JPS596555A - ウエハ吸着固定台 - Google Patents
ウエハ吸着固定台Info
- Publication number
- JPS596555A JPS596555A JP57115397A JP11539782A JPS596555A JP S596555 A JPS596555 A JP S596555A JP 57115397 A JP57115397 A JP 57115397A JP 11539782 A JP11539782 A JP 11539782A JP S596555 A JPS596555 A JP S596555A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- rim
- suction
- attraction base
- table base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/78—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using vacuum or suction, e.g. Bernoulli chucks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、投影露光式のパターン焼付装置などに用いら
れるウェハ吸着固定台に関するものである。
れるウェハ吸着固定台に関するものである。
上記のパターン焼付装置においては、ウェハの表面を投
影光学系の焦点深度範囲内に位置せしめるように保持す
る必要があり、このため従来一般に第１図（平面図）及
び第２図（垂直断面図）に示すようなウェハ吸着固定台
が用いられる。
影光学系の焦点深度範囲内に位置せしめるように保持す
る必要があり、このため従来一般に第１図（平面図）及
び第２図（垂直断面図）に示すようなウェハ吸着固定台
が用いられる。
１は吸着台ベースで、その頂面に平面度の良い吸着面が
形成され、この吸着面に多数の吸引孔２を設けて真空源
Ｐに連通し得るようになっている。
形成され、この吸着面に多数の吸引孔２を設けて真空源
Ｐに連通し得るようになっている。
こノ吸着台ベース１の上にウェハ５を置いて吸引孔２を
真空源Ｐに連通させるとウニ／Ｘ５は吸着台ベース１０
頂面に吸着されて保持される。
真空源Ｐに連通させるとウニ／Ｘ５は吸着台ベース１０
頂面に吸着されて保持される。
ところが、ウェハ３の裏面（図示の下面）に前工程にお
けるゴミ、レジスト等の異物４が付着していたり、若し
くは吸着台ベース１の頂面に異物４が付着していると、
ウェハ５は異物の影響を受け、異物の上方に当たる個所
が上方に向けて凸なるごとく反りを生じる。
けるゴミ、レジスト等の異物４が付着していたり、若し
くは吸着台ベース１の頂面に異物４が付着していると、
ウェハ５は異物の影響を受け、異物の上方に当たる個所
が上方に向けて凸なるごとく反りを生じる。
一般に投影光学系の焦点深度は極めて浅く。
例えば±５μｍ程度であるから、前述の反りによってウ
ェハ５の表面が焦点深度範囲から外れて解像度が低下す
るという不具合を生じ易い。
ェハ５の表面が焦点深度範囲から外れて解像度が低下す
るという不具合を生じ易い。
本発明は上記の事情に鑑みて為され、異物の影響を受は
難く、ウェハの裏面若しくは吸着台ベースの頂面に異物
が付着していてもウェハに反りを生じる確率が格段に少
な（、シかも異物を容易に清掃除去し得るウェハ吸着固
定台を提供することを目的とする。
難く、ウェハの裏面若しくは吸着台ベースの頂面に異物
が付着していてもウェハに反りを生じる確率が格段に少
な（、シかも異物を容易に清掃除去し得るウェハ吸着固
定台を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するため１本発明は１強磁性材料を用
いて基準平面を有する吸着台ベースを形成するとともに
、上記の基準平面の周囲に一定の高さを有するリム状の
突条を構成し、かつ上記の基準面の上に複数個の磁性材
料製の球を並べ、上記の球の直径を前記のリム状突条の
高さと等しくシ、上記複数個の球相互の間隙を真空源に
連通し得るように構成したことを特徴とする。
いて基準平面を有する吸着台ベースを形成するとともに
、上記の基準平面の周囲に一定の高さを有するリム状の
突条を構成し、かつ上記の基準面の上に複数個の磁性材
料製の球を並べ、上記の球の直径を前記のリム状突条の
高さと等しくシ、上記複数個の球相互の間隙を真空源に
連通し得るように構成したことを特徴とする。
次に１本発明の一実施例を第５図及び第４図について説
明する。第３図は本発明装置の平面図で従来装置におけ
る第１図に対応する図、第４図は本発明装置によってウ
ェハ３を吸着保持した状態の垂直断面図で従来装置にお
ける第２図に対応する図である。
明する。第３図は本発明装置の平面図で従来装置におけ
る第１図に対応する図、第４図は本発明装置によってウ
ェハ３を吸着保持した状態の垂直断面図で従来装置にお
ける第２図に対応する図である。
本発明は強磁性材料によって基準平面を有す石鍋によっ
て吸着台ベース５を構成し、その頂面な正確な平面に仕
上げて基準平面６を形成し。
て吸着台ベース５を構成し、その頂面な正確な平面に仕
上げて基準平面６を形成し。
該吸着台ベース５を磁化しておく。
本発明は上記の基準平面の周囲に一定の高さを有するリ
ムを設ける。本実施例では前記の吸着台ベース５をウェ
ハ３の径よりも僅かに小径の円形に形成し、その外周に
立上がりリム７を嵌着して高さＨの突条を形成しである
。
ムを設ける。本実施例では前記の吸着台ベース５をウェ
ハ３の径よりも僅かに小径の円形に形成し、その外周に
立上がりリム７を嵌着して高さＨの突条を形成しである
。
本発明は基準平面上に複数個の磁性体の球体を載置して
上記球体の直径を前記のリムの高さと等しくする。本実
施例では直径Ｈの鋼球８を多数形成して吸着台ベース５
０頂面である基準平面６の上に並べ、立上がりリム７の
内側いっばいに敷き詰める。前記の永久磁石鋼製の吸着
台ベースの磁力によって多数の鋼球８は基準平面に吸着
される。
上記球体の直径を前記のリムの高さと等しくする。本実
施例では直径Ｈの鋼球８を多数形成して吸着台ベース５
０頂面である基準平面６の上に並べ、立上がりリム７の
内側いっばいに敷き詰める。前記の永久磁石鋼製の吸着
台ベースの磁力によって多数の鋼球８は基準平面に吸着
される。
本発明は上記の鋼球相互の間隙に真空を連通し得るよう
に構成する。本実施例は基準平面６に複数個の細孔９を
穿ち、連通孔１ｏを介して真空源Ｐに連通せしめ得るよ
うに構成する。
に構成する。本実施例は基準平面６に複数個の細孔９を
穿ち、連通孔１ｏを介して真空源Ｐに連通せしめ得るよ
うに構成する。
本実施例は以上のように構成しであるので。
吸着台ベース５の上にウェハ３を載せると該ウェハ３は
立上がりリム７及び多数の鋼球８に接して多数の支承点
で支承される。この状態で連通孔１０を真空源Ｐに接続
すると、該真空源Ｐは多数の鋼球８相互の間隙に連通さ
れ、ウェハ５は鋼球８及び立上がりリム７に向けて真空
吸着される。このときウェハ５の裏面（図示の下面）に
異物１１が付着していても、該異物１１がウェハ３と鋼
球８との間に噛み込まれる確率は非常に小さく、大抵の
場合は鋼球８同志とウエノ１３とに囲まれた間隙の中に
収まる。従ってウェハ３の裏面に付着した異物１１がウ
ェハ６に影響を及はして反りを生せしめる確率は従来装
置に比して格段に小さい。同様の理由で、吸着台ベース
５０頂面に異＠ １２が付着してもウェハ５に影響を及
はして反りを生せしめる確率は従来装置に比して格段に
小さい。鋼球８に異物が付着した場合もウェハ３に反り
を生せしめる確率は非常に小さい。
立上がりリム７及び多数の鋼球８に接して多数の支承点
で支承される。この状態で連通孔１０を真空源Ｐに接続
すると、該真空源Ｐは多数の鋼球８相互の間隙に連通さ
れ、ウェハ５は鋼球８及び立上がりリム７に向けて真空
吸着される。このときウェハ５の裏面（図示の下面）に
異物１１が付着していても、該異物１１がウェハ３と鋼
球８との間に噛み込まれる確率は非常に小さく、大抵の
場合は鋼球８同志とウエノ１３とに囲まれた間隙の中に
収まる。従ってウェハ３の裏面に付着した異物１１がウ
ェハ６に影響を及はして反りを生せしめる確率は従来装
置に比して格段に小さい。同様の理由で、吸着台ベース
５０頂面に異＠ １２が付着してもウェハ５に影響を及
はして反りを生せしめる確率は従来装置に比して格段に
小さい。鋼球８に異物が付着した場合もウェハ３に反り
を生せしめる確率は非常に小さい。
本発明に係るウェハ吸着固定台においては。
ウェハ３は吸着台ベース５０基準平面と直接接触するこ
となく、立上がりリム７及び鋼球８を介して吸着固定さ
れるので、接触面積は従来装置（第１図及び第２図）Ｋ
比してかなり小さい。
となく、立上がりリム７及び鋼球８を介して吸着固定さ
れるので、接触面積は従来装置（第１図及び第２図）Ｋ
比してかなり小さい。
従って真空吸着に用いる真空度は従来装置におけるより
も低くすることが適当である。
も低くすることが適当である。
本実施例の装置において吸着台ベース５若しくは鋼球８
に付着した塵埃などの異物を除去するには、吸着台ベー
ス５よりも強い磁力を有する磁石（図示せず１例えば適
宜の電磁石など）により鋼球８を吸いつけて吸着台ベー
ス５から離脱させ、鋼球８及び吸着台ベース５をそれぞ
れ単体の状態に分解して清掃する。清掃を終えた鋼球８
を清掃済みの吸着台ベース５の上に戻すと、鋼球８は吸
着台ベース５にａ力吸着されて復元し、ウェハな真空吸
着し得る状態（第５図、第４図）となる。
に付着した塵埃などの異物を除去するには、吸着台ベー
ス５よりも強い磁力を有する磁石（図示せず１例えば適
宜の電磁石など）により鋼球８を吸いつけて吸着台ベー
ス５から離脱させ、鋼球８及び吸着台ベース５をそれぞ
れ単体の状態に分解して清掃する。清掃を終えた鋼球８
を清掃済みの吸着台ベース５の上に戻すと、鋼球８は吸
着台ベース５にａ力吸着されて復元し、ウェハな真空吸
着し得る状態（第５図、第４図）となる。
以上説明したように１本発明を適用して強磁性材料によ
って基準平面を有する吸着台ベースを形成するとともに
上記基準平面の周囲に一定の高さＨを有するリムを設け
、かつ、上記基準平面上に複数個の直径Ｈの磁性体球を
載置して。
って基準平面を有する吸着台ベースを形成するとともに
上記基準平面の周囲に一定の高さＨを有するリムを設け
、かつ、上記基準平面上に複数個の直径Ｈの磁性体球を
載置して。
上記複数個の磁性体球相互の間隙に真空を連通し得るよ
うに構成すると、異物の影響を受は難（、ウェハの裏面
若しくは吸着台ベースの頂面に異物が付着していてもウ
ェハに反りを生じる確率が格段に少なく、シかも異物の
清掃除去が容易であるという優れた実用的効果がある。
うに構成すると、異物の影響を受は難（、ウェハの裏面
若しくは吸着台ベースの頂面に異物が付着していてもウ
ェハに反りを生じる確率が格段に少なく、シかも異物の
清掃除去が容易であるという優れた実用的効果がある。
第１図は従来のウェハ吸着固定台の平面図。
第２図は同垂直断面図、第５図は本発明の一実施例の平
面図、第４図は同垂直断面図である。 １１１．吸着台ベース、２００．吸引孔、５−０．ウェ
ハ。 ４・・・異物、５・・・吸着台ベース、６・・・基準平
面。 ７・・・立上がりリム、８・・・鋼球、９・・・細孔、
１０・・・連通孔、１１．１２・・・異物。 Ｔ １ 図 才 ７− 已
面図、第４図は同垂直断面図である。 １１１．吸着台ベース、２００．吸引孔、５−０．ウェ
ハ。 ４・・・異物、５・・・吸着台ベース、６・・・基準平
面。 ７・・・立上がりリム、８・・・鋼球、９・・・細孔、
１０・・・連通孔、１１．１２・・・異物。 Ｔ １ 図 才 ７− 已
Claims (1)
- 強磁性材料によって基準平面を有する吸着台ベースを形
成するとともに、上記基準平面の周囲に一定の高さを有
するリムを設け、かつ、上記基準平面上に複数個の磁性
体の球体を載置して上記球体の直径を前記のリムの高さ
と等しくし、上記複数個の球体相互の間隙に真空を連通
し得るように構成したことを特徴とするウェハ吸着固定
台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115397A JPS596555A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | ウエハ吸着固定台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115397A JPS596555A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | ウエハ吸着固定台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS596555A true JPS596555A (ja) | 1984-01-13 |
Family
ID=14661546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57115397A Pending JPS596555A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | ウエハ吸着固定台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS596555A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62193139A (ja) * | 1986-02-19 | 1987-08-25 | Canon Inc | ボ−ル接触型ウエハチヤツク |
| JPH0870034A (ja) * | 1994-05-18 | 1996-03-12 | Applied Materials Inc | 静電力低減のためのパターン付きサセプタ |
-
1982
- 1982-07-05 JP JP57115397A patent/JPS596555A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62193139A (ja) * | 1986-02-19 | 1987-08-25 | Canon Inc | ボ−ル接触型ウエハチヤツク |
| JPH0870034A (ja) * | 1994-05-18 | 1996-03-12 | Applied Materials Inc | 静電力低減のためのパターン付きサセプタ |
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