JPS5970663A - β−ラクタム誘導体の製造法 - Google Patents
β−ラクタム誘導体の製造法Info
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- JPS5970663A JPS5970663A JP57180268A JP18026882A JPS5970663A JP S5970663 A JPS5970663 A JP S5970663A JP 57180268 A JP57180268 A JP 57180268A JP 18026882 A JP18026882 A JP 18026882A JP S5970663 A JPS5970663 A JP S5970663A
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- Japan
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- group
- azetidinone
- acetyl
- schiff base
- toluene
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジゲテンと、アルデヒド力)ら得られるシッ
フ塩基とをイミダゾール類の存在下、反応させることに
よる8−アセチル−2−アゼチジノン誘導体の新規な製
造法醗こ関する。
フ塩基とをイミダゾール類の存在下、反応させることに
よる8−アセチル−2−アゼチジノン誘導体の新規な製
造法醗こ関する。
8−アセチル−2−アゼチジノン誘導体【ま、たとえば
6位に1−ヒドロキシエチル基を有するカルバペネム誘
導体、あるいはペネム誘導体等各種のβ−ラクタム系抗
菌剤を製造するうえでの有用な中間体となりうるちので
あり、その製造法に関しては、すで薔こいくつかの方法
が知られているが、いずれの方法薔こおいても工程数が
長い、反応操作が煩雑である、あるいは不安定な中間体
を経る等、各々いくつかの難点を有している。
6位に1−ヒドロキシエチル基を有するカルバペネム誘
導体、あるいはペネム誘導体等各種のβ−ラクタム系抗
菌剤を製造するうえでの有用な中間体となりうるちので
あり、その製造法に関しては、すで薔こいくつかの方法
が知られているが、いずれの方法薔こおいても工程数が
長い、反応操作が煩雑である、あるいは不安定な中間体
を経る等、各々いくつかの難点を有している。
本発明者らは、操作が容易で、かつ効率の良い8−アセ
チル−2−アゼチジノン誘導体の新しい製造法を開発す
べく、鋭意研究を重ねた結果、ジテテンと、アルデヒド
から得られるシッフ塩基とをイミダゾール類の存在下反
応させることにより、目的を達しうろことを見出し、本
発明を完成した。
チル−2−アゼチジノン誘導体の新しい製造法を開発す
べく、鋭意研究を重ねた結果、ジテテンと、アルデヒド
から得られるシッフ塩基とをイミダゾール類の存在下反
応させることにより、目的を達しうろことを見出し、本
発明を完成した。
以下本発明方法を詳細(こ説明する。
本発明製造方法は、イミダゾール類の存在下、不活性溶
媒中、ジテテンと適当なシッフ塩基を反応させ、8−ア
セチル−2−アゼチジノン誘導体を得る方法である。
媒中、ジテテンと適当なシッフ塩基を反応させ、8−ア
セチル−2−アゼチジノン誘導体を得る方法である。
反応に使用されるイミダゾール類としては、イミダゾー
ルまたは4−メチルイミダゾール、2.4−ジメチルイ
ミダゾール、2−メチルイミダゾール等の2位あるいは
4位の低級アルキル置換イミダゾール州等、各種のイミ
ダゾール誘導体を挙げることができるが、イミダゾール
あるいは、4−メチルイミダゾールが好適である。
ルまたは4−メチルイミダゾール、2.4−ジメチルイ
ミダゾール、2−メチルイミダゾール等の2位あるいは
4位の低級アルキル置換イミダゾール州等、各種のイミ
ダゾール誘導体を挙げることができるが、イミダゾール
あるいは、4−メチルイミダゾールが好適である。
イミダゾール類は、触媒にから大過剰量の使用が可能で
あるが、シッフ塩基lこ対して0.1倍モル慝から1.
5倍モル量を用いることが望ましい。
あるが、シッフ塩基lこ対して0.1倍モル慝から1.
5倍モル量を用いることが望ましい。
不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ジクロルメタン、クロロホルム、
1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化層化水素類また
はそれらの混合物が好適である。ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル等のニ
トリル五1、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ペ
ンタン等の脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシドまたは酢酸メチル、酢酸エチル等
の酢酸エステル類等、各種温媒も用いることができる。
の芳香族炭化水素類、ジクロルメタン、クロロホルム、
1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化層化水素類また
はそれらの混合物が好適である。ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル等のニ
トリル五1、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ペ
ンタン等の脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシドまたは酢酸メチル、酢酸エチル等
の酢酸エステル類等、各種温媒も用いることができる。
冷却または加熱すること1こより、反応を抑制または促
進することが可能であるが、反応温度は一1θ℃から1
20℃が好ましい。
進することが可能であるが、反応温度は一1θ℃から1
20℃が好ましい。
反応終了後、本反応の目的化合物は、通常の有機化学的
手法によって取り出すことができる。
手法によって取り出すことができる。
本発明方法によってβ−ラクタム理の3位にアセチル基
を有するβ−ラクタム誘導体を得ることができるが、こ
れらは抗菌作用を有する医薬として有用なカルバペネム
誘導体、ペネム誘導体等各イ(Fβ−ラクタム誘導体の
合成中間体として有用である。例えば、 ’I’etrahedron Letters、229
8(1982) ニ記載の方法に従ってチェナマイシ
ンへ導びくことができる。
を有するβ−ラクタム誘導体を得ることができるが、こ
れらは抗菌作用を有する医薬として有用なカルバペネム
誘導体、ペネム誘導体等各イ(Fβ−ラクタム誘導体の
合成中間体として有用である。例えば、 ’I’etrahedron Letters、229
8(1982) ニ記載の方法に従ってチェナマイシ
ンへ導びくことができる。
アルデヒドから得られる原料シッフ塩基としては、各種
の置換基を有するシッフ塩基を用いる7s−夕可能であ
り、?−γセチルー2−アゼチジノンの八−鞄子」二あ
るいは4位に各種の14換基を有する誘導体を製造する
ことができる。
の置換基を有するシッフ塩基を用いる7s−夕可能であ
り、?−γセチルー2−アゼチジノンの八−鞄子」二あ
るいは4位に各種の14換基を有する誘導体を製造する
ことができる。
たとえは、本発明方法によれば、一般式(I)−1(2
N (1〕
R。
C式中、l(、はアリールメチル基、ジアリールメチル
基または、アリール基を示し、R2は保接基誓こよって
保接されたカルホキ’:/ ル糸、環状アルキルオキシ
カルボニル基あるいはアリール基を示す。〕 で表わされるシッフ塩基とジケテンを反応させることに
より一般式〔口〕 〔式中、it、、it2は前述と同じ怠味を示す。〕 で表わされるβ−ラクタム誘碑体を得ることができる。
基または、アリール基を示し、R2は保接基誓こよって
保接されたカルホキ’:/ ル糸、環状アルキルオキシ
カルボニル基あるいはアリール基を示す。〕 で表わされるシッフ塩基とジケテンを反応させることに
より一般式〔口〕 〔式中、it、、it2は前述と同じ怠味を示す。〕 で表わされるβ−ラクタム誘碑体を得ることができる。
伺
原料化合物である一般式CI)褐シッフ塩基は、対応す
るアルデヒドとアミンから通常一般に用いられる公知の
方法(こ従って容易に合成することができるか、このよ
うにして得られたシッフ塩基を単離するか、あるいハ4
4離することな(ジケテンとの反応に供することができ
る。
るアルデヒドとアミンから通常一般に用いられる公知の
方法(こ従って容易に合成することができるか、このよ
うにして得られたシッフ塩基を単離するか、あるいハ4
4離することな(ジケテンとの反応に供することができ
る。
次に前記式におけるR1 、λ室を詳細に述べる。
R,lこおいて、アリールメチル基の例としてはベンジ
ル基、置換ベンジル基等を、ジアリールメチル基の例と
しては無置換もしくは置換されたジフェニルメチル基等
を、アリ+ル基の例としてはフェニル基、置換フェニル
基等を挙げることができる。さらに、置換ベンジル基と
しては、P−メトキシベンジル基、2.4−ジメトキシ
ベンジル基のような炭素数1〜8の低級アルコキシル基
で置換されたベンジル基、P−ニトロベンジル基のよう
なニトロ基で置換されたベンジル基等を、置換杏された
ジフェニルメチル基としては、ジーP−アニシルメチル
基のような炭素数1〜8の低級アルコキシル基でmsさ
れたジフェニルメチル基等を、また直換フェニル基とし
ては、P−メトキシフェニル基のような炭素数1〜8の
低級アルコキシル基で置換されたフェニル基等を挙げる
ことができる。
ル基、置換ベンジル基等を、ジアリールメチル基の例と
しては無置換もしくは置換されたジフェニルメチル基等
を、アリ+ル基の例としてはフェニル基、置換フェニル
基等を挙げることができる。さらに、置換ベンジル基と
しては、P−メトキシベンジル基、2.4−ジメトキシ
ベンジル基のような炭素数1〜8の低級アルコキシル基
で置換されたベンジル基、P−ニトロベンジル基のよう
なニトロ基で置換されたベンジル基等を、置換杏された
ジフェニルメチル基としては、ジーP−アニシルメチル
基のような炭素数1〜8の低級アルコキシル基でmsさ
れたジフェニルメチル基等を、また直換フェニル基とし
ては、P−メトキシフェニル基のような炭素数1〜8の
低級アルコキシル基で置換されたフェニル基等を挙げる
ことができる。
k2において、カルボキシル基の保護熾は通常一般に用
いられる保護基であり、例えば低級アルキル基、モノ又
はジアリール低級アルキル基、アリール基、置換低級ア
ルキル基等を挙げることができる。ここで、低級アルキ
ル基としては例えはメチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基のよ
うな炭素数1〜5の直鎖状もしくは分岐状低級アルキル
基を、モノ又はジアリール低級アルキル基としては、例
えばベンジル基、P−メトキシベンジル基、2.4−ジ
メトキシベンジル基、P−ニトロベンジル基、0−ニト
ロベンジル基、ジフェニルメチル基、ジーP−アニシル
メチル基のような無置換または炭素数1〜8の低級アル
コキシル基もしくはニトロ基等で置換されたモノ又はジ
フェニルメチル基等を、アリール基としては、例えば≠
フェニル基、P−ニトロフェニル基のような無置換もし
くはニトロ基などで、置換されたフェニル基等を、置換
低級アルキル基としては、例えば2 、2.2−トリク
ロロエチル基、2−ヨードエチル基ノようなハロゲン原
子で置換された炭素数1〜しくは炭素数1〜8の低級ア
ルコキシル基で置換された炭素数1〜8の低級アルキル
基等を挙げることができる。
いられる保護基であり、例えば低級アルキル基、モノ又
はジアリール低級アルキル基、アリール基、置換低級ア
ルキル基等を挙げることができる。ここで、低級アルキ
ル基としては例えはメチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基のよ
うな炭素数1〜5の直鎖状もしくは分岐状低級アルキル
基を、モノ又はジアリール低級アルキル基としては、例
えばベンジル基、P−メトキシベンジル基、2.4−ジ
メトキシベンジル基、P−ニトロベンジル基、0−ニト
ロベンジル基、ジフェニルメチル基、ジーP−アニシル
メチル基のような無置換または炭素数1〜8の低級アル
コキシル基もしくはニトロ基等で置換されたモノ又はジ
フェニルメチル基等を、アリール基としては、例えば≠
フェニル基、P−ニトロフェニル基のような無置換もし
くはニトロ基などで、置換されたフェニル基等を、置換
低級アルキル基としては、例えば2 、2.2−トリク
ロロエチル基、2−ヨードエチル基ノようなハロゲン原
子で置換された炭素数1〜しくは炭素数1〜8の低級ア
ルコキシル基で置換された炭素数1〜8の低級アルキル
基等を挙げることができる。
さらにR1において、環状アルキルオキシカルボニル
ルボニル基、ノルボルニルオキシカルボニル基などを、
、アリール基の例としてはフェニル基またはP−メトキ
シフェニル基等の炭素数1〜8の低級アルコキシル基で
置換されたフェニル基等を卒けることができる。
、アリール基の例としてはフェニル基またはP−メトキ
シフェニル基等の炭素数1〜8の低級アルコキシル基で
置換されたフェニル基等を卒けることができる。
本発明方法で得られる前記一般式〔口〕で示される化合
物では、8−アセチル基とに!の間にシス、トランスの
二つの立体関係があり、立体異性体が存在するが画い選
択性でトランス体を得ることができる。なお、アセチル
基とに!の置換した8位、4位の炭素は不斉炭素であり
、光学異性体が存在する。
物では、8−アセチル基とに!の間にシス、トランスの
二つの立体関係があり、立体異性体が存在するが画い選
択性でトランス体を得ることができる。なお、アセチル
基とに!の置換した8位、4位の炭素は不斉炭素であり
、光学異性体が存在する。
また、本発明方法によって得られる一般式〔式中、R,
は前述と同じ意味を有する。〕で表わされるβ−ラクタ
ム化合物において、β−ラクタム環4位の不斉炭素に由
来する2つの光学異性体4−(R)−iiM導体と4−
(s)−誘導体の生成比はメンチル基を、たとえば、(
1−(−)−メンチル基といった光学活性メンチル基を
用いることによって、反応条件、R1置換基の種類等に
よって異なるが、4−(Sl−誘導体を主生成物として
得ることができる。
は前述と同じ意味を有する。〕で表わされるβ−ラクタ
ム化合物において、β−ラクタム環4位の不斉炭素に由
来する2つの光学異性体4−(R)−iiM導体と4−
(s)−誘導体の生成比はメンチル基を、たとえば、(
1−(−)−メンチル基といった光学活性メンチル基を
用いることによって、反応条件、R1置換基の種類等に
よって異なるが、4−(Sl−誘導体を主生成物として
得ることができる。
以上述べた如く、本発明方法は、有効な8−アセチル−
2−アゼチジノン誘導体及び、その製造法を提供するも
のである。
2−アゼチジノン誘導体及び、その製造法を提供するも
のである。
次に、実施例をあげ、本発明を更に説明するが、本発明
はもちろん、これらによって、なんら限定されるもので
はない。
はもちろん、これらによって、なんら限定されるもので
はない。
なお、以下の実施例では次のとおり略記した。
: DAM
n−ブチル基 :n−Bu
フェニル基 :Ph
P−メトキシフェニル基(p−アニシル基) 二Ani
s〔実施例1〕 ジーP−アニシルメチルアミン2.48f(lomM)
、グリオキシル酸n−ブチル1.78 f (12mM
)をトルエン(96g/)に溶解し、共沸脱水してシッ
フ塩基を生成せしめ、留去量と同値のトルエンを追加し
、イミダゾール0.68 t (l OmM)ヲ加え、
50℃でジゲテン1.01F(12mM)のトルエン(
8041/ )溶液を2時間で滴下し、15分間攪拌し
た。反応液を冷希塩酸に注入し、トルエン抽出後、2N
−塩酸、飽和食塩水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄、
芒硝乾燥、減圧溶媒留去し、得られた油状物をシリカゲ
ルカラムクロマトにより分離精製することにより、l−
(ジーP−アニシルメチル)−8−アセチル−4−n−
ブチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン8.86F
(88%)を得た。
s〔実施例1〕 ジーP−アニシルメチルアミン2.48f(lomM)
、グリオキシル酸n−ブチル1.78 f (12mM
)をトルエン(96g/)に溶解し、共沸脱水してシッ
フ塩基を生成せしめ、留去量と同値のトルエンを追加し
、イミダゾール0.68 t (l OmM)ヲ加え、
50℃でジゲテン1.01F(12mM)のトルエン(
8041/ )溶液を2時間で滴下し、15分間攪拌し
た。反応液を冷希塩酸に注入し、トルエン抽出後、2N
−塩酸、飽和食塩水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄、
芒硝乾燥、減圧溶媒留去し、得られた油状物をシリカゲ
ルカラムクロマトにより分離精製することにより、l−
(ジーP−アニシルメチル)−8−アセチル−4−n−
ブチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン8.86F
(88%)を得た。
m、P 、:92.5〜94.0℃
IRnu”1(m−1):1765.1740,171
2゜ax 1612.1255,1026.818NMRδ(CD
CIs) : 0.60−1.80 (7H,m)
、 2.28(8)1.s)、8.77(6)1.s)
、8.77〜4.15.(2)(。
2゜ax 1612.1255,1026.818NMRδ(CD
CIs) : 0.60−1.80 (7H,m)
、 2.28(8)1.s)、8.77(6)1.s)
、8.77〜4.15.(2)(。
m)、4.17(LH,d、J=2Hz)、4.40(
IH。
IH。
d、J=2H2)、5.78(l)1.s)、6.60
〜7.40(gH,m)、p、p、m。
〜7.40(gH,m)、p、p、m。
〔実施例2〕
DAM
ジーP−アニシルメチルアミン248q(1mM)、グ
リオキシル酸n−ブチル178++y (1,2tnM
)をトルエン(12m/)に溶解し、共沸脱水してシッ
フ塩基を生成せしめ、留去量と同量のトルエンを加え、
4−メチルイミダゾールs2q(1mM)を加え、50
℃でジゲテンlol■(1,2m M ) 0) )
/l/ x 7 (0,5yttl )溶液を20分間
で滴下、8時間攪拌した。反応液を冷希塩酸中に注入後
、トルエン抽出し、抽出液を2N−塩酸、飽和食塩水、
飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥後、減圧溶
媒留去により、得られた油状物をシリカゲル薄層クロマ
トグラフィーにより分離精製し、1−(ジーP−アニシ
ルメチル)−8−アセチル−4−n−ブチルオキシカル
ボニル−2−アゼチジノン240■(65%)を得た。
リオキシル酸n−ブチル178++y (1,2tnM
)をトルエン(12m/)に溶解し、共沸脱水してシッ
フ塩基を生成せしめ、留去量と同量のトルエンを加え、
4−メチルイミダゾールs2q(1mM)を加え、50
℃でジゲテンlol■(1,2m M ) 0) )
/l/ x 7 (0,5yttl )溶液を20分間
で滴下、8時間攪拌した。反応液を冷希塩酸中に注入後
、トルエン抽出し、抽出液を2N−塩酸、飽和食塩水、
飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥後、減圧溶
媒留去により、得られた油状物をシリカゲル薄層クロマ
トグラフィーにより分離精製し、1−(ジーP−アニシ
ルメチル)−8−アセチル−4−n−ブチルオキシカル
ボニル−2−アゼチジノン240■(65%)を得た。
I K 、 NMRは、〔実施例1〕で得られたものと
同一であった。
同一であった。
〔実施例8〕
ジーP−アニシルメチルアミン24819(1mM)、
グリオキシル醒n−ブチル178 ml? (1,2m
M )を) ルx 7 (12+wt)に溶解し、共
沸脱水してシッフ塩基を生成せしめ、留去祉と同量のト
ルエンを加え、2−メチルイミダゾ−/I/82mg
(l tnM )を加え、50℃でジケテン101η(
1,2m M )の) /L/ x 7 (0,5ml
)溶液を20分間で滴下、2時間攪拌後、さらに60
℃で1時間、80℃で1時間攪拌した。〔実施例2〕で
述べたと同様の方法で後処理と、分離精製を行うことに
より、l−(ジーP−アニシルメチル)−8−アセチル
−4−n−ブチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン
24+v(5%)を得た。
グリオキシル醒n−ブチル178 ml? (1,2m
M )を) ルx 7 (12+wt)に溶解し、共
沸脱水してシッフ塩基を生成せしめ、留去祉と同量のト
ルエンを加え、2−メチルイミダゾ−/I/82mg
(l tnM )を加え、50℃でジケテン101η(
1,2m M )の) /L/ x 7 (0,5ml
)溶液を20分間で滴下、2時間攪拌後、さらに60
℃で1時間、80℃で1時間攪拌した。〔実施例2〕で
述べたと同様の方法で後処理と、分離精製を行うことに
より、l−(ジーP−アニシルメチル)−8−アセチル
−4−n−ブチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン
24+v(5%)を得た。
I R、NMRは〔実施例1〕で得られたものと同一で
あった。
あった。
〔実施例4〕
ジーP−アニシルメチルアミン1.118F(4,f、
mM )、グリオキシル酸−1−(刊−メンチル1.
058 f (4,6mM)をトルエン #(4B 簿/ )に溶解し、゛共沸脱水してシッフ塩
基を生成せしめ、留装置と同量のトルエンを加え、イミ
ダゾール818!(4,6m M )を加え、60℃で
ジケテ74.646f(5,5mM)のトルエン(14
*t)溶液を2時間で滴下、攪拌した。反応液を〔実施
例1〕で述べたと同様の方法で、後処理、分離精製を行
うことにより、1−(ジーP−アニシルメチル)−8−
アセチル−4−−e−←)−メンチルオキシカルボニル
ー2ル)−8−アセチル−4−e−(−)−メンチルオ
キシカルボニル−2−アゼチジノンは、n−ヘキサン−
四塩化炭素溶媒で分別再結晶を行うことにより、4−(
81体の分離が可能であり、(O8,48)−1−(ジ
−p−7ニシルメチル)−8−アセチル−4−#−(−
)−メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノンが得
られた。
mM )、グリオキシル酸−1−(刊−メンチル1.
058 f (4,6mM)をトルエン #(4B 簿/ )に溶解し、゛共沸脱水してシッフ塩
基を生成せしめ、留装置と同量のトルエンを加え、イミ
ダゾール818!(4,6m M )を加え、60℃で
ジケテ74.646f(5,5mM)のトルエン(14
*t)溶液を2時間で滴下、攪拌した。反応液を〔実施
例1〕で述べたと同様の方法で、後処理、分離精製を行
うことにより、1−(ジーP−アニシルメチル)−8−
アセチル−4−−e−←)−メンチルオキシカルボニル
ー2ル)−8−アセチル−4−e−(−)−メンチルオ
キシカルボニル−2−アゼチジノンは、n−ヘキサン−
四塩化炭素溶媒で分別再結晶を行うことにより、4−(
81体の分離が可能であり、(O8,48)−1−(ジ
−p−7ニシルメチル)−8−アセチル−4−#−(−
)−メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノンが得
られた。
菖u、p、:99〜100℃
IRnujol(crll−’):176B、 17B
9 、1712.161B。
9 、1712.161B。
ax
1510.1242.1088.818 。
NMI−δ(CsDe+) : 0.50〜1.96(
19)1.m) 、 1.94(8H。
19)1.m) 、 1.94(8H。
S)、8.88(6H=S)*4.00(IH,d、J
=2Hz)4.75(IH,d、J=/!Hり 、4
.40〜5.05(11−1゜m)、5.90(LH,
S)、6.60〜7.60(8H,m)p、p、m。
=2Hz)4.75(IH,d、J=/!Hり 、4
.40〜5.05(11−1゜m)、5.90(LH,
S)、6.60〜7.60(8H,m)p、p、m。
また、その炉液をn−ヘキサン−四塩化炭素部課で結晶
化することにより、(8K。
化することにより、(8K。
4K)−1−(ジ−p−7ニシルメチル)−8−アセチ
ル−4−g −(−1−メンチルオキシカ、ルボニルー
2−アゼチジノンが得られた。
ル−4−g −(−1−メンチルオキシカ、ルボニルー
2−アゼチジノンが得られた。
m、P、:128〜125℃
IRnu”’(cIn−’):1770t1740.1
71B、1606−ax ・ 1506.1241.1202.1028.822
NMRδ(CsCI+):0.50〜1.95(19H
,m)、1.98(8H。
71B、1606−ax ・ 1506.1241.1202.1028.822
NMRδ(CsCI+):0.50〜1.95(19H
,m)、1.98(8H。
S)、8.28(8B、S)、8.80(8H,S)、
4.12(IH,d、J=2)1g)、4.75(lH
*’−J=2”)。
4.12(IH,d、J=2)1g)、4.75(lH
*’−J=2”)。
4.40〜4.85(lH,m)’、5.94(IH,
S)。
S)。
6、fSO〜7.50 (8f(、m) 、 P 、P
、m。
、m。
〔実施例5〕
ジーP−アニシルメチルアミン248■(1mM)、グ
リオキシル酸n−ブチルt7smp1.2mM)を)
/I/ エフ (7Hl )に溶解し、共沸脱水してシ
ッフ塩基を生成せしめ、留去量と同量のトルエンを加え
イミダゾール84111!(0,5mM)を加え、50
℃でジケテンl 014(1,2mM)(7))ルエン
(5,5g1)溶液を2時間で滴下、さらに1.8時間
攪拌した。反応液を〔実施例2〕で述べたと同様の方法
で後処理と分離精製を行い、1−(ジーP−アニシルメ
、チル)−8−アセチル−4−n−ブチルオキシカルボ
ニル−2−アゼチジノン856■(81%)を得た。
リオキシル酸n−ブチルt7smp1.2mM)を)
/I/ エフ (7Hl )に溶解し、共沸脱水してシ
ッフ塩基を生成せしめ、留去量と同量のトルエンを加え
イミダゾール84111!(0,5mM)を加え、50
℃でジケテンl 014(1,2mM)(7))ルエン
(5,5g1)溶液を2時間で滴下、さらに1.8時間
攪拌した。反応液を〔実施例2〕で述べたと同様の方法
で後処理と分離精製を行い、1−(ジーP−アニシルメ
、チル)−8−アセチル−4−n−ブチルオキシカルボ
ニル−2−アゼチジノン856■(81%)を得た。
(IR,NMRは、〔実施例1〕で得られたものと同一
であった。) 〔実施例6〕 ジーP−アニシルメチルアミン243■(1mM)、グ
リオキシル酸n−ブチル17811%+(1,2mM)
をトルエン(7Mt )に溶解し、共沸脱水してシッフ
塩基を生成せしめ、留去量と同量のトルエンを加え、イ
ミ’)”/−ル’1tQ(0,LmM)を加え、50℃
でジケテン101mg(1,2mM)のトルエン(5,
5m1)溶液を2時間で滴下、8時間攪拌した。反応液
を〔実施例2〕で述べたと同様の方法で後処理し、分離
精製することにより、■−(ジーP−アニシルメチル)
−8−アセチル−4−n−ブチルオキシカルボニル−2
−アゼチジノン268巧(60%)を得た。
であった。) 〔実施例6〕 ジーP−アニシルメチルアミン243■(1mM)、グ
リオキシル酸n−ブチル17811%+(1,2mM)
をトルエン(7Mt )に溶解し、共沸脱水してシッフ
塩基を生成せしめ、留去量と同量のトルエンを加え、イ
ミ’)”/−ル’1tQ(0,LmM)を加え、50℃
でジケテン101mg(1,2mM)のトルエン(5,
5m1)溶液を2時間で滴下、8時間攪拌した。反応液
を〔実施例2〕で述べたと同様の方法で後処理し、分離
精製することにより、■−(ジーP−アニシルメチル)
−8−アセチル−4−n−ブチルオキシカルボニル−2
−アゼチジノン268巧(60%)を得た。
(IEL、NMRは〔実施例1〕で得られたものと同一
であった。) 以下の化合物は〔実施例1〕に示したと同様の方法によ
り得ることができる。
であった。) 以下の化合物は〔実施例1〕に示したと同様の方法によ
り得ることができる。
なお、「原料化合物」の欄において「量」とあるのは、
各々シッフ塩基を生成せしめるために用いた対応するア
ミン(R1−NH,)およびアルデヒド(R,−CHo
)の量を示−’t 。
各々シッフ塩基を生成せしめるために用いた対応するア
ミン(R1−NH,)およびアルデヒド(R,−CHo
)の量を示−’t 。
手 枕 補 正 冑(自発)
昭和57年12月27日
特許庁長官 着杉和夫 殿
1、事1′1の表示
昭和57年特許願第180268号
2、発明の名称
β−ラクタノ、誘導体の製造法
:3.補正をする者
IT I’Lとの関係 特許出願人
大阪市東区北浜5丁目15番地
(2+19 ) 住友化学工業株式会ン」代表名
上 方 武 4、代理人 連絡5’1.i” I!: L、 (06)22111
−34045 、hlt iLの対象 明♀Ill li+の発明の詳細な説明の欄6゜補正の
内容 明細岩第2 /L頁の実施例14ζごおいて、「原わ1
化合物1’< z (、t11′) Jの欄にr−C0
0An i sJ とあるのを r−COOMe nJ とする。
上 方 武 4、代理人 連絡5’1.i” I!: L、 (06)22111
−34045 、hlt iLの対象 明♀Ill li+の発明の詳細な説明の欄6゜補正の
内容 明細岩第2 /L頁の実施例14ζごおいて、「原わ1
化合物1’< z (、t11′) Jの欄にr−C0
0An i sJ とあるのを r−COOMe nJ とする。
以」ニ
手続補正書
昭和58年6月 1日
1 事件の表示
昭和57年 特許願第 180268号2、発明の名称
β−ラクタム誘導体の製造法
3、補正をする者
事件との関係
住 所 大阪市東区北浜5丁目tn地名称 (209
)住友化学工業株式会社代表者 土 方 武 4、 代 理 友 住 所 大阪市東区北浜5丁目15番地5、補正の対
象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 6、補正の内容 (1) 明細書第4頁第14〜17行に「例えば・・
・・・・・できる。」とあるのを次のとおり訂正する。
)住友化学工業株式会社代表者 土 方 武 4、 代 理 友 住 所 大阪市東区北浜5丁目15番地5、補正の対
象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 6、補正の内容 (1) 明細書第4頁第14〜17行に「例えば・・
・・・・・できる。」とあるのを次のとおり訂正する。
[例えば本発明方法により得られる式(1)の化合物は
、次に示す合成経路によって式(5)の化合物へ導くこ
とができる。
、次に示す合成経路によって式(5)の化合物へ導くこ
とができる。
(1) (2)(4)
(5)〔式中、几はカ
ルボキシル基の保護基または環吠アルキル基を、DAM
はジ−p−アユシルメチル基を、Yは水素原子または水
酸基の保護基を示す。〕アセチル体(1)のカルボニル
基の還元は、一般にカルボニル基をヒドロキシル基に還
元する際に行われる各種の方法に従って実施することが
できる。
(5)〔式中、几はカ
ルボキシル基の保護基または環吠アルキル基を、DAM
はジ−p−アユシルメチル基を、Yは水素原子または水
酸基の保護基を示す。〕アセチル体(1)のカルボニル
基の還元は、一般にカルボニル基をヒドロキシル基に還
元する際に行われる各種の方法に従って実施することが
できる。
化合物(2)のエステル基の加水分解は、一般によく知
られた公知の方法に従って行われる。
られた公知の方法に従って行われる。
たとえば化合物(2)をメタノール、テトラヒドロフラ
ン等の溶媒中で水の存在下に0〜40°Cで苛性ソーダ
と反応させることによって実施することができる。
ン等の溶媒中で水の存在下に0〜40°Cで苛性ソーダ
と反応させることによって実施することができる。
カルボン酸(3)をエステル(4)とする方法は、例え
ばTetrahedron Letter11+ 22
98(1982)等に記載の方法に従って実施すること
ができる。また前記のアセチル体(1)を化合物(2)
とする反応も上記文献に記載の方法に準じて行うことが
できる。
ばTetrahedron Letter11+ 22
98(1982)等に記載の方法に従って実施すること
ができる。また前記のアセチル体(1)を化合物(2)
とする反応も上記文献に記載の方法に準じて行うことが
できる。
化合物(4)から化合物(5)への変換は、種々の態様
が可能であるが、たとえば、アセトニトリル−水中、1
5〜85°Cでセリツク アンモニウム ナイトレイト
(C!e−ric arrmoniumnitrate
)で処理することによって脱DAM反応を達成するこ
とが可能であり、特開昭57−11962号公報に記載
の方法を適用することができる。
が可能であるが、たとえば、アセトニトリル−水中、1
5〜85°Cでセリツク アンモニウム ナイトレイト
(C!e−ric arrmoniumnitrate
)で処理することによって脱DAM反応を達成するこ
とが可能であり、特開昭57−11962号公報に記載
の方法を適用することができる。
なお化合物(4)の水酸基を公知法によって、p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、t −ブチルジメチルレ
リル等各種の水酸基保護基で保護してから、上述の脱D
AM反応を行うことも可能である。
ロベンジルオキシカルボニル、t −ブチルジメチルレ
リル等各種の水酸基保護基で保護してから、上述の脱D
AM反応を行うことも可能である。
化合物(5)からは、公知の方法、たとえば上記(7)
Tetrahedron Letters、 229B
(1982)ニ記載の方法に準じてチェナマイシン等
のカルバペネム誘導体へ導くことができる。」(2)
明細書第24頁の最終行に続けて、次のとおり加入す
る。
Tetrahedron Letters、 229B
(1982)ニ記載の方法に準じてチェナマイシン等
のカルバペネム誘導体へ導くことができる。」(2)
明細書第24頁の最終行に続けて、次のとおり加入す
る。
[〔参考例1〕 。□
(88、48)−1−(ジ−p−アユシルメチル)−8
−アセチル−4−1−(−)=メンチルオキシカルボニ
ルー2−アゼチジノン(27哩)のイソプロパツール(
0,6ynt)溶液に水素化ホウ素ナトリウム(2叩)
の水(0,1ml )溶液を室温で加えて10分間攪拌
した。
−アセチル−4−1−(−)=メンチルオキシカルボニ
ルー2−アゼチジノン(27哩)のイソプロパツール(
0,6ynt)溶液に水素化ホウ素ナトリウム(2叩)
の水(0,1ml )溶液を室温で加えて10分間攪拌
した。
反応液を飽和食塩水、酢酸エチルを加えて希釈し、希塩
酸、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、苦情乾燥、溶媒
留去する。残液を薄層シリカゲルクロマトグラフィーに
より精製し、(88、48)−1−(ジ−p−アユシル
メチル)−8−(1−ヒドロキシエチル)−4−1−(
−)−メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン(
28哩mg)を得た。
酸、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、苦情乾燥、溶媒
留去する。残液を薄層シリカゲルクロマトグラフィーに
より精製し、(88、48)−1−(ジ−p−アユシル
メチル)−8−(1−ヒドロキシエチル)−4−1−(
−)−メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン(
28哩mg)を得た。
高速液体クロマトグラフィー分析(カラム:Lichr
osorb 8I−60、展開液:5%イソプロパノ−
ルーヘキサン)による1F+成1体の5−(R)一体と
5−(s)一体の比は約8対5であった。
osorb 8I−60、展開液:5%イソプロパノ−
ルーヘキサン)による1F+成1体の5−(R)一体と
5−(s)一体の比は約8対5であった。
TTCzs
I几 (m−’) : 17B5.1600.15
00゜ax 1g50.1168.1022 また、(88,48)−1−(ジ−p−アユシルメチル
)−8−アセチル−4−t−(ハ)−メンチルオキシカ
ルボニル−2−アゼチジノンヲ用イテ、文献公知方法(
TetrahedronLetters、 229B
(1982))に準して反応を行うことにより、(88
,48,5R)−1−(ジ−p−アユシルメチル)−8
−(1−ヒドロキシエチル)−4−1−θ−メンチルオ
キシカルボニルー2−アゼチジノンヲ主生成物として得
た。
00゜ax 1g50.1168.1022 また、(88,48)−1−(ジ−p−アユシルメチル
)−8−アセチル−4−t−(ハ)−メンチルオキシカ
ルボニル−2−アゼチジノンヲ用イテ、文献公知方法(
TetrahedronLetters、 229B
(1982))に準して反応を行うことにより、(88
,48,5R)−1−(ジ−p−アユシルメチル)−8
−(1−ヒドロキシエチル)−4−1−θ−メンチルオ
キシカルボニルー2−アゼチジノンヲ主生成物として得
た。
1240、11721
NMRa (Oj)Cl3) : 0.5−2.0
(191,m)。
(191,m)。
4.07(IH,dJ−8Hz )、4.1〜4.9(
2H。
2H。
m) 、 5.80(IH,s ) 、 6.7〜7.
4(8H,m)p、p、m。
4(8H,m)p、p、m。
(88,48,5R)−1−(ジーP−アニシルメチル
)−8−(1−ヒドロキシエチル)−4−1−(ハ)−
メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン(30〜
)をテトラヒドロフラ:/ (0,9rnt)、メタノ
ール(0,46rnt)に溶解し、IN−水酸化ナトリ
ウム(0,06mt)滴下後、室温で4時間攪拌した。
)−8−(1−ヒドロキシエチル)−4−1−(ハ)−
メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン(30〜
)をテトラヒドロフラ:/ (0,9rnt)、メタノ
ール(0,46rnt)に溶解し、IN−水酸化ナトリ
ウム(0,06mt)滴下後、室温で4時間攪拌した。
IN−塩酸で中和し、反応液を濃縮後エーテルで希釈し
、IN−水酸化ナトリウム(0,1mL )を加えて、
水で抽出した。抽出水層書こ、IN−塩酸(0,12m
l)を滴下、エーテlし抽出後、抽出液を水洗、芒硝乾
燥、溶媒留去することにより、(88,48,5B)−
1−(ジ−p−アユシルメチル)−8−(1−ヒドロキ
シエチル)−4−カルボキシル−2−アゼチジノン(2
2sv)を得た□ 1515.1805.1250.1177゜1080、
885 NMR,9(CDCzs> : 1.22(8H,dJ
=6Hz)、8.18(IH,m) 、8.72(6H
,s ) 、4.10(IH,dJ=2Hz)、5.7
5(141,s)p、p、m。
、IN−水酸化ナトリウム(0,1mL )を加えて、
水で抽出した。抽出水層書こ、IN−塩酸(0,12m
l)を滴下、エーテlし抽出後、抽出液を水洗、芒硝乾
燥、溶媒留去することにより、(88,48,5B)−
1−(ジ−p−アユシルメチル)−8−(1−ヒドロキ
シエチル)−4−カルボキシル−2−アゼチジノン(2
2sv)を得た□ 1515.1805.1250.1177゜1080、
885 NMR,9(CDCzs> : 1.22(8H,dJ
=6Hz)、8.18(IH,m) 、8.72(6H
,s ) 、4.10(IH,dJ=2Hz)、5.7
5(141,s)p、p、m。
〔参考例8〕
0PNB
(8−8)工程
(is、4S、5R)−1−(ジ−p−アユシルメチル
)−8−(1−ヒドロキシ)−4−カルボキシル−2−
アゼチジノン(4,0g)、酢酸カリウム(1,0g)
のジメチルホルムアミド(20ml ) 溶液R: 、
40°Cで四酢酸鉛(5,8f)を数回に分割して加え
、1時間攪拌した。エチレングリコールを加えて数分攪
拌後、反応液を、飽和食塩水と酢酸エチルで希釈し、不
溶物を濾過、ついで酢酸エチル抽出、水洗、芒硝乾燥後
、溶媒留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより、単離精製することにより、(8
R,4几、5R)−1−(ジ−p−アユシルメチル)−
B−(1−ヒドロキシエチル)−4−アセトキシ−2−
アゼチジノン(8,289)を得りっuCts L max Ccm−1): 1752118571
1802.1242.1174.1028.958NM
几(CDCz、a) : 1,26(8H,dJ=6.
511z)、1.90(、IH,s)8.07(IH,
broad、dJ=6.5Hz)、8.78(6H,s
)、4.07(IH。
)−8−(1−ヒドロキシ)−4−カルボキシル−2−
アゼチジノン(4,0g)、酢酸カリウム(1,0g)
のジメチルホルムアミド(20ml ) 溶液R: 、
40°Cで四酢酸鉛(5,8f)を数回に分割して加え
、1時間攪拌した。エチレングリコールを加えて数分攪
拌後、反応液を、飽和食塩水と酢酸エチルで希釈し、不
溶物を濾過、ついで酢酸エチル抽出、水洗、芒硝乾燥後
、溶媒留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより、単離精製することにより、(8
R,4几、5R)−1−(ジ−p−アユシルメチル)−
B−(1−ヒドロキシエチル)−4−アセトキシ−2−
アゼチジノン(8,289)を得りっuCts L max Ccm−1): 1752118571
1802.1242.1174.1028.958NM
几(CDCz、a) : 1,26(8H,dJ=6.
511z)、1.90(、IH,s)8.07(IH,
broad、dJ=6.5Hz)、8.78(6H,s
)、4.07(IH。
m) 、5.88(IH,broad、s)、5.88
(LH。
(LH。
broad、s)p、p、m。
叱施光度〔α9品2+ 26.0°(c=0.04 、
CHCza ’)(8−b)工程 (8R,4R,5R)−1−(ジ−p−アユシルメチル
)−8−(1−ヒドロキシエチル)−4−アセトキシ−
2−アゼチジノン(1,0y)の塩化メチレン(5ml
>溶H’t 氷冷し、4−ジメチルアミノビリジン(0
161g)を加えて、p−ニトロベンジルクロロポルメ
ート(0,77f ”)の塩化メチレン(5ml )溶
液を滴下し、1時間攪拌後、トルエン(25ml−)を
加えた。析出する沈殿を除去し、炉液を2N−塩酸、飽
和食塩水で順次洗浄し、芒硝乾燥、溶媒留去した。
CHCza ’)(8−b)工程 (8R,4R,5R)−1−(ジ−p−アユシルメチル
)−8−(1−ヒドロキシエチル)−4−アセトキシ−
2−アゼチジノン(1,0y)の塩化メチレン(5ml
>溶H’t 氷冷し、4−ジメチルアミノビリジン(0
161g)を加えて、p−ニトロベンジルクロロポルメ
ート(0,77f ”)の塩化メチレン(5ml )溶
液を滴下し、1時間攪拌後、トルエン(25ml−)を
加えた。析出する沈殿を除去し、炉液を2N−塩酸、飽
和食塩水で順次洗浄し、芒硝乾燥、溶媒留去した。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
まり単離精製することにより、(3几、4R,5R)−
1−(ジ−p−アユシルメチル)=8−(1−p−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル)−4−アセ
トキシ−2−アゼチジノン (1,2F)を得t:1 158B、1020.850,818.785NMB、
δ(OHOza): 1.42(8H,dJ=6Hz
)。
まり単離精製することにより、(3几、4R,5R)−
1−(ジ−p−アユシルメチル)=8−(1−p−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル)−4−アセ
トキシ−2−アゼチジノン (1,2F)を得t:1 158B、1020.850,818.785NMB、
δ(OHOza): 1.42(8H,dJ=6Hz
)。
1.85(8H,s )、8.28(IH,dJ=6H
2)。
2)。
8.78(6H,s+、5.22(21(、s)。
5.87(IH,s)、6.11(IH,s)p、p、
m。
m。
比施光度〔α〕ワ→・40.5°(c=0.88 、
CIICts )〔参考例4〕 H (4−8)工程 (81、4R、、5R) −1−(ジ−p−アユシルメ
チル)−8−(1−p−二トロベンジルオキシカルボニ
ルオキシエチル)−4−アセトキシ−2−アセチジノン (0,75F)の10%水−アセトニトリル(10ml
) 溶液に、硝酸第二士すウムアンモニウム(Ceri
c ammonium n1trate )(1,59
g’)の10%水−アセトニトリル(5ml )溶液を
、室温で滴下、80分間攪拌シタ。亜硫酸ナトルシム(
0,05f)0’)水溶液(1,Fi mL)を加えて
攪拌後、反応液を飽和食塩水で希釈し、酢酸エチル抽出
した。抽出液を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、芒硝
乾燥、溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより単離精製することにより、(8R,4R
,5R’) −8−(1−p−二トロベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチル)−4−アセトキシ−2−アゼチ
ジノン(0,421>を得た。
CIICts )〔参考例4〕 H (4−8)工程 (81、4R、、5R) −1−(ジ−p−アユシルメ
チル)−8−(1−p−二トロベンジルオキシカルボニ
ルオキシエチル)−4−アセトキシ−2−アセチジノン (0,75F)の10%水−アセトニトリル(10ml
) 溶液に、硝酸第二士すウムアンモニウム(Ceri
c ammonium n1trate )(1,59
g’)の10%水−アセトニトリル(5ml )溶液を
、室温で滴下、80分間攪拌シタ。亜硫酸ナトルシム(
0,05f)0’)水溶液(1,Fi mL)を加えて
攪拌後、反応液を飽和食塩水で希釈し、酢酸エチル抽出
した。抽出液を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、芒硝
乾燥、溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより単離精製することにより、(8R,4R
,5R’) −8−(1−p−二トロベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチル)−4−アセトキシ−2−アゼチ
ジノン(0,421>を得た。
Cat
IR(3’) : 8800. 17’14 ’。
ma!
1745.1602.1844.1258゜1029.
848 NMR(C!DOza) : 1.45(8H,dJ
=6.0Hz)。
848 NMR(C!DOza) : 1.45(8H,dJ
=6.0Hz)。
2.09(8H,lI)、8.87(IH,ddJ=1
.2および6.0Hz)、5.25(2H,tJ=26
Hz)。
.2および6.0Hz)、5.25(2H,tJ=26
Hz)。
5.87(In、dJ=1.2Hz L 6.96(I
H。
H。
broad 、 s) p、p、m。
2
比施光度〔α)、 +86.6°(c=0.09 、
C!HOLs )(4−b)工程 5%パラジウムカーボンCBOO−)をエタノール(5
mL、 )−水(5ml)中、水素雰囲気下、80分攪
拌し、沖過水洗した。
C!HOLs )(4−b)工程 5%パラジウムカーボンCBOO−)をエタノール(5
mL、 )−水(5ml)中、水素雰囲気下、80分攪
拌し、沖過水洗した。
得られた沖上物に、(81,4R,5R)−8−(1−
P−二トロベンジルオキシカルボニルオキシエチル)−
4−アセトキシ−2−アセチジノン(8,0Of>のエ
タノール(80d)溶液を加えて、水素雰囲気下、2時
間攪拌した。反応液を老うイト沖過し、炉液を濃縮後、
残渣のシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い、(
8几。
P−二トロベンジルオキシカルボニルオキシエチル)−
4−アセトキシ−2−アセチジノン(8,0Of>のエ
タノール(80d)溶液を加えて、水素雰囲気下、2時
間攪拌した。反応液を老うイト沖過し、炉液を濃縮後、
残渣のシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い、(
8几。
4R,5R)−8−(1−ヒドロキシエチル)−4−ア
セトキシ−2−アセチジノン(0,90(lF)を得た
。
セトキシ−2−アセチジノン(0,90(lF)を得た
。
HCt8
fR(m−’) : 2980.1760.1862゜
ax 1220.1025 NMRa(C1025N: 1.80(8H,dJ=5
Hz)。
ax 1220.1025 NMRa(C1025N: 1.80(8H,dJ=5
Hz)。
2.12(8H,s) 、8.17(IH,ddJ=2
および5Hz ’) 、 8.4〜8.8 (I H、
broad、s)。
および5Hz ’) 、 8.4〜8.8 (I H、
broad、s)。
4.17(IH,dqJ=5および6Hz)。
5.88(IH,dJ=2Hz )、7.117(IH
。
。
broad、s) p、p、m、 J
以 上
手続補+E r!f (自発)
昭和58年11月7日
1、事件の表示
昭和57年 特許1顧第180268号2、発明の名称
β−ラクタム誘導体の製造法
8、補正をする者
事件との関係 特許出1幀人
住 所 大阪市東区北浜5丁目15番地名称 (20
9>住友化学工業株式会社代表者 土 方
代 4、代理人 住 所 大阪市東区北浜5丁目15番地住友化学工業
株式会社内 氏名 弁理士(8597)諸石光装 置f061220−3404 5、補正の対象 明細書の「清明の詳細な説明」の欄 6、補正の同各 (11昭和58年5月2日提出の手続補正帯弔5匹第5
行に[〔参考例1)Jとあるのを次のとおり補正する 「〔実施例15〕 (Men[dlはd−…−メンチル基を示す。〕〕ジー
P−アニシルメチルアミン2487#)、グリオキシル
酸−d−(1)−メンチル(23゜り)、ジケテン(1
01〜)、イミダゾール(75my )を各々用い、実
施例1の方法に準じて反応、後処理を行い、l−(ジ−
p−アユシルメチル)−3−アセチル−4−d−メンチ
ルオキシカルボニル−2−アゼチジノン(891mg)
を得た。高+、lft液体クロマトグラフィー()f
P L C)での4S体と4艮体の比は約2対3であっ
tこ。なお、NMNにおいては、実施例1で得たスペク
トルと同様のスペクトルを示しtこ。
9>住友化学工業株式会社代表者 土 方
代 4、代理人 住 所 大阪市東区北浜5丁目15番地住友化学工業
株式会社内 氏名 弁理士(8597)諸石光装 置f061220−3404 5、補正の対象 明細書の「清明の詳細な説明」の欄 6、補正の同各 (11昭和58年5月2日提出の手続補正帯弔5匹第5
行に[〔参考例1)Jとあるのを次のとおり補正する 「〔実施例15〕 (Men[dlはd−…−メンチル基を示す。〕〕ジー
P−アニシルメチルアミン2487#)、グリオキシル
酸−d−(1)−メンチル(23゜り)、ジケテン(1
01〜)、イミダゾール(75my )を各々用い、実
施例1の方法に準じて反応、後処理を行い、l−(ジ−
p−アユシルメチル)−3−アセチル−4−d−メンチ
ルオキシカルボニル−2−アゼチジノン(891mg)
を得た。高+、lft液体クロマトグラフィー()f
P L C)での4S体と4艮体の比は約2対3であっ
tこ。なお、NMNにおいては、実施例1で得たスペク
トルと同様のスペクトルを示しtこ。
〔実施例16 i
p
ジーP−アニシルメチルアミン248哩(1mM)と1
−(七)−(2,4−ジクロIL/ 7 、。
−(七)−(2,4−ジクロIL/ 7 、。
ニル)−エチルグリオキシレート265■(1mM)を
乾燥トルエン(12辱t)に溶解し共沸脱水してシッフ
塩基を生成せしめ留去噴と同&Ijの乾燥トルエンを加
え、イミダゾール68 ’f (1m M )を加え、
ジケ5−7 (1011η)を乾燥トルエン(2ml
)でイn釈した溶液を50℃で20分間で滴ドし、同温
度で1時間攪拌した。反応液に劇塩水を加えトルエン抽
出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去し残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィーにより精製することによって2つの異性
体898■と93■を得た。
乾燥トルエン(12辱t)に溶解し共沸脱水してシッフ
塩基を生成せしめ留去噴と同&Ijの乾燥トルエンを加
え、イミダゾール68 ’f (1m M )を加え、
ジケ5−7 (1011η)を乾燥トルエン(2ml
)でイn釈した溶液を50℃で20分間で滴ドし、同温
度で1時間攪拌した。反応液に劇塩水を加えトルエン抽
出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去し残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィーにより精製することによって2つの異性
体898■と93■を得た。
それらのIR,NMRデータは次のとおりであった。
異性体1
1458.185B、1168.101022Nδ(C
eDs): 1.12(8H,dJ=6,6Hz )1
.92(3H,s)、8.87(If(、dJ=2.2
Hz)、4.75(10,dJ−2,2Hz )p
−p、tn ・ 異性体2 852 NMRδ(にeDs ):1.14(8f(、dJ=6
.4Hz)、1.89(8H,s)、8.92(LH,
dJ=2.4tiz)、4.81(18,dJ=2.4
Hz)P ・p、m ・ 〔実施例17〕 龜) ジーP−アニシルメナルアミン(243■)1’= −
(+ ) −1−フェニルエチルグリ□5オキシレート
(L 96 mg)をトルエン(12Wl)に溶解し、
共沸脱水してシッフ塩基を生成せしめ、貿去11(と回
置のトルエンを加え、イミダゾール(68we )を加
え、50℃でジケテン(lOl 7nq )のトルエン
(2ml)溶液を20分で滴下後1時間量7?n度で攪
拌した。
eDs): 1.12(8H,dJ=6,6Hz )1
.92(3H,s)、8.87(If(、dJ=2.2
Hz)、4.75(10,dJ−2,2Hz )p
−p、tn ・ 異性体2 852 NMRδ(にeDs ):1.14(8f(、dJ=6
.4Hz)、1.89(8H,s)、8.92(LH,
dJ=2.4tiz)、4.81(18,dJ=2.4
Hz)P ・p、m ・ 〔実施例17〕 龜) ジーP−アニシルメナルアミン(243■)1’= −
(+ ) −1−フェニルエチルグリ□5オキシレート
(L 96 mg)をトルエン(12Wl)に溶解し、
共沸脱水してシッフ塩基を生成せしめ、貿去11(と回
置のトルエンを加え、イミダゾール(68we )を加
え、50℃でジケテン(lOl 7nq )のトルエン
(2ml)溶液を20分で滴下後1時間量7?n度で攪
拌した。
食塩水を加え、ベンゼン抽出、水洗、芒硝区
乾燥、電媒情夫し、残渣台シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製することにより、(sS、4s)−
1−(ジーP−アニシルメチル)−3−アセチル−4−
(陵−(+)−フェニルエチルオキシカルボニル)−2
−アゼチジノン(3s4my)と(31’!−、4R)
イ木 (l 1 8 ・・l ) を イは) tこ
。
ラフィーにより精製することにより、(sS、4s)−
1−(ジーP−アニシルメチル)−3−アセチル−4−
(陵−(+)−フェニルエチルオキシカルボニル)−2
−アゼチジノン(3s4my)と(31’!−、4R)
イ木 (l 1 8 ・・l ) を イは) tこ
。
(35,45)体のlに、 N M Rデータは次のと
43りであっtこ。
43りであっtこ。
1845.1168.1010
18Nδ(C61’s):1.21(81−1,d、I
−6,6Hz)、1.84(8H,i)、8.94 (
ill、 dJ=2.2Hz)、4.78 (d J
=2.202)、P −P ・1n ・ (3艮、4艮)体の■艮、 N M Rデータは次のと
おりであった。
−6,6Hz)、1.84(8H,i)、8.94 (
ill、 dJ=2.2Hz)、4.78 (d J
=2.202)、P −P ・1n ・ (3艮、4艮)体の■艮、 N M Rデータは次のと
おりであった。
165
NMR,δ(CsDe) : 1.16 (8)1.
d、l=6.6Hz )、1.79(81(、S)、8
.80(if−1,dJ=2.2f(z)、4.76(
目1 、 d J = 2,211 z・)p 脅p、
m b) R−(+ ) −t−フェニルエチルグリオキ
シレートのかわりにS −(−1,−t−フェニルエチ
ルグリオキシレートを用い実施fl 9のa)と同#l
) I(反応ヲ行つコトIc J: I’)、(8S
、 45)−1−(ジ−p−アユシルメチル)−3−ア
セチル−4−(5−(−)−t−フェニルエチルオキシ
カルボニル)−2−アゼチジノンと(3+t 、 4
Iζ)体の混合物を得た。NMRは、R−()一体で得
たものと同様のNMkを示し、ソノ+WtJ「テハ(8
S 、 4 S )体と(8R,4K)体の比は1対3
であった。
d、l=6.6Hz )、1.79(81(、S)、8
.80(if−1,dJ=2.2f(z)、4.76(
目1 、 d J = 2,211 z・)p 脅p、
m b) R−(+ ) −t−フェニルエチルグリオキ
シレートのかわりにS −(−1,−t−フェニルエチ
ルグリオキシレートを用い実施fl 9のa)と同#l
) I(反応ヲ行つコトIc J: I’)、(8S
、 45)−1−(ジ−p−アユシルメチル)−3−ア
セチル−4−(5−(−)−t−フェニルエチルオキシ
カルボニル)−2−アゼチジノンと(3+t 、 4
Iζ)体の混合物を得た。NMRは、R−()一体で得
たものと同様のNMkを示し、ソノ+WtJ「テハ(8
S 、 4 S )体と(8R,4K)体の比は1対3
であった。
〔実施例1〕と同様にして以下の化合物を得た。
なお、表中「グリオキシレート酸」および「アミン酸」
とあるのは、各々シッフ塩基を生成せしめるために用い
た対応するグリオキシレー) (OHC−coOR,)
bよびアミ7(R1−NH2)の144を示す。
とあるのは、各々シッフ塩基を生成せしめるために用い
た対応するグリオキシレー) (OHC−coOR,)
bよびアミ7(R1−NH2)の144を示す。
(11表中のlikスペクトルデータは、llLmax
(r:Wl−”)で示した。
(r:Wl−”)で示した。
(2)表中のNMRスペクトルデータのケ憂カルジフト
はδ値(ppm )で示し、カップリングコンスタント
(J値)の単位はHzで示した。
はδ値(ppm )で示し、カップリングコンスタント
(J値)の単位はHzで示した。
なお、特に溶媒を示していない場合は重ベンゼン(C5
Ds )中で測定したデータである。
Ds )中で測定したデータである。
(81*l、*2等は以下の意味を示す。
*1ニジリカゲルクロマトグラフィーによって単畔した
得量比 *2:NMRデータから求めた2つの異性体の生成比 *8:NMRデータから求めた1体と5体の生成比 *4:に体と5体の生成比は求められていない0 (4)異性体lは、主生成物を、異性体2は、副生成物
を示した。
得量比 *2:NMRデータから求めた2つの異性体の生成比 *8:NMRデータから求めた1体と5体の生成比 *4:に体と5体の生成比は求められていない0 (4)異性体lは、主生成物を、異性体2は、副生成物
を示した。
(6)表のR,Qにおける…、(−)および(モ)は、
いずれもR,OHで示される化合物の旋光度を表り=2
6”)Jをr’5.25(2H,s)Jとする。
いずれもR,OHで示される化合物の旋光度を表り=2
6”)Jをr’5.25(2H,s)Jとする。
以上
Claims (1)
- (1) ジゲテンと、アルデヒドから得られるシッフ
塩基とをイミダゾール類の存在下、反応させることを特
徴とする8−アセチル−2−アゼチジノン誘導体の製造
法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57180268A JPS5970663A (ja) | 1982-10-13 | 1982-10-13 | β−ラクタム誘導体の製造法 |
| DE8383306146T DE3375481D1 (en) | 1982-10-13 | 1983-10-11 | Beta-lactam compounds and production thereof |
| AT83306146T ATE32218T1 (de) | 1982-10-13 | 1983-10-11 | Beta-lactam-verbindungen und ihre herstellung. |
| EP83306146A EP0106652B1 (en) | 1982-10-13 | 1983-10-11 | Beta-lactam compounds and production thereof |
| ES526759A ES526759A0 (es) | 1982-10-13 | 1983-10-13 | Procedimiento de producir compuestos beta-lactamicos y similares |
| US06/541,648 US4556514A (en) | 1982-10-13 | 1983-10-13 | 4-Carboxy azetidinone compounds and production thereof from diketene and a Schiff base |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57180268A JPS5970663A (ja) | 1982-10-13 | 1982-10-13 | β−ラクタム誘導体の製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57194894A Division JPS5970664A (ja) | 1982-10-13 | 1982-11-06 | 新規なβ−ラクタム化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5970663A true JPS5970663A (ja) | 1984-04-21 |
| JPH0321025B2 JPH0321025B2 (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=16080257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57180268A Granted JPS5970663A (ja) | 1982-10-13 | 1982-10-13 | β−ラクタム誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5970663A (ja) |
-
1982
- 1982-10-13 JP JP57180268A patent/JPS5970663A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0321025B2 (ja) | 1991-03-20 |
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