に脱酸素した。印加電圧を走査し、フェノール里
方j一体の酸化反応が白金表面で生起していることを確
認した後、印加電圧を1.0ボルト(対5SCE)で止
め、3分間定電解した。こうして、基体の白金線露出先
端面にフェノールの電解酸化重合膜(以下ppo膜とい
う)が被着され、こノ1.を蒸留水で洗浄した。
このPPO膜を有する白金線のPPO膜上に、高周波2
極ス・やツクマグネトロン放電装置、を用いて二酸化ケ
イ素の膜を形成した。このときのスパッタは、カソード
−アノード間4cn1、アルゴン雰囲気10−2Tor
r 、 13.56 MHzの高周波電場で電力量2
00Wの条件の下に10秒問おこなった。二酸化ケイ素
膜の厚さは約0.009μmであった。こうして、この
発明の電極素子を得た。
極ス・やツクマグネトロン放電装置、を用いて二酸化ケ
イ素の膜を形成した。このときのスパッタは、カソード
−アノード間4cn1、アルゴン雰囲気10−2Tor
r 、 13.56 MHzの高周波電場で電力量2
00Wの条件の下に10秒問おこなった。二酸化ケイ素
膜の厚さは約0.009μmであった。こうして、この
発明の電極素子を得た。
との市1極素子の、H電極としての性能を調べるために
基準電極としての8SCEと組合せて、試料水溶液のP
llを6.86と一定にし、この水溶液中のKClの濃
度を10−’M/L〜1.’ OM/lと変化させてそ
れぞわ、の場合における平衡電位値および応答速度を測
定し/ζ。比較として、ガラス膜を形成しない以外は上
記と同様にして得たPPO膜被膜被覆白金極を用いて同
様の測定をおこなった。
基準電極としての8SCEと組合せて、試料水溶液のP
llを6.86と一定にし、この水溶液中のKClの濃
度を10−’M/L〜1.’ OM/lと変化させてそ
れぞわ、の場合における平衡電位値および応答速度を測
定し/ζ。比較として、ガラス膜を形成しない以外は上
記と同様にして得たPPO膜被膜被覆白金極を用いて同
様の測定をおこなった。
第3図は、各Kct倣度における平衡翫イゾ値(線aは
ガラス膜あり、線すはガラス膜なし)を、第4八図は本
発明の電極の応答速度を、電4B図は比較例電極の応答
速度をぞJlぞ牙1示l。
ガラス膜あり、線すはガラス膜なし)を、第4八図は本
発明の電極の応答速度を、電4B図は比較例電極の応答
速度をぞJlぞ牙1示l。
でいる。この結果、塩素イオン濃度10 M/7から
、10 M、/l tで共存さ44でも、塩素イオン
に影響さノ1ずに水素イメン1農度が測定できることが
わかった。壕だ、比較のために、白金基板/ I’PO
膜被伊′中1極の場合、上記同様に塩素イオン濃度の影
響を検削した(比較例1.第3図参照)。塩素イメンが
徴用(1o−’M/′z )に存在する場合、電極′亀
位仙が無添加の場合にくらべて約2Q mV低斗り7.
10−’ M/l〜10−” Matの範囲内では、水
素イオンイパ1.(0−にUはとんど影響を及り1さな
い。
、10 M、/l tで共存さ44でも、塩素イオン
に影響さノ1ずに水素イメン1農度が測定できることが
わかった。壕だ、比較のために、白金基板/ I’PO
膜被伊′中1極の場合、上記同様に塩素イオン濃度の影
響を検削した(比較例1.第3図参照)。塩素イメンが
徴用(1o−’M/′z )に存在する場合、電極′亀
位仙が無添加の場合にくらべて約2Q mV低斗り7.
10−’ M/l〜10−” Matの範囲内では、水
素イオンイパ1.(0−にUはとんど影響を及り1さな
い。
こハらのことから、本発明のJl負被9電極はr<ct
共存中の水素イメン濃[11111定かKctr+何度
1.0’M/)は内であノロ(Ct、t゛)・沿加系と
11ぼ)11極電旬値書化がほぼ同程度で、↓(ff中
の塩素イ1ンに妨害さオ″1ずに水素イオンσp度をi
ll定できる。
共存中の水素イメン濃[11111定かKctr+何度
1.0’M/)は内であノロ(Ct、t゛)・沿加系と
11ぼ)11極電旬値書化がほぼ同程度で、↓(ff中
の塩素イ1ンに妨害さオ″1ずに水素イオンσp度をi
ll定できる。
なお、平衡箱5缶(if″1か一定に惇する応老1ぜf
l)tl lql第4A図および第4B図から次の連り
Tある。
l)tl lql第4A図および第4B図から次の連り
Tある。
表I KC1濃度変佳さく111r時の応答速度第
1表から、5t07膜/ Pl’O/白金4 Mi %
、 ii<がr’po膜/白金卑板1(1□極にくらべ
塩化カリウノ、が共存した系のI晶合+、1″、、各連
座が速くなる(二、1−がJ)かる。
1表から、5t07膜/ Pl’O/白金4 Mi %
、 ii<がr’po膜/白金卑板1(1□極にくらべ
塩化カリウノ、が共存した系のI晶合+、1″、、各連
座が速くなる(二、1−がJ)かる。
この理由kJS1071Fご中のS 104− カC1
−i、 JfJ、 lieし7.11ル1中(てCt’
−イオンをとりこ寸ないこと、お・よび、S i 07
gl′t1(7−)水、?−,f、fl−ン選択率カ
Pi フイ2)プtめと思わi]る。
−i、 JfJ、 lieし7.11ル1中(てCt’
−イオンをとりこ寸ないこと、お・よび、S i 07
gl′t1(7−)水、?−,f、fl−ン選択率カ
Pi フイ2)プtめと思わi]る。
゛まだ、平衡′山イ\ンの安宇件H2O−0,2mVの
911」囲しごある。
911」囲しごある。
本発明のFIl、極の1・It ′4;化Gこ力[−す
る3F′衡札イ1゛)値(・:1直線関係を示し−1こ
の直線の勾配lす56mV、/pH(25℃−4−t)
、 I c ) + 1ij (rll R
ii’i、 囲 2(1〜10(1) 、は1・・1ネ
ルンストの1刀係を満足する。
る3F′衡札イ1゛)値(・:1直線関係を示し−1こ
の直線の勾配lす56mV、/pH(25℃−4−t)
、 I c ) + 1ij (rll R
ii’i、 囲 2(1〜10(1) 、は1・・1ネ
ルンストの1刀係を満足する。
以上のことから、本発明のW極はハロヶ゛ンイオン共育
する系で 、ハロケ゛ンイメンの妨害をヴC)ずに水素
イオン濃度を測定できる。
する系で 、ハロケ゛ンイメンの妨害をヴC)ずに水素
イオン濃度を測定できる。
実施例
実施例1と同様、動作極11’ns+02膜/ PPO
/ 白金lit、板電極、基準極にs i0211!
7 ppo 7銀占・、板電極を用い、LtA化カリウ
ム共存中で水素イオン濃度測定を行った(第5図参照)
。?i′!5図から、pH値4()1及び686を一定
にし、KCr=共存中で水軍イ]ン濃mを測定しまた。
/ 白金lit、板電極、基準極にs i0211!
7 ppo 7銀占・、板電極を用い、LtA化カリウ
ム共存中で水素イオン濃度測定を行った(第5図参照)
。?i′!5図から、pH値4()1及び686を一定
にし、KCr=共存中で水軍イ]ン濃mを測定しまた。
塩化カリウム濃度10 M、/′l以下で1liCt−
イオンの影響を生けず水素−1オン濃度の測定ができる
。t7かし、pH9,3及び100のアルカリt1溶液
中ではpHII’lll定の際C/−イオンの影響を受
けることがわかっ/、−8″まプこ、測定液のpH値変
化に対する電極型6璽Ihの変化d1塩化カリウム必゛
む度(1、1F’へVt 。
イオンの影響を生けず水素−1オン濃度の測定ができる
。t7かし、pH9,3及び100のアルカリt1溶液
中ではpHII’lll定の際C/−イオンの影響を受
けることがわかっ/、−8″まプこ、測定液のpH値変
化に対する電極型6璽Ihの変化d1塩化カリウム必゛
む度(1、1F’へVt 。
i o−32’tで各々59 mV/IJ(、59r
50である。
50である。
しだがって、はぼネルンスト式の関係を満足し、この条
ft(C1−F4度〜10 ’M7’t 、 rll
4.0及び6.86)で水素イオン濃度1tll定がで
きる。
ft(C1−F4度〜10 ’M7’t 、 rll
4.0及び6.86)で水素イオン濃度1tll定がで
きる。
ま六−1本発明電極の塩化カリウム共7j中の平衡電1
位値が一定に達する応答時間は、2分〜・10分間であ
った。
位値が一定に達する応答時間は、2分〜・10分間であ
った。
■ 発明の具体的効果
宙、極1子は以下に述べる効果を奏する。
(1) 共存イオン、判に、ハロケ゛ンイ」ンが共存
゛する系においてさえも、水素イオン濃度測定ができる
。この5io2 Mの特徴Q」膜中に存在する5i04
−イメンがハロデ〉・イ附ンを反撥し、膜中に又膜近傍
に負イ」ンを近J゛けることを直重する効果をイjし、
又、水素イオン選択透過イ([も11(ね倫えているだ
め本発明市、極の応答速度も、PPO肘・/白金−〕、
(、板11)、イ似(t(<らべて速くなる。3(2)
応答安定件も2.0 mVへ−9.2 mV以内で安定
である。ネルンスト式もKCt濃度名々10−’(M/
/′t ) DI、内(:4.発明布、極と5SCEの
組合せ)、1、 Oo−5(/7.)以内(不発明市、
極とS 10711tA/ pp。
゛する系においてさえも、水素イオン濃度測定ができる
。この5io2 Mの特徴Q」膜中に存在する5i04
−イメンがハロデ〉・イ附ンを反撥し、膜中に又膜近傍
に負イ」ンを近J゛けることを直重する効果をイjし、
又、水素イオン選択透過イ([も11(ね倫えているだ
め本発明市、極の応答速度も、PPO肘・/白金−〕、
(、板11)、イ似(t(<らべて速くなる。3(2)
応答安定件も2.0 mVへ−9.2 mV以内で安定
である。ネルンスト式もKCt濃度名々10−’(M/
/′t ) DI、内(:4.発明布、極と5SCEの
組合せ)、1、 Oo−5(/7.)以内(不発明市、
極とS 10711tA/ pp。
膜/銀基体の組8刊−)であれu、 59 mV/’p
H(23≦rJ+ < 10 ’)、56mVΔJi
C2,0<1111<’ 6,815 )であり、水素
イオン濃度側、定か可能・である。
H(23≦rJ+ < 10 ’)、56mVΔJi
C2,0<1111<’ 6,815 )であり、水素
イオン濃度側、定か可能・である。
第1図はこ□の発明の軍、極−子の断面図、第2図はこ
の発明の電極素子を製造する際に用いるス・やツタリン
グ装置の概略図、第31ゾ1ないし第5図U、jこの発
明の電極素子の特性1示すグラフを参考例を含めて示す
図。 11A・・・基体、IIB・・・白金膜または銀系膜、
13・・・重合体膜、14・・・ガラス膜。
の発明の電極素子を製造する際に用いるス・やツタリン
グ装置の概略図、第31ゾ1ないし第5図U、jこの発
明の電極素子の特性1示すグラフを参考例を含めて示す
図。 11A・・・基体、IIB・・・白金膜または銀系膜、
13・・・重合体膜、14・・・ガラス膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)溶液中の水素イオン濃度を霜、極電位応答で(a
出するために用いられる’N、 fj素子であって、導
111体で形成された電極基体、ヒドロキシ芳香族化合
物1もしくは窒素含有芳香族化合物から誘導さI’L
ftr重合体の膜であって該電極基体の表面に直接被着
さね一/ヒもの、および該溶液中の妨害1=lンの透過
を防止する膜と(〜で該重合体膜の表向に真空蓄積によ
って被着されたケイ酸系ガラス膜からなることを特徴と
する電極孝子。 (2) ケイ酸系ガラスが8102ガラス、Na7O−
AI−20s −5102ガラス、Li 2O−At2
03−8to2ガラス、Nn2O−B205−8i02
ガラス、Na7O−T102−8i02ガラス、Na2
0−Δ、11:、203−P205−8402ガラス斗
/jr、JSi02−L i 70−L、11205−
B a O−T i O2ガラスである’N!’ i
′1’ nl’J求の範囲第1項記載のl(1極素ニー
。 (3) カラ、2.膜がl nmス4いly 1 t
tmのI’?さを有する特許請求の範囲第1項または第
2項記載の電極素子。 (4)重合体膜が電解酸化重合膜である特許請求の範囲
第1項ないし第3項のいずれかに記載の電極素子。 (5) ヒドロキシ芳香族化合物が式%式%) () (ここで、Arは芳香核、各Rは置換基、nけ1以上の
整数、mはO47’vid、IJJ上の整数であってn
+mはArの有効原子価数越えない)で示される特許請
求の範囲第1項ないし第4項の電極素子。 (6) ヒドロキシ芳香族化合物がファノール、2.
6−および;3,5−キシ1ノノール、o−、m−およ
びp−ヒドロキシベンゾフェノン、〇−およびm−ヒド
ロキシベンゾルアルコール、2.2’。 4.4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、0−1n
1−およびp−ヒドロ上シフ0ロピオフエノン、0−j ヒト、’O−、jn−およびp−ベンゾフェノールしo
−、、m〜およびp−ヒドロキシアセト/:ンヱ()
□ン、4−(p−ヒドロフェニル)−2−fり/ン、
並びにビスフェノールA′よりなる群の中から選ばれた
ものである特許請求の範囲第5項記載の電極素子。
□ (7) 窒素含有芳香族化合物が式 (ここで、Arc芳香核、Rは置換基、pは0または1
以上の整数およびqは1以上の整数であってp+qはA
rの箸効蕨子価数を越えない。 ただし、Arが含窒素複素環の場合qはOであってもよ
℃)で示される特許請求の範囲第7項ないし第4項のい
ずれかに記載の電極素子。 (8ン 窒素含有芳香族化合物dfl、2−−、’ア
ミンベンゼン、アニリン、2−アミノペンゾトリフルオ
リド、2−アミノピリジン、2.3−ジアミノピリジン
、4.4’−ジアミノゾフェニルエーテ−(0−ヒドロ
キシベンジル)アニリンおよび男ルバゾールよりなる群
の中から選ばll!また少な、 くとも1種である竺許
請求の範囲第7項記載の電極素子。 (9) 水素イオン濃度に感応するP11電極である
特許請求の範囲第1項ないし第8項のいずれかに記載の
電極素子。 00 電極基体の少なくとも表面が白釜で構成されて
いる特M’+請求の範囲第9項記載の電極素子。 (1]) 基準電極である特許請求の範囲第1項ない
し第8項のいずれかに記載の電極素子。 0オ 電極誓体の少なくとも表面が銀捷たは銀に担持さ
髄た塙化銀で構成されている特許請求の範囲第11項H
i−:載の電極素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57143683A JPS5932858A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 電極素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57143683A JPS5932858A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 電極素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5932858A true JPS5932858A (ja) | 1984-02-22 |
| JPH0237986B2 JPH0237986B2 (ja) | 1990-08-28 |
Family
ID=15344514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57143683A Granted JPS5932858A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 電極素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5932858A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63290954A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-11-28 | Terumo Corp | ガスセンサ |
| JP2008241620A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 電位測定装置 |
| WO2011065324A1 (ja) * | 2009-11-26 | 2011-06-03 | 国立大学法人三重大学 | イオン選択性電極 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6598230B2 (ja) * | 2014-04-30 | 2019-10-30 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 既設のコンクリートの脱塩処理法および再アルカリ化処理法 |
-
1982
- 1982-08-19 JP JP57143683A patent/JPS5932858A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63290954A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-11-28 | Terumo Corp | ガスセンサ |
| JP2008241620A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 電位測定装置 |
| WO2011065324A1 (ja) * | 2009-11-26 | 2011-06-03 | 国立大学法人三重大学 | イオン選択性電極 |
| JPWO2011065324A1 (ja) * | 2009-11-26 | 2013-04-11 | 国立大学法人三重大学 | イオン選択性電極 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0237986B2 (ja) | 1990-08-28 |
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