JPS5944330A - 3,4−ジメチル−ビシクロヘキシルベンゼン誘導体 - Google Patents
3,4−ジメチル−ビシクロヘキシルベンゼン誘導体Info
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- JPS5944330A JPS5944330A JP15500882A JP15500882A JPS5944330A JP S5944330 A JPS5944330 A JP S5944330A JP 15500882 A JP15500882 A JP 15500882A JP 15500882 A JP15500882 A JP 15500882A JP S5944330 A JPS5944330 A JP S5944330A
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Landscapes
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の化合物は新規な液晶物質及びそれを含有する液
晶組成物に関する。
晶組成物に関する。
液晶表示素子は液晶物質が持つ光学異方性及び誘電異方
性をオリ用したものであるが、その表示様式によってT
N型(ねじれネマチック型)、DS型(動的散乱型)、
ゲスト・ホスト型、DAP型など各種の方式に分けられ
、夫々の使用に適する液晶物質の性質は異る。しかしい
ずれの液晶物質も水分、空気、熱、光等に安定であるこ
とが必要であることは共通しており、又、室温を中心と
して出来るだけ広い温度範囲で液晶相を示すものが求め
られている。しかし現在のところ単一化合物ではこの様
な条件を満たす物質はなく、数種の液晶化合物や非液晶
化合物を混合して得られる液晶組成物を使用しているの
が現状である。特に最近は一20〜80℃という様な広
い温度範囲で作動する液晶表示素子が要求される様にな
って来た。この様な要求を満足させるためには粘度、特
に低温での粘度を低くすることが有力な手段である。し
かし一般的には透明点(N−I点)の高いものは粘度が
高く、粘度が低いもの、例えばアルキルフェニルシクロ
へキチン誘導体などは透明点が低い。
性をオリ用したものであるが、その表示様式によってT
N型(ねじれネマチック型)、DS型(動的散乱型)、
ゲスト・ホスト型、DAP型など各種の方式に分けられ
、夫々の使用に適する液晶物質の性質は異る。しかしい
ずれの液晶物質も水分、空気、熱、光等に安定であるこ
とが必要であることは共通しており、又、室温を中心と
して出来るだけ広い温度範囲で液晶相を示すものが求め
られている。しかし現在のところ単一化合物ではこの様
な条件を満たす物質はなく、数種の液晶化合物や非液晶
化合物を混合して得られる液晶組成物を使用しているの
が現状である。特に最近は一20〜80℃という様な広
い温度範囲で作動する液晶表示素子が要求される様にな
って来た。この様な要求を満足させるためには粘度、特
に低温での粘度を低くすることが有力な手段である。し
かし一般的には透明点(N−I点)の高いものは粘度が
高く、粘度が低いもの、例えばアルキルフェニルシクロ
へキチン誘導体などは透明点が低い。
本発明の目的は、この様な要求にこたえる、高いN−I
点を持ち、しかも粘度の低い化合物を提供するとと姉あ
る。
点を持ち、しかも粘度の低い化合物を提供するとと姉あ
る。
即ち、本発明は一般式
(上式中Rは水素原子又は炭素数1−10のアルキル基
を示す) で表わされる3、4−ジメチル−1−〔トランス−4’
−()ランス−4“−アルキルシクロヘキシル)ンクロ
ヘキシル〕ベンゼンである。
を示す) で表わされる3、4−ジメチル−1−〔トランス−4’
−()ランス−4“−アルキルシクロヘキシル)ンクロ
ヘキシル〕ベンゼンである。
本発明の(11式の化合物は低粘性で液晶温度範囲が約
3o〜12.Oll:と広いため、他の液晶化金物と共
に液晶組成物の一成分として使用することによシ低濡か
ら高−温まで作動する液晶表示装置を構成することが可
能とある。
3o〜12.Oll:と広いため、他の液晶化金物と共
に液晶組成物の一成分として使用することによシ低濡か
ら高−温まで作動する液晶表示装置を構成することが可
能とある。
つぎに本発明の化合物の製造法について述べる。まず、
3,4−ジメチルブロモベンゼンと金属マグネシウムを
反応させて、3.4−ジメチルベンゼンマグネシウムプ
ロミドとし、これを4−(トランス−47−アルキルシ
クロヘキシル)シクロヘキサノンと反応させて3,4−
ジメチル−1−(4’−(トランス−41−アルキルシ
クロヘキシル)シクロヘキサン−1′−オール〕ベンゼ
ン(1)とする。次にこれを硫酸水素カリウムで脱水し
て3,4−ジメチル−1−(4’−()ランス−4“−
アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル
〕ベンゼン(夏)を得る。次にこれをラネーニッケル存
在下、常温、常圧で接触還元を行ない、それを再結晶し
て目的の3,4−ジメチル−1−〔トランス−4’−(
)ランス−4“−アルキルシクロヘキシル)ンクロヘキ
シル〕ベンゼンを得る。
3,4−ジメチルブロモベンゼンと金属マグネシウムを
反応させて、3.4−ジメチルベンゼンマグネシウムプ
ロミドとし、これを4−(トランス−47−アルキルシ
クロヘキシル)シクロヘキサノンと反応させて3,4−
ジメチル−1−(4’−(トランス−41−アルキルシ
クロヘキシル)シクロヘキサン−1′−オール〕ベンゼ
ン(1)とする。次にこれを硫酸水素カリウムで脱水し
て3,4−ジメチル−1−(4’−()ランス−4“−
アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル
〕ベンゼン(夏)を得る。次にこれをラネーニッケル存
在下、常温、常圧で接触還元を行ない、それを再結晶し
て目的の3,4−ジメチル−1−〔トランス−4’−(
)ランス−4“−アルキルシクロヘキシル)ンクロヘキ
シル〕ベンゼンを得る。
以上を化学式で示すと、次のようになる。
(り
以下実施例により本発明の化合物の製法及び使用例につ
いてさらに詳細に説明する。
いてさらに詳細に説明する。
実施例1
〔3,4−ジメチル−1−〔トランス−4′−(トラン
ス−4“−ペンチルシクロへキシル)シクロヘキセン−
1′−イル〕ベンゼンの製造〕市販の3,4−ジメチル
ブロモベンゼン(75チ)の47,6 y c o、*
57モル)をテトラヒドロフラン70m1に溶かした
液を金属マグネシウム6,2 f (0,257モル)
と窒素気流中反応させ3,4−ジメチルベンゼンマグネ
シウムプロミドとする。溶液が均一になった後、4−(
トランス−4′−ヘンチルシクロヘキシル)シクロヘキ
サノン49.6 f (0,198モル)をテトラヒド
ロフランに溶かしだ液90m1を反応温度30℃以上に
ならないよう滴下する。滴下後2時間還流し、ついで3
N−塩酸150m1を加えてからn−ヘプタン500−
で抽出する。油層を洗液が中性になるまで水洗し、溶媒
を減圧留去する。残った油状物が3,4−ジメチル−1
−(4’−(トランス−4“−ペンチルシクロヘキン)
L/)シクロヘキサン−1′−オール〕ベンゼンでアリ
、これに硫酸水素カリウム15Fを加え窒累算囲気下2
00℃で2時間脱水する。冷却後、30〇−のn−へブ
タンを加え、硫酸水素カリウムを沢別し、ヘプタン層を
洗液が中性になるまで水洗する。ついで溶媒を減圧留去
し、残留物fn−へブタンとアトセンで再結晶し3,4
−ジメチル−1−(4’−(トランス−4“−アルキル
ンクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼ
ン20fを得る。次に1このもの10FをヘプタンLo
om/に溶かし、ラネーニッケル触媒3fを加え常温、
常圧で接触還元を行なう。反応をガスクロマトグラフィ
ーで追跡し、原料が消失した時点で反応を終了させた。
ス−4“−ペンチルシクロへキシル)シクロヘキセン−
1′−イル〕ベンゼンの製造〕市販の3,4−ジメチル
ブロモベンゼン(75チ)の47,6 y c o、*
57モル)をテトラヒドロフラン70m1に溶かした
液を金属マグネシウム6,2 f (0,257モル)
と窒素気流中反応させ3,4−ジメチルベンゼンマグネ
シウムプロミドとする。溶液が均一になった後、4−(
トランス−4′−ヘンチルシクロヘキシル)シクロヘキ
サノン49.6 f (0,198モル)をテトラヒド
ロフランに溶かしだ液90m1を反応温度30℃以上に
ならないよう滴下する。滴下後2時間還流し、ついで3
N−塩酸150m1を加えてからn−ヘプタン500−
で抽出する。油層を洗液が中性になるまで水洗し、溶媒
を減圧留去する。残った油状物が3,4−ジメチル−1
−(4’−(トランス−4“−ペンチルシクロヘキン)
L/)シクロヘキサン−1′−オール〕ベンゼンでアリ
、これに硫酸水素カリウム15Fを加え窒累算囲気下2
00℃で2時間脱水する。冷却後、30〇−のn−へブ
タンを加え、硫酸水素カリウムを沢別し、ヘプタン層を
洗液が中性になるまで水洗する。ついで溶媒を減圧留去
し、残留物fn−へブタンとアトセンで再結晶し3,4
−ジメチル−1−(4’−(トランス−4“−アルキル
ンクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼ
ン20fを得る。次に1このもの10FをヘプタンLo
om/に溶かし、ラネーニッケル触媒3fを加え常温、
常圧で接触還元を行なう。反応をガスクロマトグラフィ
ーで追跡し、原料が消失した時点で反応を終了させた。
触媒をr別後、溶媒を減圧留去し、残留物をヘプタンと
アセトンで再結晶を行ない目的の3,4−ジメチル−1
−(トランス、−4’−Cトランス−4“−ベンチルン
クロヘキシル)ンクロヘキシル〕ベンゼンを得だ。収量
0.43 F。このものはスメクチック液晶で、そのC
−S点は37.6℃、S−I点はl l 5.4℃であ
った。
アセトンで再結晶を行ない目的の3,4−ジメチル−1
−(トランス、−4’−Cトランス−4“−ベンチルン
クロヘキシル)ンクロヘキシル〕ベンゼンを得だ。収量
0.43 F。このものはスメクチック液晶で、そのC
−S点は37.6℃、S−I点はl l 5.4℃であ
った。
他の置換基のものについても実施例1と同様の方法で製
造できる。
造できる。
実施例2(使用例)
トランス−4−プロピル−(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 24チ トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 36% トランス−4−へブチル−(4′−シアノフェニル)ン
クゝロヘキサン 25チ 4−ンアノー4’−()ランス−4N−ペンチルシクロ
ヘキシル)ビフェニル 15%なる組成の液晶組成物
のネマチック液晶温度範囲は−10〜72.1℃である
。この液晶組成物をセル厚10μmのTNセル(ねじれ
ネマチックセル)に封入したものの動作しきい電圧は1
.7v1飽和電圧は2.1■であった。又20℃におけ
る粘度は28 cpであった。
クロヘキサン 24チ トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 36% トランス−4−へブチル−(4′−シアノフェニル)ン
クゝロヘキサン 25チ 4−ンアノー4’−()ランス−4N−ペンチルシクロ
ヘキシル)ビフェニル 15%なる組成の液晶組成物
のネマチック液晶温度範囲は−10〜72.1℃である
。この液晶組成物をセル厚10μmのTNセル(ねじれ
ネマチックセル)に封入したものの動作しきい電圧は1
.7v1飽和電圧は2.1■であった。又20℃におけ
る粘度は28 cpであった。
上記の液晶組成物95部に本発明の実施例1で示した3
、4−ジメチル−〔トランス−4′−(トランス−4〃
−ペンチルンクロヘキシル)ンクロヘキシル〕ベンゼン
5部を加えた液晶組成物のネマチック液晶温度範囲は一
1o〜73.0℃と少し広がシ、上記セルに封入した動
作しきい電圧は1,7 V 1飽和電圧は2.3■であ
った。又20℃における粘度は29Qpとほとんど上昇
しなかった。
、4−ジメチル−〔トランス−4′−(トランス−4〃
−ペンチルンクロヘキシル)ンクロヘキシル〕ベンゼン
5部を加えた液晶組成物のネマチック液晶温度範囲は一
1o〜73.0℃と少し広がシ、上記セルに封入した動
作しきい電圧は1,7 V 1飽和電圧は2.3■であ
った。又20℃における粘度は29Qpとほとんど上昇
しなかった。
以上
Claims (2)
- (1)一般式 (上式中几は水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基
を示す) で表わされる3、4−ジメチル−1−〔トランス−4’
−()ランス−4“−アルキルンクロヘキシル)ンクロ
ヘキシル〕ベンゼン。 - (2)一般式 (上式中几は水素原子又は炭素数1〜1゜のアルキル基
を示す) で表わされる3、4− i)メチル−1−〔トランス−
4’−()ランス−4“−アルキルンクロヘキシル)ン
クロヘキンル〕ベンゼンを少なくとも一種含有すること
を特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15500882A JPS5944330A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | 3,4−ジメチル−ビシクロヘキシルベンゼン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15500882A JPS5944330A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | 3,4−ジメチル−ビシクロヘキシルベンゼン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5944330A true JPS5944330A (ja) | 1984-03-12 |
Family
ID=15596669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15500882A Pending JPS5944330A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | 3,4−ジメチル−ビシクロヘキシルベンゼン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5944330A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4879061A (en) * | 1986-09-29 | 1989-11-07 | Crystaloid Electronics Co. | Liquid crystalline materials and method of making same |
| JP2010175940A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
-
1982
- 1982-09-06 JP JP15500882A patent/JPS5944330A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4879061A (en) * | 1986-09-29 | 1989-11-07 | Crystaloid Electronics Co. | Liquid crystalline materials and method of making same |
| JP2010175940A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
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| JPS5916841A (ja) | 3−フルオロ−4−置換−〔4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン | |
| JPS5995230A (ja) | 側鎖にメトキシ基を有する液晶化合物 | |
| JPH0136812B2 (ja) | ||
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| JPS5998029A (ja) | メトキシ基を有するビシクロヘキシルベンゼン誘導体 | |
| JPS5942328A (ja) | 3−フルオロフエニルシクロヘキセン誘導体 | |
| JPH0254815B2 (ja) |