JPS5953539A - 超薄膜の製造方法 - Google Patents
超薄膜の製造方法Info
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- JPS5953539A JPS5953539A JP57164386A JP16438682A JPS5953539A JP S5953539 A JPS5953539 A JP S5953539A JP 57164386 A JP57164386 A JP 57164386A JP 16438682 A JP16438682 A JP 16438682A JP S5953539 A JPS5953539 A JP S5953539A
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明ｔ」２．混合流体、肋に混合気体に対して。
選択透過性を有する超薄膜重合体膜の製造方法に関する
ものである。
ものである。
従来例の構成とその問題点
近年、膜による分離技術の進歩発展には目覚しいものが
あり、そのうちのいくつかは、実際工業的規模で実用化
されている。しかしながら、実用化されでいるのは、海
水の淡水化、工場廃液の処理９食品の濃縮等のように、
液−液分離、若しくは液−膜分離であり、気−気分熱、
即ち２種以上の混合ガスの分離については、はとんど実
用化されていＡ・い、。
あり、そのうちのいくつかは、実際工業的規模で実用化
されている。しかしながら、実用化されでいるのは、海
水の淡水化、工場廃液の処理９食品の濃縮等のように、
液−液分離、若しくは液−膜分離であり、気−気分熱、
即ち２種以上の混合ガスの分離については、はとんど実
用化されていＡ・い、。
ガスの膜分離を簡単に実用化できない理由としては、選
択透過性が比較的小さいこと、即ち、特定の気体を選択
的に通し、他の気体をほとんど通さないという膜がない
だめ、高純度の気体を得る／ζめには幾度か膜分離を繰
り返す多段方式を採用する必要があり、その結果として
装置が大きくなり過き゛るということと、透過量が少な
いため大量のガス生産が不可能であることなどである０
しか］〜１選択透過性という点から見れば、ガスの最終
用途として必ずしも高純度のものを必要としない分野も
多々ある。例えば酸素の場合、高炉送風用。
択透過性が比較的小さいこと、即ち、特定の気体を選択
的に通し、他の気体をほとんど通さないという膜がない
だめ、高純度の気体を得る／ζめには幾度か膜分離を繰
り返す多段方式を採用する必要があり、その結果として
装置が大きくなり過き゛るということと、透過量が少な
いため大量のガス生産が不可能であることなどである０
しか］〜１選択透過性という点から見れば、ガスの最終
用途として必ずしも高純度のものを必要としない分野も
多々ある。例えば酸素の場合、高炉送風用。
燃焼補助用１石油蛋白プロセス用、廃液汚水処理用、呼
気などの医療用の場合に、高純度酸素は必ずしも必要と
しない。そればかりではなく、高純度酸素では、炉の損
傷、火災の危険、未熟児の失明等、かえって不都合な場
合も多い。上記用途に使用される酸素富化空気を得る方
法として従来は高純度酸素を空気分離装置（空気液化法
）で製造し７、次いで空気と混合することによって、目
的の酸素濃度としてきた。
気などの医療用の場合に、高純度酸素は必ずしも必要と
しない。そればかりではなく、高純度酸素では、炉の損
傷、火災の危険、未熟児の失明等、かえって不都合な場
合も多い。上記用途に使用される酸素富化空気を得る方
法として従来は高純度酸素を空気分離装置（空気液化法
）で製造し７、次いで空気と混合することによって、目
的の酸素濃度としてきた。
しか（２，かかる方法では、高純度酸素は一般に圧力容
器に入っているので、圧力容器の取扱いの 、危険性、
あるいは混合ガス濃度全一定とするだめの月−力？Ｊ！
１ｆｌｉｉ器の必閥性、その操作の頂層１性等問題が多
い０そこで、低純度あるいは中間線Ｊ９の酸素富化空気
を得る方法としては、膜分離による空気分離の方が、直
接大気中の空気から酸素富化空気が得られ、操作的にも
簡単でかつ経済的にも有利である。
器に入っているので、圧力容器の取扱いの 、危険性、
あるいは混合ガス濃度全一定とするだめの月−力？Ｊ！
１ｆｌｉｉ器の必閥性、その操作の頂層１性等問題が多
い０そこで、低純度あるいは中間線Ｊ９の酸素富化空気
を得る方法としては、膜分離による空気分離の方が、直
接大気中の空気から酸素富化空気が得られ、操作的にも
簡単でかつ経済的にも有利である。
従来、膜分肉［１による酸素富化空気の製造法としては
、２つの方法が知られている。１つはポリエチレン、ポ
リスチレンあるいは、ポリエチレンテレフタレート等の
中空繊維を用いる方法であり。
、２つの方法が知られている。１つはポリエチレン、ポ
リスチレンあるいは、ポリエチレンテレフタレート等の
中空繊維を用いる方法であり。
（特開昭４９−１０１９２号公報、特公昭４９−８１２
９８号公報参照）もう１つは、オルガノボリシロキザ７
−ポリヵーボ不−ト共重合体等の超薄膜を用いる方法、
（米国時Ｗ「第３９８０４５６号、同第３８７４９８６
号明細招参照）等がある。
９８号公報参照）もう１つは、オルガノボリシロキザ７
−ポリヵーボ不−ト共重合体等の超薄膜を用いる方法、
（米国時Ｗ「第３９８０４５６号、同第３８７４９８６
号明細招参照）等がある。
中空繊維を用いる方法は、単位面積当りの膜面積を太き
くし２透過量を増大させるものであるが、実用１−の透
過量を得るためには、まだ大きく簡便でｉＪ−ない。そ
れに対し、超薄膜は、透過量が膜厚に反比例することを
利用して、透過量を増大させているものであり、膜厚が
薄くなればなるほどコンパクトな分離装置がｌｉＪ能と
なる０このことは。
くし２透過量を増大させるものであるが、実用１−の透
過量を得るためには、まだ大きく簡便でｉＪ−ない。そ
れに対し、超薄膜は、透過量が膜厚に反比例することを
利用して、透過量を増大させているものであり、膜厚が
薄くなればなるほどコンパクトな分離装置がｌｉＪ能と
なる０このことは。
均−膜中金気体が通過する時、その量は一般的に次式で
表わされるという事実に基づいている。
表わされるという事実に基づいている。
Ｆ：透過流量（ｏｗｌ ／ ｓｅｃ ）β；気体透過係
数（ｃｌｊＩ−ｔｙｎ／（か５ｅｃ−ｏ＋Ｈｇ）△Ｐ１
圧力差（αＨｇ） Ａ；膜面積（ｃｌ ） Ｌ：膜 厚（ｎ〃） 上記の式でＡと△Ｐは気体分離に必要な外的な装置に依
存しており、一定の限界がある。また炉は利用で一定で
あるから、透過流量Ｆを増大させるには最終的にはｉが
できるたけ大きく、かつ膜厚りができるだけ薄くなるこ
とが必要となる０現在までに知られている超薄膜として
は、１つにオルガノボリシロキザンーポリカーボネート
共重合体から成る膜がある０この共重合体の膜厚は、０
．１部程度であり、素材自体の性能としては酸素透過係
数が−１ｏ （ｃｃ −ｃｔｎ／ｌ：Ａ ａｓｅｃ
−ｏｎＨｇ）で、酸素分離係数（ＰＯ２７ｐＮ、、 ）
が２．０−２．４と良いノテあるが、耐薬品性が悪
く、汚染空気あるいは減圧及び加圧するだめの油入りポ
ンプ又はコンブレソザーの油等により劣化する危険性が
あり、加水分解による劣化も考えられ、実用的には問題
がある。さらに大きな問題として、このオルガノボリジ
メチルシロキザンーポリカーボネ−１・共重合体の超薄
膜を製造するためには、この重合体の溶媒とＩ〜で水上
り比重の大きい１，２．３−）リクロ口プロパン、トリ
クし＋ロエチレン１、クロロポルム等ヲ用いる必要があ
り、この重合体溶液を水面上に滴下して超薄膜をイ！Ｉ
る場合、重合体溶液の１部は水面下に沈降し、“ｄ、た
自生的に充分拡がることができず、実用的に使用できる
均一な薄膜を簡単に製造すること（よ困難である。他に
超薄膜製造の方法としては、特開昭５６−１６６２３２
号公報、特開昭６６−９２９２５号に示されるものがあ
る。これらの方法は、ポリオレフィンやジエンポリマー
等の疎水ポリマーのシクロヘキセン溶液に、親水性基を
有したアルコール類等の化合物を添加したり、部分酸化
処理したシクロヘキセンを主成分とする混合物をこれら
の疎水性ポリマーの溶媒とすることによって、自生的に
、しかも均一に水面に拡がるように工夫したものである
。しかしながら。
数（ｃｌｊＩ−ｔｙｎ／（か５ｅｃ−ｏ＋Ｈｇ）△Ｐ１
圧力差（αＨｇ） Ａ；膜面積（ｃｌ ） Ｌ：膜 厚（ｎ〃） 上記の式でＡと△Ｐは気体分離に必要な外的な装置に依
存しており、一定の限界がある。また炉は利用で一定で
あるから、透過流量Ｆを増大させるには最終的にはｉが
できるたけ大きく、かつ膜厚りができるだけ薄くなるこ
とが必要となる０現在までに知られている超薄膜として
は、１つにオルガノボリシロキザンーポリカーボネート
共重合体から成る膜がある０この共重合体の膜厚は、０
．１部程度であり、素材自体の性能としては酸素透過係
数が−１ｏ （ｃｃ −ｃｔｎ／ｌ：Ａ ａｓｅｃ
−ｏｎＨｇ）で、酸素分離係数（ＰＯ２７ｐＮ、、 ）
が２．０−２．４と良いノテあるが、耐薬品性が悪
く、汚染空気あるいは減圧及び加圧するだめの油入りポ
ンプ又はコンブレソザーの油等により劣化する危険性が
あり、加水分解による劣化も考えられ、実用的には問題
がある。さらに大きな問題として、このオルガノボリジ
メチルシロキザンーポリカーボネ−１・共重合体の超薄
膜を製造するためには、この重合体の溶媒とＩ〜で水上
り比重の大きい１，２．３−）リクロ口プロパン、トリ
クし＋ロエチレン１、クロロポルム等ヲ用いる必要があ
り、この重合体溶液を水面上に滴下して超薄膜をイ！Ｉ
る場合、重合体溶液の１部は水面下に沈降し、“ｄ、た
自生的に充分拡がることができず、実用的に使用できる
均一な薄膜を簡単に製造すること（よ困難である。他に
超薄膜製造の方法としては、特開昭５６−１６６２３２
号公報、特開昭６６−９２９２５号に示されるものがあ
る。これらの方法は、ポリオレフィンやジエンポリマー
等の疎水ポリマーのシクロヘキセン溶液に、親水性基を
有したアルコール類等の化合物を添加したり、部分酸化
処理したシクロヘキセンを主成分とする混合物をこれら
の疎水性ポリマーの溶媒とすることによって、自生的に
、しかも均一に水面に拡がるように工夫したものである
。しかしながら。
これらの方法は、ポリオレフィン及びジエンポリマーに
は有効外手段であるが、他の高分子の場合には適用出来
ないのが欠点である。
は有効外手段であるが、他の高分子の場合には適用出来
ないのが欠点である。
発明の目的
本発明は、以」−のような従来の問題点を解決するため
に成されたもので、主として気体の透過量が大きく選択
性に優れた分離機能を有する高分子利用を、好適に使用
し得る均一な超薄膜の製造方法を提供することを１］的
とする。
に成されたもので、主として気体の透過量が大きく選択
性に優れた分離機能を有する高分子利用を、好適に使用
し得る均一な超薄膜の製造方法を提供することを１］的
とする。
発明の構成
この］−４的を達成するだめに本発明は、水面上での拡
がりが悪く、不均一で薄膜化が困難とされていた薄膜製
造用高分子の疎水性溶液に、シリコーン系の界面活性剤
’（Ｃ−１〜１０重量係添加することにより、高分子の
拡がり、均一性、超薄膜化を実現させるものである０ この発明に」、・ける疎水性溶媒とし、では、ベンセ／
、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、酢酸エチル、
酢酸メチル、クロロホルム、塩化メチレン、り【ＩＣ１
エタ／ｌクロロプロパン等がある０才だシＩＪ ：ＩＦ
−７系の界面活性剤としては ％開閉６６−２６６０６
に示すポリヒドロキシスチレンと末端反応性ポリジメチ
ルシロキサンの共重合体及び、特開昭６６−２４０１９
号に示すフェノール樹脂と末端反応性ポリジメチルシロ
キサンとの共重合体、さらに、その他のシリコーンを主
成分とする界面活性剤を添加することにより、非常に良
好な超薄膜？：得だ。
がりが悪く、不均一で薄膜化が困難とされていた薄膜製
造用高分子の疎水性溶液に、シリコーン系の界面活性剤
’（Ｃ−１〜１０重量係添加することにより、高分子の
拡がり、均一性、超薄膜化を実現させるものである０ この発明に」、・ける疎水性溶媒とし、では、ベンセ／
、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、酢酸エチル、
酢酸メチル、クロロホルム、塩化メチレン、り【ＩＣ１
エタ／ｌクロロプロパン等がある０才だシＩＪ ：ＩＦ
−７系の界面活性剤としては ％開閉６６−２６６０６
に示すポリヒドロキシスチレンと末端反応性ポリジメチ
ルシロキサンの共重合体及び、特開昭６６−２４０１９
号に示すフェノール樹脂と末端反応性ポリジメチルシロ
キサンとの共重合体、さらに、その他のシリコーンを主
成分とする界面活性剤を添加することにより、非常に良
好な超薄膜？：得だ。
実施例の説明
以下に、今まで行なった実験を中心に実施例を挙げて本
発明をさらに詳しく記述するが、実施例は１本発明を説
明するだめのものであって、それに限定されるものでは
ない。
発明をさらに詳しく記述するが、実施例は１本発明を説
明するだめのものであって、それに限定されるものでは
ない。
く、比較例１〉
ポリフェニレンオキサイド（ｐｐｏ）重量平均分子量約
１０万をトルエンに溶解し、２重量係の溶液に調整（、
／こ。そして、この溶液を用いてラングミュア法により
水面上で超薄膜化の検討をしたが、この溶液組成では、
ＰＰＯは水面」二に均一に拡散せず、薄膜化はできなか
った。
１０万をトルエンに溶解し、２重量係の溶液に調整（、
／こ。そして、この溶液を用いてラングミュア法により
水面上で超薄膜化の検討をしたが、この溶液組成では、
ＰＰＯは水面」二に均一に拡散せず、薄膜化はできなか
った。
〈実施例１〉
比較例１で示した溶液に、特開昭６６−２６６０６号公
報に示すポリヒドロキシスチレンとポリジメチルシロキ
サンの共重合体のＩＱｗｔ％ベンゼン溶液を１ＣＣ添加
したところ、ｐｐｏは均一に水面上に拡散し、 ｓ ｏ
ａｒｒ ｘ ｓ ｏｃｍの面積にわたり、均一な超薄膜
を力えた。この時の液滴の容量は０．０６ＣＣで、液滴
中に含壕れるｐｐｏの重量は、２．０９×１０１ であ
っだ０これより、ｐｐｏの比重を１、○としてその膜厚
を計算すると約０．１μとなり。
報に示すポリヒドロキシスチレンとポリジメチルシロキ
サンの共重合体のＩＱｗｔ％ベンゼン溶液を１ＣＣ添加
したところ、ｐｐｏは均一に水面上に拡散し、 ｓ ｏ
ａｒｒ ｘ ｓ ｏｃｍの面積にわたり、均一な超薄膜
を力えた。この時の液滴の容量は０．０６ＣＣで、液滴
中に含壕れるｐｐｏの重量は、２．０９×１０１ であ
っだ０これより、ｐｐｏの比重を１、○としてその膜厚
を計算すると約０．１μとなり。
ポリヒドロキシスチレンとポリジメチルシロキサンの共
重合体が、超薄膜を製造する際に、非常に効果的な添加
剤であることがわかった０〈実施例２〉 ポリブタジェンをベンゼンに溶解させ、２重量係の溶液
とし、比較例１と同様水面−にで超薄膜化の検討をしだ
が、結果は良くなかった。そこで実施例１と同様にポリ
ヒドロキシスチレンとポリジメチルシロキサンの共重合
体ベンゼン溶液を添加したところ、今度は水面上にただ
ちに拡がり、均一な超薄膜が得られた。このようにして
得られた膜を、多孔質ポリプロピレン（ジュラガート２
４００ポリプラスチツク■製）上に付着させて、その特
性を測定した結果、膜厚は約０．１μであり５分離係数
（ＰＯ２／ＰＮ２）は４．０であった。
重合体が、超薄膜を製造する際に、非常に効果的な添加
剤であることがわかった０〈実施例２〉 ポリブタジェンをベンゼンに溶解させ、２重量係の溶液
とし、比較例１と同様水面−にで超薄膜化の検討をしだ
が、結果は良くなかった。そこで実施例１と同様にポリ
ヒドロキシスチレンとポリジメチルシロキサンの共重合
体ベンゼン溶液を添加したところ、今度は水面上にただ
ちに拡がり、均一な超薄膜が得られた。このようにして
得られた膜を、多孔質ポリプロピレン（ジュラガート２
４００ポリプラスチツク■製）上に付着させて、その特
性を測定した結果、膜厚は約０．１μであり５分離係数
（ＰＯ２／ＰＮ２）は４．０であった。
〈実施例３〉
ポリヒト［１キシスチレンを含んだシリコーン系Ｈ３共
重合体をベンゼンの２重量％溶液とし１次いでこれを、
水面−１−に拡散ぜしめだが、拡散するのにかなり時間
を要し、しかも拡がりが小さくかつ不均一であった。そ
こで実施例１と同様にＰＨ８−Ｐ Ｄ Ｍ Ｓ共重体の
４重量係ベンゼン溶液を１゜係程度加えて、同じ条件で
水面上に拡散せしめたＯ液滴は速やかに拡がり、均一な
超薄膜が得られたＯ膜厚は約０．１μであり２分離係数
（ＰＯ２／ＰＮ２）は２．１であっだ０ 〈実施例４〉 実施例３と同様に、今度は高分子としてノボラックを含
むシリコーン系Ｈ３共重合体について検討を行なった。
重合体をベンゼンの２重量％溶液とし１次いでこれを、
水面−１−に拡散ぜしめだが、拡散するのにかなり時間
を要し、しかも拡がりが小さくかつ不均一であった。そ
こで実施例１と同様にＰＨ８−Ｐ Ｄ Ｍ Ｓ共重体の
４重量係ベンゼン溶液を１゜係程度加えて、同じ条件で
水面上に拡散せしめたＯ液滴は速やかに拡がり、均一な
超薄膜が得られたＯ膜厚は約０．１μであり２分離係数
（ＰＯ２／ＰＮ２）は２．１であっだ０ 〈実施例４〉 実施例３と同様に、今度は高分子としてノボラックを含
むシリコーン系Ｈ３共重合体について検討を行なった。
やはりＰＨ３−ＰＤＭＳの４重量係ベンゼン溶液の添加
により、均一な超薄膜の製造が可能であった０膜厚は約
０．２μであり１分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）は２．２
テアツタ。
により、均一な超薄膜の製造が可能であった０膜厚は約
０．２μであり１分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）は２．２
テアツタ。
〈実施例６〉
実施例１と同様に、薄膜製造用高分子としてＰＰ０ｉ用
い、トルエンの２重量％溶液とした０界面活性剤として
、トーレシリコーンＳＨ３７４８（商品名）′！Ｉ−用
い、これを上記の高分子溶液１００ｍ１に対して約１
ｍｌ添加しだ０この時の水面上での拡がりは、実施例２
の場合と同様非常に良好であった。０．０５ＣＣで、約
６０（７）四方に拡がり、換算膜厚は０．０８μであっ
た□ 〈実施例６〉 実施例１と同様に、薄膜製造用高分子として、で示込れ
るポリウレタン（ＭＷ−・６万）を用い、これを２重１
ｉ（％べ／ゼン溶液とした０界面活性剤を添加しない１
情はｐｐｏの場合と同様、水面上に均一な薄膜は形成さ
れなかったが、界面活性剤として、トーレシリコーン５
Ｈ３５３０（商品名）を用い、それを高分子溶液１００
πｔに対して約２ｍｌ添加（また結果、その水面上での
拡がりは、大幅に改善さＪ＋、約ｓ ｏ ＋：Ｉの面積
にわたって均一な超薄膜を形成した。換算膜厚は、約０
．ｏ６μであっだ０ 実施例１〜６においては、主として代表的な超薄膜製造
用高分子を用い、それに準じて適当なンリコーン系界面
活性剤を取り上げている。それゆえ、今壕での説明では
その全てを網羅しているとは１）いつ゛イ１いが５本発
明で用いられている界面活性剤＆；ｊ：全ての高分子溶
液に対して親和性が高く、ここに示し／ξ縮合型、ビニ
ル系、シリコーン系高分子以外のものにλ“１しても同
様の効果が得られるととは容易に推６１；１できる。
い、トルエンの２重量％溶液とした０界面活性剤として
、トーレシリコーンＳＨ３７４８（商品名）′！Ｉ−用
い、これを上記の高分子溶液１００ｍ１に対して約１
ｍｌ添加しだ０この時の水面上での拡がりは、実施例２
の場合と同様非常に良好であった。０．０５ＣＣで、約
６０（７）四方に拡がり、換算膜厚は０．０８μであっ
た□ 〈実施例６〉 実施例１と同様に、薄膜製造用高分子として、で示込れ
るポリウレタン（ＭＷ−・６万）を用い、これを２重１
ｉ（％べ／ゼン溶液とした０界面活性剤を添加しない１
情はｐｐｏの場合と同様、水面上に均一な薄膜は形成さ
れなかったが、界面活性剤として、トーレシリコーン５
Ｈ３５３０（商品名）を用い、それを高分子溶液１００
πｔに対して約２ｍｌ添加（また結果、その水面上での
拡がりは、大幅に改善さＪ＋、約ｓ ｏ ＋：Ｉの面積
にわたって均一な超薄膜を形成した。換算膜厚は、約０
．ｏ６μであっだ０ 実施例１〜６においては、主として代表的な超薄膜製造
用高分子を用い、それに準じて適当なンリコーン系界面
活性剤を取り上げている。それゆえ、今壕での説明では
その全てを網羅しているとは１）いつ゛イ１いが５本発
明で用いられている界面活性剤＆；ｊ：全ての高分子溶
液に対して親和性が高く、ここに示し／ξ縮合型、ビニ
ル系、シリコーン系高分子以外のものにλ“１しても同
様の効果が得られるととは容易に推６１；１できる。
発明の詳細
な説明し／こように本発明は、疎水性溶妊の高分子溶液
中に、オルガノシロキサンを主成分トシだ界面活性剤を
１〜２０チ添加することにより、高分子超薄膜を容易に
かつ均一に製造することがｊ＋Ｊ能である。Ｑ’４ｊに
この方法は、従来の方法とは異り、疎水性の高分子全般
に適用することが可能であり、その際、高分子各々対し
て溶媒を変える必要もなく、高分子超薄膜の製造に非常
に有効な手段となるものである。
中に、オルガノシロキサンを主成分トシだ界面活性剤を
１〜２０チ添加することにより、高分子超薄膜を容易に
かつ均一に製造することがｊ＋Ｊ能である。Ｑ’４ｊに
この方法は、従来の方法とは異り、疎水性の高分子全般
に適用することが可能であり、その際、高分子各々対し
て溶媒を変える必要もなく、高分子超薄膜の製造に非常
に有効な手段となるものである。
代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名３３
７−
７−
Claims (10)
- （１）オルガノシロキサンを主成分とする界面活性剤と
非水有機溶媒の混合物を溶媒とし、これに高分子を溶解
せしめた溶液を水面」二に拡散せしめ、その水面上に前
記高分子の超薄膜を形成せしめることを特徴とする超薄
膜の製造方法。 - （２）界面活性剤は、シリコーンを主成分とすることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の超薄膜の製造方
法。 - （３）界面活性剤は、ポリヒドロキシスチレント末端反
応性ポリジメチルシロキサンとから合成されるシリコー
ン共重合体である特許請求の範囲第１項記載の超薄膜の
製造方法。 - （４）界面活性剤は、フェノール樹脂と末端反応性ポリ
ジメチルシロキサンから合成されたシリコーン共重合体
である特許請求の範囲第１項記載の超薄膜の製造方法。 - （５） 非水有機溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロルベンゼン、酢酸エテル、ｌＸＩ＋酸、、’
チル、クロロホルム、塩化メチレン、クロロエタン、ク
ロロプロパン、四塩化炭素からなる群から選ばれた少な
くとも１種である特許請求の範囲第１項記載の超薄膜の
製造方法０ - （６）高分子は、網台型高分子、ポリウレタン、ポリオ
レフィン、ジエンポリマー、シリコーン共重合体からな
る群から選ばれた少なくとも１種である特許’ＲＷＩ求
の範囲第１項記載の超薄膜の製造方法〇 - （７）網台型高分子は、一般式が。 （但し、ｍは１，２の整数、Ｘは、水素原子。 メチル基、エチル基、ハロゲン原子、スルホン酸基、ニ
トロ基より成る群より選ばれる。）で、示されるポリフ
ェニレンエーテルである特許請求の範囲第６項記載の超
薄膜の製造方法。 - （８） ポリウレタンは、一般式が。 ＋ＧＨ２−）−、より成る群より選ばれる。）で示され
るポリウレタンである特許請求の範囲第６項記載の超薄
膜の製造方法〇 - （９） ポリオレフィン、ジエンポリマーは、ポリブ
テン、ポリベンテン、ポリメチルペンテン、ポリヘキセ
ン、ポリメチルヘキセン、ポリブタジェン及びポリイソ
プレンからなる群から選ばれだ少なくとも１種である特
ｏ／１請求の範囲第６１０記載の超薄膜の製造方法。 - （１０） シリコーン共重合体は、ポリオルガノシロ
キサンとのブロック共重合体あるいはグラフト共重合体
である。特許請求の範囲第６項記載の超薄膜の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57164386A JPS5953539A (ja) | 1982-09-21 | 1982-09-21 | 超薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57164386A JPS5953539A (ja) | 1982-09-21 | 1982-09-21 | 超薄膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5953539A true JPS5953539A (ja) | 1984-03-28 |
| JPH0155658B2 JPH0155658B2 (ja) | 1989-11-27 |
Family
ID=15792135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57164386A Granted JPS5953539A (ja) | 1982-09-21 | 1982-09-21 | 超薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5953539A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60175507A (ja) * | 1983-08-02 | 1985-09-09 | シエル・インタ−ナシヨネイル・リサ−チ・マ−チヤツピイ・ベ−・ウイ | 極めて薄い緻密な膜の製造方法 |
| JPS6128408A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-02-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 超薄膜の製造方法 |
| JPS6168106A (ja) * | 1984-09-12 | 1986-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 超薄膜の製造方法 |
| JPS6352132A (ja) * | 1986-04-10 | 1988-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 固体粒子膜の形成方法 |
| JPS63117854A (ja) * | 1986-11-07 | 1988-05-21 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 低摩擦シリコ−ンスポンジロ−ル |
| CN107308775A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-11-03 | 王婧宁 | 空气中多氯联苯高效去除组合物 |
| CN110343273A (zh) * | 2019-07-17 | 2019-10-18 | 重庆大学 | 一种基于液面悬浮技术制作超薄聚二甲基硅氧烷薄膜及其复合薄膜的方法 |
-
1982
- 1982-09-21 JP JP57164386A patent/JPS5953539A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60175507A (ja) * | 1983-08-02 | 1985-09-09 | シエル・インタ−ナシヨネイル・リサ−チ・マ−チヤツピイ・ベ−・ウイ | 極めて薄い緻密な膜の製造方法 |
| JPS6128408A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-02-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 超薄膜の製造方法 |
| JPS6168106A (ja) * | 1984-09-12 | 1986-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 超薄膜の製造方法 |
| JPS6352132A (ja) * | 1986-04-10 | 1988-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 固体粒子膜の形成方法 |
| JPS63117854A (ja) * | 1986-11-07 | 1988-05-21 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 低摩擦シリコ−ンスポンジロ−ル |
| CN107308775A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-11-03 | 王婧宁 | 空气中多氯联苯高效去除组合物 |
| CN110343273A (zh) * | 2019-07-17 | 2019-10-18 | 重庆大学 | 一种基于液面悬浮技术制作超薄聚二甲基硅氧烷薄膜及其复合薄膜的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0155658B2 (ja) | 1989-11-27 |
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