JPS5945944A - 光伝送用ガラスフアイバ−の製造方法 - Google Patents
光伝送用ガラスフアイバ−の製造方法Info
- Publication number
- JPS5945944A JPS5945944A JP57152240A JP15224082A JPS5945944A JP S5945944 A JPS5945944 A JP S5945944A JP 57152240 A JP57152240 A JP 57152240A JP 15224082 A JP15224082 A JP 15224082A JP S5945944 A JPS5945944 A JP S5945944A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- acrylate
- glass
- optical transmission
- coating
- Prior art date
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- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光伝送用ガラス７アイパーの製造方法ＶＣ関し
、更に詳しくは光伝送用７アイパーの被覆相による被覆
方法に関する。
、更に詳しくは光伝送用７アイパーの被覆相による被覆
方法に関する。
一般にイコ英などの光学力２ス材料會紡丞してりくる光
伝送用ガラスファイバーの素材は、光の伝送４ｂｉ矢が
少なくρｆとり性が大きくてしかも１鼠で冴ｌ乙などの
数々の特徴ケ−１ｊするζ・近年、ガラスファイバーの
飼−ｒるこ７’ｌらの特１欽ｖＣｄ―目δ〕ｔ％ろ他の
通信ケーブル、ビル内部の池１百経路、自動車内部の通
イｕｌＩｌｌ路などに便用さｌＩできでいる。
伝送用ガラスファイバーの素材は、光の伝送４ｂｉ矢が
少なくρｆとり性が大きくてしかも１鼠で冴ｌ乙などの
数々の特徴ケ−１ｊするζ・近年、ガラスファイバーの
飼−ｒるこ７’ｌらの特１欽ｖＣｄ―目δ〕ｔ％ろ他の
通信ケーブル、ビル内部の池１百経路、自動車内部の通
イｕｌＩｌｌ路などに便用さｌＩできでいる。
一般に光伝送用力゛ラス７°ｒイバーは川とり性を維持
するためその径は通゛吊２００ミクロノ以°Ｆである。
するためその径は通゛吊２００ミクロノ以°Ｆである。
斯かるガラス７γイパーは水分の影’Ｊ ｈとにより強
度が経時的に紙上することが知られている。１また力゛
シスファイバーｃｌ）製造上程中し゛こはその表向に漱
ムｌな傷が発生し易く、こｔｌらの傷にエリｔａ械的な
強度が低ドし％また大気中の水分を吸宿（７て傷がざら
に水におかさ！１″′ｃ大さく１１に長し７機械的特性
をさらｔｉｃ ｙＪ’ （を式ぜる傾同がめる。このｌ
ｃめガラスファイバーｔそヅＪ−４−牙元伝送用線体と
（７で用いることは困難であり、周知のより−Ｃ名柚の
方法で光伝送用力′ラス７アイバーｋＣ妓潰かはどこざ
］１−（いる。
度が経時的に紙上することが知られている。１また力゛
シスファイバーｃｌ）製造上程中し゛こはその表向に漱
ムｌな傷が発生し易く、こｔｌらの傷にエリｔａ械的な
強度が低ドし％また大気中の水分を吸宿（７て傷がざら
に水におかさ！１″′ｃ大さく１１に長し７機械的特性
をさらｔｉｃ ｙＪ’ （を式ぜる傾同がめる。このｌ
ｃめガラスファイバーｔそヅＪ−４−牙元伝送用線体と
（７で用いることは困難であり、周知のより−Ｃ名柚の
方法で光伝送用力′ラス７アイバーｋＣ妓潰かはどこざ
］１−（いる。
光伝送ガラスファイバーのシーテイングの方法には加Ｍ
−法（特開１’／４５４−１５）＋９４２す、特開唱５
５−１４０７４１けなと）、紫外ｍ硬化性など柿々の彼
纜材の硬化方法が検討さｒしており、中でも光伝送ガラ
ス７アイパーの生産性の観点から一次ｆｆｔ７桐料とし
て数々の利点？有する紫外線硬化性被覆祠ネ＋１が有利
でるるとｇわれでいる。例えばこの方法としては特開昭
５４−４２４９ｔｉ号、特開＋１ｄ５５−４２２４６り
などがあげられる。光伝送用ガラスファイバーの紡糸は
篩周波加熱炉、抵抗加熱炉、酸水素炎。
−法（特開１’／４５４−１５）＋９４２す、特開唱５
５−１４０７４１けなと）、紫外ｍ硬化性など柿々の彼
纜材の硬化方法が検討さｒしており、中でも光伝送ガラ
ス７アイパーの生産性の観点から一次ｆｆｔ７桐料とし
て数々の利点？有する紫外線硬化性被覆祠ネ＋１が有利
でるるとｇわれでいる。例えばこの方法としては特開昭
５４−４２４９ｔｉ号、特開＋１ｄ５５−４２２４６り
などがあげられる。光伝送用ガラスファイバーの紡糸は
篩周波加熱炉、抵抗加熱炉、酸水素炎。
炭酸ガスツーデーなどの熱諒を用いて行なわｎ、る。
特開昭５４−４２４９６号に示さむるように、力゛ラス
ファイバーの塗装はファイバーケ紡糸直後Ｖこ１ｔｌＪ
の１ｆ１１形物に触れる四に紫外線硬化性樹ムＩ組成物
を蛾布し１巻取り機に達するまでに焼付けＩＬ、燥きせ
ることに工９行なわれる。完全ｆＣ焼１・［け乾燥させ
るためＶｃは、紡糸炉から合取り桟′までの距隘會長く
と９％長尺の乾燥炉ｆ設置ばするか％めるいは非常に遅
い線速で紡糸する必要があり、生産性百−上けるために
は非＊ ＶＣ大型の設備會必姿としｌｃ ａ盪た、光伝
送７γイバーとしての精度をコントロールするためには
紡糸に際し一定値以上の線速か必要であり従って重速で
製造することが必要である。この一つの方法として特開
昭５４−４２４９０４ｄに於ては紫外線照射？こより彼
複伺を硬化する方法が提案され−Ｃいる。
ファイバーの塗装はファイバーケ紡糸直後Ｖこ１ｔｌＪ
の１ｆ１１形物に触れる四に紫外線硬化性樹ムＩ組成物
を蛾布し１巻取り機に達するまでに焼付けＩＬ、燥きせ
ることに工９行なわれる。完全ｆＣ焼１・［け乾燥させ
るためＶｃは、紡糸炉から合取り桟′までの距隘會長く
と９％長尺の乾燥炉ｆ設置ばするか％めるいは非常に遅
い線速で紡糸する必要があり、生産性百−上けるために
は非＊ ＶＣ大型の設備會必姿としｌｃ ａ盪た、光伝
送７γイバーとしての精度をコントロールするためには
紡糸に際し一定値以上の線速か必要であり従って重速で
製造することが必要である。この一つの方法として特開
昭５４−４２４９０４ｄに於ては紫外線照射？こより彼
複伺を硬化する方法が提案され−Ｃいる。
然しなから紫外線による光硬化性藺１ｊ目波壇本うの硬
化はせいせいＨ１Ｏｍ／分稈１ぜが限界となり、さらに
生産性を上げエラとすると設備が大きくなり、ランニノ
グフスト及びメイノテナンスコストが人中に上昇する。
化はせいせいＨ１Ｏｍ／分稈１ぜが限界となり、さらに
生産性を上げエラとすると設備が大きくなり、ランニノ
グフスト及びメイノテナンスコストが人中に上昇する。
本発明者らは上記１〜だ従来方法の難点？ｒ排除し且り
紫外線硬化法ｐｃ比べても斗μａ性會ぎり１ｃ著しく向
上させた光伝送用ガンスフアイパーの波漬方法會見出し
本発明舎−・完成するに至った。
紫外線硬化法ｐｃ比べても斗μａ性會ぎり１ｃ著しく向
上させた光伝送用ガンスフアイパーの波漬方法會見出し
本発明舎−・完成するに至った。
本発明は、光伝送用ガラス７アイパーの表面に硬化被漬
物のガラス転移ＩＩｌ′１１度が−２０’Ｃ以−ド必る
いは７０°Ｃ以トの電子＃硬化＋）：肢慎組成物を咽紗
し、５０ ＫｅＶないし５００ ＫｅＶの電子線倉照肘
して該電子ｍ硬化性肢債組成吻を硬化せしめることを特
徴とする光伝送用７アイバーの製造方法に関する。
物のガラス転移ＩＩｌ′１１度が−２０’Ｃ以−ド必る
いは７０°Ｃ以トの電子＃硬化＋）：肢慎組成物を咽紗
し、５０ ＫｅＶないし５００ ＫｅＶの電子線倉照肘
して該電子ｍ硬化性肢債組成吻を硬化せしめることを特
徴とする光伝送用７アイバーの製造方法に関する。
本発明に於て、光伝送用ガラス７アイパーの被＋＆材と
して、硬化後の被覆物のガラス転移湯度が−２０−Ｃ以
下らるいは７０”Ｃ以上である電子ＰＭ硬化性ｆＩＪｌ
ｆＭ組成物を使用する。
して、硬化後の被覆物のガラス転移湯度が−２０−Ｃ以
下らるいは７０”Ｃ以上である電子ＰＭ硬化性ｆＩＪｌ
ｆＭ組成物を使用する。
Ｗ「かる電子ｓｉｅ化性化性被成組成物飽和ポリマー及
び又は不飽和オリゴマーにガラス転移ｈ ｊＸ調整用モ
ノマー及び必要に応じ添加剤を配合することにより得ら
ｊ、る。
び又は不飽和オリゴマーにガラス転移ｈ ｊＸ調整用モ
ノマー及び必要に応じ添加剤を配合することにより得ら
ｊ、る。
本発明に使用する不飽和ポリマーとは、゛電子線の照射
によって架橋・虫合しうる被験形成性ｆｔＩｔ脂を追い
、飽和結合全骨格とし、表−１に例示するがごとき官能
基金せする基体樹脂に、該官能基と付加あるいは結合反
応しつる基を有するビニル糸車口体（表−２に例示）を
従来公知の反応方法によって反応せしめた電子線のエネ
ルギーにより重合硬化可能な樹脂であって、基体樹脂と
しては、たとえばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エ
ポキシ樹脂、アミノ樹脂（たとえばメラミン樹Ｈ旨）、
ポリアミド樹脂、ボリクレタン樹脂、ビニル樹脂、シリ
コン樹脂、ジエン糸ｍ脂等よ勺選＃′ｆれたｌ柚以上が
挙げられる。これらの基体樹脂中に含何される各棟の官
能基と反応させるべきビニル糸単普体中の官能基の一例
は表−１に示すとおりである。
によって架橋・虫合しうる被験形成性ｆｔＩｔ脂を追い
、飽和結合全骨格とし、表−１に例示するがごとき官能
基金せする基体樹脂に、該官能基と付加あるいは結合反
応しつる基を有するビニル糸車口体（表−２に例示）を
従来公知の反応方法によって反応せしめた電子線のエネ
ルギーにより重合硬化可能な樹脂であって、基体樹脂と
しては、たとえばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エ
ポキシ樹脂、アミノ樹脂（たとえばメラミン樹Ｈ旨）、
ポリアミド樹脂、ボリクレタン樹脂、ビニル樹脂、シリ
コン樹脂、ジエン糸ｍ脂等よ勺選＃′ｆれたｌ柚以上が
挙げられる。これらの基体樹脂中に含何される各棟の官
能基と反応させるべきビニル糸単普体中の官能基の一例
は表−１に示すとおりである。
また、かかる官能基を有するビニル系単斂体の具体例は
表−２に掲げたとおりである。
表−２に掲げたとおりである。
また、不飽和オリゴマーとしては、たとえば分子１１１
，０００以下で２〜４個の重合性ビニル基を有する化合
物があり、これらの具体例としてジアリルフタレート、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビス−（エ
チレングリコール７タレート）ジ（メタ）アクリレート
、ビス−（ジェチレングリコール７タレート）ジ（メタ
）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ボリプロビレングリコールジ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）゛〆ク
リレート、トリレンジインシアネートと（メタ）アクリ
ル酸ヒドロキシアルキルエステルとのｌ：１（モル比）
付加物とトリメチロールエタンわるいはトリメチロール
プロパンとの１−Ｊ加反応物、ペンタエリスリトールテ
ト′７（メタ）アクリレ−）、Ｍ４水７タル酸、アジピ
ン酸、コハク酸、ヘキサヒドロ無水フタル皺などの多塩
Ｍ、欧とアクリル綾ヒドロキシエチル、アクリル欧ヒド
ロキシグロビル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタ
クリル陵ヒドロキシグロビルとのモノ又はジエステル化
９クツなどがある。
，０００以下で２〜４個の重合性ビニル基を有する化合
物があり、これらの具体例としてジアリルフタレート、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビス−（エ
チレングリコール７タレート）ジ（メタ）アクリレート
、ビス−（ジェチレングリコール７タレート）ジ（メタ
）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ボリプロビレングリコールジ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）゛〆ク
リレート、トリレンジインシアネートと（メタ）アクリ
ル酸ヒドロキシアルキルエステルとのｌ：１（モル比）
付加物とトリメチロールエタンわるいはトリメチロール
プロパンとの１−Ｊ加反応物、ペンタエリスリトールテ
ト′７（メタ）アクリレ−）、Ｍ４水７タル酸、アジピ
ン酸、コハク酸、ヘキサヒドロ無水フタル皺などの多塩
Ｍ、欧とアクリル綾ヒドロキシエチル、アクリル欧ヒド
ロキシグロビル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタ
クリル陵ヒドロキシグロビルとのモノ又はジエステル化
９クツなどがある。
Ｄｌｒ ７＞ｉる不飽和ポリマー及びＡ−リゴマーｉ、
ｊ、ｉ封１財１．１１ （１１１ｆ／当り（１，５ｙｔ
いし５１１Ｉ！！Ｉｃ／）ａ、ｌノーＡしフィン丞不飽
和結合を有することが輩゛ましい。
ｊ、ｉ封１財１．１１ （１１１ｆ／当り（１，５ｙｔ
いし５１１Ｉ！！Ｉｃ／）ａ、ｌノーＡしフィン丞不飽
和結合を有することが輩゛ましい。
衣 〜 １
表−１（つつき）
表−１（９つ＠）
表−２
表−２（つづ＠）
上記の如き不飽和ポリマー又はオリゴマーに合する不飽
和上ツマ−としては、アクリル酸およびそのニスデル類
、メタクリル酸およびそのエステル類、芳沓族ビニル単
蓋体、ｕＦ酸ビニル、ビニルニーデルなどが用いられる
。ヤの代表例とし−Ｃアクリル酸メチル、アクリル自父
エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アク
リル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸デシル、アクリル酸うクリル、アクリル酸カルピトー
ル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸エ
チルヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸テ
シル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸カービトー
ル、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル敵ヒドロキ
シグロビル、メタクリル酸ビトロキシエチル、メタクリ
ル酸ヒドロキシグロビル；エチレンオキサイド、プロピ
レンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオ
キサイドとアクリル酸ヒｔロキシエチル、アクリル酸ヒ
ドロキシグロビル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メ
タクリル酸ヒドロキシグロビルとのエーテル化物；アク
リル酸、メタクリル醒；スチレン、ビニルトルエン；な
どかφけられる。
和上ツマ−としては、アクリル酸およびそのニスデル類
、メタクリル酸およびそのエステル類、芳沓族ビニル単
蓋体、ｕＦ酸ビニル、ビニルニーデルなどが用いられる
。ヤの代表例とし−Ｃアクリル酸メチル、アクリル自父
エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アク
リル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸デシル、アクリル酸うクリル、アクリル酸カルピトー
ル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸エ
チルヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸テ
シル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸カービトー
ル、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル敵ヒドロキ
シグロビル、メタクリル酸ビトロキシエチル、メタクリ
ル酸ヒドロキシグロビル；エチレンオキサイド、プロピ
レンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオ
キサイドとアクリル酸ヒｔロキシエチル、アクリル酸ヒ
ドロキシグロビル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メ
タクリル酸ヒドロキシグロビルとのエーテル化物；アク
リル酸、メタクリル醒；スチレン、ビニルトルエン；な
どかφけられる。
本発明に係る゛＃４子極吠化性被撹組ｌＩｋ物は、に６
己の如き不飽和ポリマー及び又は不飽和オリゴマーと不
飽和上ツマ−を組合せＦ９′ｒ頃のガラス転移＃ｒａ
ＩＷを自するように＃頁配合することＶＣよってイ４ト
らｔＬる。−２（）℃以下のガラス転移幅度ケ与えるポ
リマーとしてはポリブタジェン系、アクリル糸、フレタ
ン系、変性ポリエステル糸〃・ら畑′に選択きれ、他方
、７０’Ｃ以」−のガラス転移幌ｌＷ紫与えるポリマー
としてはアクリル糸、ポリエステル基、エポキシ糸、シ
リコン糸などから一般に選択さｎる。
己の如き不飽和ポリマー及び又は不飽和オリゴマーと不
飽和上ツマ−を組合せＦ９′ｒ頃のガラス転移＃ｒａ
ＩＷを自するように＃頁配合することＶＣよってイ４ト
らｔＬる。−２（）℃以下のガラス転移幅度ケ与えるポ
リマーとしてはポリブタジェン系、アクリル糸、フレタ
ン系、変性ポリエステル糸〃・ら畑′に選択きれ、他方
、７０’Ｃ以」−のガラス転移幌ｌＷ紫与えるポリマー
としてはアクリル糸、ポリエステル基、エポキシ糸、シ
リコン糸などから一般に選択さｎる。
また、２官能、３′ば１１ト又は４官能の不飽和オリゴ
マーを配合することにより架橋密度音大きくし、力゛ラ
ス転移扁反ゲ上ける効果がイ＃らノＬる。
マーを配合することにより架橋密度音大きくし、力゛ラ
ス転移扁反ゲ上ける効果がイ＃らノＬる。
本発明Ｖｃ角いる電子線硬化性被覆組成物には、上記の
必須成分の他に所望により通常塗料に使用でれる顔料、
染料、充てん剤等の添加剤を配合することができる。
必須成分の他に所望により通常塗料に使用でれる顔料、
染料、充てん剤等の添加剤を配合することができる。
上記の如き不飽和ポリマー及び又は不飽和オリゴマーに
不飽和上ツマ−を配合しさらに所望により添加剤を配合
して硬化後のガラス転移温度が７０″Ｃ以上又は−２０
°Ｃ以下である電子線硬化性被覆組成物を容易に瀞るこ
とができる。斯くして得られ九被覆組成物を光伝送用ガ
ラスファイバーに嘲付、硬化して光伝送ファイバーを製
造するには例えば＠１図ないし第３図に示す如き製造装
置を用いる。こｉｌ、らの図に於て、ＩＳ７及び１４は
高周波加熱紡糸炉、２．８．１５は紡糸したガラスファ
イバー、３，９及び１６は電子線硬化性被覆組成物の塗
装装置、４．１０及び１７は電子線照射装置ｉｄ、１１
は後加熱装置、１８は紫外線照射ＭＭ、５．１２及び１
９はガイドロール及び６゜１３及び２０は巻取機？示す
。
不飽和上ツマ−を配合しさらに所望により添加剤を配合
して硬化後のガラス転移温度が７０″Ｃ以上又は−２０
°Ｃ以下である電子線硬化性被覆組成物を容易に瀞るこ
とができる。斯くして得られ九被覆組成物を光伝送用ガ
ラスファイバーに嘲付、硬化して光伝送ファイバーを製
造するには例えば＠１図ないし第３図に示す如き製造装
置を用いる。こｉｌ、らの図に於て、ＩＳ７及び１４は
高周波加熱紡糸炉、２．８．１５は紡糸したガラスファ
イバー、３，９及び１６は電子線硬化性被覆組成物の塗
装装置、４．１０及び１７は電子線照射装置ｉｄ、１１
は後加熱装置、１８は紫外線照射ＭＭ、５．１２及び１
９はガイドロール及び６゜１３及び２０は巻取機？示す
。
紡糸したガラスファイバーの表面に電子線被覆組成物を
塗装するに当り、硬化後のａ１俟物のガラス転移温度が
一２０℃以下である被覆組成物の塗装膜厚は通常１０〜
２００ミクロンとし、一方、ガラス転移温度が７０℃以
上の場合には通常５〜５０ミクロンとすることが有利で
ある。前者の場合に、膜厚が１０ミクロンより小さいと
鼓膜の耐水性劣化が速くなり又２００ミクロンを超える
と電子線の透過力が劣ってくる。又後者の場合、膜厚が
５ミクロンより小さいと耐水性が劣り又５００ミフロン
ケえると被膜の可撓性が劣ってくる。
塗装するに当り、硬化後のａ１俟物のガラス転移温度が
一２０℃以下である被覆組成物の塗装膜厚は通常１０〜
２００ミクロンとし、一方、ガラス転移温度が７０℃以
上の場合には通常５〜５０ミクロンとすることが有利で
ある。前者の場合に、膜厚が１０ミクロンより小さいと
鼓膜の耐水性劣化が速くなり又２００ミクロンを超える
と電子線の透過力が劣ってくる。又後者の場合、膜厚が
５ミクロンより小さいと耐水性が劣り又５００ミフロン
ケえると被膜の可撓性が劣ってくる。
光伝送ファイバーは通常使用される＃Ａ度範囲に於て被
覆物の比容積が実質的に変化“しないことが必要であり
、比容積が変化すると光伝送７アイパーがマイクロベン
ディングを起して光の伝導ロスを増大′させる結果とな
る。しかるに、本発明により硬化被覆物のガラス転移温
度が一２０″ＣＰｉ下又は７０°Ｃ以゛上である電子線
硬化性被覆組成物を塗装しに光伝送７アイパーに於ては
通常の使用ＭＡ度範囲に於ける被漬物の比容積変化は実
質的になく従って上記の如き欠陥は全く生じない。
覆物の比容積が実質的に変化“しないことが必要であり
、比容積が変化すると光伝送７アイパーがマイクロベン
ディングを起して光の伝導ロスを増大′させる結果とな
る。しかるに、本発明により硬化被覆物のガラス転移温
度が一２０″ＣＰｉ下又は７０°Ｃ以゛上である電子線
硬化性被覆組成物を塗装しに光伝送７アイパーに於ては
通常の使用ＭＡ度範囲に於ける被漬物の比容積変化は実
質的になく従って上記の如き欠陥は全く生じない。
電子線硬化性被覆組成物全塗装した後の電子線照射に使
用する電子線発生源の加速器としてＮまコツククロフト
’Ｍ＊ コツククロフトワルトン型、ノ（ン・デ・ググ
ー７型、共振変圧器型、変圧器招、絶縁コア変圧器型、
ダイナミドロン型、リニアーフィラメント梨、高周波型
などがある。本発明による電子線硬化性被覆組成物塗膜
を硬化・乾燥せしめる電子線エネルギーは５０ ＫｅＶ
〜５００ ＫｅＶ 。
用する電子線発生源の加速器としてＮまコツククロフト
’Ｍ＊ コツククロフトワルトン型、ノ（ン・デ・ググ
ー７型、共振変圧器型、変圧器招、絶縁コア変圧器型、
ダイナミドロン型、リニアーフィラメント梨、高周波型
などがある。本発明による電子線硬化性被覆組成物塗膜
を硬化・乾燥せしめる電子線エネルギーは５０ ＫｅＶ
〜５００ ＫｅＶ 。
好捷しくは１０（Ｉ ＫｅＶ 〜３００ ＫｅＶの゛範
囲が適当である。照’Ｈｔｉｌｌ ＆４は０．２ Ｍｒ
ａｄ 〜１５ Ｍｒａｄが適し、Ｉ Ｍｒａｄ 〜５
ｈｌｒａｄが好ましい。照射＠盪が０．２Ｍｒａｄより
少ない場合ＶＣは被覆物の硬化み完全でＣ言なく十分な
塗）艮のνを能が得られない。ま几照射線祉力５１５
Ｍｒａｄ −ｉｌ１ａ、するとガラスコアイノく−に
も影響を及ぼし機械的な強度の省化をもたらす２そ１１
．がある。
囲が適当である。照’Ｈｔｉｌｌ ＆４は０．２ Ｍｒ
ａｄ 〜１５ Ｍｒａｄが適し、Ｉ Ｍｒａｄ 〜５
ｈｌｒａｄが好ましい。照射＠盪が０．２Ｍｒａｄより
少ない場合ＶＣは被覆物の硬化み完全でＣ言なく十分な
塗）艮のνを能が得られない。ま几照射線祉力５１５
Ｍｒａｄ −ｉｌ１ａ、するとガラスコアイノく−に
も影響を及ぼし機械的な強度の省化をもたらす２そ１１
．がある。
電子線を申広い物に照射する場合には電子線を均一な［
１〕に拡げる必要があり、この方法に通常スキインニン
グ方式とリニアフィラメント方式（米国特許第４２４６
２９７号）の代表的女方法がおる。いずれの方法でも被
漬物の硬化のために中か約１ｍ程度のものが既に実用化
されている。光伝送用ガラスファイバーは素側自身が非
常に細いもの（２０ｔ）ミクロン以下）であるので電子
線照射の中方向の長さは数センチないし数十センチで十
分である。
１〕に拡げる必要があり、この方法に通常スキインニン
グ方式とリニアフィラメント方式（米国特許第４２４６
２９７号）の代表的女方法がおる。いずれの方法でも被
漬物の硬化のために中か約１ｍ程度のものが既に実用化
されている。光伝送用ガラスファイバーは素側自身が非
常に細いもの（２０ｔ）ミクロン以下）であるので電子
線照射の中方向の長さは数センチないし数十センチで十
分である。
リニアフイラメーントタイプであればフィラメントと平
行方向′ＶＣ電子線硬化被覆組成物ｐｌ装ファイバーを
動かして電子線を照射すればより効果的に高速のライン
スピードが得られ生殖性も大中に向上する。
行方向′ＶＣ電子線硬化被覆組成物ｐｌ装ファイバーを
動かして電子線を照射すればより効果的に高速のライン
スピードが得られ生殖性も大中に向上する。
電子線の硬化は瞬間的に起るので、塗膜に応力がかかり
易い場合もめり、このような場合第２図にホした。製木
方法により後カ１鳴すると応力が軟和される。筐１こガ
ラスに多蓋の電子１！を照射すると泊色が起る場合があ
る。このような場合＠２図及び＠３図にボした製造方法
により熱エネルギー。
易い場合もめり、このような場合第２図にホした。製木
方法により後カ１鳴すると応力が軟和される。筐１こガ
ラスに多蓋の電子１！を照射すると泊色が起る場合があ
る。このような場合＠２図及び＠３図にボした製造方法
により熱エネルギー。
尤エネルギーを与えると一般に着色は解ｌｎされる。
本発明の方法によれば電子線による硬化乾燥スピードは
電子線照射部の長さ約１ｍに於て１５０ｎ１／分〜９０
（１ｍ／分の速度が得られ、生産性′は顕著に向上し、
又得られた阪ｔ’Ｍ物は耐水性、容積安定性等が極めて
良＜、−ｉ−ぐれた特性の光伝送ガラスファイバーが得
らｒしる。
電子線照射部の長さ約１ｍに於て１５０ｎ１／分〜９０
（１ｍ／分の速度が得られ、生産性′は顕著に向上し、
又得られた阪ｔ’Ｍ物は耐水性、容積安定性等が極めて
良＜、−ｉ−ぐれた特性の光伝送ガラスファイバーが得
らｒしる。
以下、本発明を実−例によりｊ！！に詳細に説明する。
なおＦ部」はｍ歯部を意味するものとする。
実施例 ｌ
アクリル化ポリブタジェン（重合Ｊｆ １（１００）
１００都、２エチルへキシルアクリレート２ｏ都、シリ
コン糸添加Ａｌｌ Ｏ，１部からなるコーティングＭを
母相を約２１１（１０’ｃで加熱して２１３０ ｍ／９
のスピードで穏引きしたガラスファイバー（径１２０μ
）に被漬物が５０μとなるようＶＣ塗布した。その後ス
キャンニング捜電子線加速器により、電子線エネルギー
３００ＫＶ 、電子線型／ｉ３０ｍＡの条件でスキャン
ニングの方向と平行な方向に被塗物１２００ｍ／分のス
ピードで電子線を照射した。スキャンニングの中は６０
ｃｒｎで電子ビームの１゛１」は約３ ａｍであった。
１００都、２エチルへキシルアクリレート２ｏ都、シリ
コン糸添加Ａｌｌ Ｏ，１部からなるコーティングＭを
母相を約２１１（１０’ｃで加熱して２１３０ ｍ／９
のスピードで穏引きしたガラスファイバー（径１２０μ
）に被漬物が５０μとなるようＶＣ塗布した。その後ス
キャンニング捜電子線加速器により、電子線エネルギー
３００ＫＶ 、電子線型／ｉ３０ｍＡの条件でスキャン
ニングの方向と平行な方向に被塗物１２００ｍ／分のス
ピードで電子線を照射した。スキャンニングの中は６０
ｃｒｎで電子ビームの１゛１」は約３ ａｍであった。
得られた被漬物のガラス転移温度は一４８℃であった。
堕紗被漬さね、た光７アイパーの膜厚は５０μで、その
平均破断強度は４００Ｋｇ／１ｍであった。この被覆さ
ｎた光ファイバーを常況で３０日水にＩ受せ合し、その
後の破１ｔｌｒ強度は３８０Ｋｆ／／卿２でめった。
平均破断強度は４００Ｋｇ／１ｍであった。この被覆さ
ｎた光ファイバーを常況で３０日水にＩ受せ合し、その
後の破１ｔｌｒ強度は３８０Ｋｆ／／卿２でめった。
実施例 ２
ｎ−ブチルアクリレート６０都、′エチルアクリレ゛−
ト３５部、グリシジルアクリレート５部を常扇ＶＣ、Ｊ
：り共重合させ、きらにアクリル酸１０部を付加させて
分子量８０ （１（ｌ の不飽和アクリル樹脂を！ 得た。この樹脂１００都にγロニツクスＭ−１１３（東
！ｌｌ！合成゛社製４−ノニルフェノキシポリエトキシ
アクリレートの曲品名）２０部、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート２部を添加配合して電子線硬化型コ
ーティングＡｌｌ管得た。
ト３５部、グリシジルアクリレート５部を常扇ＶＣ、Ｊ
：り共重合させ、きらにアクリル酸１０部を付加させて
分子量８０ （１（ｌ の不飽和アクリル樹脂を！ 得た。この樹脂１００都にγロニツクスＭ−１１３（東
！ｌｌ！合成゛社製４−ノニルフェノキシポリエトキシ
アクリレートの曲品名）２０部、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート２部を添加配合して電子線硬化型コ
ーティングＡｌｌ管得た。
２０００ＩＣに加熱して線引きしたｂ英タイプのガラス
７アイ、（−（径０１０μ）に上記コーティングＡ＋Ｊ
ｋ１００μ となるように塗布し、スキャンニングタ
イプの電子線加速器により、電子線エネルギー２６０Ｋ
Ｖ、電子線電流４０ｍＡ、スキャンニング巾９０ｃｒｎ
でスキーＸ’ノニング中方向と平行な方向に塗装ｆＩ漬
物ｋ ３（１０ｍ／分のスピードで不活性気体雰囲気中
電子線照射ケ行なった。
７アイ、（−（径０１０μ）に上記コーティングＡ＋Ｊ
ｋ１００μ となるように塗布し、スキャンニングタ
イプの電子線加速器により、電子線エネルギー２６０Ｋ
Ｖ、電子線電流４０ｍＡ、スキャンニング巾９０ｃｒｎ
でスキーＸ’ノニング中方向と平行な方向に塗装ｆＩ漬
物ｋ ３（１０ｍ／分のスピードで不活性気体雰囲気中
電子線照射ケ行なった。
この後、２１）０℃の雰囲気中［２秒間この塗装被覆し
たガラス７γイパーをさらした。このｅｔ濱硬化物のガ
ラス転移温度は一２５℃℃あった。
たガラス７γイパーをさらした。このｅｔ濱硬化物のガ
ラス転移温度は一２５℃℃あった。
Ｖ慎されたガラスファイバーの４を水性、耐沸とつ水性
は良好−（：あった、。
は良好−（：あった、。
実施例 ３
ボリエーテルクレタン、アクリレートｍ脂（分子ｊｉｋ
２０００ 木喘不飽和アクリレートＭ、２個／分子）
１００部にカーピトールアクリレートｌ ＯＨＢ、ヘキ
なる電子線硬化性被醍剤全得た。
２０００ 木喘不飽和アクリレートＭ、２個／分子）
１００部にカーピトールアクリレートｌ ＯＨＢ、ヘキ
なる電子線硬化性被醍剤全得た。
母体ｉ ２（１００℃に加熱して線引きして得らｎ、た
ガラス７アイパー（径９０μ）に上記コーティング剤を
厚さ２（）μとなるように塗４ｉ Ｌ、リニアーフィラ
メント型の電子線加速器により、フィラメントと串打方
向に塗装物を流して不活性気体雰囲気中電子線全照射し
た。リニアーフィラメント乎行方向の電子線の照射中は
６０ｚで電子線エネルギー ｉ：！ ２（ＩＯＫＶ 、
電子ａｍ流ハ２５ｍＡ７ｃｈ ツｆｔ。Ｃ（１）どきの
電子線の照射スピードは２５０ｍ／分であった。
ガラス７アイパー（径９０μ）に上記コーティング剤を
厚さ２（）μとなるように塗４ｉ Ｌ、リニアーフィラ
メント型の電子線加速器により、フィラメントと串打方
向に塗装物を流して不活性気体雰囲気中電子線全照射し
た。リニアーフィラメント乎行方向の電子線の照射中は
６０ｚで電子線エネルギー ｉ：！ ２（ＩＯＫＶ 、
電子ａｍ流ハ２５ｍＡ７ｃｈ ツｆｔ。Ｃ（１）どきの
電子線の照射スピードは２５０ｍ／分であった。
この後２８０℃のふんい気で１ ｆｒＪ）アフターヒー
トした。この硬化被覆物のガラス転移温度は−３０’Ｃ
で、Ｍらｔまたガラスファイバーの強度、耐水性は良好
−Ｃあすだ。
トした。この硬化被覆物のガラス転移温度は−３０’Ｃ
で、Ｍらｔまたガラスファイバーの強度、耐水性は良好
−Ｃあすだ。
実施例 ４
不ｕ、相−／ ：／ ’Ｉ ｔしｈｌｉｌ ＩＪｌｆ
（２ＥＨＡ 、 ｉ ＢＡ 、ｆｆＥＭＡ共１１１、打
体Ｖ（つＬ／タノ反応に、ＬすＩＩＥＡを瑯入し、不飽
和、！ｔ Ｔｈ 導入１．に％ （１） ） （分子１
３０（１０，分子ｊｌ＆］０（１０当りの２１１１結合
す、ｔｌ、５個） １００部、ト−Ｌ／ チオコール１
． Ｐ−３（東しチオコール社製ポリサルファイドポリ
マー、Ｉ）９品名） ２０ ｓｒｓ、テロニックスろ英
ガラスを上体とするｉＢ体？ ２０（１０−Ｃに加熱し
、カラスファイバー全紡糸し、その直後ｔｉｃ上記塗料
を５０μとなるように塗布１７リニアーフイラメント！
管の電子線加速器ＶＣ’、Ｊ：リフィラメントと平行の
方向ＶＣ向かつて電子線照射スピード４００ ｍ／分子
電子線をＩ＋畷嘆暫寸した。
（２ＥＨＡ 、 ｉ ＢＡ 、ｆｆＥＭＡ共１１１、打
体Ｖ（つＬ／タノ反応に、ＬすＩＩＥＡを瑯入し、不飽
和、！ｔ Ｔｈ 導入１．に％ （１） ） （分子１
３０（１０，分子ｊｌ＆］０（１０当りの２１１１結合
す、ｔｌ、５個） １００部、ト−Ｌ／ チオコール１
． Ｐ−３（東しチオコール社製ポリサルファイドポリ
マー、Ｉ）９品名） ２０ ｓｒｓ、テロニックスろ英
ガラスを上体とするｉＢ体？ ２０（１０−Ｃに加熱し
、カラスファイバー全紡糸し、その直後ｔｉｃ上記塗料
を５０μとなるように塗布１７リニアーフイラメント！
管の電子線加速器ＶＣ’、Ｊ：リフィラメントと平行の
方向ＶＣ向かつて電子線照射スピード４００ ｍ／分子
電子線をＩ＋畷嘆暫寸した。
この後２０ Ｋ Ｗの紫外線ランプに０５秒照射した。
この硬化被覆物の力゛２ス転転移度は一２９′Ｃでめっ
た。
た。
被覆でれたガラスファイバーの破断強度、耐水性は良好
でめった。
でめった。
実施例 ５
エポキシアクリレート樹脂（分子ｊｔ ｆｉｏｏ ）
１１１０部、ヘキサンジオールジアクリレート２０部、
トリメリロールブロバントリアクリレート５部、シリコ
ン添加剤１部からなる電子線硬化塗料を得た。
１１１０部、ヘキサンジオールジアクリレート２０部、
トリメリロールブロバントリアクリレート５部、シリコ
ン添加剤１部からなる電子線硬化塗料を得た。
ろ英ガラス全土成分とするガラスファイバーの紡糸直後
に（径１００μ）上記被覆物を：（０μとなるように塗
装し、リニアーフィラメント型の電子線加速器により、
電子線を照射スビニド５００ ｍ Ａ）で−照射した。
に（径１００μ）上記被覆物を：（０μとなるように塗
装し、リニアーフィラメント型の電子線加速器により、
電子線を照射スビニド５００ ｍ Ａ）で−照射した。
得られた被覆物のガラス転移温度は８２℃であり、得う
れたガラスファイバーの破断強度、耐水性は良好であっ
た。
れたガラスファイバーの破断強度、耐水性は良好であっ
た。
実施例 ｂ
フレタンアクリレート樹脂（分装置７００ ）１００部
、ペンタエリスリｔ・−ルトリアクリレー） ２０ 部
、ネオベンチルグリコールジアクリレー）２０部、Ｆ６
加剤１部からなる電子線硬化性塗料を得た。
、ペンタエリスリｔ・−ルトリアクリレー） ２０ 部
、ネオベンチルグリコールジアクリレー）２０部、Ｆ６
加剤１部からなる電子線硬化性塗料を得た。
４９４４’ ｋ ２１）００’Ｃに加熱して石英ガラス
全生成分とするガラスファイバーを紡糸し、その直後に
上記塗料を５（）μ″となるように塗布し、スキャンニ
ングタイプの亀す線加速器により照射スピード２５０ｍ
／分で２回電子線を照射した。
全生成分とするガラスファイバーを紡糸し、その直後に
上記塗料を５（）μ″となるように塗布し、スキャンニ
ングタイプの亀す線加速器により照射スピード２５０ｍ
／分で２回電子線を照射した。
その後３１１＋１ ℃のふＸ７囲気に１抄ざらし仮積さ
れたガラスファイバーを得た。この被漬物のガラス転移
幅ＪＷは１０５℃であった。
れたガラスファイバーを得た。この被漬物のガラス転移
幅ＪＷは１０５℃であった。
得られたガラスファイバーの耐水性、破ｗｒ強度は良好
であつｌこ。
であつｌこ。
第１図、外２図々ひ第３図は七ｒ１．それ本発明に使用
する光伝送カ゛ラスファイバーの製造装置の概略図でし
る、１ （Ｊ−ス １ ）
する光伝送カ゛ラスファイバーの製造装置の概略図でし
る、１ （Ｊ−ス １ ）
Claims (1)
- （１） 元伝送用ガラスファイバーの表向に蚊化肢漬
物の力゛ラス転移幅度が一２０℃以−ドあるいは７０′
Ｃ以上の電子線硬化性被羨組成物を塗装し５０ ＫｅＶ
ｈ イＬ、 ５０（ｌ ＫｅＶ （Ｄ ”１１１子線
ヲ照射して該繊−Ｆ線硬化性被反組成物を硬化せしめる
ことを特赦とする元伝送用ファイバーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57152240A JPS5945944A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 光伝送用ガラスフアイバ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57152240A JPS5945944A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 光伝送用ガラスフアイバ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5945944A true JPS5945944A (ja) | 1984-03-15 |
| JPH0227296B2 JPH0227296B2 (ja) | 1990-06-15 |
Family
ID=15536147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57152240A Granted JPS5945944A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 光伝送用ガラスフアイバ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5945944A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5817559U (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-03 | 本田技研工業株式会社 | ガスレ−トセンサ |
| JPS5833164A (ja) * | 1981-08-24 | 1983-02-26 | Honda Motor Co Ltd | ガスレ−トセンサ |
| JPS61198104A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-02 | Nissin Electric Co Ltd | 光フアイバ−の製造方法 |
| WO1998041484A1 (en) * | 1997-03-18 | 1998-09-24 | Dsm N.V. | Method for curing optical fiber coatings and inks by low power electron beam radiation |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58223638A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-26 | デソト・インコ−ポレ−テツド | コーテイング組成物 |
-
1982
- 1982-08-31 JP JP57152240A patent/JPS5945944A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58223638A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-26 | デソト・インコ−ポレ−テツド | コーテイング組成物 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5817559U (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-03 | 本田技研工業株式会社 | ガスレ−トセンサ |
| JPS5833164A (ja) * | 1981-08-24 | 1983-02-26 | Honda Motor Co Ltd | ガスレ−トセンサ |
| JPS61198104A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-02 | Nissin Electric Co Ltd | 光フアイバ−の製造方法 |
| WO1998041484A1 (en) * | 1997-03-18 | 1998-09-24 | Dsm N.V. | Method for curing optical fiber coatings and inks by low power electron beam radiation |
| US6246824B1 (en) | 1997-03-18 | 2001-06-12 | Dsm N.V. | Method for curing optical glass fiber coatings and inks by low power electron beam radiation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0227296B2 (ja) | 1990-06-15 |
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