JPS5949562B2 - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
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- JPS5949562B2 JPS5949562B2 JP54085001A JP8500179A JPS5949562B2 JP S5949562 B2 JPS5949562 B2 JP S5949562B2 JP 54085001 A JP54085001 A JP 54085001A JP 8500179 A JP8500179 A JP 8500179A JP S5949562 B2 JPS5949562 B2 JP S5949562B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液晶表示素子に関する。
従来、液晶セル特に電界の作用により動作する電気光学
的効果を利用したネマチツタ液晶表示素子においては、
配向膜としてSiOの蒸着膜など無機質材料が主に用い
られていた。
的効果を利用したネマチツタ液晶表示素子においては、
配向膜としてSiOの蒸着膜など無機質材料が主に用い
られていた。
その理由は、これら無機膜は液晶と接しても液晶に溶解
しないので悪響影を与える要因を持たず、またガラスフ
リツトシールを行つても、シツフ型液晶並びにビフエニ
ル型液晶を均一に配向できる利点があるためである。一
方、配向膜に各種有機高分子材料を用いて布等で一方向
にこすつて配向処理した後、こすり方向が互いに直交す
るようにした液晶表示素子が既に提案されている。
しないので悪響影を与える要因を持たず、またガラスフ
リツトシールを行つても、シツフ型液晶並びにビフエニ
ル型液晶を均一に配向できる利点があるためである。一
方、配向膜に各種有機高分子材料を用いて布等で一方向
にこすつて配向処理した後、こすり方向が互いに直交す
るようにした液晶表示素子が既に提案されている。
例えば、フツ素棚眠ポリビニルアルコール、ポリエステ
ル、ケイ素樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フエノール
樹脂、エポキ 1シ樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂
、レゾルシン樹脂、フラン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン
、ポリビニルブチラート、ポリスルホン、ポリアミド、
ポリエステルイミド、ポリアミドイミド、ンポリカーボ
ネート、ポリアセタール、ポリエチレン、セルロース系
樹脂、天然ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエンコム、ポリブタジエン、ポリイソ
プレン、メルカプト系シランカツプリング剤、エポキシ
系シランカツプリング剤、アミノ系シランカツプリング
剤、ビスコースレーヨン、ポリ−メチル一α−シアノア
クリレート等がある。しかし、このような高分子膜は、
液晶配向の均一性が十分とは言えず、また長期に亘る通
電試験及び劣化試験によつて、無機絶縁膜に比較して配
向の不均一性が増加しやすく、個々の液晶表示素子にか
なりのばらつきが発生する欠点がある。また、ガラスフ
リツトシールは約350℃〜400℃に加熱されるが、
耐熱性が不十分なため、配向膜が破壊されて液晶が配向
しないという欠点がある。次に、配向に使用される他の
耐熱性の高分子材料として、ポリイミド(特開昭51−
65960)がある。
ル、ケイ素樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フエノール
樹脂、エポキ 1シ樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂
、レゾルシン樹脂、フラン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン
、ポリビニルブチラート、ポリスルホン、ポリアミド、
ポリエステルイミド、ポリアミドイミド、ンポリカーボ
ネート、ポリアセタール、ポリエチレン、セルロース系
樹脂、天然ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエンコム、ポリブタジエン、ポリイソ
プレン、メルカプト系シランカツプリング剤、エポキシ
系シランカツプリング剤、アミノ系シランカツプリング
剤、ビスコースレーヨン、ポリ−メチル一α−シアノア
クリレート等がある。しかし、このような高分子膜は、
液晶配向の均一性が十分とは言えず、また長期に亘る通
電試験及び劣化試験によつて、無機絶縁膜に比較して配
向の不均一性が増加しやすく、個々の液晶表示素子にか
なりのばらつきが発生する欠点がある。また、ガラスフ
リツトシールは約350℃〜400℃に加熱されるが、
耐熱性が不十分なため、配向膜が破壊されて液晶が配向
しないという欠点がある。次に、配向に使用される他の
耐熱性の高分子材料として、ポリイミド(特開昭51−
65960)がある。
このような高分子は、前記の耐熱性の低い高分子に比較
して、有機シールを用いた場合には配向の均一性並びに
長期に亘る通電試験及び劣化試験での耐久性はかなり良
好である。しかし、これらの有機高分子、例えば一般的
なポリイミド重合体である一般式で示されるポリマーは
、350般C〜400℃でガラスフリツトシールを行う
と非常に茶褐色になり、液晶を封入した際にSiOの蒸
着膜に比較して暗視野で透過率が非常に低下し表示品質
の機能を満たさないことが明らかになつた。
して、有機シールを用いた場合には配向の均一性並びに
長期に亘る通電試験及び劣化試験での耐久性はかなり良
好である。しかし、これらの有機高分子、例えば一般的
なポリイミド重合体である一般式で示されるポリマーは
、350般C〜400℃でガラスフリツトシールを行う
と非常に茶褐色になり、液晶を封入した際にSiOの蒸
着膜に比較して暗視野で透過率が非常に低下し表示品質
の機能を満たさないことが明らかになつた。
また、液晶基板上にポリイミドの前駆物質であるポリア
ミド酸を塗布して配向膜に使用されるが、その際に基板
に対して非常に接着性が悪いことと水分が浸透しやすい
欠点が見られる。そのため、ポリイミド重合 5体配向
膜のみでは、配向膜のはがれが生じ配向不良の原因とな
る。又、有機シールの際にはシールを通つて液晶素子内
に侵入した水分は、ガラス基板表面にぎよう集し微細な
水滴状となつて付着する。これがセグメント電極の周辺
沿面抵抗Rを低下させて、点灯時にリーク電流が流れ、
電極周辺の領域が電極状となつて文字等ににじみが生じ
るという問題があつた。本発明の目的は、配向性に優れ
かつ基板との接着性に優れた液晶表示素子を得ることに
ある。
ミド酸を塗布して配向膜に使用されるが、その際に基板
に対して非常に接着性が悪いことと水分が浸透しやすい
欠点が見られる。そのため、ポリイミド重合 5体配向
膜のみでは、配向膜のはがれが生じ配向不良の原因とな
る。又、有機シールの際にはシールを通つて液晶素子内
に侵入した水分は、ガラス基板表面にぎよう集し微細な
水滴状となつて付着する。これがセグメント電極の周辺
沿面抵抗Rを低下させて、点灯時にリーク電流が流れ、
電極周辺の領域が電極状となつて文字等ににじみが生じ
るという問題があつた。本発明の目的は、配向性に優れ
かつ基板との接着性に優れた液晶表示素子を得ることに
ある。
本発明の液晶表示素子は液晶配向膜がイソインドロキナ
ゾリンジオンとシロキサン結合とを有するポリイミドー
イソインドロキナゾリンジオンーシロキサン共重合体か
らなることを特徴とする。本発明者らは、上記の情況を
考慮し鋭意研究した結果、有機シールあるいはガラスフ
リツトシールのいずれの方法をとつても、茶褐色となつ
たり沿面抵抗の低下、にじみの発生などを招いたりせず
に、透過率高く液晶配向性にすぐれた配向膜を形成する
ことによつて、優良品質の液晶表示素子を提供すること
に成効した。すなわち、本発明の液晶表示素子は、液晶
配向膜が例えば次の一般式および(式中で、Ar1はテ
トラカルポン酸の有機残であり、Ar2は2価の有機基
例えばアルキレンアリーレン基であり、Qは−0−もし
くは−O−Si−《 》一苧1−0− であり、Rアル
キル基もしくはアリール基である)でそれぞれ表わされ
る単位構造を含むポリイミーイソインドロキナゾリンジ
オンーシロキサン重合体からなることに、その特徴とし
ている。
ゾリンジオンとシロキサン結合とを有するポリイミドー
イソインドロキナゾリンジオンーシロキサン共重合体か
らなることを特徴とする。本発明者らは、上記の情況を
考慮し鋭意研究した結果、有機シールあるいはガラスフ
リツトシールのいずれの方法をとつても、茶褐色となつ
たり沿面抵抗の低下、にじみの発生などを招いたりせず
に、透過率高く液晶配向性にすぐれた配向膜を形成する
ことによつて、優良品質の液晶表示素子を提供すること
に成効した。すなわち、本発明の液晶表示素子は、液晶
配向膜が例えば次の一般式および(式中で、Ar1はテ
トラカルポン酸の有機残であり、Ar2は2価の有機基
例えばアルキレンアリーレン基であり、Qは−0−もし
くは−O−Si−《 》一苧1−0− であり、Rアル
キル基もしくはアリール基である)でそれぞれ表わされ
る単位構造を含むポリイミーイソインドロキナゾリンジ
オンーシロキサン重合体からなることに、その特徴とし
ている。
本発明で用いるポリイミドーイソインドロキゾリンジオ
ンーシロキサン共重合は、テトラカルボン酸二無水物、
ジアミノモノカルボンアミドおよびジアミン化合物とし
て少なくともジアミノシロキサン化合物を、溶媒の存在
において反応させることによつて合成できる。そして、
テトラカルボン酸二無水物としては例えばピロメリツト
酸二無水物、3,3′,4,47−べンゾフエノンテト
ラカルボン酸二無水物が、ジアミノモノカルボンアミド
としては4,4!−ジアミノジフエニルエーテル−3−
ノJルボンアミドが用いられる。また、ジアミノシロキ
サン化合物には、下記の式の群で表わされるような化合
物が含まれる。前記各成分化合物は2種以上を用いるこ
ともで 1きる。
ンーシロキサン共重合は、テトラカルボン酸二無水物、
ジアミノモノカルボンアミドおよびジアミン化合物とし
て少なくともジアミノシロキサン化合物を、溶媒の存在
において反応させることによつて合成できる。そして、
テトラカルボン酸二無水物としては例えばピロメリツト
酸二無水物、3,3′,4,47−べンゾフエノンテト
ラカルボン酸二無水物が、ジアミノモノカルボンアミド
としては4,4!−ジアミノジフエニルエーテル−3−
ノJルボンアミドが用いられる。また、ジアミノシロキ
サン化合物には、下記の式の群で表わされるような化合
物が含まれる。前記各成分化合物は2種以上を用いるこ
ともで 1きる。
次に、有機溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン
、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルフ
オルムアミドなどが使用できる。
、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルフ
オルムアミドなどが使用できる。
前記ジアミノモノカルボンアミド化合物とジア 1ミノ
シロキサン化合物との比率は前者95〜50モル%に対
し、後者5〜50モル%の範囲から選択すればよい。ジ
アミノモノカルボンアミド化合物、ジアミノシロキサン
化合物の混合物とテトラカルボン酸二無水物との比率は
等モルが最適であ シる。本発明を実施する場合、電極
層の下層または土層に無機絶縁膜を設けた基板で実施す
れば更にすぐれた素子が得られる。これはガラス基板上
の該共重合体樹脂膜よりもSiO2などの膜上の共重合
体樹脂膜の方が比較的加熱減量が少なくなると 2いう
実験結果に基づくものである。このような効果を示す絶
縁膜としてはS102,Al203,TiO2などが挙
げられる。本発明で用いる配向膜形成に当り、重合体溶
液の取り扱いに特別の配慮を要せず、刷毛塗り、浸潰、
回転塗布、印刷、その他慣 3用の手段を用いて行い、
皮膜硬化後は布、ガーゼ等でこすり操作を加える。これ
によつて38『Cでフリツトシールを行い液晶表示素子
を形成することができる。液晶表示素子は、周知のよう
に2枚の基板の周辺部分にある端子部を露出させ、外部
導体に接続する必要があるが、配向膜の端子部エツチン
グには本発明においても常用の手段を用いることができ
、例えば、端子部にマスクレジストを印刷し該重合体樹
脂膜形成後これを除去する方法あるいは酸素ブラズマの
使用により行われる。
シロキサン化合物との比率は前者95〜50モル%に対
し、後者5〜50モル%の範囲から選択すればよい。ジ
アミノモノカルボンアミド化合物、ジアミノシロキサン
化合物の混合物とテトラカルボン酸二無水物との比率は
等モルが最適であ シる。本発明を実施する場合、電極
層の下層または土層に無機絶縁膜を設けた基板で実施す
れば更にすぐれた素子が得られる。これはガラス基板上
の該共重合体樹脂膜よりもSiO2などの膜上の共重合
体樹脂膜の方が比較的加熱減量が少なくなると 2いう
実験結果に基づくものである。このような効果を示す絶
縁膜としてはS102,Al203,TiO2などが挙
げられる。本発明で用いる配向膜形成に当り、重合体溶
液の取り扱いに特別の配慮を要せず、刷毛塗り、浸潰、
回転塗布、印刷、その他慣 3用の手段を用いて行い、
皮膜硬化後は布、ガーゼ等でこすり操作を加える。これ
によつて38『Cでフリツトシールを行い液晶表示素子
を形成することができる。液晶表示素子は、周知のよう
に2枚の基板の周辺部分にある端子部を露出させ、外部
導体に接続する必要があるが、配向膜の端子部エツチン
グには本発明においても常用の手段を用いることができ
、例えば、端子部にマスクレジストを印刷し該重合体樹
脂膜形成後これを除去する方法あるいは酸素ブラズマの
使用により行われる。
本発明の表示素子に封入する液晶化合物としては、(1
)シツフ型液晶(例えばの混合物),(2)ビフエニル
型液晶(例えばの混合物),(3)エステル型液晶(例
えばの混合物),(4)シクロヘキサン型液晶(例えば
の混合物)等を用いることができる。
)シツフ型液晶(例えばの混合物),(2)ビフエニル
型液晶(例えばの混合物),(3)エステル型液晶(例
えばの混合物),(4)シクロヘキサン型液晶(例えば
の混合物)等を用いることができる。
いずれも2成分以上の混合物である。本発明によれば、
フリツトシールを行つても液晶を封入した際に茶褐色に
ならず、透過率にも優れ、又、基板上への接着性を向上
したために配向膜はがれも生ぜず、品質に優れた配向性
を示す液晶素子作製が可能である。
フリツトシールを行つても液晶を封入した際に茶褐色に
ならず、透過率にも優れ、又、基板上への接着性を向上
したために配向膜はがれも生ぜず、品質に優れた配向性
を示す液晶素子作製が可能である。
又、有機シールを行なつた際にも沿面抵抗の低下が防止
され、Iこじみ」などの発生は見られない。実施例 1 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カルボン
アミド(95モル%)と一般式で示される化合物(5モ
ル%)3,3′,4,4Lベンゾフエノンテトラカルボ
ン酸二無水物(100モル%)及びN−メチル−Z−ピ
ロリドンをフラスコに入れ、15〜20℃で5時間攪拌
した。
され、Iこじみ」などの発生は見られない。実施例 1 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カルボン
アミド(95モル%)と一般式で示される化合物(5モ
ル%)3,3′,4,4Lベンゾフエノンテトラカルボ
ン酸二無水物(100モル%)及びN−メチル−Z−ピ
ロリドンをフラスコに入れ、15〜20℃で5時間攪拌
した。
25℃での粘度25,000cpの15%共重合体溶液
を得た。
を得た。
この溶液を3%に希釈したのち、予めSiO2の無機膜
を1,000λの厚さに形成し、さらにIn203を主
成分とする透明電極を形成し、端子部にマスク材を印刷
した基板に回転塗布で重合体溶液を塗布した。マスク材
を除去後、250℃で1時間加熱閉環させ、ポリイミド
ーイソインドロキナゾリンジオンーシロキサン共重合樹
脂の配向膜を800λの厚さに形成した。その後一定方
向に綿布でこすり操作を行い、基板周辺にガラ.スフリ
ツトを印刷し、2枚の基板を組み合せて、380℃で3
0分間焼成し素子を形成した。これらの素子にそれぞれ
別個に表に示した液晶を注入し、しかる後にそれぞれの
注入口をエポキシ樹脂で封止して、液晶素子を作製した
。これらの素子.を分光器を用いて透過率を調べた。又
、素子を70℃,RH95%のふん囲気中に100時間
放置した後、点灯し「にじみ」の有無も調べた。その結
果を表に示したが、素子の透過率が向上し、沿面抵抗が
ほとんど低下せず「にじみ」の発生しない表示素子を作
製できた。実施例 2 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カルボン
アミド(50モル%)と一般式で示される化合物(50
モル%)とピロメリツト酸二無水物(50モル%),3
,3′,4,4′−べンゾフエノンテトラカルボン酸二
無水物(50モル%)をN,N−ジメチルアセトアミド
中で15℃、6時間反応させて、25℃での粘度200
00cpの15.%共重合体溶液を得た。
を1,000λの厚さに形成し、さらにIn203を主
成分とする透明電極を形成し、端子部にマスク材を印刷
した基板に回転塗布で重合体溶液を塗布した。マスク材
を除去後、250℃で1時間加熱閉環させ、ポリイミド
ーイソインドロキナゾリンジオンーシロキサン共重合樹
脂の配向膜を800λの厚さに形成した。その後一定方
向に綿布でこすり操作を行い、基板周辺にガラ.スフリ
ツトを印刷し、2枚の基板を組み合せて、380℃で3
0分間焼成し素子を形成した。これらの素子にそれぞれ
別個に表に示した液晶を注入し、しかる後にそれぞれの
注入口をエポキシ樹脂で封止して、液晶素子を作製した
。これらの素子.を分光器を用いて透過率を調べた。又
、素子を70℃,RH95%のふん囲気中に100時間
放置した後、点灯し「にじみ」の有無も調べた。その結
果を表に示したが、素子の透過率が向上し、沿面抵抗が
ほとんど低下せず「にじみ」の発生しない表示素子を作
製できた。実施例 2 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カルボン
アミド(50モル%)と一般式で示される化合物(50
モル%)とピロメリツト酸二無水物(50モル%),3
,3′,4,4′−べンゾフエノンテトラカルボン酸二
無水物(50モル%)をN,N−ジメチルアセトアミド
中で15℃、6時間反応させて、25℃での粘度200
00cpの15.%共重合体溶液を得た。
この溶液を4%に希釈し、In203の透明電極の端子
部にマスク材を印刷し回転塗布で重合体溶液を塗布し、
マスク材を除去後、280℃で加熱閉環させ、ポリイミ
ドーイソインドロキナゾリンジオンーシロキサン共重合
樹脂を有する配向膜を1200人の厚さに形成した。以
下、実施例1と同様に素子を作成し、透過率と沿面抵抗
を測定した。
部にマスク材を印刷し回転塗布で重合体溶液を塗布し、
マスク材を除去後、280℃で加熱閉環させ、ポリイミ
ドーイソインドロキナゾリンジオンーシロキサン共重合
樹脂を有する配向膜を1200人の厚さに形成した。以
下、実施例1と同様に素子を作成し、透過率と沿面抵抗
を測定した。
結果を前記表に示す。実施例 34,4′−ジアミノジ
フエニルエーテル−3−カルボンアミド(80モル%)
と一般式で示される化合物(20モル%)とピロメリツ
ト酸二無水物(100モル(:fb)をN,N−ジメチ
ルフオルムアミド中で2『C,7時間反応させて、25
℃での粘度18000cpの17%共重合体溶液を得た
。
フエニルエーテル−3−カルボンアミド(80モル%)
と一般式で示される化合物(20モル%)とピロメリツ
ト酸二無水物(100モル(:fb)をN,N−ジメチ
ルフオルムアミド中で2『C,7時間反応させて、25
℃での粘度18000cpの17%共重合体溶液を得た
。
この溶液を5%に希釈し、実施例1と同様の工程を経て
配向膜を1000人の厚さに形成した。結果を表に示す
。実施例 4 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カルボン
アミド(70モル%)と一般式で示される化合物(30
モル%)と3,3′,4,4′−べンゾフエノンテトラ
カルボン酸二無水物(100モル%)をN−メチル−2
−ピロリドン中で2『C,5時間反応させて、25℃で
の粘度25000cpの18%共重合体溶液を得た。
配向膜を1000人の厚さに形成した。結果を表に示す
。実施例 4 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カルボン
アミド(70モル%)と一般式で示される化合物(30
モル%)と3,3′,4,4′−べンゾフエノンテトラ
カルボン酸二無水物(100モル%)をN−メチル−2
−ピロリドン中で2『C,5時間反応させて、25℃で
の粘度25000cpの18%共重合体溶液を得た。
この溶液を3CI)に希釈し、実施例1と同様の工程を
経て配向膜を1200λの厚さに形成した。結果を表に
示ず。実施例 5 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル ルボンアミド(60モル%)ど一般式 で示される化合物(40モル%)とピロメリツト酸二無
水物(100モル%)をN,N−ジメチルアセトアミド
中で20℃,7時間反応させて、25℃の粘度2100
0cpの15%共重合体溶液を得た。
経て配向膜を1200λの厚さに形成した。結果を表に
示ず。実施例 5 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル ルボンアミド(60モル%)ど一般式 で示される化合物(40モル%)とピロメリツト酸二無
水物(100モル%)をN,N−ジメチルアセトアミド
中で20℃,7時間反応させて、25℃の粘度2100
0cpの15%共重合体溶液を得た。
この溶液を4%に希釈し、実施例1同様の工程を経て配
向膜を800人の厚さに形成した。結果を表に示す。実
施例 6 実施例1の共重合体溶液を用いて、同様の操作で有機シ
ール素子を形成し、それぞれの液晶を注入した。
向膜を800人の厚さに形成した。結果を表に示す。実
施例 6 実施例1の共重合体溶液を用いて、同様の操作で有機シ
ール素子を形成し、それぞれの液晶を注入した。
結果を表に示す。実施例 7
実施例3の共重合体溶液を用いて、同様の操作で有機シ
ール素子を形成し、それぞれの液晶を注人した。
ール素子を形成し、それぞれの液晶を注人した。
結果を表に示す。実施例 8
実施例5の共重合体溶液を用いて、同様の操作で有機シ
ール素子を形成し、それぞれの液晶を注入した。
ール素子を形成し、それぞれの液晶を注入した。
結果を表に示す。以上の結果から本発明のポリイミドー
イソインドロキナゾリンジオンーシロキサン共重合樹脂
を配向膜に用いた液晶表示素子は、透過率が同上し、沿
面抵抗の抵下が少なく「にじみ」が発生せず、表示性に
極めて優れている。
イソインドロキナゾリンジオンーシロキサン共重合樹脂
を配向膜に用いた液晶表示素子は、透過率が同上し、沿
面抵抗の抵下が少なく「にじみ」が発生せず、表示性に
極めて優れている。
比較例 1
4,4′−ジアミノジフエニルエーテル(100モル%
)、ピロメリツト酸二無水物(100モル%)をN−メ
チル−2−ピロリドンとN,N−ジメチルアセトアミド
中で20℃,7時間攪拌し、25℃での粘度20000
cpの15%重合体溶液を得た。
)、ピロメリツト酸二無水物(100モル%)をN−メ
チル−2−ピロリドンとN,N−ジメチルアセトアミド
中で20℃,7時間攪拌し、25℃での粘度20000
cpの15%重合体溶液を得た。
この溶液を3%に希釈し、SiO2の無機膜を1000
λの厚さに形成し、さらに、In203を主成分とする
透明電極を形成した基板に(端子部にマスク材を印刷)
回転塗布で重合体溶液を塗布した。マスク材を除去後、
280℃で1時間加熱閉環させポリイミド樹脂を有する
配向膜を800λの厚さに形成した。その後一定方向に
こすり操作を行い、基板周辺にガラスフリツトを印刷し
、380℃で30分間焼成し素子を形成した。結果を表
に示すが、透過率が低下している。比較例 2 比較例1の重合体溶液を用いて、同様の操作で有機シー
ル素子を形成し、それぞれの液晶を注入した。
λの厚さに形成し、さらに、In203を主成分とする
透明電極を形成した基板に(端子部にマスク材を印刷)
回転塗布で重合体溶液を塗布した。マスク材を除去後、
280℃で1時間加熱閉環させポリイミド樹脂を有する
配向膜を800λの厚さに形成した。その後一定方向に
こすり操作を行い、基板周辺にガラスフリツトを印刷し
、380℃で30分間焼成し素子を形成した。結果を表
に示すが、透過率が低下している。比較例 2 比較例1の重合体溶液を用いて、同様の操作で有機シー
ル素子を形成し、それぞれの液晶を注入した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 透明な電極の形成された基板上に液晶配向膜を有す
る液晶表示素子において、前記配向膜がイソインドロキ
ナゾリンジオンとシロキサン結合を有するポリイミド−
イソインドロキナゾリンジオン−シロキサン共重体から
なることを特徴とする液晶表示素子。 2 特許請求の範囲第1項記載において、前記共重合体
は次の単位構造( I ),(II)( I )▲数式、化学式
、表等があります▼(II)▲数式、化学式、表等があり
ます▼(式中、Ar_1はテトラカルボン酸の有機残基
、Ar_2は2価の有機基、Qは−O−若しくは▲数式
、化学式、表等があります▼Rはアルキル基若しくはア
リール基である)を含むものであることを特徴とする液
晶表示素子。 3 特許請求の範囲第1項起載において、前記共重合体
はテトラカルボン酸二無水物と、ジアミノモノカルボン
アミド化合物と、ジアミノシロキシサン化合物を反応さ
せて得られ、前記ジアミノモノカルボンアミド化合物と
ジアミノシロキサン化合物との比率は前者95〜50モ
ル%に対し後者5〜50モル%の範囲から選択されるこ
とを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54085001A JPS5949562B2 (ja) | 1979-07-06 | 1979-07-06 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54085001A JPS5949562B2 (ja) | 1979-07-06 | 1979-07-06 | 液晶表示素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS569722A JPS569722A (en) | 1981-01-31 |
| JPS5949562B2 true JPS5949562B2 (ja) | 1984-12-04 |
Family
ID=13846417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54085001A Expired JPS5949562B2 (ja) | 1979-07-06 | 1979-07-06 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5949562B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5729029A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-16 | Hitachi Chem Co Ltd | Liquid crystal sandwiching substrate |
| JPS5734524A (en) * | 1980-08-11 | 1982-02-24 | Hitachi Chem Co Ltd | Substrate for sandwiching liquid crystal |
| DE3107520A1 (de) * | 1981-02-27 | 1982-09-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | "verfahren zur herstellung von orientierungsschichten fuer fluessigkristalldisplays sowie orientierungsschichten aufweisende fluessigkristalldisplays" |
| US4533692A (en) * | 1982-09-17 | 1985-08-06 | Sri International | Liquid crystalline polymer compositions, process, and products |
| US4533724A (en) * | 1982-09-17 | 1985-08-06 | Sri International | Liquid crystalline poly (2,6-benzothiazole) compositions, process, and products |
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| WO1984001160A1 (en) * | 1982-09-17 | 1984-03-29 | Stanford Res Inst Int | Liquid crystalline polymer compositions, process, and products |
| US4533693A (en) * | 1982-09-17 | 1985-08-06 | Sri International | Liquid crystalline polymer compositions, process, and products |
| US5374706A (en) * | 1982-09-17 | 1994-12-20 | The Dow Chemical Company | Liquid crystalline polymer compositions process, and products |
| WO1984001162A1 (en) * | 1982-09-17 | 1984-03-29 | Stanford Res Inst Int | Liquid crystalline polymer compositions, process, and products |
| US4703103A (en) * | 1984-03-16 | 1987-10-27 | Commtech International | Liquid crystalline polymer compositions, process and products |
| JP2591157Y2 (ja) * | 1992-02-14 | 1999-02-24 | アイワ株式会社 | テープレコーダ等のキャリーケース |
-
1979
- 1979-07-06 JP JP54085001A patent/JPS5949562B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS569722A (en) | 1981-01-31 |
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